JPH01299837A - 積層板の製造方法 - Google Patents
積層板の製造方法Info
- Publication number
- JPH01299837A JPH01299837A JP12865888A JP12865888A JPH01299837A JP H01299837 A JPH01299837 A JP H01299837A JP 12865888 A JP12865888 A JP 12865888A JP 12865888 A JP12865888 A JP 12865888A JP H01299837 A JPH01299837 A JP H01299837A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- laminate
- molding
- flame retardant
- varnish
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 46
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 33
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 claims abstract description 31
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims abstract description 19
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 36
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 36
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 11
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 5
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 5
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 5
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 3
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 3
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 3
- 241000209219 Hordeum Species 0.000 description 2
- 235000007340 Hordeum vulgare Nutrition 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical group C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 210000004709 eyebrow Anatomy 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Chemical group 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 2
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- FDPHDGUADUFPHZ-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);heptanoate Chemical compound [Co+2].CCCCCCC([O-])=O.CCCCCCC([O-])=O FDPHDGUADUFPHZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 235000011389 fruit/vegetable juice Nutrition 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-n'-phenylcarbamimidoyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=NC1=CC=CC=C1 GEMHFKXPOCTAIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- LJDZFAPLPVPTBD-UHFFFAOYSA-N nitroformic acid Chemical compound OC(=O)[N+]([O-])=O LJDZFAPLPVPTBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010981 turquoise Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
Landscapes
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、プリント配線板として用いられる積層板の連
続成形による製法に関するものである。
続成形による製法に関するものである。
近年、電子工業や通信、コンピュータなどの分野におい
て使用される周波数がMHzやGHzのように高周波の
領域にシフトしている。そしてこのような高周波領域で
用いられるプリント配線板の絶縁層においては、信号の
伝播遅延を短くするうえで誘電率がより小さいことが、
また電力aスを小さくするうえで誘電正接がより小さい
ことがそれぞれ望まれる。 このために誘電率や誘電正接が小さい四7フ化エチレン
樹脂(テフロン)やポリフェニレンオキサイド(PPO
)などの樹脂を用い、この樹脂をプラス布などの基材に
含浸して作成したプリプレグを積層成形することによっ
てプリント配線板の絶縁層となる積層板を作成すること
が試みられるに至っている。 また、絶縁層となる積層板の誘電率を小さ(するために
はプリプレグ中の樹脂の含有率を高くすることが有効で
ある。すなわち、積層板中の樹脂の体積分率をVRs積
層板中の〃ラス布基材の体積分率をvc、樹脂の誘電率
をεR1〃ラス布基材の誘電率をεGとすると、積層板
全体の誘電率εは次の式のようになる。 logε= VRlogεp + V C1ogε0
そして一般的に樹脂の誘電率εRはプラスの誘電率CG
よりも小さいために(ちなみに本発明の式(■)の重合
体の誘電率は2.8程度であるのに対してE〃プラス誘
電率は7.23、Dガラスの誘電率は4.74)、樹脂
の体、積分率■8が大きくなり、〃ラス布基材の体積分
率vcが小さくなる程、積層板全体の誘電率εは小さ(
なる、一方、ガラスの比重は2.2程度で、樹脂の比重
は1.4程度であり、樹脂の含有率を×重量%とすると
、V R= (x/ 1.4)/ ((x/ 1.4
)+(100−x)/ 2.21VC=1−VR となるために、にが大きくなればなる程■Rが大き(な
ると共にvcが小さ(なる。従って樹脂の含有率Xが高
くなると積層板全体のyI電電率線小さくなるのである
。
て使用される周波数がMHzやGHzのように高周波の
領域にシフトしている。そしてこのような高周波領域で
用いられるプリント配線板の絶縁層においては、信号の
伝播遅延を短くするうえで誘電率がより小さいことが、
また電力aスを小さくするうえで誘電正接がより小さい
ことがそれぞれ望まれる。 このために誘電率や誘電正接が小さい四7フ化エチレン
樹脂(テフロン)やポリフェニレンオキサイド(PPO
)などの樹脂を用い、この樹脂をプラス布などの基材に
含浸して作成したプリプレグを積層成形することによっ
てプリント配線板の絶縁層となる積層板を作成すること
が試みられるに至っている。 また、絶縁層となる積層板の誘電率を小さ(するために
はプリプレグ中の樹脂の含有率を高くすることが有効で
ある。すなわち、積層板中の樹脂の体積分率をVRs積
層板中の〃ラス布基材の体積分率をvc、樹脂の誘電率
をεR1〃ラス布基材の誘電率をεGとすると、積層板
全体の誘電率εは次の式のようになる。 logε= VRlogεp + V C1ogε0
そして一般的に樹脂の誘電率εRはプラスの誘電率CG
よりも小さいために(ちなみに本発明の式(■)の重合
体の誘電率は2.8程度であるのに対してE〃プラス誘
電率は7.23、Dガラスの誘電率は4.74)、樹脂
の体、積分率■8が大きくなり、〃ラス布基材の体積分
率vcが小さくなる程、積層板全体の誘電率εは小さ(
なる、一方、ガラスの比重は2.2程度で、樹脂の比重
は1.4程度であり、樹脂の含有率を×重量%とすると
、V R= (x/ 1.4)/ ((x/ 1.4
)+(100−x)/ 2.21VC=1−VR となるために、にが大きくなればなる程■Rが大き(な
ると共にvcが小さ(なる。従って樹脂の含有率Xが高
くなると積層板全体のyI電電率線小さくなるのである
。
【発明が解決しようとする課題]
