JPH01307741A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はO−キノンジアジドを含むポジ型感光性平版印
刷版に関するものである。
刷版に関するものである。
し発明の背景]
ポジ型感光性平版印刷版の感光1には、一般に感光成分
として0−キノンジアジド化合物、及び皮膜強度とアル
カリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可溶性
樹脂が含有されている。
として0−キノンジアジド化合物、及び皮膜強度とアル
カリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可溶性
樹脂が含有されている。
従来このようなポジ型感光性平版印刷版の感光層にスカ
ミングの発生防止等を目的として有機酸を含有させるこ
とは知られている。しかしながらこのような有FM酸を
含有した感光性平版印刷版においては、感度、網点再現
性、特に小点再現性、セーフライ1〜性及びボールペン
適性等が劣化する傾向があり、特に網点再現性について
は、この再現性の変動が階調の変化として現われるため
重大な問題となり、特に小点再現性が劣る場合、得られ
る印刷物におけるハイライト部の再現性に大きな問題を
生じていた。上記小点再現性を改良するため、露光時に
おいて露光分を減少させる等の方法が行なわれるが、こ
のような方法では小点再現性はある程度改良されるもの
の、逆に中点及び欠点の再現性が劣化するという欠点を
生じていた。
ミングの発生防止等を目的として有機酸を含有させるこ
とは知られている。しかしながらこのような有FM酸を
含有した感光性平版印刷版においては、感度、網点再現
性、特に小点再現性、セーフライ1〜性及びボールペン
適性等が劣化する傾向があり、特に網点再現性について
は、この再現性の変動が階調の変化として現われるため
重大な問題となり、特に小点再現性が劣る場合、得られ
る印刷物におけるハイライト部の再現性に大きな問題を
生じていた。上記小点再現性を改良するため、露光時に
おいて露光分を減少させる等の方法が行なわれるが、こ
のような方法では小点再現性はある程度改良されるもの
の、逆に中点及び欠点の再現性が劣化するという欠点を
生じていた。
このため、感度を減少させることなく小点再現性に優れ
、かつセーフライト性及びボールペン適性に優れた、上
記有機酸含有感光性平版印刷版が望まれていた。
、かつセーフライト性及びボールペン適性に優れた、上
記有機酸含有感光性平版印刷版が望まれていた。
ここで「セーフライト性」とは感光性平版印刷版の製版
作業を白色蛍光灯下で行なう場合の光カブリに対する抵
抗性をいい、「ボールペン通性」とは感光性平版印刷版
にいわゆる多面焼付は等を行う際にフィルム原稿の位置
合わせのためのマーク等に用いるボールペンのインキに
対する耐性を示す。
作業を白色蛍光灯下で行なう場合の光カブリに対する抵
抗性をいい、「ボールペン通性」とは感光性平版印刷版
にいわゆる多面焼付は等を行う際にフィルム原稿の位置
合わせのためのマーク等に用いるボールペンのインキに
対する耐性を示す。
[発明の目的]
本発明の目的は、感度を低下させることなく網点、特に
小点の再現性が改良された感光性平版印刷版を提供する
ことにある。
小点の再現性が改良された感光性平版印刷版を提供する
ことにある。
また、本発明の目的は、セーフライト性及びボールペン
適性に優れた感光性平版印刷版を提供することにある。
適性に優れた感光性平版印刷版を提供することにある。
[発明の構成コ
上記本発明の目的は、支持体上に0−キノンジアジド化
合物、アルカリ可溶性樹脂及び有機酸を含有する感光層
を有する感光性平版印刷版において、前記感光層中にお
ける前記有機酸の含有mが少なくとも前記支持体に近い
側の感光層表面近傍領域において、前記支持体から遠い
側の感光層表面近傍領域より多いことを特徴とする感光
性平版印刷版によって達成された。
合物、アルカリ可溶性樹脂及び有機酸を含有する感光層
を有する感光性平版印刷版において、前記感光層中にお
ける前記有機酸の含有mが少なくとも前記支持体に近い
側の感光層表面近傍領域において、前記支持体から遠い
側の感光層表面近傍領域より多いことを特徴とする感光
性平版印刷版によって達成された。
[発明の具体的構成]
本発明においては、感光層中における右握酸の含有量が
支持体に近い側の感光層表面近傍領域において、支持体
から遠い側の感光層表面近傍領域より多ければいかなる
含有率分布を示してもよいが、特に支持体に近い側の感
光層表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範囲
内の領域における有機酸の含有量が支持体から遠い[1
11]の感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離
までの範囲内の領域における含有量より多いことが好ま
しい。
支持体に近い側の感光層表面近傍領域において、支持体
から遠い側の感光層表面近傍領域より多ければいかなる
含有率分布を示してもよいが、特に支持体に近い側の感
光層表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範囲
内の領域における有機酸の含有量が支持体から遠い[1
11]の感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離
までの範囲内の領域における含有量より多いことが好ま
しい。
更に、上記有機酸の含有量としては感光層表面からその
厚さの50%の距離を境として、支持体から遠い側に該
感光層に含まれる全有機酸の40重量%以下、支持体に
近い側に60ffi1%以上含まれることが好ましく、
更に支持体から遠い側に該感光層に含まれる全有機酸の
30ffiffi%以下、支持体に近い側に70重鍮%
以上含まれることが好ましい。
厚さの50%の距離を境として、支持体から遠い側に該
感光層に含まれる全有機酸の40重量%以下、支持体に
近い側に60ffi1%以上含まれることが好ましく、
更に支持体から遠い側に該感光層に含まれる全有機酸の
30ffiffi%以下、支持体に近い側に70重鍮%
以上含まれることが好ましい。
具体的には、感光層中において有機酸含有率が支持体に
近い感光層表面から支持体から遠い感光層表面方向へ向
かって連続的に減少しているもの、不連続的に減少して
いるもの、少なくとも1部に含有率が変化しない、すな
わち答含有率部分を有するものが好ましく、更には本発
明の範囲内において、1部支持体に近い側より支持体か
ら遠い側の方が有!!1酸含有率が高くなる部分を有す
るものも含む。また上記の種々のパターンを組合わせた
ものも含む。更に上記支持体に近い感光層表面から支持
体から遠い感光層表面方向への有機酸含有率の変化は直
線的に一定変化率で変化してもよいし、曲線的に変化率
を増大又は減少させながら変化してもよい。
近い感光層表面から支持体から遠い感光層表面方向へ向
かって連続的に減少しているもの、不連続的に減少して
いるもの、少なくとも1部に含有率が変化しない、すな
わち答含有率部分を有するものが好ましく、更には本発
明の範囲内において、1部支持体に近い側より支持体か
ら遠い側の方が有!!1酸含有率が高くなる部分を有す
るものも含む。また上記の種々のパターンを組合わせた
ものも含む。更に上記支持体に近い感光層表面から支持
体から遠い感光層表面方向への有機酸含有率の変化は直
線的に一定変化率で変化してもよいし、曲線的に変化率
を増大又は減少させながら変化してもよい。
好ましくは第1図の(a )〜(h)に示すような有機
酸含有率パターンを有する感光層を有する感光性平版印
刷版が望ましい。
酸含有率パターンを有する感光層を有する感光性平版印
刷版が望ましい。
また、このような有機酸の分布を有する感光性平版印刷
版は同一組成で有I!酸の濃度のみが異なる複数の塗布
液を順次塗布することによって作製しうる。2 本発明に用いる有機酸としては公知の種々の有機酸がす
べて用いられるがpKa値が2以上である有Illが好
ましく、更に好ましくはpKaliiIが3.0〜9.
