JPH01307742A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性平版印刷版

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Publication number
JPH01307742A
JPH01307742A JP13897388A JP13897388A JPH01307742A JP H01307742 A JPH01307742 A JP H01307742A JP 13897388 A JP13897388 A JP 13897388A JP 13897388 A JP13897388 A JP 13897388A JP H01307742 A JPH01307742 A JP H01307742A
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JP
Japan
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photosensitive layer
photosensitive
printing plate
support
lithographic printing
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Pending
Application number
JP13897388A
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English (en)
Inventor
Hideyuki Nakai
英之 中井
Sei Goto
聖 後藤
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Yoshiko Kobayashi
佳子 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc, Mitsubishi Chemical Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP13897388A priority Critical patent/JPH01307742A/ja
Publication of JPH01307742A publication Critical patent/JPH01307742A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は0−キノンジアジドを含むポジ型感光11平版
印刷版に1幻りるものである。
[発明の′f!lnF ポジ型感光性平版印刷版の感光層には、一般に感光成分
として0−キノンジアジド化合物°、及び皮膜強度とア
ルカリrt1解性とを高めるための成分としてアルカリ
可溶性樹脂が含有されている。
従来このようなポジ型感光性平版印q版の感光層に高感
度化等を目的として酸無水物を含有させることは知られ
ている。しかしながらこのような1!l m 7に物を
含有しに感光性平版印刷版においては、網点再現性、特
に小点再現性゛、セーフライト性及びボールペン適性等
が劣化する傾向があり、特に網点再現性については、こ
の再現性の1¥動がramの変1ヒとして現われるため
重大な問題となり、特に小点再現性が劣る場合、117
られる印舅物におけるハイライト部の再現性に大きな問
題を生じていた。上記小点再現性を改良するため、露光
時において露光mを減少させる等の方法が行なわれるが
、このような方法では小点再現性はある程度改良される
ものの、逆に中点及び大魚の再現性が劣化するという欠
点を生じていた。このため、高感度を保ちながら小点再
現性に優れ、かつセーフライト性及びボールペン適性に
涜れた上記有機酸含有感光性平版印刷版が望まれていた
ここで「セーフライ1−性」とは感光性平版印刷版の製
版f¥:桑を白色蛍光灯下で行なう場合の光力ブリに対
する抵抗性をいい、「ボールペン適性も」とは感光性平
版印刷版にいわゆる多面焼付は等を行う際にフィルム原
稿の位置合わせのためのマークに用いるボールペンのイ
ンキに対する耐性を示す。
[発明の目的] 本発明の目的は、高感度を保持しつつ網点、特に小点の
再現性が改良された感光性平版印刷版を提供することに
ある。
また、本発明の目的は、セーフライト性及びボールペン
適性に優れた感光性平版印刷版を提供することにある。
[発明の構成] 上記本発明の目的は、支持体上に0−キノンジアジド化
合物、アルカリ可溶性樹脂及びM無水物を含有でる感光
層を有する感光性平版印刷版において、前記感光層中に
おける舶記M無水物の含有■が少なくとも前記支持体に
近い側の感光層表面近傍領域において、前記支持体から
遠い側の感光層表面方向領[J:り多いことを特徴とす
る感光性平版印刷版によって達成されIζ。
[51明の具体的構成1 本発明においては、感光層中におけるM)?&水物の含
有ωが支持体に近い側の感光層表面近傍#i域において
、支持体から遠い側の感光層表面近傍領域より多ければ
いかなる含有率分布を示してもよいが、特に支持体に近
い側の感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離ま
での範囲内のrllllにおける酸無水物の含有Gが支
持体から遠い側の感光層表面から全感光層の厚さの50
%の距離までの範囲内の領域における含有出より多いこ
とが好ましい。
更に、上記酸無水物の含有のとしては感光層表面からそ
の厚さの50%の距離を境として、支持体から遠い側に
該感光層に含まれる全酸無水物の40mm%以下、支持
体に近い側に60 ffi m%以上含まれることが好
ましく、更に支持体から遠い側に該感光層に含まれる全
酸無水物の30瓜逍%以下、支持体に近い側に701n
%以上含まれることが好ましい。
具体的には、感光層中において?!無水物含有率が支持
体に近い感光層表面から支持体から遠い感光層表面方向
へ向かって3+!続的に減少しているもの、不連袂的に
減少しているもの、少なくとも1部に含有率が変化しな
い、すなわら等含有率部分を有するものが好ましく、更
には本発明の範囲内において、1部支持体に近い側より
支持体から遠い側の方が酸無水物含有率が高くなる部分
を有するものも含む。また上記の種々のパターンを組合
わせたものも含む。更に上記支持体に近い感光層表面か
ら支持体から遠い感光層表面への酸無水物含有率の変化
は直線的に一定変化率で変化してもよいし、曲線的に変
化率を増大又は減少させながら変化してもよい。
好ましくは第1図の(a )〜(h)に示νようなパタ
ーンを有する感光層を有する感光性平版印刷版が望まし
い。
またこのようなl!2無水物の分布を有する感光性平版
印刷版は同一組成で酸無水物のま度のみが異なる複数の