しかし上記の樹脂を用いて絶縁層を形成する場合、これ
らはプラス転移温度(Tg)が180〜200℃程度と
低く耐熱性が不十分で、スルーホール加工時のスミアの
発生などスルーホールの信頼性を高く得られないために
多層のプリント配線板に形成することができないなどの
問題がある。 また、上記のように誘電率を低くするためには樹脂の含
有率を高めることが有利であり、従って樹脂の含浸率の
高いプリプレグを用いて積層板を製造することが望まれ
るところであるが、多段プレスによって積層成形する場
合には、加熱加圧成形の際に樹脂が多量に流動するため
にプリプレグの眉間でスリップが発生し易くなり、樹脂
含有率が45〜50重量%以上では成形が殆ど不可能に
なる。このために多段プレスで成形する場合は樹脂含有
率を高めることには限界がある。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、低い誘
電率や誘電正接、高い耐熱性を保持することができ、加
えて難燃性を高めることができる積層板の製造方法を提
供す□ることを第1の目的とし、さらに樹脂含有率を高
めて成形してこの点において、も誘電率を低(すること
ができるよ5にすることを第2の目的とするものである
。 【課題を解決するための手段] 本発明は、次式(I)に示されるポリ芳香族シアネート
に、 (式中^rは芳香族。BはC)〜2゜の多環式脂肪族基
、Dは各々独立に活性水素を含まない置換基、、qtr
、sは各々独立に0.1.2又は3の整数であり、ただ
しQyrvSの合計は2より大きいか又は2に等し°い
、tは各々独立に0から4までの整数。Xはθ〜5まで
の数) 次式(n)に示される難燃剤と、 (式中R及びR′は活性水素を含まない芳香族又は臭素
化芳香族の置換基。nは正数) 次式(I[[)に示される難燃剤と、 (式中nは0,1又は2の整数) ポリ芳香族シアネートの反応触媒とを配合してワニスを
調製すると共にこのワニスを基材に含浸して長尺帯状の
プリプレグを作成し、このプリプレグを複数枚重ねて引
き取りながら連続して送りつつ加熱加圧して積層成形す
ることを特徴とする積層板の製造方法に係るものである
。 以下本発明の詳細な説明する。 式(I)で示すポリ芳香族シアネートとしては、特許出
願公表昭61−500434号公報によって開示されて
いるものを用いることができる。すなわち、このポリ芳
香族シアネートは、従来のポリトリアノンよりも加水分
解作用に対して着しく安定で熱安定性に優れた芳香族ポ
リトリアノン(ポリ芳香族シアネー)41脂)を与える
ものである。 本発明において用いる式(1)のポリ芳香族シアネート
において、芳香族基A「は芳香族基を含む総ての基を意
味するものであり、例えばベンゼン、ナフタリン、7エ
ナントラセン、アントラセン、またはと芳香族基、アル
キレン部分によって架橋された2個以上の芳香族基であ
る。好適にはベンゼン、ナフタリン、ビフェニル、ビナ
7チ7し、ジフェニルアルキレン基であり、特にベンゼ
ン基であることが望ましい。C2〜2oの多環式脂肪族
基Bとは、2個以上の環を含む脂肪族基を意味するもの
であり、多環式脂肪族基には1つ以上の二重結合または
三重結合が含まれていてもよい。好適あり、DlはC1
〜、のアルキル基である。)なかでも(a)(b)(c
)(d)(e)(f )(g)又は(1)のものが好適
であり、より好適には(a)(b)(c)(d)(1)
で、特に(a)のちのが好ましい。 式(1)中のDは有機炭化水素基上に置換され得る総て
の置換基を意味するものであるが、活性水素原子を含む
置換基は除外される。活性水素原子とは酸素、硫黄、窒
素原子に結合した水素原子を意味する。式(1)中の各
りはそれぞれ独立して規定されるものであり、例えば、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルカ
リール、アルアルキル、ハロ、フルコキシ、ニトロ、カ
ルボキシレート、スルホン、スルフィド、カーボネート
などであり、好適にはC8〜、。のアルキル%CI〜1
゜のアルケニル、ニトロ、ハロで7)’)、C1〜3の
アルキル、C1〜、のアルキニル、ブロモ、りコロが最
も好ましい。 また式(I)中のしは0から4までの整数であり、なか
で−も0.1又は2の整数が好ましく、より好適には0
又は1で、最適には0である。式(1)中の各(はそれ
ぞれ独立して規定される。q%rs sは0.1.2又
は3の整数であり、最適には1である。qSrs Sは
それぞれ独立して規定されるが、これらの合計は2以上
になるように設定される。 さらにXは0から5“までの正数である。式(t )の
ポリ芳香族シアネートはXが0〜5*での化合物類の混
合物として見出だされるものであり、Xはこの混合物の
平均の数として規定されるものである。 式(I)のポリ芳香族シアネートの好ましい実施態様は
次の式で表される。 しかして、式(1)のポリ芳香族シアネートから得られ
る芳香族ポリトリアノン(ポリ芳香族シアネート樹脂)
は、低い誘電率CC2,78前後)、低い誘電正接(t
anδ0.003前後)及び高い耐熱性(〃ラス転移温
度Tg250以上、オーブン耐熱性300℃程度)を有
するという、プリント配線板の絶縁基板を構成する樹脂
として優れた特性を有する。そこで本発明ではさらに式
(ff)で表される難燃剤と式(II[)で表される難
燃剤とを配合して、プリント配線板において要求される
難燃特性な付与するようにしたものである。 式(It)の7エ/キシ ターミネーテッドテトラプロ
モビスフェノールA カーボネーテッド オリゴマーに
おいて、R及びR′は活性水素を含まない芳香族又は臭
素化芳香族の置換基であり、例えば B「 (R,はB「やCH,、C2Hsなどやこれらが組み合
わされたものであり、鑓は1,2又は3の整数)などで
ある。また式(n)においてnは特に限定されない正数
であるが、現在入手することができるものはn=10〜
20の混合物のものである。nがこれ以外のものでも使
用することができる。 式(If)や式(1)の難燃剤の配合による難燃効果は
Br量に依存するものであり、UL規格の94v−0の
レベルの難燃性を得るためには、式(1)のポリ芳香族
シアネートと式(n)及び式(I[[)の難燃剤の合計
量に対して、Brの含有率が5〜10重量%になるよう
に式(II)の難燃剤を、Brの含有率が3〜10重量
%になるように式(III)の難燃剤をそれぞれ配合す
るようにするのがよい6式(■)の難燃剤をBr含有率
が5〜10重量%になるように配合するには化合物とし
ての配合量は10〜20重量%に、また式(III)の
難燃剤をBr含有率が3〜10重量%になるように配合
するには化合物としての配合量は6−20重量%にそれ
ぞれ設定するのが一般的である。難燃剤の配合量が多す
ぎると耐熱性に問題が生じるおそれがあるので、上限は
上記の数値に設定するのがよい。 式(I)のポリ芳香族シアネートを重合させる反応触媒
としては、イミダゾール類、第三級アミン、ナフテン酸
コバルトやオクチル酸コバルトなど有機コバルト塩類等
の有機金属塩類を用いることがでさるものであり、特に
有機コバルト塩類が好ましい。反応触媒の配合量は特に
限定されないが、例えば有機コバルト塩類を反応触媒と
して用いる場合には、ワニス(後述)の所望するデルタ
イムに応じて、式(1)のポリ芳香族シアネートの重量
に対するコバルトイオンの重量比で10〜700pp−
程度の範囲で配合される。 そして上記式(I)のポリ芳香族シアネート、式(I[
)及び式(I[[)の難燃剤、及び反応触媒等を有機溶
剤に溶解することによって、ワニスを¥I4製する。 有機溶剤としては式(1)のポリ芳香族シアネートや式
(II)及び式(1)の難燃剤を溶解し反応に悪い影響
を与えないものであれば芳香族炭化水素、アルコール、
ケトンなと特に限定されない。例えばトルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、メチ
ルセロソルブなどを一種もしくは二種以上を混合して用
いることができる。 ワニスの濃度は固形分が50〜70重量%になるしかし
てプリプレグを調製するにあたっては、基材としては特
に限定されるものではないが、プラス繊維の繊布あるい
は不織布を使用するのが一般的であり、この基材に7ニ
スを含浸させて加熱乾燥する。ガラス繊維を構成するプ
ラスとしてはEがラスを用いるのが一般的であるが、E
ffラスの誘電率は7.23であるのに対して、Dプラ
スは誘電率が4.47と低いために誘電率の点ではDプ
ラスのプラス繊維を用いるのが望ましい。ただ、加工性
やコストの上ではEがラスのがラス繊維が優位である。 尚、Qlfラスは誘電率が3.89と極めて低いが、加
工性やコストの面で実用的ではない。基材へのワニスの
含浸量は、基材に対する固形分(式(I)の化合物と式
(II)、式(I[[)の化合物)の比率が50重量%
〜70重量%になるように設定するのが好ましい、樹脂
の含有率を高くすることによって既述のように誘電率を
低(することができるものであり、このように樹脂の含
有率を50重量%以上に高(設定することによって、例
えば基材としてEがラスのがラス布を用いた場合には、
積層板の誘電率を3.3〜3.6程度、誘電正接を0.