0であり、特に好ましくは3.5〜8.0の有機酸であ
る。但し、本発明で使用されるpKa値は25℃におけ
る値である。
版は同一組成で有I!酸の濃度のみが異なる複数の塗布
液を順次塗布することによって作製しうる。2 本発明に用いる有機酸としては公知の種々の有機酸がす
べて用いられるがpKa値が2以上である有Illが好
ましく、更に好ましくはpKaliiIが3.0〜9.
0であり、特に好ましくは3.5〜8.0の有機酸であ
る。但し、本発明で使用されるpKa値は25℃におけ
る値である。
このような有機酸としては、例えば1ヒ学便覧基礎編■
(丸善1111966年、第1054〜1058頁に記
載されている有機酸で、本発明のpKa[を示し得る化
合物を挙げることができる。このような化合物としては
、例えば安息香酸、アジピン酸、アゼライン酸、イソフ
タル酸、p−トルイル酸、Q−1−ルイル酸、β−エチ
ルグルタル酸、m−オキシ安息香酸、p−オキシ安息香
酸、3.5−ジメチル安息香酸1.3,4−ジメトキシ
安息香酸、グリセリン酸、グルタ、コン酸、グルタル酸
、p−アニス酸、コハク酸、セバシン酸、β、β−ジエ
チルグルタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1.3−シクロブタンジカルボン酸、1.1−シクロペ
ンタンジカルボン酸、1.2−シクロペンタンジカルボ
ン酸、1−13−シクロペンタンジカルボン酸、β、β
−ジメチルグルタル酸、ジメチルマロン酸、α−酒石酸
、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸、
フマル酸、β−プロピルグルタル酸、プロピルマロン酸
、マンデル酸、メソ酒石酸、β−メチルグルタル酸、β
、β−メチルプロピルグルタル酸、メチルマロン酸、リ
ンゴ酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1.2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1.3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
、シス−4−シクロヘキセン1.2−ジカルボン酸等を
挙げることができる。
(丸善1111966年、第1054〜1058頁に記
載されている有機酸で、本発明のpKa[を示し得る化
合物を挙げることができる。このような化合物としては
、例えば安息香酸、アジピン酸、アゼライン酸、イソフ
タル酸、p−トルイル酸、Q−1−ルイル酸、β−エチ
ルグルタル酸、m−オキシ安息香酸、p−オキシ安息香
酸、3.5−ジメチル安息香酸1.3,4−ジメトキシ
安息香酸、グリセリン酸、グルタ、コン酸、グルタル酸
、p−アニス酸、コハク酸、セバシン酸、β、β−ジエ
チルグルタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1.3−シクロブタンジカルボン酸、1.1−シクロペ
ンタンジカルボン酸、1.2−シクロペンタンジカルボ
ン酸、1−13−シクロペンタンジカルボン酸、β、β
−ジメチルグルタル酸、ジメチルマロン酸、α−酒石酸
、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸、
フマル酸、β−プロピルグルタル酸、プロピルマロン酸
、マンデル酸、メソ酒石酸、β−メチルグルタル酸、β
、β−メチルプロピルグルタル酸、メチルマロン酸、リ
ンゴ酸、1,1−シクロヘキサンジカルボン酸、1.2
−シクロヘキサンジカルボン酸、1.3−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
、シス−4−シクロヘキセン1.2−ジカルボン酸等を
挙げることができる。
その他メルドラム酸やアスコルビン酸などのエノール構
造を有する有機酸も好ましく用いることができる。上記
有様酸の感光層中に占める割合は0.05〜10重量%
が適当であり、好ましくは0.1〜5重量26である。
造を有する有機酸も好ましく用いることができる。上記
有様酸の感光層中に占める割合は0.05〜10重量%
が適当であり、好ましくは0.1〜5重量26である。
本発明におけるO−キノンジアジド化合物としては例え
ばO−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール
類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル
化合物が挙げられる。
ばO−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール
類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル
化合物が挙げられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70ログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセ1−アルデ
ヒド、クロトンアルデ仁ド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。まIζ、前記ケト・ンとして
はアセトン、メヂルエチルケトン等が挙げられる。
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70ログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセ1−アルデ
ヒド、クロトンアルデ仁ド、フルフラール等が挙げられ
る。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及び
ベンズアルデヒドである。まIζ、前記ケト・ンとして
はアセトン、メヂルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例どしては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
前記O−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対するO−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
綜合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
OH基に対するO−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
綜合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
更に本発明に用いられるオルトキノンジアジド化合物と
しては特開昭58−43451号公報明細書に記載のあ
る以下の化合物も使用できる。すなわち例えば1,2−
ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ベン
ゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1.2−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1.2−キ
ノンジアジド化合物、さらに具体的にはジエイ・コサー
ル(J、 Kosar)著「ライ!−・センシティブ
システムJ (” l ight−3ensitive
3ystems”)第339〜352頁(1965
年)、ジョン・ウィリー アンド サンズ(John
Wiley & 5ons )社にューヨーク)や
ダブリュー・ニス・デイ−・フォレスト(W、 S、
D、 Forest )著「フォトレジストJ (”
Photoresisじ′)第50巻。
しては特開昭58−43451号公報明細書に記載のあ
る以下の化合物も使用できる。すなわち例えば1,2−
ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ナ
フトキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2−ベン
ゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1.2−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1.2−キ
ノンジアジド化合物、さらに具体的にはジエイ・コサー
ル(J、 Kosar)著「ライ!−・センシティブ
システムJ (” l ight−3ensitive
3ystems”)第339〜352頁(1965
年)、ジョン・ウィリー アンド サンズ(John
Wiley & 5ons )社にューヨーク)や
ダブリュー・ニス・デイ−・フォレスト(W、 S、
D、 Forest )著「フォトレジストJ (”
Photoresisじ′)第50巻。
(1975年)、マグロ−ヒル(Mc Graw −H
lll )社にューヨーク)に記載されている1、2
−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエス
テル、1.2.1’ 、2’、−ジー〈ベンゾキノンジ
アジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、
1.2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−へ
−β−ナフチル)−スルホンアミド、1.2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル
、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ル)−3゜5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸−4“−ヒト0キシジフ
ェニル−4″−アゾーB−ナフトールエステル、N、N
−ジー(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ル)−アニリン、2’ −(1,2−ナフトキノンジア
ジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アン
トラキノン、1.2−すブトキノンジアジド−5−スル
ホン?!−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホンIQ
−2,3゜4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル
、1゜2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロ
リド2モルと4.4′−ジアミノベンゾフェノン1モル
の縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホ
ン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1
′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプ
ルブロガリン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−(N−ジヒドロアごエチル)−スルホンア
ミドなどの1.2−キノンジアジド化合物を例示するこ
とができる。また特公昭37−1953号、同37−3
627号、同37−13109号、同40−26126
号、同 40−3801号、同 45−5604号、同
45−27345号、同51−13013号、特開昭4
8−96575号、同48−63802号、同48−6
3802号各公報に記載された1、2−キノンジアジド
化合物をも挙げることができる。
lll )社にューヨーク)に記載されている1、2
−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエス
テル、1.2.1’ 、2’、−ジー〈ベンゾキノンジ
アジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、
1.2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−へ
−β−ナフチル)−スルホンアミド、1.2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル
、1−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ル)−3゜5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸−4“−ヒト0キシジフ
ェニル−4″−アゾーB−ナフトールエステル、N、N
−ジー(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニ
ル)−アニリン、2’ −(1,2−ナフトキノンジア
ジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アン
トラキノン、1.2−すブトキノンジアジド−5−スル
ホン?!−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホンIQ
−2,3゜4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル
、1゜2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロ
リド2モルと4.4′−ジアミノベンゾフェノン1モル
の縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホ
ン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1
′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプ
ルブロガリン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−(N−ジヒドロアごエチル)−スルホンア
ミドなどの1.2−キノンジアジド化合物を例示するこ
とができる。また特公昭37−1953号、同37−3
627号、同37−13109号、同40−26126
号、同 40−3801号、同 45−5604号、同
45−27345号、同51−13013号、特開昭4
8−96575号、同48−63802号、同48−6
3802号各公報に記載された1、2−キノンジアジド
化合物をも挙げることができる。
本発明の0−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合わせて用い
てもよい。本発明に用いられる0−キノンジアジド化合
物の感光性層中に占める割合は、5〜60fliλ%が
好ましく、特に好ましくは、10〜50重徂%である。
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合わせて用い
てもよい。本発明に用いられる0−キノンジアジド化合
物の感光性層中に占める割合は、5〜60fliλ%が
好ましく、特に好ましくは、10〜50重徂%である。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂どしては、当分野に
おいて公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラッ
ク樹脂及びフェノール性水IIを有する構造単位を分子
構造中に有するビニル系重合体が好ましい。
おいて公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラッ
ク樹脂及びフェノール性水IIを有する構造単位を分子
構造中に有するビニル系重合体が好ましい。
本発明に好ましく用いられるノボラック樹脂としては、
フェノール類とホルムアルデヒドをM FO媒の存在下
で縮合して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類と
しては、例えばフェノール、0−クレゾール、m−クレ
ゾール、p−クレゾール、3.5−キシレノール、2.
4−キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロ
ール、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
フェノール類とホルムアルデヒドをM FO媒の存在下
で縮合して得られる樹脂が挙げられ、該フェノール類と
しては、例えばフェノール、0−クレゾール、m−クレ
ゾール、p−クレゾール、3.5−キシレノール、2.
4−キシレノール、2,5−キシレノール、カルバクロ
ール、チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノ
ン、ピロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
上記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わ
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる
。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール
、m−クレゾール(又は。−クレゾール)及びp−クレ
ゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒド
とを共重縮合して得られる樹脂である。例えば、フェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、l−クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共
重合体樹脂、l−クレゾール・p−クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂、0−クレゾール・p−クレ
ゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール
・偏−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、フェノール・0−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられ
る。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・m
−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
が好ましい。
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる
。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール
、m−クレゾール(又は。−クレゾール)及びp−クレ
ゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒド
とを共重縮合して得られる樹脂である。例えば、フェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、l−クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共
重合体樹脂、l−クレゾール・p−クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂、0−クレゾール・p−クレ
ゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール
・偏−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合体樹脂、フェノール・0−クレゾール・p−ク
レゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられ
る。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・m
−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
が好ましい。
本発明においては、上記ノボラック樹脂は単独で用いて
もよいし、また2種以上組合わせて用いでもよい。
もよいし、また2種以上組合わせて用いでもよい。
上記ノボラック樹脂の分子賞(ポリスチレン標準)は、
重9平均分子fuMvが2.0X103〜2、OX 1
04で、数平均分子ffiMnで7.0×102〜5.
