JPH01316374A - アゾリルメチルオキシランおよび該化合物を含有する除黴剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規アゾール化合物、その製造法および該化
合物を含有する除黴剤、ならびに菌類を防除する方法に
関する。

従来の技術 シス−２−（１，２，４−１−リアゾール−１−イルメ
チル）−２−（ｍ三ブチル）−３−（４−クロルフェニ
ル）−オキシランを菌類の防除のために使用することは
、公知である（ドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ３２１８
１３０．２号明細書）。しかし、この化合物の作用は不
満足なものである。

発明を達成するための手段 ところで、−殺伐■： ［式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれＣ１〜Ｃ１２
−アルキル基、ベンジル基、ナフチル基、ビフェニル基
、ジオキサニル基、フェニル基、テトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、ノルボルニル基、０３〜
Ｃｌ２−シクロアルキル基または０３〜Ｃｌ２−シクロ
アルケニル基を表わし、この場合これらの基は、場合に
よってはハロゲン原子、ニトロ基、フェノキシ基、アミ
ノ基、それぞれＣ原子数１〜４を有するアルキル基、ア
ルコキシ基またはハロゲン化アルキル基によって置換さ
れており、 ＸはＣ）１基またはＮ原子を表わす］で示されるアゾリ
ルメチルオキシランならびにその植物に対して認容性の
酸付加塩および金属錯体は、公知のアゾール化合物の場
合よりも良好な殺菌作用を、殊に穀物の疾病に対して有
することが見い出された。

式Ｉの化合物は、キラール中心を有し、かつ一般にジア
ステレオマー混合物の形で得られる。ジアステレオマー
は、通常、例えば異なる溶解度に基づいて分離すること
ができるかまたはカラムクロマトグラフィーによって分
離することができ、かつ純粋な形で単離することができ
る。このように単離されたジアステレオマーから、公知
方法を用いて単一のエナンチオマーは得ることができる
。単一のジアステレオマーもしくはエナンチオマーなら
びにそれらの合成の際に生じる混合物は、除黴剤として
使用することができる。これら全ての化合物は、本発明
によって包含されている。

Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ例えば次のものを表わ
す：メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、第ニブチル基、第三ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、トリフルオルメチル基、ト
リクロルメチル基、ベンジル基、フェニル基、ハロゲン
化フェニル！、２−クロルフェニル基、２−フルオルフ
ェニル基、２−ブロムフェニル！、３−クロルフェニル
基、３−ブロムフェニル！、３−フルオルフェニル基、
４−フルオルフェニル基、４−クロルフェニル基、４−
’ロムフェニル基、２．４−ジクロルフェニル基、２．
３−ジクロルフェニル基、２．５−ジクロルフェニル基
、２゜６−ジクロルフェニル基、２−クロル−６−フル
オルフェニル基、アルコキシフェニル基、２−メトキシ
フェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフ
ェニル基、２．４−ジメトキシフェニル基、アルキルフ
ェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフ
ェニル基、４４！三ブチルフエニル基、４−第三ブチル
オキシフェニル２Ｌ２−クロル−４−フルオルフェニル
基１．２−クロル−６−メチルフェニル基、３．４−ジ
メトキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基、４−
フェノキシフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニ
トロフェニル基、３−アミノフェニル基、４−アミノフ
ェニル基、２−トリフルオルメチルフェニル基、３−ト
リフルオルメチルフェニル基、４−トリフルオルメチル
フェニル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロへ牛シル基、シクロオクチル基、
シクロドデシル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒ
ドロフラニル基、２−シクロへキセニル基、３−シクロ
ヘキセニル基、ノルボルニル基、■、３−ジオキサンー
２−イル基、１．４−ジオキサン−２−イル基。

酸付加塩は、例えば塩酸塩、プロミド、硫酸塩、硝酸塩
、燐酸塩、蓚酸塩またはドデシルベンゼンスルホン酸塩
である。この塩の作用は、陽イオンに遡及し、したがっ
て陰イオンは、概して任意に選択することができる。本
発明による作用物質塩は、アゾリルメチルオキシランを
塩と反応させることによって得られる。

作用物質Ｉの金属錯体または塩は、アゾリルメチルオキ
シランを相応する金属塩、例えば硫酸銅、塩化亜鉛、塩
化錫、硫酸マンガン、塩化鉄、硫酸コバルト、硫酸ニッ
ケルと反応させることにより、銅、亜鉛、錫、マンガン
、鉄、コバルトまたはニッケルを用いて形成させること
ができる。

式Ｉの化合物は、例えば ａ）式■： ［式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ前記のものを
表わし、Ｌは求核的置換可能な離脱基（Ｏ［■基、ハロ
ゲン原子）を表わす］で示される化合物を、弐■： ［式中、Ｍｅは水素原子または金属原子（Ｎａ。

Ｋ）を表わし、Ｘは前記のものを表わす１で示される化
合物と反応させるか、または ｂ）式■： に１ し式中、ｌ（＋、Ｒ２、Ｒ３およびＸはそれぞれ前記の
ものを表わす１で示される化合物をエポキシドに変換す
ることにより得ることができる。

反応ａ）は、Ｍｅが水素原子を表わす場合には、場合に
よって溶剤または希釈剤の存在下、場合によって無機ま
たは有機塩基の添加下および場合によって１０〜１２０
℃の温度で反応促進剤の添加下で行なわれる。好ましい
溶剤および希釈剤には、ケトン、例えばアセトン、メチ
ルエチルケトンもしくはシクロヘキサノン、ニトリル、
例えばアセトニトリルもしくはプロピオニトリル、アル
コール、例えばメタノール、エタノール、インプロパ／
−ル、ｎ−ブタノールもしくはグリコール、エステル、
例えば酢酸エチルエステル、酢酸メチルエステルもしく
は酢酸ブチルエステル、エーテル、例えばテトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキ
サンもしくはジイソプロピルエーテル、アミド、例えば
ジメチルホルムアミド、ジエチルアセトアミドもしくは
Ｎ−メチルピロリドン、さらにジメチルスルホキシド、
スルホランまたは相応する混合物が属する。