001〜o、o o s程度に、基材としてDffラス
のプラス布を用いた場合には、積層板の誘′WL*を3
.1〜3.4程度、誘電正接を0゜001〜0.005
程度にすることができる。樹脂の含着率が高すぎる。と
成形の際に樹脂が発泡したりしてむらな状態になり易い
ために、含浸率の上限は上記のように70重量%に設定
するのが好ましい。プリプレグを調製する際の加熱乾燥
条件は、反応触媒の配合量などによって影響されるが、
本発明では連続成形プレスによって成形をおこなうため
に多段プレスの場合よりもプリプレグの反応度を若干進
行させるようにしておくのが好ましく、例えば170℃
でのデルタイムが45〜70秒程度になるようにプリプ
レグの反応度を設定するのが好ましい、プリプレグの反
応度をこの程度に設定するには前記ワニスの170℃で
のゲルタイムは3〜4分程度に設定するのがよい。 本発明においては、基材として長尺帯状のものを用いて
長尺帯状にプリプレグを作成するものであり、ロール状
に巻いて保管に供するのがよい。 そして、例えば第1図に示すようにして連続成形プレス
で積層板を製造することができる。第1図は上下一対の
スチールベルト1.1を具備したグプルベルト方式の連
続成形プレス装置を示すものであり、複数枚のプリプレ
グ2,2・・・をロールから連続して繰り出しながらこ
れらを重ねると共に、さらにこの上下の両面もしくは片
面に長尺帯状の金属箔3を重ね、これらをスチールベル
ト1,1間に連続して導入する。スチールベルト1,1
には加熱装置がJ[されており、スチールベルト1゜1
間においでプリプレグ2は加圧されながら加熱され、プ
リプレグ2に含浸されたポリ芳香族シアネートが重合硬
化し、複数枚のプリプレグ2が積層されると共に外層に
金属M3が接着された両面金属箔張り若しくは片面金属
箔張りの積層板4が成形される。そしてこの積層板4は
冷却ロール5によってスチールベルト1,1間から引き
出されつつ冷却され、さらに切断W16によって所定の
長さに裁断される。このように連続成形プレスの工法に
おいては、プリプレグ2は引き取りによる引張力が作用
した状態でスチールベルト1,1間で加熱加圧成形され
るものであり、各プリプレグ2゜2・・・間で滑るよう
な自由な動きが生じることな(成形がなされる。従って
プリプレグ2として樹脂の含有率の高いものを用いても
多段プレスによる場合のような樹脂の流れに伴ってプリ
プレグ2開にスリップが発生するようなおそれがなく、
樹脂の含浸率の高いプリプレグ2を用いて樹脂の含有率
の高い積層板4を成形することができるのである。ここ
で、金属箔としてはアルミニウムキャリア肩付!19μ
厚の銅箔や、18μ厚、35μ厚、70μ厚、105μ
厚の両面粗面化!1!箔などを用いることができる。ま
たこの連続成形プレスでの成形条件は、成形温度170
〜230℃、成形圧力10〜50kg/am”、成形時
間(スチールベルト1.1間の通過時間)2〜3分間程
度に設定するのが一般的である。 上記のようにして成形した両面金属箔張り若しくは片面
金属箔張りの積層板4の金属箔3をエッチング加工等し
て回路8を形成するとによって内層プリント配線板7を
作成することができる。モしてf:A2図に示すように
この内層プリント配線板7をプリプレグ2を介して複数
枚重ねると共に最外層に金属箔3を重ね、これを加熱加
圧成形することによって、多層のプリント配線板を作成
することができる。成形条件は、加熱温度を170℃〜
230℃、圧力を最高圧力で30−40kg/cm2程
度、時間を90〜120分程度に設定するのが一般的で
ある。成形後に220〜230℃程度の温度で77ター
キユアーする場合には成形温度は170〜180℃程度
で十分である。 【実施例】 以下本発明を実施例によって詳述する。 及(乱り 次式に示されるポリ芳香族シアネート(グツケミカル社
製XU−71787)を78重量部、式(II)におい
てR及ゾR′が(b)式で、nが10〜20の混合体の
難燃剤(臭素化カーボネートオリゴマー;グレートレイ
ク社製Be−58)を15重量部、式(I[[)におい
てn=0の難燃剤(テトラブロモビスフェノールA:T
BBA)を7重量部それぞれ採り(全Br含有率は13
重量%になる)、これらをメチルエチルケトンとN、N
’−ツメチルホルムアミドの1層1混合溶媒に固形分が
60重装置になるように攪拌溶解し、これに反応触媒と
してオクチル酸コバルトをポリ芳香族シアネートに対す
るコバルトイオンの重量比で300 ppm添加して、
ワニスを調製した。 このワニスを長尺の2116タイプEffラス布基材(
日東紡績社製116E)に固形分含量(ポリ芳香族シア
ネートと難燃剤)が63重量%になるように含浸し、1
60℃、4分間の条件で加熱乾燥することによってプリ
プレグを調製した。このプリプレグの170℃でのゲル
タイムは60秒であった。そしてこのように作成した長
尺帯状のプリプレグをロール状に巻き取った。 次にこの4枚のプリプレグをロールから引き出しつつ重
ねると共にその上下両側に70μ厚の長尺の両面粗面化
銅箔を重ね、これを第1図に示すようにしてグプルベル
トのスチールベルト間に連続して通し、冷却ロールで引
き取りつつ加熱加圧成形をおこなった。成形条件は、加
熱温度200℃、成形圧力25 kg/ am”、成形
時間2分間(送り速度2m、/分)であった、このよう
にしてスチールベルト間で成形された積層板を冷却ロー
ルによって40kg/Cm”の圧力で140℃で加圧冷
却し、次いで切断装置で裁断したのちに電気オープン!