OX 1Q3の範囲内の値であることが好ましく、更に
、好ましくは、lylwが3.0×103−6.Ox
103 、Mnが7.7x 1Q 2−・j、2xlQ
3の範囲内の値である。本発明におけるノボラック樹脂
の分子蚤の測定は、前述のGPCによって行う。
重9平均分子fuMvが2.0X103〜2、OX 1
04で、数平均分子ffiMnで7.0×102〜5.
OX 1Q3の範囲内の値であることが好ましく、更に
、好ましくは、lylwが3.0×103−6.Ox
103 、Mnが7.7x 1Q 2−・j、2xlQ
3の範囲内の値である。本発明におけるノボラック樹脂
の分子蚤の測定は、前述のGPCによって行う。
また、本発明に好ましく用いられるフェノール性水酸基
を有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体
としては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してで
きた重合体のことであり下記一般式[I]〜[VI]の
少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。
を有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体
としては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してで
きた重合体のことであり下記一般式[I]〜[VI]の
少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。
一般式[I]
+ CR+ R2−CR3+−
0−C○−B−OH
一般式[■]
→CR1R2−CR3→−
C0NR1→1rB−OH
一般式[I[[]
%式%
一般式[rV]
−+ CR+ R2−CR3←
−0H
一般式[Vl
OH
一般式[Vl ]
OH
式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基
、またはカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基
等のアルキル基である。R+は水素原子、アルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素
原子である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭素
原子とを連結する置換基を有してもよいアルキレン基を
表し、mは0〜10の整数を表し、81.を置換基を有
してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナ
フチレン基を表す。本発明においては、これらのうち一
般式[II]で示される構造単位を少なくとも1つ含む
共重合体が好ましい。
、またはカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子で
ある。R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基
を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基
等のアルキル基である。R+は水素原子、アルキル基、
アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは水素
原子である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭素
原子とを連結する置換基を有してもよいアルキレン基を
表し、mは0〜10の整数を表し、81.を置換基を有
してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナ
フチレン基を表す。本発明においては、これらのうち一
般式[II]で示される構造単位を少なくとも1つ含む
共重合体が好ましい。
前記ビニル系重合体は共重合体型の構造を有しており、
このような共重合体において、前記一般式[I]〜[V
I]の各々で示される構造単位の少なくとも1種と組み
合わせて用いることができる単量体単位としては、例え
ばエチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェン、
イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、例えば
スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
p−クロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸
、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン酸、
マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボ
ン酸類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリルln−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリ
ル酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル
酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル等
のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例
えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニト
リル類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばア
クリルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニ
トロアクリルアニリド、m−メl−キシアクリルアニリ
ド等のアニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステ
ル類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビ
ニルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニ
リデンクロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−
メチル−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエ
チレン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメト
キシカルボニルエチレン、1−メチル−1−二トロエチ
レン等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルビロール
、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N
−ビニルピロリドン、N−ビニルピロリドン等のN−ビ
ニル化合物、等のビニル系単量体がある。
このような共重合体において、前記一般式[I]〜[V
I]の各々で示される構造単位の少なくとも1種と組み
合わせて用いることができる単量体単位としては、例え
ばエチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェン、
イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン類、例えば
スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、
p−クロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸
、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン酸、
マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボ
ン酸類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリルln−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリ
ル酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル
酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル等
のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例
えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニト
リル類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばア
クリルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニ
トロアクリルアニリド、m−メl−キシアクリルアニリ
ド等のアニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステ
ル類、例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビ
ニルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニ
リデンクロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−
メチル−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエ
チレン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメト
キシカルボニルエチレン、1−メチル−1−二トロエチ
レン等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルビロール
、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N
−ビニルピロリドン、N−ビニルピロリドン等のN−ビ
ニル化合物、等のビニル系単量体がある。
これらのビニル系単暑体は不飽和二重結合が開裂した構
造で高分子化合物中に存在する。
造で高分子化合物中に存在する。
上記の単量体のうち、一般式[11〜[VI]で示され
る構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用いるもの
として、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し
、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリ
ル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等で
ある。
る構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用いるもの
として、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し
、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリ
ル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等で
ある。
これらの単伍体は前記ビニル系重合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
前記ビニル系重合体中における、一般式[11〜[VI
]のそれぞれで示される構造単位の含有率は、5〜70
モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好ましい
。
]のそれぞれで示される構造単位の含有率は、5〜70
モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好ましい
。
また、感光性層中における前記アルカリ可溶性樹脂の占
める割合は50〜95重量%であり、好ましくは60〜
90重量%である。
める割合は50〜95重量%であり、好ましくは60〜
90重量%である。
前記の重合体は上記組合せのもの1種のみで用いてもよ
いが、2種以上併用して感光性組成物中に含んでいても
よい。
いが、2種以上併用して感光性組成物中に含んでいても
よい。
以下に本発明に用いられるビニル系重合体の代表的な具
体例をあげる。なお下記に例示の化合物において、Mw
は重ω平均分子】、Mnは数平均分子但、s、に、j!
、o、mおよびnは、それぞれ構造単位のモル%を表す
。
体例をあげる。なお下記に例示の化合物において、Mw
は重ω平均分子】、Mnは数平均分子但、s、に、j!