反応の際に場合によっては酸結合剤として使用すること
もできる適当な塩基は、例えばアルカリ金属水酸化物、
例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸
化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウムもしくは炭酸水素セシウム、
ピリジンもしくは４−ジメチルアミノピリジンである。

しかし、別の常用の塩基を使用することもできる。

反応促進剤としては、特に金属ハロゲン化物、例えば沃
化ナトリウムもしくは沃化カリウム、第四アンモニウム
塩、例えばテトラブチルアンモニウムクロリド、テトラ
ブチルアンモニウムプロミド、テトラブチルアンモニウ
ムクロリドもしくはテトラブチルアンモニウム硫酸水素
塩、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリドもしくは
ベンジルトリエチルアンモニウムプロミドまたはクラウ
ンエーテル、例えば１２−クラウン−４，１５−クラウ
ン−５，１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラウ
ン−６もしくはジシクロへキサノー１８−クラウン−６
がこれに該当する。

反応は、一般に２０〜１５０℃で常圧でかまたは加圧下
で、連続的または非連続的に実施される。

Ｍｅが金属原子である場合には、反応ａ）は、場合によ
って溶剤または希釈剤の存在下および場合によって無機
または何機の強塩基の添加下で一１０〜１２０℃のＡＡ
度で実施される。好ましい溶剤および希釈剤には、アミ
ド、例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドン、ヘキサメチル−燐酸トリアミド、
スルホキシド、例えばジメチルスルホキシドおよび最後
にスルホランが属する。

反応の際に場合によっては酸結合剤として使用すること
もできる適当な塩基は、例えばアルカリ金属水素化物、
例えば水素化リチウム、水素化ナトリウムもしくは水素
化カリウム、アルカリ金属アミド、例えばナトリウムア
ミドおよびカリウムアミド、さらにナトリウム−第三ブ
トキシドもしくはカリウム−第三ブトキシド、リチウム
−トリフェニルメチル、ナトリウム−トリフェニルメチ
ルもしくはカリウム−トリフェニルメチルおよびナフタ
リンリチウム、ナフタリンナトリウムもしくはナフタリ
ンカリウムである。

反応ｂ）のために、希釈剤としては、極性有機溶剤、例
えばニトリル、例えばアセトニトリル、スルホキシド、
例えばジメチルスルホキシド、ホルムアミド、例えばジ
メチルホルムアミド、ケトン、例えばアセトン、エーテ
ル、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランおよ
び殊に塩素化炭化水素、例えば塩化メチレンおよびクロ
ロホルムがこれに該当する。

一般に、０〜１００℃、特に２０〜８０℃で作業される
。溶剤が存在する場合には、そのつど溶剤の沸点で作業
するのが有利である。

新規の出発化合物■は、相応するオレフィンＶ： をエポキシ化することによって得られる（デイツプス（
Ｇ、　ＤｉＬＬｕｓ）著、フーベンーワイルーミュラ−
（ＩＩ　ｏ　ｕ　ｂ　ｅ　ｎ−冒ｅｙｌ−Ｍｌｌｌｌｅ
ｒ）、メトーデン・デア・オルガニッシェン・ヒエミー
（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ
　Ｃｈｅｍｉｃ）、ゲオルク　テイーメ社（Ｇｅｏｒｇ
Ｔｈｉｅｓｅ、シュツットガルト在）刊、１９６５年、
第■、３巻、第３８５頁参照）。

化合物■は、式■： ！ンフ ■（五 で示されるオレフィンを公知方法によりアリル位置でハ
ロゲン化するかまたは酸化することにより得られる。

適当なハロゲン化試薬は、２０〜１００℃で四塩化炭素
、トリクロルエタンまたは塩化メチレンのようなハロゲ
ン化炭化水素中のＮ−クロルスクシンイミドおよびＮ−
ブロムスクシンイミドである。アリル酸化のためには、
例えば塩化銅ｌまたは臭化銅Ｉの存在下でのペルオキシ
安息香酸−第三ブチルエステルまたはペルオキシ酢酸−
第三ブチルエステルのようなペルオキシエステルが使用
される。不活性溶剤中で１０〜１００℃の温度で作業さ
れる。

引続き、こうして得られたアリルハロゲン化物もしくは
アリルアルコール■は、相応するエポキシド１１（１、
−ハロゲン、０１１）に変換される。そのために、オレ
フィン■は、ペルオキシカルボン酸、例えばペルオキシ
安息香酸、３−クロルペルオキシ安息香酸、４−ニトロ
ペルオキシ安Ｑ　香酸、モノペルオキシフタル酸、ペル
オキシ酢酸、ペルオキシプロピオン酸、ペルオキシマレ
イン酸、モノペルオキシコハク酸、ペルオキシペラルゴ
ン酸またはトリフル“オルペルオキシ酢酸を用いて種々
の溶剤中、特に塩素化炭化水素、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン中または場
合により酢酸、酢酸エステル、アセトンまたはジメチル
ホルムアミド中で、場合によっては酢酸ナトリウム、炭
酸ナトリウム、燐酸水素二ナトリウムのような緩衝液中
で酸化される。１０〜１００℃で作業され、反応は、場
合によっては例えば沃素、タングステン酸ナトリウムま
たは光で促進される。また、酸化のためには、触媒、例
えばタングステン酸ナトリウム、ペルオキシタングステ
ン酸、モリブデンヘキサカルボニルまたはバナジルアセ
チルアセトネートを添加しながらの２５〜３０℃でメタ
ノール、エタノール、アセトンまたはアセトニトリル中
の（約３０％の）過酸化水素のアルカリ性溶液ならびに
アルキルヒドロペルオキシド、例えば第三ブチルヒドロ
ペルオキシドが適当である。記載した酸化剤は、一部が
その場で製造できる。

こうして得られたエポキシハロゲン化物（Ｌ＝ハロゲン
）は、方法ａ）によれば直接反応させることができ、相
応するエポキシアルコール■（Ｌ＝ＯＨ）は反応性エス
テルに変換され、この反応性エステルは、方法ａ）によ
り化合物■と反応される。