塗布液を順次塗布することによって作製しうる。
本発明に用いる酸無水物としCは公知の種々の酸無水物
がすべて用(罵られるが、好ましくは環状11無水物で
あり、このようなしのとして例えば無水フクル百、テ1
〜ラヒドロ無′水フタル故、ヘキサヒドロ無水フタル酸
、3.6−ニンドオキシー・Δ゛奮−テトラヒドロ無水
フクル止、テトラクロル無水フタル酸、無水グルクル酸
、無水ンレーrン酸、タロル無水マレ・fン酸、α−・
)Tニル焦ホマレイン酸、無水コハク酸、ピロ1.Cリ
ツf’ l′l!2答が挙げられる。これらのwi無水
物は感光層中に0.05−・10fflffi%、特に
0.1〜5兎量%含有されることが好ましい。
本発明にお1プる0−キノンジアジド化合物としては例
えば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノー
ル類及びアルデヒド又はケトンのm縮合樹脂とのエステ
ル化合物が挙げられる。
前記フェノール類としては、例えば、フ【ノール、O−
クレゾール、m−クレゾール、p−タレゾール、3,5
−キシレノール、カルバクロールチモール等の一価フエ
ノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の二
価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三価
フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしてはホ
ルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド
、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる。
これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベン
ズアルデヒドである。また、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記mwJ合樹脂の具体的な例としては、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂、鴎−クレゾール・1トルムアル
デヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガ
ロール・アセトン樹脂舊が挙げられる。
前記O−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OHMに対する0−ナフ[・キノンジアジドスルボン酸
の綜合率(OH基1g1Aに対する反応率)は、15〜
80%が好ましく、より好ましくは20〜45%である
更に本発明に用いられるオルトキノンジアジド化合物と
しては待聞昭58−43,151@公報明細四に記載の
ある以下の化合物も使用できる。すな、bら例えば1.
2−ペンゾキノンリアジドスルホン液エステル、1.、
2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2
−ベンゾキノンジアジドスルホン駿アミド、1.2−ノ
“フ1−キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の
1.2−キノンジアジド化合物、さらに具体的にはジエ
イ・コナール(、J 、K osar)著[ラ−?1〜
・センシティブ システム] (“L ight−S 
ens!jiVe  S ”/5jefflS”)第3
39〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー ア
ンド サンズ(John Wiley  &  5on
s )社(ニューヨーク)やダブリュー・ニス・デイ−
・フォレスト(W、 S、 D、 Forest )著
「フォトレジスト」 (“P hotorcsist”
 )第50巻。
、(1915年)、マグロ−ヒル(Mc Graw −
Hlll )社にニューヨーク)に記載されている1、
2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエ
ステル、1.2.1’ 、2’−ジー(ベンゾキノンジ
アジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、
1,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−N
−β−ナフチル)−スルホンアミド、1.2−デフ1−
キノンジアジド−5−スルボン酸シクロヘキシルエステ
ル、1− (1,2−ナラ1−キノンジアジド−5−ス
ルホニル)−3゜5−ジメチルビラゾール、1.2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−4“−ヒドロキ
シジフェニル−4n−アゾ−β−ナフトールエステル、
N、N−ジー(1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホニル)−アニリン、2’ −(1,2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ
−アントラキノン、1.2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン!−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエ
ステル、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン
!−2,3゜4−トリヒドロキシベンゾフェノンエステ
ル、1゜2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸ク
ロリド2モルと4.4′−ジアミノベンゾフェノン1モ
ルの綜合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルと4.tビージヒドロキシ−1,
1′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸りOリド1モルと
プルプロガラ21モルの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−(N−ジヒド1コアビニチル)−スルホ
ンアミドなどの1,2−キノンジアジド1ヒ合物を例示
することができる。ま、た持分!l、’l 37−19
53号、同31−3627@、同37−13109@、
同40−26126号、同4O−3801F3、同、1
5−5604号、同45−273.15号、同51−1
3013号、特1m U 48−9G575j3、同I