、o、mおよびnは、それぞれ構造単位のモル%を表す
。
例示化合物
(ビ) ru
−ツム13
1) CHs
以下余白
本発明の感光性平版印刷版の感光層には更に、分子構造
中に下記構造単位[I]及び/又は[II]を有する化
合物を含有することが好ましい。
中に下記構造単位[I]及び/又は[II]を有する化
合物を含有することが好ましい。
構造単位[I]
+CH2CH2O+−
構造単位[I]
CH3
一+CH2CH−0+−
(式中、nは2〜5000の整数を表わす、、)本発明
に用いられる構造単位[I]及び/又は[II]を有す
る化合物としては、上記構造単位[I]及び[■]の1
方又は両方を有する化合物であればいかなるものでもよ
いが、特に構造単位[I]及び[I[]のそれぞれにお
いてnが2〜5000の範囲内の整数であり、かつ沸点
が240℃以上である化合物が好ましく、更に好ましく
はnが2〜500の範囲内の整数であり、かつ沸点が2
80℃以上である化合物であり、最も好ましいものはn
が3〜100の範囲内の化合物である。
に用いられる構造単位[I]及び/又は[II]を有す
る化合物としては、上記構造単位[I]及び[■]の1
方又は両方を有する化合物であればいかなるものでもよ
いが、特に構造単位[I]及び[I[]のそれぞれにお
いてnが2〜5000の範囲内の整数であり、かつ沸点
が240℃以上である化合物が好ましく、更に好ましく
はnが2〜500の範囲内の整数であり、かつ沸点が2
80℃以上である化合物であり、最も好ましいものはn
が3〜100の範囲内の化合物である。
このような化合物としては、例えば、
・ポリエチレングリコール(HO→CH,CH,O”1
rrH)・ポリオキシエチレンアルキルエーテル(RO
(CHt CH20)n H) ・ポリオキシエヂレンアルキルフェニルエーテル・ポリ
オキシエチレンポリスチリルフェニルエー・ポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレングリコール (ただし、ブロックポリマー、ランダムポリマーを含む
) ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレンアルキル
エーテル (末端がアルキルエーテルを形成している)(ただし、
ランダムポリマーを含む) ・アルキルフェノールポルマリン縮合物の酸化エチレン
誘導体 ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル 例えば CHO(CH2CH20)nH CH,0(CH2CH,0)nH ・ポリオキシエチレン脂肪酸エステル (例えば、RCOO(CH2CH20> n H)・ポ
リオキシエチレンフ’/し:にルアミン等が挙げられる
。
rrH)・ポリオキシエチレンアルキルエーテル(RO
(CHt CH20)n H) ・ポリオキシエヂレンアルキルフェニルエーテル・ポリ
オキシエチレンポリスチリルフェニルエー・ポリオキシ
エチレン−ポリオキシプロピレングリコール (ただし、ブロックポリマー、ランダムポリマーを含む
) ・ポリオキシエチレンーポリオキシブロビレンアルキル
エーテル (末端がアルキルエーテルを形成している)(ただし、
ランダムポリマーを含む) ・アルキルフェノールポルマリン縮合物の酸化エチレン
誘導体 ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル 例えば CHO(CH2CH20)nH CH,0(CH2CH,0)nH ・ポリオキシエチレン脂肪酸エステル (例えば、RCOO(CH2CH20> n H)・ポ
リオキシエチレンフ’/し:にルアミン等が挙げられる
。
具体的には例えば以下のようなものが好ましい。
すなわち、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル ルコールエーテル、ボリオギシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオ:1ニジJチレンノニルフエニルエ
ーテル、ポリ詞キシエチレンソルビタンモノラウレート
、ポリオニにジエチレンソルビタンモノパルミテート ンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタント
リステアレート、、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
オレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエ
ート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット
、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレ
ングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコー
ルモノオレエート、ポリエチレングリコールジステアレ
ート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルホル
ムアルデヒド縮合物、オキシエチレンオキシブロビレン
ブロックコボリマー、ポリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等である。
オキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル ルコールエーテル、ボリオギシエチレンオクチルフェニ
ルエーテル、ポリオ:1ニジJチレンノニルフエニルエ
ーテル、ポリ詞キシエチレンソルビタンモノラウレート
、ポリオニにジエチレンソルビタンモノパルミテート ンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタント
リステアレート、、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
オレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエ
ート、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット
、ポリエチレングリコールモノラウレート、ポリエチレ
ングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコー
ルモノオレエート、ポリエチレングリコールジステアレ
ート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルホル
ムアルデヒド縮合物、オキシエチレンオキシブロビレン
ブロックコボリマー、ポリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール等である。
上記化合物の感光性居中に占める割合は全感光層に対し
て0.1〜2Of4ff1%が好ましく、より好ましく
は0.2〜10重グ%である。
て0.1〜2Of4ff1%が好ましく、より好ましく
は0.2〜10重グ%である。
また、上記の化合物は上記含有mの範囲内であれば、単
独で用いてもよいし2種以上組合わせて使用してもよい
。
独で用いてもよいし2種以上組合わせて使用してもよい
。
また、本発明においては、感光層中における分子構造中
に前記構造単位[I]及び/又は[II]を有する化合
物の含有♀が支持体から遠い側の感光層表面近傍領域に
おいて、支持体に近い側の感光層表面近傍領域より多い
分布を右することが好ましく、特に支持体から遠い側の
感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範
囲内のダj域における上記化合物の含有mが支持体に近
い側の感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離ま
での範囲内の領域にお【づる含有量より多いことが好ま
しい。
に前記構造単位[I]及び/又は[II]を有する化合
物の含有♀が支持体から遠い側の感光層表面近傍領域に
おいて、支持体に近い側の感光層表面近傍領域より多い
分布を右することが好ましく、特に支持体から遠い側の
感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範
囲内のダj域における上記化合物の含有mが支持体に近
い側の感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離ま
での範囲内の領域にお【づる含有量より多いことが好ま
しい。
更に、上記化合物の含有1としては感光層表面からその
厚さの50%の距離を境として、支す体に近い側に該感
光層に含まれる全上記化合物の40重n%以下、支持体