Ｉｌｌと反応される反応性エステルの製出は、−般に公
知の方法により行なわれる（ツーベン−ワイル−ミュラ
ー（Ｉｌｏｕｂｃｎ−１ｃｙｌ−Ｍｕｌｌｅｒ）、メト
ーデン・デア・オルガニッシェン・ヒエミー（Ｍｅｔｈ
ｏｄｅｎ　ｄａｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍ
ｉｅ）、ゲオルクティーメ社（Ｇｅｏｒｇ　Ｔｈ１ｅｓ
ｅ、シュツットガルト在）Ｆ１１１１９５５年、第９巻
、第３８８頁、第６６３１、第６７］頁）。このような
エステルは、例えばメタンスルホン酸エステル、トリフ
ルオルメタンスルホン酸エステル、２，２．２−トリフ
ルオルエタンスルホン酸エステル、ノナフルオルブタン
スルホン酸エステル、４−メチルベンゾスルホン酸エス
テル、４−ブロムペンゾールスルホン酸エステル、４−
ニトロペンゾールスルホン酸エステルまたはペンゾール
スルホン酸エステルである。

化合物■は、オレフィン合成の相応する一般的に公知の
方法（ツーベン−ワイル−ミュラー（Ｉｌ。

ｕｂｅｎ−ｆｅｙｌ−ＭＬｌｌｌｅｒ）、メトーデン・
デア・オルガニフシエン・ヒエミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ
　ｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｇｃｈｅｎ　Ｃｈｅｓ＋ｉｅ）
、ゲオル・り　ティーメ社（ＧｅｏｒｇＴｈｉｅｙｂｅ
ｓ　シュツットガルト在）刊、１９７２年、第■、１ｂ
巻）により得ることができる。

実施例 次に、作用物質の製造を実施例につき詳説する。

１、出発物質の製造 方法Ａ メタノール２００ｍ＋２中の２−（４−フルオルフェニ
ル）−ブタナール４１．５９の溶液に水３０　ｍａ中の
水酸化ナトリウム４．２９を添加する。この反応混合物
を１０℃に冷却し、４−フルオルフェニルアセトアルデ
ヒド３６９を迅速に滴加し、この場合溶液中の温度は、
３０℃に上昇する。室温（２０℃）で２時間の撹拌後、
無色の反応溶液に水２００ｍ＆を添加し、生成された乳
濁液をメチル−第三ブチルエーテルと一緒に振出する。

有機相を分離し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつ真空
中で蒸発濃縮する。残存する残留物を引続き蒸留するこ
とにより、１ミリバールおよび１０３℃で（４１％）Ｅ
／Ｚ−４−Ｒ。

Ｓ　−２−（４−フルオルフェニル）−／１−（４−フ
ルオルフェニル）−ヘキセ−２−エナール３４．３９が
得られる。

方法１３ Ｅ／Ｚ−４−Ｒ，Ｓ−２−（４−フルオルフェニル）−
４−（４−フルオルフェニル）−ヘキセ−２−工ｆ　−
ル３４．３９をメタ／−ル２００ｒｒｌに溶解し、この
溶液に（潰厚な）苛性ソーダ液０．８５ｒｒｌを添加す
る。この反応溶液を０℃で撹拌し、（約５０重量％の）
過酸化水素１０．２ｖを緩徐に滴加し、この場合内部温
度は、３０℃を上廻らない。添加の終結後、室温で６時
間撹拌し、引続き１０−％未満の苛性ソーダ液に溶解し
た硼水素化ナトリウム１．８５９を添加する。この反応
混合物を室温でさらに１８時間撹拌した後、この溶液に
水１００ｒｒｌを添加し、生じた乳濁液を塩化メチレン
と一緒に振出する。単離された有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、かつ蒸発濃縮する。（８５％）シス／トラ
ンス−１’−Ｒ，５−２−ヒドロキシメチル−２−（４
−フルオルフェニル）−３−［１−（４−フルオルフェ
ニル）−プロピー１−イル］−オキシラン３１９が得ら
れる。

方法Ｃ 塩化メチレン１５０ｒｒｌ中のシス／トランス−１’−
Ｒ，５−２−ヒドロキシメチル−２−（４−フルオルフ
ェニル）−３−［１−（４−フルオルフェニル）−プロ
ピ−１−イル］−オキシラン３１９およびトリエチルア
ミン２０νの溶液に室温で４−メチルペンゾールスルホ
ン酸クロリド２１ｙを添加する。２４時間後、この反応
混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつ真空中で蒸発濃縮
する。残留物から（９５％）シス／トランス−１’−Ｒ
。

Ｓ　−２−（４−メチルフェニルスルホニルオキシメチ
ル）−２−（４−フルオルフェニル）−３４１−（４−
フルオルフェニル）−プロピー１−イル］−オキシラン
４３．５９を得、これを引続きトリアゾールを用いて次
の実施例に応じて後処理した。

■、最終生成物の製造 実施例１ Ｎ−メチル−ｔ”ｏ　！Ｊ　Ｆン１５０ｍ１２中１７）
１，２゜４−トリアゾール１４ｙの溶液に水酸化ナトリ
ウム８９を添加し、この混合物を３０分間５０℃に加熱
する。この反応混合物を室温に冷却した後、この溶液に
Ｎ−メチルピロリドン２００ｍＮに溶解されているシス
／トランス−１’−Ｒ，３−２−（４−メチルフェニル
スルホニルオキシメチル）−２−（４−フルオルフェニ
ル）−３〜［１−（４−〕、ルオルフェニル）−プロビ
ーｌ−イル１〜オキシラン４３．５ｙを緩徐に滴加し、
かつ室温で１２時間撹拌する。引続き水２００ｍＱを添
加し、数回メチル−第三ブチルエーテルで抽出し；有機
相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、かつ真空
中で蒸発濃縮する。メチル−第三ブチルエーテル／ｎ−
へキサンから融点１２３〜１２７℃を有する（７８％）
シス／トランス−１’−Ｒ。

Ｓ−２−（１，２，ｉ−トリアゾール−１−イルーメチ
ル）−２−（４−フルオルフェニル）−３−［１−（４
−フルオルフェニル）−プロビー１−イル１−オキシラ
ン３６．３ｙ（化合物Ｎｏ、ｌ）が得られる。