二で230℃、2時間の条件で77ターキユ7−させる
ことによって、厚み0 、5 mmの内層プリント配線
板用の両面鋼張り積層板を得た。 K(性先 基材として2116タイプEtfラス布基材の替わりに
2116タイプDffラス布基材(日東紡績社製WDX
−723)を用いてプリプレグを作成するようにした他
は、実施例1と同様に連続成形プレスして厚み0.5m
−の内層プリント配線板用の両面銅張り積層板を得た。 K(4影 実施例1で得た両面銅張り積層板のII4箔をエツチン
グ処理して回路形成することによって内層プリント配線
板を作成した。この2枚の内層プリント配線板をそれぞ
れの間に実施例1で得た2枚のプリプレグを介して重ね
ると共にその上下にさらに2枚のプリプレグを介して1
8μ厚の銅箔を重ね、これをビンラミネーシaン法で眉
間の位置決めをした状態で多段プレス成形によって、成
形温度170℃、成形圧力40kg/am2、成形時間
90分の条件で積層成形をおこない、さらに成形後に電
気オーブンにて230℃、2時間の条件で77ターキエ
アーして、厚み2.0II!lの8層の回路構成の多層
プリント配線板を得た。 叉1涯土 実施例2で得た両面銅張り積層板から作成した内層プリ
ント配線板を用い、後は実施例2で作成したプリプレグ
を用いる他は実施例3と同様にして厚み2.01−の8
層の回路構成の多層プリント配線板を得た。 Δ1汁L ポリアミ7ビスマレイミド樹脂(日本ポリイミド社製ケ
ルイミド601)を固形分が601i量%になるように
N−メチル−2−ピロリドンに溶解してポリイミド樹脂
ワニスを調製した。このワニスを実施例2と同様のD〃
テラス基材に樹脂含量が45重量%になるように含浸し
、実施例2と同様に乾燥してプリプレグを作成した0次
にこのプリプレグを5枚重ねると共にその上下両側に7
0μ厚の両面粗面化銅箔を重ね、多段プレス成形によっ
て成形温度170℃、成形圧力40kg/cm”、成形
時間90分の条件で積層成形をおこない、さらに電気オ
ープンにて200℃、2時間の条件で77ターキユアー
して、厚み0 、5 mmの内層プリント配線板用の両
面銅張り積層板を得た。このようにして得た両面銅張り
積層板の@箔をエツチング処理して回路形成することに
よって内層プリント配線板を作成し、2枚の内層プリン
ト配線板をそれぞれの間に上記と同じ3枚のプリプレグ
を介して重ねると共にその上下にさらに3枚のプリプレ
グを介して18μ厚の銅箔を重ね、これを上記と同じ条
件で積層成形し、さらに200℃、2時間の条件で77
ターキユアーすることによって、厚み2.01の8層の
回路構成の多層プリント配線板を得た。 比」し医」工 実施例1で用いたポリ芳香族シアネート(ダウケミカル
社製XU−71787)のみを使用して実施例1と同様
にしてワニスを調製しくl!燃剤は配合せず)、後は実
施例1と同様にしてプリプレグを作成すると共に実施例
1と同様にして積層成形及びアフターキュアーをおこな
って、厚み0゜51m@の内層プリント配線板用の両面
銅張り積層板を得た。 思息1」一 実施例1と同じ式(1)のポリ芳香族シアネート、式(
n)及び式(I[[)の難燃剤を用い、式(1)のポリ
芳香族シアネートを75重量部、式(n)の難燃剤を1
2.5重量部、式CI[[)の難燃剤を12.5重量部
それぞれ採り(全Br含有率は13重量%になる)、こ
れらをメチルエチルケトンとN、N″−ツメチルホルム
アミドの1:1混合溶媒に固形分が60重量%になるよ
うに攪拌溶解し、これに反応触媒としてす7テン酸コバ
ルトをポリ芳香族シアネート樹脂に対するコバルトイオ
ンの重量比で150ppm添加して、ワニスを調製した
。このワニスを2116タイプE〃ラス布基材に固形分
含量が45重量%になるように含浸し、150℃、4分
間の条件で加熱乾燥することによってプリプレグを調製
した。 次にこのプリプレグを5枚重ねると共にその上下両側に
70μ厚の両面粗面化銅箔を重ね、成形温度170℃、
成形圧力40kg/c論2、成形時間90分の条件で多
段プレスで積層成形をおこない、さらに成形後に電気オ
ープンにて230℃、2時間の条件で77ターキユアー
して、厚み0.511Ialの内層プリント配線板用の
両面銅張り積層板を得た。 上記のようにして得た実施例1乃至4及び比較例1乃至
3の積層板について、その電気的特性や熱的特性などを
測定し、その結果を大麦に示す。 大麦において、誘電率、誘電正接、耐燃性、オープン耐
熱性はJIS C6481に基づいて測定をおこなっ
た。またガラス転移温度は粘弾性スぺ表の結果にみられ
るように、ポリ芳香族シアネートを重合させた芳香族ポ
リトリアジン(ポリ芳香族シアネート樹脂)で絶縁基板
を形成するようにした各実施例のものは、ポリイミド樹
脂で絶縁基板を形成するようにした比較例1のものより
も誘電率や誘電正接が低く、しかもプラス転移温度や耐
熱温度のレベルも高く保持されていることが確認される
ものであり、またポリ芳香族シアネートに難燃剤を配合
した各実施例のものでは、難燃剤を配合しない比較例2
のHBレベルから94V−0のレベルに難燃性が高まる
ことが確認される。 虫た実施例1と比較例3との比較から明らかなように、
樹脂の含有率が高くなるように連続成形プレスによって
製造した実施例1のものは、多段プレスによって製造し
た樹脂の含有率が低い比較例3のものよりも誘電率を低
くできることが確認される。
らはプラス転移温度(Tg)が180〜200℃程度と
低く耐熱性が不十分で、スルーホール加工時のスミアの
発生などスルーホールの信頼性を高く得られないために
多層のプリント配線板に形成することができないなどの
問題がある。 また、上記のように誘電率を低くするためには樹脂の含
有率を高めることが有利であり、従って樹脂の含浸率の
高いプリプレグを用いて積層板を製造することが望まれ
るところであるが、多段プレスによって積層成形する場
合には、加熱加圧成形の際に樹脂が多量に流動するため
にプリプレグの眉間でスリップが発生し易くなり、樹脂
含有率が45〜50重量%以上では成形が殆ど不可能に
なる。このために多段プレスで成形する場合は樹脂含有
率を高めることには限界がある。 本発明は上記の点に鑑みて為されたものであり、低い誘
電率や誘電正接、高い耐熱性を保持することができ、加
えて難燃性を高めることができる積層板の製造方法を提
供す□ることを第1の目的とし、さらに樹脂含有率を高
めて成形してこの点において、も誘電率を低(すること
ができるよ5にすることを第2の目的とするものである
。 【課題を解決するための手段] 本発明は、次式(I)に示されるポリ芳香族シアネート
に、 (式中^rは芳香族。BはC)〜2゜の多環式脂肪族基