から遠い側に60重迅%以上含まれることが好ましく、
更に支持体に近い側に該感光層に含まれる上記化合物全
体の30重S%以下、支持体から遠い側に70重量%以
上含まれることが好ましい。
厚さの50%の距離を境として、支す体に近い側に該感
光層に含まれる全上記化合物の40重n%以下、支持体
から遠い側に60重迅%以上含まれることが好ましく、
更に支持体に近い側に該感光層に含まれる上記化合物全
体の30重S%以下、支持体から遠い側に70重量%以
上含まれることが好ましい。
具体的には、感光層中において上記化合物の含有率が支
持体から遠い感光層表面から支持体に近い感光層表面方
向へ向かって連続的に減少しているもの、不連続的に減
少しているもの、少なくとも1部に含有率が変化しない
、すなわら等含有率部分を有するものが好ましく、更に
は本発明の範囲内において、1部支持体から遠い側より
支持体に近い側の方が上記化合物の含有率が高くなる部
分を有するものも含む。また上記の種々のパターンを組
合わせたものも含む。更に上記支持体から遠い感光層表
面から支持体に近い感光層表面への化合物の含有率の変
化は直線的に一定変化率で変 ・化してもよいし、曲線
的に変化率を増大又は減少させながら変化してもよい。
持体から遠い感光層表面から支持体に近い感光層表面方
向へ向かって連続的に減少しているもの、不連続的に減
少しているもの、少なくとも1部に含有率が変化しない
、すなわら等含有率部分を有するものが好ましく、更に
は本発明の範囲内において、1部支持体から遠い側より
支持体に近い側の方が上記化合物の含有率が高くなる部
分を有するものも含む。また上記の種々のパターンを組
合わせたものも含む。更に上記支持体から遠い感光層表
面から支持体に近い感光層表面への化合物の含有率の変
化は直線的に一定変化率で変 ・化してもよいし、曲線
的に変化率を増大又は減少させながら変化してもよい。
本発明の感光性平版印刷版の感光層には前記各々の素材
の他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤な
どを添加することができる。
の他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤な
どを添加することができる。
更に、本発明の感光性平版印刷版の感光層には、感脂性
を向上するために親油性の樹脂を添加することもできる
。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、更にこれを
適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光
層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を形成すること
ができる。
を向上するために親油性の樹脂を添加することもできる
。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、更にこれを
適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光
層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を形成すること
ができる。
本発明における感光層を形成する感光性組成物の各成分
を溶解する際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテ−1・、エチルセロソル
ブ、エチルセ゛ロソルブアセテート等のセロソ、ルブ類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオ
キサン、アセトン、シクロヘキサノン、]・]リクロロ
エチレンメチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用することが
て・きる。
を溶解する際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテ−1・、エチルセロソル
ブ、エチルセ゛ロソルブアセテート等のセロソ、ルブ類
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオ
キサン、アセトン、シクロヘキサノン、]・]リクロロ
エチレンメチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用することが
て・きる。
本発明における感光層を支持体表面に設ける際に用いる
塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布
、ワイヤーバー塗布、デ2rツブ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5.0(1/i”が好ましい。
塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布
、ワイヤーバー塗布、デ2rツブ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5.0(1/i”が好ましい。
本発明における感光層を設ける支持体としては、アルミ
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛
、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメツキ又は蒸着
された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板
、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張ら
れた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げ
られる。このうち好ましいのはアルミニウム板である。
ニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛
、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメツキ又は蒸着
された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板
、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張ら
れた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げ
られる。このうち好ましいのはアルミニウム板である。
本発明の感光性平版印刷版の支持体として砂目穴て処理
、陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理等の表面処
理が施されているアルミニウム板を用いることがより好
ましい。
、陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理等の表面処
理が施されているアルミニウム板を用いることがより好
ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
一般に、感光性平版印刷版は、露光焼き付は装置を用い
て露光焼付され、次いで現像液にて現像される。この結
果、未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型
レリーフ像ができる。
て露光焼付され、次いで現像液にて現像される。この結
果、未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型
レリーフ像ができる。
本発明の感光性平版印刷版の現像に用いられる現像液と
しては、水系アルカリ現像液が好適である。前記の水系
アルカリ現像液としては例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸す1〜リウム、炭酸カリウム、メタ
ケイ酸す1−リウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩
の水溶液が挙げられる。
しては、水系アルカリ現像液が好適である。前記の水系
アルカリ現像液としては例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸す1〜リウム、炭酸カリウム、メタ
ケイ酸す1−リウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩
の水溶液が挙げられる。
(実施例)
[アルミニウム板の作製]
厚さ0.24IRQ+のアルミニウム板(材質1050
.調質H16)を5重伍%の水酸化ナトリウム水溶液中
で60℃で1分間脱脂処理を行った後、1/lの0.5
モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密度:6
0A/dn”、処理時間;30秒間の条件で電解エツチ
ング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を施した
後、20重量%硫酸溶液中で温度;20℃、電流!度;
3△/ d vz、処理時間;1分間の条件で陽極酸化
処理を行った。
.調質H16)を5重伍%の水酸化ナトリウム水溶液中
で60℃で1分間脱脂処理を行った後、1/lの0.5
モル塩酸水溶液中において温度;25℃、電流密度:6
0A/dn”、処理時間;30秒間の条件で電解エツチ
ング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナトリウム
水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を施した
後、20重量%硫酸溶液中で温度;20℃、電流!度;
3△/ d vz、処理時間;1分間の条件で陽極酸化
処理を行った。
更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行い、
平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した。
感光性平版印刷版試料10作製
上記のように作製したアルミニウム板に下記組成の感光
性組成物塗布液(1)をワイヤーバーを用いて1fあた
り固形分で1.2g塗布し、90℃で4分間乾燥した。
性組成物塗布液(1)をワイヤーバーを用いて1fあた
り固形分で1.2g塗布し、90℃で4分間乾燥した。
その上に更に下記組成の感光性組成物塗布液(2)を同
様に1fあたり固形分で1.2g塗布し、90℃で4分
間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料1を得た。
様に1fあたり固形分で1.2g塗布し、90℃で4分
間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料1を得た。
(感光性組成物塗布液(1)組成)
・ノボラック樹脂A 6.71;
1・O−キノンジアジド化合物 1.50(Q
D−1) ・安息香酸 0.4 Q・ビ
クトリアピュアブルーBOH0,08g(保止ケ谷化学
鵠)製) ・ハロゲン遊離基を生成する化合物 0.15(1(
rad−1) ・メチルセロソルブ 50.ρ(感
光性組成物塗布液(2)組成) ・ノボラック樹脂A 6.7g・
0−キノンジアジド化合物 1.5g(QD−
1) ・ビクトリアピュアブルーB OH0,08+3・ハロ
ゲン遊離基を生成する化合物 o、 isg(rac
l−1) ・エチルセロソルブ 50顧かくし
て1qられた感光性平版印刷版の上層部、ずなわら、支
持体から遠い側の厚さの172の部分を採取し、含まれ
ている安息香酸のmを定ごしたところ、全mの約25%
の闇が存在していた。
1・O−キノンジアジド化合物 1.50(Q
D−1) ・安息香酸 0.4 Q・ビ
クトリアピュアブルーBOH0,08g(保止ケ谷化学
鵠)製) ・ハロゲン遊離基を生成する化合物 0.15(1(
rad−1) ・メチルセロソルブ 50.ρ(感
光性組成物塗布液(2)組成) ・ノボラック樹脂A 6.7g・
0−キノンジアジド化合物 1.5g(QD−
1) ・ビクトリアピュアブルーB OH0,08+3・ハロ
ゲン遊離基を生成する化合物 o、 isg(rac
l−1) ・エチルセロソルブ 50顧かくし
て1qられた感光性平版印刷版の上層部、ずなわら、支
持体から遠い側の厚さの172の部分を採取し、含まれ
ている安息香酸のmを定ごしたところ、全mの約25%
の闇が存在していた。
感光性平版印刷版試料2〜10の作製
上記感光性平版印刷版試料1の作製における感光性組成
物塗布液(1)及び(2)組成の特定の素材及び塗布量
を第1表のように変える以外は上記試料1の作製と同様
にして感光性平版印刷版試料2〜10を得た。
物塗布液(1)及び(2)組成の特定の素材及び塗布量
を第1表のように変える以外は上記試料1の作製と同様
にして感光性平版印刷版試料2〜10を得た。
感光性平版印刷版試料11〜20の作製前記のように作
製したアルミニウム板に下記組成の感光性組成物塗布液
(3)を、その上に感光性組成物塗布液(4)を感光性
平版印刷版試料1の作製と同様にして塗布乾燥し、感光
性平版印刷版試料11を得た。更に上記塗布液(3)及
び(4)における特定の素材及び塗布量を第1表のよう
に変える以外は上記平版印刷版試料11の作製と同様に
して平版印刷版試料12〜20を得た。
製したアルミニウム板に下記組成の感光性組成物塗布液
(3)を、その上に感光性組成物塗布液(4)を感光性
平版印刷版試料1の作製と同様にして塗布乾燥し、感光
性平版印刷版試料11を得た。更に上記塗布液(3)及
び(4)における特定の素材及び塗布量を第1表のよう
に変える以外は上記平版印刷版試料11の作製と同様に
して平版印刷版試料12〜20を得た。
(感光性組成物塗布液(3)組成)
・ノボラック樹脂A ’ 6.3g
・O−キノンジアジド化合物 1.9g(Q
D−1) ・シス−1,2−シクロヘキサン 0,3gジカル
ボン酸 ・ビク1へリアピュアブルーB OH0,07g(採土
ケ谷化学U製) ・ハロゲン遊rIimを生成する化合物 0.131
7(rad −2) ・メチルセロソルブ 501g(感
光性組成物塗布液(4)組成) ・ノボラック樹脂A 6.3(1
・0−キノンジアジド化合物 1.9(1(Q
D−1) 一しオドーJL、TW−0 120 0.3
g・ビクトリアピュアブルーBOH0,07g・ハロ
ゲン:1ll11基を生成する化合物 0.13(]
(rad −2) ・メチルセロソルブ 501g感光
性平版印刷版試料21〜23の作製前記感光性平版印刷
版試料N 0.2に用いた感光性組成物塗布液(1)の
p−トルイル酸の聞を0.2gとし、試料N o、 2
の(¥製と同様にして112当たりの固形分で2.49
となるように塗布し、乾燥して感光性平版印刷版試料N
o、21を作製した。
・O−キノンジアジド化合物 1.9g(Q
D−1) ・シス−1,2−シクロヘキサン 0,3gジカル
ボン酸 ・ビク1へリアピュアブルーB OH0,07g(採土
ケ谷化学U製) ・ハロゲン遊rIimを生成する化合物 0.131
7(rad −2) ・メチルセロソルブ 501g(感
光性組成物塗布液(4)組成) ・ノボラック樹脂A 6.3(1
・0−キノンジアジド化合物 1.9(1(Q
D−1) 一しオドーJL、TW−0 120 0.3
g・ビクトリアピュアブルーBOH0,07g・ハロ
ゲン:1ll11基を生成する化合物 0.13(]
(rad −2) ・メチルセロソルブ 501g感光
性平版印刷版試料21〜23の作製前記感光性平版印刷
版試料N 0.2に用いた感光性組成物塗布液(1)の
p−トルイル酸の聞を0.2gとし、試料N o、 2
の(¥製と同様にして112当たりの固形分で2.49
となるように塗布し、乾燥して感光性平版印刷版試料N
o、21を作製した。
また、上記感光性組成物塗布液(1)の特定の素材を第
1表のように変える以外は試料N021と同様にして感
光性平版印刷版試料No、22及び23を作製した。
1表のように変える以外は試料N021と同様にして感
光性平版印刷版試料No、22及び23を作製した。
かくして得られた感光性平版印刷版試料No、1〜23
上に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コ
ダック社製N082、濃度差0.15ずつで21段階の
グレースケール)及びブルナーチャートを密着して、4
KWメタルハライドランプを光源としてクリア段数が5
段の条件で、露光した。その時の露光カウント及びブル
ナーの2%小点の再現性を評価した。
上に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コ
ダック社製N082、濃度差0.15ずつで21段階の
グレースケール)及びブルナーチャートを密着して、4
KWメタルハライドランプを光源としてクリア段数が5
段の条件で、露光した。その時の露光カウント及びブル
ナーの2%小点の再現性を評価した。
また、セーフライト性を評価Tlる為に、未露光の前記
試料N011〜23を明室に10分、15分及び20分
間放置し曝光させ5DR−1(コニカ(株社製)を水で
6倍希釈した現象液(標準現象液)で27℃にて20秒
間現像し、画像部の浸食度を明室に放買しなかったもの
と比較し、評価した。
試料N011〜23を明室に10分、15分及び20分
間放置し曝光させ5DR−1(コニカ(株社製)を水で
6倍希釈した現象液(標準現象液)で27℃にて20秒