実施例１に相応して次表中に記載された化合物を得るこ
とができる。

明細書の浄書（内容に変更なし） ＋　　　　　　１　　　　　１　　　　　　　　　　　
　１　　　　　　　１　　　　　１償　　　ミ　　　　
ミ　　　　寓　　　　　Ａ　　　　　χ　　　篇ゴ δ Ｉ　　　　　職　　　　　ＩＩ＋　　　　　　梃　　　
　　　　−職　　　　　−リ ♂ ゴ δ 〜 １　　　−　　　　篭　　　　篭　　　　　　篭　　　
　　　−篭呻 ｏ　　　　　　Ｆｌ　　　　　　〜　　　　吟ト　　　
　ロ　　　　■　　　　−Ｐ−１１−ＩＦ−１明細書の
浄書（内容に変更なし） １１−曇１１１ ２２２　　　　　寓　　　　　　≧　　　　≧　　　　
ミゴ σ 四 ｌ　　　　　ζ　　　　　−麺　　　　　　＋１１　　
　　　築　　　　　概寸 ！ ♂ 〜 １　　　　　築　　　　　靴　　　　　概　　　　　　
　坂　　　　　築　　　　　ｍ寸　　　　の　　　　（
０＞　　　　　　　Ｑ）　　　　　Ｃｈ　　　　　Ｑ＋
−１ｒ−４、−Ｉ　　　　　ｌ−Ｉｒ＠　　　　　Ｐ４
Ｃ％１明細書の浄書（内容に変更なし） １１＋１１１１　　　　１　　　　１　　　　　　１ミ
　　寓　　２ｉ　　　寓　　ミ　　潰　　ミ　　　賞　
　　閾　　　　寓ゴ δ ■ Ｉ　　　ｋ　　　ｋａｂ　　　ｋ　　　’ＩＩ　　　ｋ
　　　　　ｂ　　　　　ｋ　　　　　　　ｋ〜 ビ σ １　　職　　−ζ　　−−勢　　　　鶴　　　　−梃嘘 明細書の浄書（内容に変更なし） ＋　　　　　　１　　　　　１１１１１１１　　　　　
１寓　　　ミ　　　２２　　　藁　　真　　Ｚ２　　　
ミ　　　≧ゴ δ Ｉ　　　　　−隆　　　ζ　　　築　　　ζ　　　ζ　
　　篭　　　麹　　　　　ζす 明細書の浄書（内容に変更なし） −−−１日　　　　＋１１１１ ２！ｉ　　　　　２　　　Ａ　　　２　　　　２　　ｚ
ｇｚｚｇガ δ 〜 １　　　　　　　　鋤　　　　　拠　　　　　築　　　
　　篭　　　概　　　鶴　　　靴　　　概　　　−寸 −ｃｙ　　　　　ｅＩ）呻ｏ　　　ｔｏ　　　＞　　　
の　　０＋０リ　　　　　　　呻　　　　　寸　　　　
　寸　　　　　呻　　　寸　　　→　　　リ　　　リ　
　　ｎ明細書の浄書（内容に変更なし） ＋　　　　　１　　　　１１１１１　　　　１　　　　
　　　　　１！Ｚｉ　　　　２　　　　！２　２ｉ２２
２　　　２　　　２　　　　Ｅ−ｉ　　　　　　　ゴ ゴ δ ■ ｌ　　　　　ｋ　　　　　Ｉｌｔ　　　靴　　概　　１
１１　　−　　　　ζ　　　　ζ　　　　篭寸 明細書の浄書（内容に変更なし） ＋１１１１　　　　　　１　　　　　　１　　　　　　
　ＩｌｔＸＺＸ　　　≧　　ミ　　　　閾　　　　真　
　　　寓　　ミ　　寓ゴ δ 色 １　　　概　　　概　　　鋤　　　梃　　　　　嬌　　
　　　−ζ　　　−築呻 明細書の浄書（内容に変更なし） ＋　　　　　　　１　　　　　　１　　　　　　１　　
　　１　　　１　　　　１　　　　１　　　　１　　　
　１明細書の浄書（内容に変更なし） １　　　　　１　　　　　　＋　　　　　　１　　　　
　１　　　　　１１１１１？Ａ　　　　満　　　　賞　
　　　ミ　　　　ミ　　　　ミ　　χ　　χ　　賞　　
寓ガ ＩＰ の　　　　の　　　　ＣＤ　　　　　リ　　　　ＱＪ　
　　　　旬　　彎　　リＪ　　１）　リー明細書の浄ｍ
（内容に変更なし） ｌ　　　　　　Ｉｌｌ　　　　　　１　　　　　１１１
１１１≧　　　　２＋　　≧　　２　　　２ｉ　　　　
真　　寓　　χ　　≧　　寓　　閾（ｈＣｈｃｈ０１Ｃ
７１ｕｓ＋−１１１ＪＩｌ−１１ｒｗｒ−＋明細書の浄
１！Ｆ（内容に変更なし） ２　　　ミ　　寓　　寓　　閾　　Ａ　　真　　寓　　
寓　　真　　　　寓明細書の浄書（内容に変更なし） ２　　　　　冨　　　　Ａ　　　　χ　　　　潰　　　
　ミ　　ミ　　寓　　閾　　寓ｎ　　　　呻　　　　ｎ
　　　　Ｑ　　　　ト　　　　の　　０　０　−　〜ｒ
−ｔ　　　　　ｓ　　　　　Ｆ４　　　　　ｌ−１−Ｆ
−ＩＦ４（％＋　　　〜　　〜ｒ−４Ｆ−Ｉ　　　　　
Ｆ１ｔ＠　　　　　Ａ　　　　　Ｉ−ＩＴ−ＩＦ４１−
１−明細書の浄書（内容に変更なし） １１１１＋１１　　　　　　１　　　　　　１１１−Ｉ
ＦＩ−Ｆｌ　　　＋−Ｆｌ　　　　　−−門明細書の浄
書（内容に変更なし） １　　　　　１　　　　　１　　　　　　＋　　　　　
　１　　　　　１　　　　　１　　　　　１ば σ 番 〜 １　　　　　篭　　　　　靴　　　　　篭　　　　　篭
　　　　　坂　　　　　職　　　　　−呻 Ｎ−Ｆ−４Ｆ４　　　　１−１　　　　　ｓ　　　　　
Ｐ−１１−１明細書の浄書（内容に変更なし） 新規化合物は、一般的に云えば、殊に子のう菌類（＾５
ｃｏａｙｃｃｔｅｓ）および担子菌類（Ｂａｓ　ｉｄ　
１ｏｎｙｃａｖｅｓ）からの植物病原性菌類の幅広のス
ペクトルに対して１：（越した作用を示す。この新規化
合物は、一部体系的に作用し、かつ茎菜殺菌剤および」
−壌殺菌剤とし°Ｃ使用することができる。

