JPH01318092A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
混合溶剤組成物Info
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- JPH01318092A JPH01318092A JP14828288A JP14828288A JPH01318092A JP H01318092 A JPH01318092 A JP H01318092A JP 14828288 A JP14828288 A JP 14828288A JP 14828288 A JP14828288 A JP 14828288A JP H01318092 A JPH01318092 A JP H01318092A
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- ether
- methanol
- mixed solvent
- mixture
- trichlorotrifluoroethane
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は油脂類、フラックス類、ＩＣ部品、ドライリー
ニング等の洗浄溶剤等として優れた特性を有する新規な
混合溶剤組成物に関するものである。
ニング等の洗浄溶剤等として優れた特性を有する新規な
混合溶剤組成物に関するものである。
［従来の技術］
炭化水素類、アルコール類、エステル類は、その種類も
多く５標準沸点の異なる各種物質を入手しやすく、油脂
類、フラックス類、ＩＣ部品、精密機械部品、ドライリ
ーニング等の洗浄溶剤等として広く使われている。
多く５標準沸点の異なる各種物質を入手しやすく、油脂
類、フラックス類、ＩＣ部品、精密機械部品、ドライリ
ーニング等の洗浄溶剤等として広く使われている。
［発明が解決しようとする課題１
炭化水素類、アルコール類、エステル類は溶剤として優
れた性能を有しているが、いずれも可燃性であり保管上
及び使用上危険性を伴うものである。
れた性能を有しているが、いずれも可燃性であり保管上
及び使用上危険性を伴うものである。
本発明は従来の優れた特性を生かしつつ、不燃化もしく
は難燃化された新規な混合溶剤組成物を提供することを
目的とするものである。
は難燃化された新規な混合溶剤組成物を提供することを
目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は酢酸メチル、酢酸イソプロピル、ｎ−ヘキサン
及びシクロヘキサンの少なくとも１種、メタノール及び
トリクロロトリフルオロエタン（ＲＩ＋３及び／又はＲ
ｌｌ３ａ）からなる混合溶剤組成物に関するものである
。
及びシクロヘキサンの少なくとも１種、メタノール及び
トリクロロトリフルオロエタン（ＲＩ＋３及び／又はＲ
ｌｌ３ａ）からなる混合溶剤組成物に関するものである
。
本発明の組成物は不燃性又は難燃性であり、且つ従来の
炭化水素類、アルコール類、エステル類等と同等以上の
洗浄力を有するものである。
炭化水素類、アルコール類、エステル類等と同等以上の
洗浄力を有するものである。
本発明における炭化水素類、アルコール類、エステル類
は可燃性であるが、不燃性のドルクロロトリフルオロエ
タンを添加することにより不燃または難燃性とすること
ができる。
は可燃性であるが、不燃性のドルクロロトリフルオロエ
タンを添加することにより不燃または難燃性とすること
ができる。
本発明に用いられる酢酸メチルとメタノールは共沸組成
物（酢酸メチル／メタノール＝ａｉ、３／１８．７、重
量％）％ｎ−ヘキサンとメタノールは共沸組成物（ｎ−
ヘキサン／メタノール＝ ７３．１／２６．９、ｆｆｆ
ｍ％）、シクロヘキサンとメタノールは共沸組成物（
シクロヘキサン／メタノール＝６３／３７、巾：４％）
、酢酸イソプロピルとメタノールは共沸組成物（酢酸イ
ソプロピル／メタノール： ２９．８／ ７０．２、重
…％）での使用が好ましい。
物（酢酸メチル／メタノール＝ａｉ、３／１８．７、重
量％）％ｎ−ヘキサンとメタノールは共沸組成物（ｎ−