間現像し、画像部の浸食度を明室に放買しなかったもの
と比較し、評価した。
更に、ボールペン適性を検討するためにペリカン製ボー
ルペンで未露光部に描画を行い、その後上記と同様に現
像処理し描画部のやられ(侵食r!りを判定した。結果
を第1表に示す。
ルペンで未露光部に描画を行い、その後上記と同様に現
像処理し描画部のやられ(侵食r!りを判定した。結果
を第1表に示す。
以下余白“、4
:・ 1“ ユ:
傘10−キノンジアジド化合物
QD−1: 1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ボンM−2,3,II、4’ −テトラヒドロキシベン
ゾフェノンエ ステル QD−2; (X/V −1/3 QDを反応させる前の樹脂のMW −1,600)QD
−3; QDを反応させる前の樹脂のMW = 1,300本
2 ノボラック樹脂 ・ノボラック樹脂A フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、m−クレゾ
ール及びp−クレゾールの各々のモル比が2.0:
4.8: 3.2、MW = 7,000、tvL
w /Mn −5,4) ・ノボラック樹脂B m−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒドと
の共重樹脂(a+−クレゾール及びp−クレゾールの各
々のモル比が6:4、MW −a、ooo、MW /M
n −5,7) $3 構造単位[I]及び/又は[I[]を有する化合
物 ・レオドールTW−0120(花王側製);ポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエート・エマルゲン920
(花王@製): ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル・ポリエチ
レングリコール(関東化学社製);ポリエチレングリコ
ール# 2000 ・エマノーン1112(花王■製): ポリエチレングリコールモノラウレート・ニラコールR
= 1010 (日光ケミカルズ社製):ポリオキシエ
チレンノニルフェニルホルムアルデヒド縮合物 ・レオドール440(花王■製); テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット ・エマルゲン408(花王慣)製); ポリオキシエチレンオレイルエーテル ・エマルゲンA −90(花王(体製);ポリオキシエ
チレン誘導体 ・エマルゲンl−40(花王■製); ポリオキシエチレンW Q体 ・エマルゲンpp−250(花王(体製);オキシエチ
レン・オキシプロピレンブロックコポリマー Oハロゲン遊離基を生成する化合物 rad−1;2−トリクロロメチル−5−(p−メトキ
シスチリル)−1,3,4− オキサジアゾール(特開昭54−74728号公報実施
例1に記載の化合物) rad−2:2−トリクロロメチル−5−[β−(2−
ベンゾフリル)ビニル]1゜ 3.4−オキサジアゾール(特開昭 60−138539号公報に記載の例示化合物(1)) [発明の効果] 本発明により、感度を低下させることなく網点、特に小
点の再現性が改良された感光性平版印刷版を提供するこ
とができた。
ボンM−2,3,II、4’ −テトラヒドロキシベン
ゾフェノンエ ステル QD−2; (X/V −1/3 QDを反応させる前の樹脂のMW −1,600)QD
−3; QDを反応させる前の樹脂のMW = 1,300本
2 ノボラック樹脂 ・ノボラック樹脂A フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、m−クレゾ
ール及びp−クレゾールの各々のモル比が2.0:
4.8: 3.2、MW = 7,000、tvL
w /Mn −5,4) ・ノボラック樹脂B m−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒドと
の共重樹脂(a+−クレゾール及びp−クレゾールの各
々のモル比が6:4、MW −a、ooo、MW /M
n −5,7) $3 構造単位[I]及び/又は[I[]を有する化合
物 ・レオドールTW−0120(花王側製);ポリオキシ
エチレンソルビタンモノオレエート・エマルゲン920
(花王@製): ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル・ポリエチ
レングリコール(関東化学社製);ポリエチレングリコ
ール# 2000 ・エマノーン1112(花王■製): ポリエチレングリコールモノラウレート・ニラコールR
= 1010 (日光ケミカルズ社製):ポリオキシエ
チレンノニルフェニルホルムアルデヒド縮合物 ・レオドール440(花王■製); テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット ・エマルゲン408(花王慣)製); ポリオキシエチレンオレイルエーテル ・エマルゲンA −90(花王(体製);ポリオキシエ
チレン誘導体 ・エマルゲンl−40(花王■製); ポリオキシエチレンW Q体 ・エマルゲンpp−250(花王(体製);オキシエチ
レン・オキシプロピレンブロックコポリマー Oハロゲン遊離基を生成する化合物 rad−1;2−トリクロロメチル−5−(p−メトキ
シスチリル)−1,3,4− オキサジアゾール(特開昭54−74728号公報実施
例1に記載の化合物) rad−2:2−トリクロロメチル−5−[β−(2−
ベンゾフリル)ビニル]1゜ 3.4−オキサジアゾール(特開昭 60−138539号公報に記載の例示化合物(1)) [発明の効果] 本発明により、感度を低下させることなく網点、特に小
点の再現性が改良された感光性平版印刷版を提供するこ
とができた。
また、本発明によりセーフライト性及びボールペン適性
に優れた感光性平版印刷版を提供することができた。
に優れた感光性平版印刷版を提供することができた。
第1図の(a )〜(h )は本発明の感光性平版印刷
版の感光層中の有機酸の好ましい濃度分布を示す。 図中、u、Sは支持体から遠い側の感光層表面を示し、
L、Sは支持体に近い側の感光層表面を示す。 第 1 図
版の感光層中の有機酸の好ましい濃度分布を示す。 図中、u、Sは支持体から遠い側の感光層表面を示し、
L、Sは支持体に近い側の感光層表面を示す。 第 1 図
Claims (1)
- 支持体上にo−キノンジアジド化合物、アルカリ可溶
性樹脂及び有機酸を含有する感光層を有する感光性平版
印刷版において、前記感光層中における前記有機酸の含
有量が少なくとも前記支持体に近い側の感光層表面近傍
領域において、前記支持体から遠い側の感光層表面近傍
領域より多いことを特徴とする感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13897288A JPH01307741A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13897288A JPH01307741A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01307741A true JPH01307741A (ja) | 1989-12-12 |
Family
ID=15234479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13897288A Pending JPH01307741A (ja) | 1988-06-06 | 1988-06-06 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01307741A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06332181A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-12-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | レジスト構造とその製造方法 |
-
1988
- 1988-06-06 JP JP13897288A patent/JPH01307741A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06332181A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-12-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | レジスト構造とその製造方法 |
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