殺菌作用をイイする化合物は、種々の栽培植物またはそ
の種子、殊に小麦、ライ麦、大麦、カラス麦、米、トウ
モロコシ、芝、綿、大豆、コーヒー、サトウキビ、果樹
および園芸における観賞植物、ブドウ栽培ならびに野菜
、例えばキラリ、マメ類およびウリ類について多数の菌
類を防除するのに特に重要である。

新規化合物は、殊に次の植物病を防除するのに適当であ
る： 穀物類のエリシペ・グラミニス（ＥｒｙＩ！Ｉｌｐｈｅ
ｇｒａｍｉｎｉｓ　）　。

ウリ科のエリシペ・キフラケアルム（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ
ａｔｃｈｏｒａａｅａｒｕｍ　）及びスフエロテカ拳７
リギネア（５ｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎ
ｅａ　）　。

リンゴのボドスフエラ・ロイコトリ力（Ｐｏｄｏ−ａｐ
ｈａｅｒａ　１ｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ　）　。

ブドウのウンキヌラ・ネカトル（Ｕｎａｉｎｕｌａｎｅ
ｃａｔｏｔ　）　。

穀物類のプッキニア（Ｐｕａｃｉｎｉａ　）　種。

ワタ及びシバのリゾクトニア種（Ｒｈ１ｚｏｃｔｏｎｉ
ａｓｏｌａｎｉ　）　。

穀物類及びサトウキビのウスチラゴ（Ｕｓｔｉ−１ａｇ
ｏ　）種。

リンゴのペンツリア・イネリアリス（Ｖｅｎｘｔｕ−ｒ
ｉａ　１ｎａｅｑａｌｉｓ　；腐敗病）。

穀物類のヘルミントスボリウム種（Ｈｅｌｍｉｎ−ｔｈ
ｏａｐｏｒｉｕｍ　ｓｐａ、　）　。

コムギのセプトリア・ノドルム（Ｓｐｕｔｏｒｉａｎｏ
ｄｏｒｕｍ　）　。

イチゴ及びブドウのボトリチス・キネレア（Ｂｏｔｒｙ
ｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ　）　。

ナンキンマメの七ルコスボラ・アラキジコラ（Ｏｅｒｃ
ｏｓｐｏｒａ　ａｒａｃｈｄｉｃｏｌａ　）　。

コムギ及びオオムギのシェードケルコスゲレラ・ヘルホ
８トリコイデス（Ｐａｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｓｌ
ｌａｈｅｒｐｏｔｒｉａｈｏｉｄｅａ　）　。

イネのピリクラリア・オリザエ（Ｐｙｒｉｏｕｌａｒｉ
ａｏｒｉｚａｓ　）　。

ジャガイモ及びトマトのフィトピトラ・インフェスタン
ス（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｏｒａ　１ｎｆｅｓｔａｎａ　）
　＋種々の植物のフサリウム（ＩＦｕａａｒｉｕｍ　）
及びへ）ｖ　チキＡ／リウム（Ｖｅｒｔｉｋａｉｌｌｉ
ｕｍ　）　９１゜ブドウのプラスモパラ・ビチコラ（Ｐ
ｌａｓｍｏ−ｐａｒａ　ｖｉｔｉａｏｌａ　）　＋ 果物及び野菜のアルテルナリア（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ
）柚。

前記化合物は、植物に作用物質を噴霧するか散布し、或
は植物の種子を作用物質で処理することにより使用され
る。使用は、植物または種子が菌類によって感染する前
または感染した後に行なわれる。

新規物質は通常の製剤形１例えば溶液、エマルジョン、
懸濁液、微粉末、粉末、ペースト及び顆粒に加工するこ
とができる。適用形は全く使用目的次第であるが、いず
れにせよ有効物質の細分及び均一な分散が保証されるべ
きである。製剤は公知方法で１例えば有効物質を溶剤及
び／又は賦形剤で、場合により乳化剤及び分散助剤を使
用して増量することにより製造することができ、この際
希釈剤として水を使用する場合には、溶解助剤として別
の有機溶剤を使用することもできる。このための助剤と
しては、主として溶剤例えば芳香族化合物（例えばキシ
レン、ベンゼン）、塩素化芳香族化合物（例えばクロル
ベンゼン）、パラフィン（例えば石油留分）、アルコー
ル（例えばメタノール、ブタノール）、ケトン（例えば
シクロヘキサし）、アミン（例えばエタノールアミン、
ジメチルホルムアルデヒド）及び水；賦形剤例えば天然
岩石粉（例えばカオリン、アルミナ、滑石。

白亜）及び合成石粉（例えば高分散性珪酸、珪酸塩）；
乳化剤例えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤（例えば
ポリオキシエチレン−脂肪アルコール−エーテル、アル
キルスルホネート及びアリールスルホネート）及び分散
剤例えばリグニン、亜硫酸廃液及びメチルセルロースが
該当する。

殺菌剤は、有効物質を一般に０．１〜９５重量％。

有利には０．５〜９０重量％含有する。

使用：１動は、所望の効果の種類に応じて作用物質０．
０２〜３ｋｙ／ｈａまたはそれ以」−である。新規化合
物は、物質保護の場合に、例えばバエシロミセス・バリ
オチイ（Ｐａｃｃｉｌｏｎｙｃｅｓ　ｗａｒｉｏＬｉｉ
）に対して使用することもできる。

前記薬剤ないしはこれから得られた既製の調剤、例えば
溶液、乳濁液、懸濁液、粉末剤、ダスト剤、ペースト剤
または粒剤は、公知方法で、例えば噴霧法、ミスト法、
ダスト法、散布法、浸漬法または流込み法によって使用
される。