、Dは各々独立に活性水素を含まない置換基、、qtr
、sは各々独立に0.1.2又は3の整数であり、ただ
しQyrvSの合計は2より大きいか又は2に等し°い
、tは各々独立に0から4までの整数。Xはθ〜5まで
の数) 次式(n)に示される難燃剤と、 (式中R及びR′は活性水素を含まない芳香族又は臭素
化芳香族の置換基。nは正数) 次式(I[[)に示される難燃剤と、 (式中nは0,1又は2の整数) ポリ芳香族シアネートの反応触媒とを配合してワニスを
調製すると共にこのワニスを基材に含浸して長尺帯状の
プリプレグを作成し、このプリプレグを複数枚重ねて引
き取りながら連続して送りつつ加熱加圧して積層成形す
ることを特徴とする積層板の製造方法に係るものである
。 以下本発明の詳細な説明する。 式(I)で示すポリ芳香族シアネートとしては、特許出
願公表昭61−500434号公報によって開示されて
いるものを用いることができる。すなわち、このポリ芳
香族シアネートは、従来のポリトリアノンよりも加水分
解作用に対して着しく安定で熱安定性に優れた芳香族ポ
リトリアノン(ポリ芳香族シアネー)41脂)を与える
ものである。 本発明において用いる式(1)のポリ芳香族シアネート
において、芳香族基A「は芳香族基を含む総ての基を意
味するものであり、例えばベンゼン、ナフタリン、7エ
ナントラセン、アントラセン、またはと芳香族基、アル
キレン部分によって架橋された2個以上の芳香族基であ
る。好適にはベンゼン、ナフタリン、ビフェニル、ビナ
7チ7し、ジフェニルアルキレン基であり、特にベンゼ
ン基であることが望ましい。C2〜2oの多環式脂肪族
基Bとは、2個以上の環を含む脂肪族基を意味するもの
であり、多環式脂肪族基には1つ以上の二重結合または
三重結合が含まれていてもよい。好適あり、DlはC1
〜、のアルキル基である。)なかでも(a)(b)(c
)(d)(e)(f )(g)又は(1)のものが好適
であり、より好適には(a)(b)(c)(d)(1)
で、特に(a)のちのが好ましい。 式(1)中のDは有機炭化水素基上に置換され得る総て
の置換基を意味するものであるが、活性水素原子を含む
置換基は除外される。活性水素原子とは酸素、硫黄、窒
素原子に結合した水素原子を意味する。式(1)中の各
りはそれぞれ独立して規定されるものであり、例えば、
アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルカ
リール、アルアルキル、ハロ、フルコキシ、ニトロ、カ
ルボキシレート、スルホン、スルフィド、カーボネート
などであり、好適にはC8〜、。のアルキル%CI〜1
゜のアルケニル、ニトロ、ハロで7)’)、C1〜3の
アルキル、C1〜、のアルキニル、ブロモ、りコロが最
も好ましい。 また式(I)中のしは0から4までの整数であり、なか
で−も0.1又は2の整数が好ましく、より好適には0
又は1で、最適には0である。式(1)中の各(はそれ
ぞれ独立して規定される。q%rs sは0.1.2又
は3の整数であり、最適には1である。qSrs Sは
それぞれ独立して規定されるが、これらの合計は2以上
になるように設定される。 さらにXは0から5“までの正数である。式(t )の
ポリ芳香族シアネートはXが0〜5*での化合物類の混
合物として見出だされるものであり、Xはこの混合物の
平均の数として規定されるものである。 式(I)のポリ芳香族シアネートの好ましい実施態様は
次の式で表される。 しかして、式(1)のポリ芳香族シアネートから得られ
る芳香族ポリトリアノン(ポリ芳香族シアネート樹脂)
は、低い誘電率CC2,78前後)、低い誘電正接(t
anδ0.003前後)及び高い耐熱性(〃ラス転移温
度Tg250以上、オーブン耐熱性300℃程度)を有
するという、プリント配線板の絶縁基板を構成する樹脂
として優れた特性を有する。そこで本発明ではさらに式
(ff)で表される難燃剤と式(II[)で表される難
燃剤とを配合して、プリント配線板において要求される
難燃特性な付与するようにしたものである。 式(It)の7エ/キシ ターミネーテッドテトラプロ
モビスフェノールA カーボネーテッド オリゴマーに
おいて、R及びR′は活性水素を含まない芳香族又は臭
素化芳香族の置換基であり、例えば B「 (R,はB「やCH,、C2Hsなどやこれらが組み合
わされたものであり、鑓は1,2又は3の整数)などで
ある。また式(n)においてnは特に限定されない正数
であるが、現在入手することができるものはn=10〜
20の混合物のものである。nがこれ以外のものでも使
用することができる。 式(If)や式(1)の難燃剤の配合による難燃効果は
Br量に依存するものであり、UL規格の94v−0の
レベルの難燃性を得るためには、式(1)のポリ芳香族
シアネートと式(n)及び式(I[[)の難燃剤の合計
量に対して、Brの含有率が5〜10重量%になるよう
に式(II)の難燃剤を、Brの含有率が3〜10重量
%になるように式(III)の難燃剤をそれぞれ配合す
るようにするのがよい6式(■)の難燃剤をBr含有率
が5〜10重量%になるように配合するには化合物とし
ての配合量は10〜20重量%に、また式(III)の
難燃剤をBr含有率が3〜10重量%になるように配合
するには化合物としての配合量は6−20重量%にそれ
ぞれ設定するのが一般的である。難燃剤の配合量が多す
ぎると耐熱性に問題が生じるおそれがあるので、上限は
上記の数値に設定するのがよい。 式(I)のポリ芳香族シアネートを重合させる反応触媒
としては、イミダゾール類、第三級アミン、ナフテン酸
コバルトやオクチル酸コバルトなど有機コバルト塩類等
の有機金属塩類を用いることがでさるものであり、特に
有機コバルト塩類が好ましい。反応触媒の配合量は特に
限定されないが、例えば有機コバルト塩類を反応触媒と
して用いる場合には、ワニス(後述)の所望するデルタ
イムに応じて、式(1)のポリ芳香族シアネートの重量
に対するコバルトイオンの重量比で10〜700pp−
程度の範囲で配合される。 そして上記式(I)のポリ芳香族シアネート、式(I[
)及び式(I[[)の難燃剤、及び反応触媒等を有機溶
剤に溶解することによって、ワニスを¥I4製する。 有機溶剤としては式(1)のポリ芳香族シアネートや式
(II)及び式(1)の難燃剤を溶解し反応に悪い影響
を与えないものであれば芳香族炭化水素、アルコール、
ケトンなと特に限定されない。例えばトルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、メチ
ルセロソルブなどを一種もしくは二種以上を混合して用
いることができる。 ワニスの濃度は固形分が50〜70重量%になるしかし