l 8− G 3 G 02号、同48−03803号
各公報に記載された1、2−キノンジアジド化合物をも
挙げろことができる。
本発明の0−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いでもよいし、2種以上用合わせて用い
てもよい。本発明に用いられる0−キノンジアジド化合
物の感光性層中に占める割合は、5〜601ff1%が
好ましく、特に好ましくは、10〜50重1%である。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、当分野に
おいて公知の種々の樹脂が用いられるが、特にノボラッ
ク樹脂及びフェノール性水Mmを有する構31単位を分
子溝3B中に有するビニル系重合体が好ましい。
本発明に好ましく用いられるノボラック樹脂としては、
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して1qられる樹脂が挙げられ、該フェノール類とし
ては、例えばフェノール、0−クレゾール、l−クレゾ
ール、p−クレゾール、3,5−キシレノール、2,4
−キシレノール、2.5−キシレノール、カルバクロー
ルモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ピ
ロガロール、フロログルシン等が挙げられる。
上記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組み合わ
せてホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる
。これらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール
、−一クレゾール(又は0−クレゾール)及びp−クレ
ゾールから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒド
とを共重縮合して1りられる樹脂である。例えば、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド
具m合体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・ホル
ムアルデヒド共f口縮合体樹脂、0−クレゾール′・p
−クレゾール・ホルムアルデヒド共m縮合体樹脂、フェ
ノール・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアル
デヒド共m縮合体樹脂、フェノール・0−クレゾール・
p−クレゾール・ホルムアルデヒド共m縮合体樹脂が挙
げら°れる。更に上記のノボラック樹脂のうち、フェノ
ール・m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂が好ましい。
本発明においては、上記ノボラックIM(脂は単独゛で
用いてムJ:いし、また2種以ト組合わUて用いてbよ
い。
上記ノボラック樹脂の分子1■(ボリスヂレン標準)は
、m帛平均分子m M v /)< 2.OX 1 0
 ’ −・2、OX i Q4 T:、数平均分子[I
 M nが7.0×102〜!i.OX ”l Q3の
範囲内の値であることが好ましく、更に、好ましくは、
MYが3.0×103〜6.0×103、Mnが7.7
X 1 02 〜1、2X103の範囲内の値である。
本発明におけるノボラック樹脂の分子圀の測定は、前述
のGPCにJ:って行う。
また、本発明に好まし゛く用いられるフェノール性水酸
基を有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合
体としては、炭崇ー炭素二m結合が開裂して、重合して
できた重合体のことであり下記一般式[I]〜[VI]
の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。
一般式[I] +OR+ R2 −CR3+ ■ 0 − C O − 8 − 0 1−1一般式[TI
] 一+CR1R2 −、CRa+− C O N R 4−fA汝B−OH 一般式[IIN +ORI  R2  ”CR3−)− COO−+lーBーOH 一般式[rV] 一+CR+  R2  −CRa +−−OH 一般式[V] 巳 八 ト1 一般式[VI] ♂H 式中、R1およびR2はそれぞれ水Wt原子、アルキル
基、またはカルポキシルロを表し、好ましくは水素原子
である。R3は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル
基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル
・基等のアルキル基である。R4は水素原子、アルキル
塁、アリール基またはアラルキル基を表し、好ましくは
水素原子である。AはN素原子または酸素原子と万香1
g、炭素原子とを連結する置換基を有しでもよいアルキ
レン基を表し、惜はO〜10の整数を表し、Bは置換基
を有してもよいフェニレン基または置換基を有してもよ
いナフチレン基を表づ゛。本発明においては、これらの
うち一般式[II]で示される構造単位を少なくとも1
つ含む共重合体が好ましい。
前記ビニル系重合体は共重合体型の構造を有しており、
このような共重合体において、前記一般式[I]〜[V
I]の各々で示される<Fr 造単位の少なくとも1種
と組み合わせて用いることができる111r!1体単位
としては、例えばエチレン、プロピレン、イソブチレン
、ブタジェン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフ
ィン類、例えばスチレン、α−メメチスチレン、p−メ
チルスチレン、1)−クロロスチレン等のスチレン類、
例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例
えばイタコン酸、マレーfン酸、無水マレイン酸等の不
飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル故メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸n−Iチル、アクリル酸
イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2−クロ
ロエチル、アクリル酸エチル、α−りOロアクリル酸メ
チル、メタクリル醒メチル、メタクリル酸エチル、工6
ζクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メタアクリ
ロニトリル等のニトリル項、例えばアクリルアミド箸の
アミド類、例えばアクリルアニリド、p−クロロアクリ