製剤例は以下の通りである。

１．９０重量部の化合物１をＮ−メチル−α−ピロリド
ン１０重量部と混合する時は、極めて小さい滴の形にて
使用するのに適する溶液が得られる。

■、２０重量部の化合物上を、キジロール８０重量部、
エチレンオキシド８乃至１０モルをオレイン酸−Ｎ−モ
ノエタノールアミド１モルに附加した附加生成物１０重
量部、ドデシルペンゾールスルフォン酸のカルシウム塩
５重１部及びエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モ
ルに附加した附加生成物５重量部よりなる混合物中に溶
解する。この溶液を水に注入しかつ細分布することによ
り水性分散液が得られる。

ＩＮ、　２Ｏｆｆｉ量部の化合物１を、シクロヘキサノ
ン４０重量部、イソブタノール３０重量部及びエチレン
オキシド４０モルをヒマシ油１モルに附加した附加生成
物２０重量部よりなる混合物中に溶解する。

この溶液を水に注入しかつ細分布することにより水性分
散液が得られる。

１’１１１．　２０重量部の化合物１を、シクロヘキサ
ノーールｚ５重■部、沸点２１０乃至２８０℃の鉱油留
分６５重量部及びエチレンオキシド４０モルをヒマシ油
１モルに附加した附加生成物１０重量部よりなる混合物
中に溶解する。この溶液を水に注入しかつ細分布するこ
とにより水性分散液が得られる。

■、８０重量部の化合物ｌを、ジイソブチル−γフタリ
ンーα−スルフォン酸のナトリウム塩３重量ｍ、Ｍ硫酸
−廃液よりのりゲニンスルフォン酸のす）　ＩＪウム塩
１０重量部及び粉末状珪酸ゲル７重量部と充分に混和し
、かつハンマーミル中において磨砕する。この混合物に
水に細分布することにより噴霧液が得られる。

Ｍ、　　３重量部の化合物１を、細粒状カオリン９７重
晴部と密に混和する。かくして有効物質３重重％を含有
する噴霧剤が得られる。

■、３０重量部の化合物１を、粉末状珪酸ゲル９２重量
部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹きつけられたパラフィ
ン油８重に部よりなる混合物と密に混和する。かくして
良好な接着性を有する有効物質の製剤が得られる。

１．４０重量部の化合物１を、フェノールスルフォン酸
−尿素−フォルムアルデヒドー縮合物のナトリウム塩１
０重量部、珪酸ゲル２重量部及び水４８重量部と密に混
和する。安定な水性分散液が得られる。

■、２０重量部の化合物３４を、ドデシルペンゾールス
ルフォン酸のカルシウム塩２重ｆ２を部、　ｉ肪アルコ
ールポリグリコールエーテル８ｆｆｉ　５７　部、　フ
ェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮
合物のナトリウム塩２重量部及びパラフィン系鉱油６８
重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。

本発明による薬剤は、前記使用形で、例えば除ξ゛ｌ′
（剤、殺虫剤、成長調整剤および殺菌剤のような別の作
用物質と一緒にかまたは肥料も一緒に混合して散布する
ことができる。この場合、殺菌剤を混合した場合には多
くの場合に殺菌剤の作用スペクトルの拡大が得られる。