てプリプレグを調製するにあたっては、基材としては特
に限定されるものではないが、プラス繊維の繊布あるい
は不織布を使用するのが一般的であり、この基材に7ニ
スを含浸させて加熱乾燥する。ガラス繊維を構成するプ
ラスとしてはEがラスを用いるのが一般的であるが、E
ffラスの誘電率は7.23であるのに対して、Dプラ
スは誘電率が4.47と低いために誘電率の点ではDプ
ラスのプラス繊維を用いるのが望ましい。ただ、加工性
やコストの上ではEがラスのがラス繊維が優位である。 尚、Qlfラスは誘電率が3.89と極めて低いが、加
工性やコストの面で実用的ではない。基材へのワニスの
含浸量は、基材に対する固形分(式(I)の化合物と式
(II)、式(I[[)の化合物)の比率が50重量%
〜70重量%になるように設定するのが好ましい、樹脂
の含有率を高くすることによって既述のように誘電率を
低(することができるものであり、このように樹脂の含
有率を50重量%以上に高(設定することによって、例
えば基材としてEがラスのがラス布を用いた場合には、
積層板の誘電率を3.3〜3.6程度、誘電正接を0.
001〜o、o o s程度に、基材としてDffラス
のプラス布を用いた場合には、積層板の誘′WL*を3
.1〜3.4程度、誘電正接を0゜001〜0.005
程度にすることができる。樹脂の含着率が高すぎる。と
成形の際に樹脂が発泡したりしてむらな状態になり易い
ために、含浸率の上限は上記のように70重量%に設定
するのが好ましい。プリプレグを調製する際の加熱乾燥
条件は、反応触媒の配合量などによって影響されるが、
本発明では連続成形プレスによって成形をおこなうため
に多段プレスの場合よりもプリプレグの反応度を若干進
行させるようにしておくのが好ましく、例えば170℃
でのデルタイムが45〜70秒程度になるようにプリプ
レグの反応度を設定するのが好ましい、プリプレグの反
応度をこの程度に設定するには前記ワニスの170℃で
のゲルタイムは3〜4分程度に設定するのがよい。 本発明においては、基材として長尺帯状のものを用いて
長尺帯状にプリプレグを作成するものであり、ロール状
に巻いて保管に供するのがよい。 そして、例えば第1図に示すようにして連続成形プレス
で積層板を製造することができる。第1図は上下一対の
スチールベルト1.1を具備したグプルベルト方式の連
続成形プレス装置を示すものであり、複数枚のプリプレ
グ2,2・・・をロールから連続して繰り出しながらこ
れらを重ねると共に、さらにこの上下の両面もしくは片
面に長尺帯状の金属箔3を重ね、これらをスチールベル
ト1,1間に連続して導入する。スチールベルト1,1
には加熱装置がJ[されており、スチールベルト1゜1
間においでプリプレグ2は加圧されながら加熱され、プ
リプレグ2に含浸されたポリ芳香族シアネートが重合硬
化し、複数枚のプリプレグ2が積層されると共に外層に
金属M3が接着された両面金属箔張り若しくは片面金属
箔張りの積層板4が成形される。そしてこの積層板4は
冷却ロール5によってスチールベルト1,1間から引き
出されつつ冷却され、さらに切断W16によって所定の
長さに裁断される。このように連続成形プレスの工法に
おいては、プリプレグ2は引き取りによる引張力が作用
した状態でスチールベルト1,1間で加熱加圧成形され
るものであり、各プリプレグ2゜2・・・間で滑るよう
な自由な動きが生じることな(成形がなされる。従って
プリプレグ2として樹脂の含有率の高いものを用いても
多段プレスによる場合のような樹脂の流れに伴ってプリ
プレグ2開にスリップが発生するようなおそれがなく、
樹脂の含浸率の高いプリプレグ2を用いて樹脂の含有率
の高い積層板4を成形することができるのである。ここ
で、金属箔としてはアルミニウムキャリア肩付!19μ
厚の銅箔や、18μ厚、35μ厚、70μ厚、105μ
厚の両面粗面化!1!箔などを用いることができる。ま
たこの連続成形プレスでの成形条件は、成形温度170
〜230℃、成形圧力10〜50kg/am”、成形時
間(スチールベルト1.1間の通過時間)2〜3分間程
度に設定するのが一般的である。 上記のようにして成形した両面金属箔張り若しくは片面
金属箔張りの積層板4の金属箔3をエッチング加工等し
て回路8を形成するとによって内層プリント配線板7を
作成することができる。モしてf:A2図に示すように
この内層プリント配線板7をプリプレグ2を介して複数
枚重ねると共に最外層に金属箔3を重ね、これを加熱加
圧成形することによって、多層のプリント配線板を作成
することができる。成形条件は、加熱温度を170℃〜
230℃、圧力を最高圧力で30−40kg/cm2程
度、時間を90〜120分程度に設定するのが一般的で
ある。成形後に220〜230℃程度の温度で77ター
キユアーする場合には成形温度は170〜180℃程度
で十分である。 【実施例】 以下本発明を実施例によって詳述する。 及(乱り 次式に示されるポリ芳香族シアネート(グツケミカル社
製XU−71787)を78重量部、式(II)におい
てR及ゾR′が(b)式で、nが10〜20の混合体の
難燃剤(臭素化カーボネートオリゴマー;グレートレイ
ク社製Be−58)を15重量部、式(I[[)におい
てn=0の難燃剤(テトラブロモビスフェノールA:T
BBA)を7重量部それぞれ採り(全Br含有率は13
重量%になる)、これらをメチルエチルケトンとN、N
’−ツメチルホルムアミドの1層1混合溶媒に固形分が
60重装置になるように攪拌溶解し、これに反応触媒と
してオクチル酸コバルトをポリ芳香族シアネートに対す
るコバルトイオンの重量比で300 ppm添加して、
ワニスを調製した。 このワニスを長尺の2116タイプEffラス布基材(
日東紡績社製116E)に固形分含量(ポリ芳香族シア
ネートと難燃剤)が63重量%になるように含浸し、1
60℃、4分間の条件で加熱乾燥することによってプリ
プレグを調製した。このプリプレグの170℃でのゲル
タイムは60秒であった。そしてこのように作成した長
尺帯状のプリプレグをロール状に巻き取った。 次にこの4枚のプリプレグをロールから引き出しつつ重
ねると共にその上下両側に70μ厚の長尺の両面粗面化
銅箔を重ね、これを第1図に示すようにしてグプルベル
トのスチールベルト間に連続して通し、冷却ロールで引
き取りつつ加熱加圧成形をおこなった。成形条件は、加
熱温度200℃、成形圧力25 kg/ am”、成形
時間2分間(送り速度2m、/分)であった、このよう
にしてスチールベルト間で成形された積層板を冷却ロー
ルによって40kg/Cm”の圧力で140℃で加圧冷
却し、次いで切断装置で裁断したのちに電気オープン!