ルアニリド、l−ニトロアクリルアニリド、層−メトキ
シアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢酸ビニル
、プロピオン准ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪醒ビニル
等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエーテル、
エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β
−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、
塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ごニリデンシアナ
イド、例えば1−メチル−1−メトキシエチレン、1,
1−ジメトキシエチレン、1.2−ジメトキシエチレン
、1,1−ジメトキシカルボニルエチレン、1−メチル
−1−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、例えばN
−ビニルビロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニ
ルインドール、N−ビニルビロールン、N−ビニルピロ
リドン等のN−ビニル化合物、等のビニル系単量体があ
る。
これらのビニル系単量体は不飽和二重結合が開裂した構
造で高分子化合物中に存在する。
上記の単量体のうち、一般式[11〜[Vl ]で ・
示される構造単位の少なくとも1種と組み合わせて用い
るものとして、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカル
ボン酸のエステル類、二!〜リル類が総合的に優れ!ζ
性能を示し、好ましい。より好ましくは、メタクリル酸
、メタクリル酸メチル、アクリロニトリル、アクリル酸
エチル等である。
これらの単量体は前記ビニル系重合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
前記ビニル系1合体中におりる、一般式[工]〜[V[
]のそれぞれで示される構造単位の含有率は、5〜70
モル%が好ましく、特に、10〜40モル%が好ましい
また、感光性層中における前記アルカリ可溶性樹脂の占
める請合は50〜65mm%であり、好ましくは60〜
90重量%である。
前記の重合体は上記組合せのもの1E[!のみで用いて
もよいが、2種以上併用して感光性組成物中に含んでい
てもよい。
以下に本発明に用いられるビニル系重合体の代表的な具
体例をあげる!なお下記に例示の化合物において、MW
はt(it平均分子釘、Mnは数平均分子(i)1s、
に、f、o、mおよびnは、それぞ<gCCHs (j)CH。
諜 “ ニノ 本発明の感光性平版印舅版の感光層には更に、分子構造
中に下記構造単位[I]及び/又は[II]を有する化
合物を含有することが好ましい。
構造単位[I] −(−CH2C1−120’世 vA造単位[ffl CHs 1 CトhcH−Of− (式中、11は2〜5000の整数を表わず。)本発明
に用いられる構造単位[I]及び7/又(よ[II]を
有する化合物としては、上記構造単位[I]及び[II
]の1方又は両方を有する1ヒ合物であればいかなるも
のでもよいが、特に構造lit位[I]及び[fflの
それぞれにおいてnが2〜5000の範囲内の整数であ
り、かつ沸点が240℃以上である化合物が好ましく、
更に好ましくはnが2〜500の範囲内の整数であり、
かつ沸点が280℃以上である化合物であり、最も好ま
しいものはnが3〜100の範囲内の化合物である。
このような化合物としては、例えば、 ” ホIJ エチl/ /グ’) :l−ル(HO−(
CHzCH,O−)”trH’)・ポリオキシエチレン
アルキルエーテル(RO(CH* CHz O)n H
)・ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル・ポ
リオキシエチレンポリスチリルフェニルエー・ポリオキ
シエチレン−ポリオキシプロピレングリコール (ただし、ブロックポリマー、ランダムポリマーを含む
) ・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキル
エーテル (末端がアルキルエーテルを形成している)(ただし、
ランダムポリマーを含む) ・アルキルフェノールホルマリン縮合物の酸化エチレン
誘1!抹 ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル 例えば ・ポリオキシエチレン脂肪酸エステル (例えば、RCOO(CH=CH,0)nH)・ポリオ
キシエチレンアルキルアミン 等が挙げられる。
具体的には例えば以下のようなものが好ましい。
すなわち、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリ
オキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンス
テアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテ
ル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリ
オキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリAキシ
エチレンノニルフ工二ルエーテル、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビ
タン[ツバルミチー1〜、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタント
リステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオ
レエート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエー
ト、テトシオレイン酸ポリオキシエチレシソルビット、
ボリエヂレングリコールモノラウレート、ポリニブ−し
ノングリコールモノステアレー1・、ポリエチレングリ
コール七ノオレ工−1〜、ポリエチレングリコールジス
テアレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ルホルムアルデヒド綜合物、オキシエチレンオキシブロ
ビレンブロックコボリマー、ポリエチレングリコール、
テトラエチレングリコール笠である。
上記化合物の感光性層中に占める割合は全感光層に対し
て0.1〜20重口%が好ましく、より好ましくは0.