本発明による化合物を組合わせることができる殺菌剤の
次の表は、組合せの方法を説明するものであるが、これ
によって限定されるものではない。

本発明による化合物と組合わせることができる除黴剤は
、例えば次のものである： 硫酸。

ジチオカルバメート及びその誘導体１例えば鉄ジメチル
ジチオカルバメート。

亜鉛ジメチルジチオカルバメート。

亜鉛エチレンビスジチオカルバメート。

マンガンエチレンビスジチオカルバメート。

マンガン−亜鉛−エチレンジアミンービスージチオ力ル
パメ−１・。

テトラメチルチウラムジスルフィド。

Ｍ鉛−（ｍ、Ｎ−エチレン−ビス−ジチオカルバメート
）のアンモニア錯化合物。

Ｍ鉛−ＣＮ、Ｎ’−プロピレン−ビス−ジチオカルバメ
ート）のアンモニア錯化合物。

亜鉛−（Ｎ、Ｎ’−プロピレンービスージチオ力ルバメ
ーＩ・）。

Ｎ、Ｎ’−プロピレン−ビス−（チオカルバモイル）−
ジスルフィド。

ニトロ誘導体１例えば ジニトロ−（ｌ−メチルヘプチル）−フェニルクロトネ
ート。

２−ｓθＣ−ブチル−４，６−シニトロフエニルー３．
３−ジメチルアクリレート。

２−ｓθＣ−ブチル−４，６−シニトロフエニルーイソ
プロビルカルボネート。

５−ニトロ−イソフタル酸−ジ−イソプロビルエステル
。

複素環式物質１例えば ２−ヘプタデシル−２−イミダシリン−アセテート。

２、　４−シクロルー６−（０−クロルアニリノ）−ｓ
−）リアジン。

０．０−ジエチル−７タルイミドホスホノチオエート。

５−アミノ−１−〔ビス−（ジメチルアミノ）−ホスフ
ィニル〕−３−７エニルー１．２．４−トリアゾール。

２．３−ジシアノ−１，４−ジチオアントラキノン。

２−チオ−１，３−ジチオ−（４，５−ｂ）−キノキサ
リン。

１−（ブチルカルバモイル）−２−ベンゾイミダゾール
−カルバミン酸メチルエステル。

２−メトキシカルボアミノ−ベンゾイミダゾール。

２−（フリル−（２））−ベンゾイミダゾール。

２−（チアゾリル−（４））−ベンゾイミダゾール。

Ｎ−（１，１，２，２−テトラクロルエチルチオ）−テ
トラヒドロフタルイミド。

Ｎ−トリクロルメチルチオ−テトラヒドロ７タルイミ　
ド。

Ｎ−）ジクロルメチルチオー７タルイミド。

Ｎ−ジクロルフルオルメチルチオ−Ｈ／、　Ｈ／−ジメ
チル−Ｎ−フェニル−硫酸ジアミド。

５−エトキシ−３−トリクロルメチル−１，２゜３−チ
アジアゾール。

２−ロダンメチルチオベンゾチアゾール。

１．４−ジクロル−２，５−ジメトキシペンゾール。

ａ−（ｇ−クロルフェニルヒドラゾノ）−３−メチル−
５−インキサシロン、 ピリジン−２−チオ−１−オキシド。

８−ヒドロキシキノリン又はその銅塩。

２．３−ジヒドロ−５−カルボキシアニリド−６−メチ
ル−１，４−オキサチイン−４，４−ジオキシド。

２．３−ジヒドロ−５−カルボキシアニリド−６−メチ
ル−１，４−オキサチイン。

２−メチル−５，６−シヒドロー４−■（−ピラン−３
−カルボン酸アニリド。

２−メチル−フラン−３−カルボン酸アニリド。

２．５−ジメチル−フラン−３−カルボン酸アニリド。

２．４．５−）ジメチル−フラン−３−カルボン酸アニ
リド。

２．５−ジメチル−フラン−３−カルボン酸シクロヘキ
シルアミド。

Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メトキシ−２，５−ジメチル
−フラン−３−カルボン酸アミド。

２−メチル−安息香酸−アニリド。

２−ヨード−安り口香酸−アニリド。

Ｎ−ホルミル−Ｎ−モルホリン−２，２，２−トリクロ
ルエチルアセタール。

ピペラジン−１，４−ジイルビス−（１−（２゜２．２
−）リクロルーエチル）−ホルムアミド。

１−（３，４−ジクロルアニリノ）−１−ホルミルアミ
ノ−２，２，２−トリクロルエタン。

２．６−ジメチル−Ｎ−トリデシル−モルホリン又はそ
の塩。

２、６−ジメチル−Ｎ−シクロドデシル−モルホリン又
はその塩。

Ｎ　−１：　３−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−
２−メチルプロピル〕−シスー２．６−ジメチルモルホ
リン、′ Ｎ−（３−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メ
チルプロピル〕−ピペリジン。

１−（２−（２，４−ジクロルフェニル）−４−エチル
−１，３−ジオキソラン−２−イル−エチル）−ＬＨ−
１，２，４−）リアゾール。

１−［２−（２，４−ジクロルフェニル）−４−ｎ−プ
ロピル−１，３−ジオキソラン−２−イル−エチル：）
−ＬＨ−１，２，４−）リアゾール。

Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（２，４，６−）ジクロル
フエノキシエチル）　−Ｎ／−イミダゾール−イル−尿
素。

１−（４−クロルフェノキシ）−３，３−ジメチル−１
−（ＬＨ−１，２，４−）リアゾール−１−イル）−２
−ブタノン。

１−（４−クロルフェノキシ）−３，３−ジメチル−１
−（ＬＨ−１，２，４−）リアゾール−１−イル）−２
−ブタノール。

１−（４−ラエニルフェノキシ）−３，３−ジメチル−
１−（ＬＨ−１，２，４−トリアゾール−１−イル）−
２−ブタノール。

α−（２−クロルフェニル）−α−（４−クロルフェニ
ル）−５−ピリミジン−メタノール。

５−ブチル−２−ジメチルアミノ−４−ヒドロキシ−６
−メチル−ピリミジン。

ビス−（ｐ−クロルフェニル）−ピリジンメタノール。

１．２−ヒ゛スー（３−エトキシカルボニル−２−チオ
ウレイド）−ペンゾール。

１．２−ビス−（３−メトキシカルボニル−２−チオウ
レイド）−ペンゾール及び他の殺菌剤。

例えば ドデシルグアニジンアセテ−１・。

３−（３−（３，５−ジメチル−２−オキシシクロヘキ
シル）−２−とドロキシエチル）−クルタルイミ　ド。

ヘキサクロルベンゾール。

ＤＬ−メチル−Ｎ−（２，６−シフチルーフエニル）−
Ｎ−フロイル（２）−アラニネート。

ＤＬ−Ｎ−（２，６−シフチルーフエニル）−Ｎ−（２
−メトキシアセチル）−アラニン−メチルエステル。

Ｎ−（２，６−シフチルフエニル）−Ｎ−クロルアセチ
ル−Ｄ、Ｌ−２−アミノブチロラクトン。

ＤＩＪ−Ｎ−（２，６−シフチルフエニル）−Ｎ−（フ
ェニルアセチル）−アラニンメチルエステル。

５−メチル−５−ビニル−３−（３，５−ジクロルフェ
ニル）−２，４−ジオキソ−１，３−オキサゾリジン。

３−（３，５−ジクロルフェニル）−５−メチル−５〜
メトキシメチル−１，３−オキサゾリジン−２，４−ジ
オン。

３−（３，５−ジクロルフェニル）−１−イソプロピル
カルバモイルヒダントイン。

Ｎ−（３，５−ジクロルフェニル）−１，２−ジメチル
シクロプロパン−１，２−ジカルボン酸アミ　ド。

２−シアノ−［Ｎ−（エチルアミノカルボニル）−２−
メトキシイミノクーアセトアミド。

１−（２−（２，４−ジクロルフェニル）−ペンチル）
−ＬＨ−１，２，４−トリアゾール。

２．４−ジフルオルーα−（ＬＨ−１，２，４−トリア
ゾリル−１−メチル）−ベンゾヒドリルアルコール。

Ｎ−（３−クロル−２，６−シニトロー４−トリフルオ
ルメチルフェニル）−５−トリフルオルメチル−３−ク
ロル−２−アミノピリジン。

１−（（ビス−（４−フルオルフェニル）−メチルシリ
ル）−メチル）−ＬＨ−１，２，４−）リアゾール。

使用例 比較作用物質として、ドイツ連邦共和国特許出願第Ｐ３
２１８１３０．２号明細書の記載から公知のシス−２−
（１，２，４４リアゾール−１−イルメチル）−３−（
第三ブチル）−３−（４−クロルフェニル）−オキシラ
ン（Δ）を利用した。