二で230℃、2時間の条件で77ターキユ7−させる
ことによって、厚み0 、5 mmの内層プリント配線
板用の両面鋼張り積層板を得た。 K(性先 基材として2116タイプEtfラス布基材の替わりに
2116タイプDffラス布基材(日東紡績社製WDX
−723)を用いてプリプレグを作成するようにした他
は、実施例1と同様に連続成形プレスして厚み0.5m
−の内層プリント配線板用の両面銅張り積層板を得た。 K(4影 実施例1で得た両面銅張り積層板のII4箔をエツチン
グ処理して回路形成することによって内層プリント配線
板を作成した。この2枚の内層プリント配線板をそれぞ
れの間に実施例1で得た2枚のプリプレグを介して重ね
ると共にその上下にさらに2枚のプリプレグを介して1
8μ厚の銅箔を重ね、これをビンラミネーシaン法で眉
間の位置決めをした状態で多段プレス成形によって、成
形温度170℃、成形圧力40kg/am2、成形時間
90分の条件で積層成形をおこない、さらに成形後に電
気オーブンにて230℃、2時間の条件で77ターキエ
アーして、厚み2.0II!lの8層の回路構成の多層
プリント配線板を得た。 叉1涯土 実施例2で得た両面銅張り積層板から作成した内層プリ
ント配線板を用い、後は実施例2で作成したプリプレグ
を用いる他は実施例3と同様にして厚み2.01−の8
層の回路構成の多層プリント配線板を得た。 Δ1汁L ポリアミ7ビスマレイミド樹脂(日本ポリイミド社製ケ
ルイミド601)を固形分が601i量%になるように
N−メチル−2−ピロリドンに溶解してポリイミド樹脂
ワニスを調製した。このワニスを実施例2と同様のD〃
テラス基材に樹脂含量が45重量%になるように含浸し
、実施例2と同様に乾燥してプリプレグを作成した0次
にこのプリプレグを5枚重ねると共にその上下両側に7
0μ厚の両面粗面化銅箔を重ね、多段プレス成形によっ
て成形温度170℃、成形圧力40kg/cm”、成形
時間90分の条件で積層成形をおこない、さらに電気オ
ープンにて200℃、2時間の条件で77ターキユアー
して、厚み0 、5 mmの内層プリント配線板用の両
面銅張り積層板を得た。このようにして得た両面銅張り
積層板の@箔をエツチング処理して回路形成することに
よって内層プリント配線板を作成し、2枚の内層プリン
ト配線板をそれぞれの間に上記と同じ3枚のプリプレグ
を介して重ねると共にその上下にさらに3枚のプリプレ
グを介して18μ厚の銅箔を重ね、これを上記と同じ条
件で積層成形し、さらに200℃、2時間の条件で77
ターキユアーすることによって、厚み2.01の8層の
回路構成の多層プリント配線板を得た。 比」し医」工 実施例1で用いたポリ芳香族シアネート(ダウケミカル
社製XU−71787)のみを使用して実施例1と同様
にしてワニスを調製しくl!燃剤は配合せず)、後は実
施例1と同様にしてプリプレグを作成すると共に実施例
1と同様にして積層成形及びアフターキュアーをおこな
って、厚み0゜51m@の内層プリント配線板用の両面
銅張り積層板を得た。 思息1」一 実施例1と同じ式(1)のポリ芳香族シアネート、式(
n)及び式(I[[)の難燃剤を用い、式(1)のポリ
芳香族シアネートを75重量部、式(n)の難燃剤を1
2.5重量部、式CI[[)の難燃剤を12.5重量部
それぞれ採り(全Br含有率は13重量%になる)、こ
れらをメチルエチルケトンとN、N″−ツメチルホルム
アミドの1:1混合溶媒に固形分が60重量%になるよ
うに攪拌溶解し、これに反応触媒としてす7テン酸コバ
ルトをポリ芳香族シアネート樹脂に対するコバルトイオ
ンの重量比で150ppm添加して、ワニスを調製した
。このワニスを2116タイプE〃ラス布基材に固形分
含量が45重量%になるように含浸し、150℃、4分
間の条件で加熱乾燥することによってプリプレグを調製
した。 次にこのプリプレグを5枚重ねると共にその上下両側に
70μ厚の両面粗面化銅箔を重ね、成形温度170℃、
成形圧力40kg/c論2、成形時間90分の条件で多
段プレスで積層成形をおこない、さらに成形後に電気オ
ープンにて230℃、2時間の条件で77ターキユアー
して、厚み0.511Ialの内層プリント配線板用の
両面銅張り積層板を得た。 上記のようにして得た実施例1乃至4及び比較例1乃至
3の積層板について、その電気的特性や熱的特性などを
測定し、その結果を大麦に示す。 大麦において、誘電率、誘電正接、耐燃性、オープン耐
熱性はJIS C6481に基づいて測定をおこなっ
た。またガラス転移温度は粘弾性スぺ表の結果にみられ
るように、ポリ芳香族シアネートを重合させた芳香族ポ
リトリアジン(ポリ芳香族シアネート樹脂)で絶縁基板
を形成するようにした各実施例のものは、ポリイミド樹
脂で絶縁基板を形成するようにした比較例1のものより
も誘電率や誘電正接が低く、しかもプラス転移温度や耐
熱温度のレベルも高く保持されていることが確認される
ものであり、またポリ芳香族シアネートに難燃剤を配合
した各実施例のものでは、難燃剤を配合しない比較例2
のHBレベルから94V−0のレベルに難燃性が高まる
ことが確認される。 虫た実施例1と比較例3との比較から明らかなように、
樹脂の含有率が高くなるように連続成形プレスによって
製造した実施例1のものは、多段プレスによって製造し
た樹脂の含有率が低い比較例3のものよりも誘電率を低
くできることが確認される。
上述のように本発明にあっては、式(1)のポリ芳香族
シアネートに式(II)及び式(III)の難燃剤を配
合して調製したワニスから作成したプリプレグを積層成
形することによって積層板を製造するようにしたので、
ポリ芳香族シアネートの重合体の低い誘電率や誘電正接
によって積層板の高周波特性を高(確保することができ
るものであり、しかも難燃剤の配合によって積層板の難
燃グレードを高めることができると共に、耐熱性のレベ
ルを高く保持することができるものである。また上記プ
リプレグを複数枚重ねて引き取りながら連続して送りつ
つ加熱加圧する連続成形プレスで成形をおこなうように
したので、プリプレグは引き取りによる引張力が作用し
てプリプレグ間で滑りが生じるようなことがない状態で
加熱加圧成形がされることになり、プリプレグとして樹
脂の含有率の高いものを用いてもプリプレグ間にスリッ
プが発生するようなおそれなく成形をおこなうことがで
きるものであり、樹脂含浸率の高いプリプレグを用いて
樹脂含有率を高(して誘電率がより低(なるようにした
積層板を成形することができるものである。
シアネートに式(II)及び式(III)の難燃剤を配
合して調製したワニスから作成したプリプレグを積層成
形することによって積層板を製造するようにしたので、
ポリ芳香族シアネートの重合体の低い誘電率や誘電正接
によって積層板の高周波特性を高(確保することができ
るものであり、しかも難燃剤の配合によって積層板の難
燃グレードを高めることができると共に、耐熱性のレベ
ルを高く保持することができるものである。また上記プ
リプレグを複数枚重ねて引き取りながら連続して送りつ
つ加熱加圧する連続成形プレスで成形をおこなうように
したので、プリプレグは引き取りによる引張力が作用し
てプリプレグ間で滑りが生じるようなことがない状態で
加熱加圧成形がされることになり、プリプレグとして樹
脂の含有率の高いものを用いてもプリプレグ間にスリッ
プが発生するようなおそれなく成形をおこなうことがで
きるものであり、樹脂含浸率の高いプリプレグを用いて
樹脂含有率を高(して誘電率がより低(なるようにした
積層板を成形することができるものである。
第1図はグプルベルト方式の連続成形工法を示す概略図
、第2図は多層プリント配線板の製造の積層構成を示す
概略図である。 1はスチールベルト、2はプリプレグ、3は金属箔、4
は積層板である。
、第2図は多層プリント配線板の製造の積層構成を示す