2〜10重量%である。
また、上記の化合物は上記Ω右ωの範囲内であれば、単
独で用いてもよいし2種以上組合わせて使用してもよい
本発明においては、感光居中における分子構造中に前記
構造単位[I]及び/又は[II]を有する化合物の含
有但が支持体から遠い側の感光層表面近傍領域において
、支持体に近い側の感光層表面近傍領域より高い分布を
有することが好ましく、特に支持体から遠い側の感光層
表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範囲内の
°領域における上記化合物の含有量が支持体に近い側の
感光層表面から全感光層の厚さの50%の距離までの範
囲内の領域にお【プる含有良J:り多いことが好ましい
更に、上記化合物の含有量としては感光層表面からその
厚さの50%の距離を境として、支持体に近い側に該感
光層に含まれる全上記化合物の40重量%以下、支持体
から遠い側に60辺辺%以上含まれることが好ましく、
更に支持体に近い側に該感光層に含まれる上記化合物全
体の30重■%以下、支持体から遠い側に70重の%以
上含まれることが好ましい。
具体的には、感光層中において上記化合物の含有率が支
持体から遠い感光層表面から支持体に近い感光F!1表
面方向へ向かって連続的に減少しでいるもの、不連続的
に減少しているらの、少なくとも1部に含有率が変化1
ノない、丈なわら等含有率部分を有するものが好ましく
、更には本発明の範囲内において、1部支持体から遠い
側より支持体に近い側の方が上記化合物の含有率が高く
なる部分を右づ゛るもめら含む。また上記の種々のパタ
ーンを組合わせたものも含む。更に上記支持体から遠い
感光層表面から支持体に近い感光B表面への化合物の含
有率の変化はiC(線内に一定変化率で変化してもよい
し、曲線的に変化率を増大又は減少させながら変化して
もよい。
本発明の感光性平版印刷版の感光層には前記5警々の素
材の他、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、可塑剤
などを添加することができる。
更に、本発明の感光性平版印刷版の感光口には、感脂性
を向上するために親油性の樹脂を添加することもできる
。これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、更にこれを
適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光
層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を形成すること
ができる。
本発明における感光口を形成する感光性組成物の各成分
を溶解する際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソ
ルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
、エチルセロソルブアセテ−1・等のセロソルブ類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサ
ン、アセ1−ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレ
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶媒は
、単独であるいは2種以上混合して使用することができ
る。
本発明における感光層を支持体表面に設ける際に用いる
塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗布
、ワイX7−バー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布工は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5.0 g/fが好ましい。
本発明における感光層を設(〕る支持体としては、アル
ミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金民板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメツキ又は蒸
着された金屈阪、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属筋が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。このうち好ましいのはアルミ三・シム板であ
る。本発明の感光性平版印刷版の支持体として砂目立て
処理、陽極酸化処理および必要に応じて封孔処理等の表
面処理が施されているアルミニウム板を用いることがよ
り好ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
一般に、感光性平版印刷版は、露光焼き付は装置を用い
て露光焼付され、次いで現伽液にて現頽される。この結
果、未露光部分のみが支持体表面に残り、ポジーポジ型
レリーフ像ができる。