使用例　ｌ 小麦の銹病菌に対する作用 品種“フリューゴールド（Ｆｒｕｈｇｏｌｄ）″の体中
で成育した小麦の苗の茎葉に銹病菌（Ｐｕｃｃｉｎｉａ
ｒａｃｏｎｄｉＬａ）の胞子を散布した。その後に、こ
の鉢を２０〜２２℃で２４時間高い空気湿度（９０〜９
５％）をイｆする室内に入れた。この時間の間に胞子は
発芽し、発芽管は、茎葉組織内に侵入する。引続き、感
染された植物を、作用物質８０％および乳化剤２０％を
乾燥物質の形で含ｔｆする噴霧処理水溶液で滴り落ちる
まで噴霧した。噴霧破膜の乾燥後に、この試験植物を温
室内に温度２０〜２２°Ｃおよび相対湿度６５〜７０％
で置いた。８１−１後、茎葉上での銹病菌の発生の程度
を評価した。

結果から、作用物質ｌが０．０２５％（電量％）の噴霧
処理液としての使用の際に公知の比較作用物質Ａ（６０
％）の場合よりも良好な殺菌作用を示す（６０％）こと
が判明する。

使用例　２ パプリカのボトリチス・シネレア（ＢｏＬｒｙｔｉｓｃ
ｉｎｅｒｅａ）に対する作用 品種“ノイズイートラ−・イブアル・エリーテ（’Ｎｅ
ｕｓｉｅｄｌａｒ　Ｉｄｅａｌ　ＥｌｉＬｃ）”のパプ
リカの苗を、４〜５つの茎葉が上のに成育した後に、作
用物質８０％および乳化剤２０％を乾燥物質の形で含有
する水性懸濁液で滴り落ちるまで噴霧した。噴霧波膜の
乾燥後、この植物を菌類ボトリチス・シネレア（Ｂｏｔ
ｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｃａ）の分生胞子懸濁液で噴霧
し、かつ２２〜２４℃で高い空気湿度を有する室内に置
いた。５日後、未処理の対照植物に対する疾病は、生じ
た茎葉壊死が茎葉の大部分を覆うような程度に著しく発
生した。

結果から、作用物質Ｉが０．０５％の噴霧処理液として
の使用の際に公知の比較作用物質Ａ（６０％）の場合よ
りも良好な殺菌作用を示す（９０％）ことが判明する。

使用例　３ 大麦の劇団病菌Ｐｙｒｃｎｏｐｈｏｒａ　ｔｃｒｃｓに
対する作用 品種“イグリ（１ｇｒｉ）”の大麦の実生を、２枚伯の
段階で作用物質８０％および乳化剤２０％を乾燥物質の
形で含有する噴霧処理水溶液で滴り落ちるまで噴霧した
。２４時間後、この植物を菌類の大麦の劇団病菌Ｐｙｒ
ｅｎｏｐｈｏｒａ　ｔｃｒｅｓの胞子懸濁液で接種し、
かつ１８℃で高い空気湿度を有する空調室中に４８時間
装いた。引続き、この植物を２０〜２２℃のｄ！度およ
び７０％の相対湿度で温室内でさらに５０間栽培した。

次に、症状の発生の程度を測定した。

結果から、作用物質１が０．０５％の噴霧処理液として
の使用の際に極めて良好な殺菌作用（９７％）を示すこ
とが判明する。

手続補正書 平成１年　５月１９日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれＣ＿１
   〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、ベンジル基、ナフチル基、
   ビフェニル基、ジオキサニル基、フェニル基、テトラヒ
   ドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、ノルボルニ
   ル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルキル基またはＣ
   ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルケニル基を表わし、この
   場合これらの基は、場合によってはハロゲン原子、ニト
   ロ基、フェノキシ基、アミノ基、それぞれＣ原子数１〜
   ４を有するアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン化
   アルキル基によって置換されており、 ＸはＣＨ基またはＮ原子を表わす］で示されるアゾリル
   メチルオキシランならびにその植物に対して認容性の酸
   付加塩および金属錯体。 ２、Ｒ＾１がフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基
   、テトラヒドロピラニル基を表わし、Ｒ＾２がベンジル
   基、Ｃ＿１〜Ｃ＿４−アルキル基を表わし、Ｒ＾３がフ
   ェニル基を表わし、この場合これらの基は、場合によっ
   てはハロゲン原子、ニトロ基、フェノキシ基、アミノ基
   、それぞれＣ原子数１〜４を有するアルキル基、アルコ
   キシ基またはハロゲン化アルキル基によって置換されて
   いる、請求項１記載のアゾリルメチルオキシラン。 ３、除黴剤において、担持剤および一般式 I ：▲数式
   、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれＣ＿１
   〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、ベンジル基、ナフチル基、
   ビフェニル基、ジオキサニル基、フェニル基、テトラヒ
   ドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、ノルボルニ
   ル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルキル基またはＣ
   ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルケニル基を表わし、この
   場合これらの基は、場合によってはハロゲン原子、ニト
   ロ基、フェノキシ基、アミノ基、それぞれＣ原子数１〜
   ４を有するアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン化
   アルキル基によって置換されており、 ＸはＣＨ基またはＮ原子を表わす］で示されるアゾリル
   メチルオキシランならびにその植物に対して認容性の酸
   付加塩および金属錯体を含有することを特徴とする除黴
   剤。 ４、菌類を防除する方法において、一般式 I ：▲数式
   、化学式、表等があります▼ I ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれＣ＿１
   〜Ｃ＿１＿２−アルキル基、ベンジル基、ナフチル基、
   ビフェニル基、ジオキサニル基、フェニル基、テトラヒ
   ドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、ノルボルニ
   ル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルキル基またはＣ
   ＿３〜Ｃ＿１＿２−シクロアルケニル基を表わし、この
   場合これらの基は、場合によってはハロゲン原子、ニト
   ロ基、フェノキシ基、アミノ基、それぞれＣ原子数１〜
   ４を有するアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン化
   アルキル基によって置換されており、 ＸはＣＨ基またはＮ原子を表わす］で示されるアゾリル
   メチルオキシランならびにその植物に対して認容性の酸
   付加塩および金属錯体の殺菌作用を示す量を菌類に作用
   せしめるかまたは菌類の汚染に脅かされる材料、表面、
   植物または種子に作用せしめることを特徴とする、菌類
   の防除方法。 ５、Ｒ＾１が４−フルオルフェニル基を表わし、Ｒ＾２
   がエチル基を表わし、Ｒ＾３が４−フルオルフェニル基
   を表わし、かつＸがＮ原子を表わす、請求項１記載の化
   合物。