概略図である。 1はスチールベルト、2はプリプレグ、3は金属箔、4
は積層板である。
Claims (1)
- (1)次式( I )に示されるポリ芳香族シアネートに
、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・式( I ) (式中A_rは芳香族。BはC_7_〜_2_0の多環
式脂肪族基。Dは各々独立に活性水素を含まない置換基
。q、r、sは各々独立に0、1、2又は3の整数であ
り、ただしq、r、sの合計は2より大きいか又は2に
等しい。tは各々独立に0から4までの整数。xは0〜
5までの数) 次式(II)に示される難燃剤と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・式(II) (式中R及びR′は活性水素を含まない芳香族又は臭素
化芳香族の置換基。nは正数) 次式(III)に示される難燃剤と、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・式(III) (式中nは0、1又は2の整数) ポリ芳香族シアネートの反応触媒とを配合してワニスを
調製すると共にこのワニスを基材に含浸して長尺帯状の
プリプレグを作成し、このプリプレグを複数枚重ねて引
き取りながら連続して送りつつ加熱加圧して積層成形す
ることを特徴とする積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12865888A JPH01299837A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12865888A JPH01299837A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 積層板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299837A true JPH01299837A (ja) | 1989-12-04 |
| JPH0424373B2 JPH0424373B2 (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=14990249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12865888A Granted JPH01299837A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 積層板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01299837A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194211A (ja) * | 2001-10-29 | 2002-07-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用樹脂組成物、ワニス、プリプレグ及びそれを用いた印刷配線板用積層板 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7217423B2 (ja) * | 2018-09-26 | 2023-02-03 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 積層板の製造方法、プリント配線板の製造方法及び積層板製造装置 |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP12865888A patent/JPH01299837A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194211A (ja) * | 2001-10-29 | 2002-07-10 | Hitachi Chem Co Ltd | 印刷配線板用樹脂組成物、ワニス、プリプレグ及びそれを用いた印刷配線板用積層板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0424373B2 (ja) | 1992-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0581314B1 (en) | Modified dicyanate ester resins having enhanced fracture thoughness | |
| CN101796132B (zh) | 环氧树脂组合物、使用该环氧树脂组合物的半固化片、覆金属箔层压板以及印刷线路板 | |
| TW202142603A (zh) | 印刷配線板用的樹脂組成物、帶樹脂層支撐體、預浸體、積層板、多層印刷配線板及其應用、毫米波雷達用印刷配線板 | |
| JP7155595B2 (ja) | 樹脂組成物、樹脂フィルム、金属張積層板、プリント配線板及び半導体パッケージ | |
| JP2004002653A (ja) | プリント基板用プリプレグ及びその製造法とプリント基板 | |
| EP0449292B1 (en) | Multilayer printed circuit board and production thereof | |
| CN104760369A (zh) | 一种含氟聚酰亚胺覆铜箔板及其制备方法 | |
| JPH01299837A (ja) | 積層板の製造方法 | |
| US5206074A (en) | Adhesives on polymide films and methods of preparing them | |
| CN104844801B (zh) | 一种含硅聚酰亚胺覆铜箔板及其制备方法 | |
| JPH0289634A (ja) | 積層板用ガラス基材及び積層板 | |
| US20220339920A1 (en) | Polyimide composite film for use in flexible metal clad substrate | |
| WO2024043083A1 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及び配線板 | |
| JP2003238681A (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 | |
| JPH01299835A (ja) | 積層板の製造方法 | |
| JPH10273532A (ja) | 積層板用樹脂組成物、該組成物を用いたプリプレグ及び積層板 | |
| JP2004018615A (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ及び積層板 | |
| JPH02302446A (ja) | プリプレグおよびそれを用いた配線基板 | |
| JPH0424372B2 (ja) | ||
| JPH0288673A (ja) | 積層板用樹脂組成物 | |
| JPH0424370B2 (ja) | ||
| JP2003017820A (ja) | 比誘電率安定化型プリント配線板材料及びその用途 | |
| JPH10273533A (ja) | 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法 | |
| JPH0288674A (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
| WO2024018946A1 (ja) | 樹脂組成物、プリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板、及び配線板 |