本発明の感光性平版印刷版の現象に用いられる現像液と
しては、水系アルカリ現像液が好適である。前記の水系
アルカリ現像液としては倒えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケ
イ酸ナトリ・ンム、メタケイ酸カリウム、第ニリン酸す
1−リウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩
の水溶液が挙げられる。
(実施例) [アルミニウム板の作製] 厚さ0.24uのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5mf1%の水酸化すトリウム水溶液中で6
0℃で1分間脱脂処理を行った後、1iの0.5モル塩
酸水溶液中において温度;25℃、電流密度:60A/
df、処理時間二30秒間の条件で電解エツチング処理
を行った。次いで、5m足%水酸化すトリウム水溶液中
で60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20
重a%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密度:3A/d
r、処理時間21分間の条件で陽1fflW化処理を行
った。
更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理1を行い
、平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製した
・ 性平版印刷 試!1の ゛ 上記のように作製したアルミニウム板に下記組成の感光
性組成物塗布液(1)をワイヤーバーを用いて1fあた
り固形分で1.201布し、90℃で4分間乾燥した。
その上に更に下4d組成の感光性組成物塗布液(2)を
同様に1fあたり固形分で1.29塗布し、90℃でl
1分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料1を19だ
(感光性組成1勿塗布液(1)組成) ・ノボラック841IFIAa、sす □・O−キノンジアジド化合1111     1.7
’J(QD−1) ・無水グルタル酸           o、sg・ビ
ラ1−リアピュアブルー801−1    0.0Gg
(深土ケ谷化学fll製) ・ハロゲンimuを生成する化合物  0.12す(r
ad−1) ・メチルセロソルブ          501g・(
感光性組成物塗布液(2)11成)・ノボラック樹脂A
           6.59・O−キノンジアジド
化合物     1.7g(QD−1) ・ビクトリアピュアブルーB OH0,060・ハロゲ
ン311111基を生成する化合物  0.12g(r
ad−1) ・エヂルセロソルブ          501Q感光
性平版印舅版試料2〜5の作製 上記感光性平版印刷版試料1の作製における感光性組成
物塗布液(1)及び(2)組成の特定の素材、塗布足を
第1表のように変える以外は上記試料1の作製と同様に
して感光性平版印刷版試料2〜5を得た。
感光性平版印刷版試料6〜8の作うl 前記のJ:うに作製したアルミニウム板に下記組成の感
光性組成物塗布液(3)を、その上に感光性組成物塗布
液(4)を感光性平版印刷版試料1のrr、製と同様に
して塗布乾燥し、感光性平版印刷版試料6を得た。更に
上記塗布液(3)及び(4)における特定の素材、塗布
伍を第1表のように変える以外は上記平版印刷版試F1
6の作製と同様にして平版印刷版試料7及び8を1qた
(感光性組成物塗布液(3)11成) ・ノボラック樹脂3           f3.11
J・0−キノンジアジド化合物     2.19(Q
D−2) ・無水コハク酸            0.5り・ビ
クトリアピュアブルーBOI−10,069・ハロゲン
″72離基な生成する化合物  0.12!J(rad
−2) ・メチルセロソルブ          50輩(感光
性組成物塗布111(4)’i]成)・ノボラック樹脂
B          6.1す・0−キノンジアジド
化合物2.10 (QD−2) ・ポリエチレングリコール      0.39・ビク
トリアピュアブルー80!−10,06g・ハロゲン遊
離基を生成する化合物  0.129(rad −2> ・メチルセロソルブ          50輩感 性
平版印刷版試料9及び10の作製上記感光性平版印刷版
試料N o、 1に用いた感光性組成物塗布液(1)の
QD−1及び無水グルタル酸を第1表のようにかえ、更
に酸無水物(テ1〜ラヒドO無水フタル酸)のmをO,
zsgとし、試料N011の作製と同様にして1f当た
りの固形分で2.4gとなるように塗布し、乾燥して感
光性平版印刷版試料N0.9を作製した。
また、上記感光性組成物塗布1(1)の特定の素材を第
1表のように変える以外は試料NO19と同様にして感
光性平版印刷版試料N0.10を作製した。
かくして得られた感光性平版印刷版試料N091〜10
上に感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コ
ダック社製No、2、n度差0.IJrVつで21段階
のグレースケール)及びプルナーヂセ−1・を密着して
、4KWメタルハライドランプを光源としてクリア段数
が5段の条件で、露光した。その時の露光カラン1−及
びブルナーの217.小点の再現性を評価し1ζ。
また、セーフライト性を評価゛りる為に、未露光の前記
試料N0.1〜10を明室に10分、15分及び20分
間a首し曝光させ5DR−1(コニカ■社製)を水で5
.5倍希釈した現像液(標準現像液)で25℃にて25
秒間現像し、画像部の侵食度を明室に放nしなかったb
のと比較し、評価した。
更に、ボールペン適性を検討するためにペリカン製ボー
ルペンで未露光部に描画を行い、その後上記と同様に現
像処理し描画部のやられ(侵食度)1110−キノンジ
アジド化合物 QD−1: 1.2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸−2,3,/1.4’ −テ1−ラヒドOキシベ
ンゾフェノンエ ステル QD−2:1,2−−プフトキノンジアジドー5〜ズル
ボン酸−2,3,4−トリヒ ISOキシベンゾフェノンエステル QO−3: QOを反応さl! 70) fit (7)樹IIH(
7)Mw m+ 2,400)QD−4: QDを反応さゼる萌の樹脂のMv −3,000112
ノボラック樹脂 ・ノボラック樹脂A フェノールどm−クレゾールどp−クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、l−りしI
ゾール及び1)−クレゾールの各々のモル比が2.0:
  4.8:  3.”、〜1w = 7,000、t
Vlv 、/N−In −5,4) ・ノボラック(ζ1脂B m−クレゾールとp−クレゾールとホルムアルデヒドと
の共重樹脂(m−クレゾール及びp−クレゾールの各々
のモル比が6 : 4 、 Mv −8,000、M 
11 / M n −5,7) *3 構造単位[I]及び、′又は[■]を有する化合
物 ・ポリエチレングリコール(関東1ヒ学社製):ボリエ
ヂレングリコール# 2000 ・レオドールTW −0120(7E王(!4)製) 
:ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート・レオ
ドール440(花王al製): テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット ・ハロゲンimr:4を生成する化合物rad−1;2
−1”リクoロメチル−5−(p −メトキシスチリル
)−1,3,4− オキサジアゾール(時開゛昭54−747211号公報
実施例1に記載の化合物) rad−2:2−1−リクロロメチル−5−[β−(2
−ベンゾフリル)ビニル]1゜ 3.4−オキサジアゾール(特開昭 60138539月公報に記載の例示化合物’(1) 
) [発明の効FA] 本発明により、高感度を保持しつつ網点、特に小点の再
現性が改良された感光性平版印刷版を提供することがで
きた。
また、本発明により、セーフライト性及びボールペン適
性に優れた感光性平版印刷版を提供することができlζ
【図面の簡単な説明】
第1図(a ”)〜(11)は本発明の感光性平版印刷
版の感光居中の酸無水物の好ましい濃度分布を示す。 図中、u、Sは支持体から遠い側の感光層表面を示し、
L、Sは支持体に近い側の感光層表面を示す。 特許出願人 コニカ株式会社(fl!!1名)第  1
   図 1轟÷−−m仄−チ向

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  支持体上にo−キノンジアジド化合物、アルカリ可溶
    性樹脂及び酸無水物を含有する感光層を有する感光性平
    版印刷版において、前記感光層中における前記酸無水物
    の含有量が少なくとも前記支持体に近い側の感光層表面
    近傍領域において、前記支持体から遠い側の感光層表面
    近傍領域より多いことを特徴とする感光性平版印刷版。
JP13897388A 1988-06-06 1988-06-06 感光性平版印刷版 Pending JPH01307742A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06332181A (ja) * 1993-04-30 1994-12-02 Internatl Business Mach Corp <Ibm> レジスト構造とその製造方法
EP0895127A3 (en) * 1997-08-01 2000-01-26 Mitsubishi Chemical Corporation Photoresist composition

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JPH06332181A (ja) * 1993-04-30 1994-12-02 Internatl Business Mach Corp <Ibm> レジスト構造とその製造方法
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