ヘキサン／メタノール＝ ７３．１／２６．９、ｆｆｆ
ｍ％）、シクロヘキサンとメタノールは共沸組成物（
シクロヘキサン／メタノール＝６３／３７、巾：４％）
、酢酸イソプロピルとメタノールは共沸組成物（酢酸イ
ソプロピル／メタノール： ２９．８／ ７０．２、重
…％）での使用が好ましい。
前記共沸組成物あるいはシクロヘキサン、ｎ−ヘキサン
、酢酸イソプロピル、酢酸メチル、メタノールの各々の
トリクロロトリフルオロエタンに対する混合割合は１〜
５０虫量％、好ましくは３〜４５重量％さらに好ましく
は５〜３５重量％である。
、酢酸イソプロピル、酢酸メチル、メタノールの各々の
トリクロロトリフルオロエタンに対する混合割合は１〜
５０虫量％、好ましくは３〜４５重量％さらに好ましく
は５〜３５重量％である。
本発明の混合溶剤組成物は他のフッ素系溶剤５例えばド
ルクロロモノフルオロメタン（Ｒ１１） 、 ドルク
ロロジフルオロメタン（ＲＩ２２゜Ｒ１２２ａ、 ＲＩ
２２ｂの少なくとも１種）、ジクロロトリフルオロエタ
ンｆＲＩ２３． Ｒ１２３ａ、旧２３ｂの少なくとも１
種）、トリクロロフルオロエタン（Ｒｌ ３１ 。
ルクロロモノフルオロメタン（Ｒ１１） 、 ドルク
ロロジフルオロメタン（ＲＩ２２゜Ｒ１２２ａ、 ＲＩ
２２ｂの少なくとも１種）、ジクロロトリフルオロエタ
ンｆＲＩ２３． Ｒ１２３ａ、旧２３ｂの少なくとも１
種）、トリクロロフルオロエタン（Ｒｌ ３１ 。
ＲＩ３１ａ、 Ｒ１３１ｂの少なくとも１種）、ジクロ
ロジフルオロエタン（ＲＩ３２． ＲＩ３２ａ、ＲＩ３
２ｂ、 Ｒ１３２ｃの少なくとも１種）、クロロトリフ
ルオロエタン（ＲＩ３３． Ｒ１３３ａ、 ＲＩ３３ｂ
の少なくとも１種）、ジクロロフルオロエタン（ＲＩ４
１． ＲＩ４１ａ、 Ｒ１４１ｂの少なくとも１種）、
クロロジフルオロエタン（ＲＩ４２． ＲＩ４２ａ、
ＲＩ４２ｂの少なくとも１種）、クロロフルオロエタン
（Ｒ１５１，ＲＩ５］ａ、の少なくともｌ柿）及びジフ
ルオロエタン（Ｒ１５２，Ｒ１５２ａの少なくとも１秤
）等をさらに混合使用することができる。
ロジフルオロエタン（ＲＩ３２． ＲＩ３２ａ、ＲＩ３
２ｂ、 Ｒ１３２ｃの少なくとも１種）、クロロトリフ
ルオロエタン（ＲＩ３３． Ｒ１３３ａ、 ＲＩ３３ｂ
の少なくとも１種）、ジクロロフルオロエタン（ＲＩ４
１． ＲＩ４１ａ、 Ｒ１４１ｂの少なくとも１種）、
クロロジフルオロエタン（ＲＩ４２． ＲＩ４２ａ、
ＲＩ４２ｂの少なくとも１種）、クロロフルオロエタン
（Ｒ１５１，ＲＩ５］ａ、の少なくともｌ柿）及びジフ
ルオロエタン（Ｒ１５２，Ｒ１５２ａの少なくとも１秤
）等をさらに混合使用することができる。
又、本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在する場合
にはその共沸組成での使用が好ましい。
にはその共沸組成での使用が好ましい。
本発明の混合溶剤組成物を安定化する必要がある場合に
は、安定化剤として、ニトロ化合物、フェノール類、ア
ミン類、エーテル類、アミシン類、エステル類、有機ホ
スファイト類、エポキサイド類、フラン類、アルコール
類、ケトン類及びトリアゾール類の群から選ばれる少な
くとも１種を添加することができる。
は、安定化剤として、ニトロ化合物、フェノール類、ア
ミン類、エーテル類、アミシン類、エステル類、有機ホ
スファイト類、エポキサイド類、フラン類、アルコール
類、ケトン類及びトリアゾール類の群から選ばれる少な
くとも１種を添加することができる。
添加量としては、特に限定されないが、混合溶剤組成物
に対してＩＩ）ｌ）Ｉｌ＋−１０％５好ましくは１０ｐ
ｐｍ〜５％、さらに好ましくは１００ｐｐｍ〜３％であ
る。
に対してＩＩ）ｌ）Ｉｌ＋−１０％５好ましくは１０ｐ
ｐｍ〜５％、さらに好ましくは１００ｐｐｍ〜３％であ
る。
ニトロ化合物類としては一取代Ｒ−Ｎｏ２ （Ｒ：炭素
数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の
炭化水素基）で示されるものが好ましく、ニトロメタン
、ニトロエタン、ｌ−ニトロプロパン、２−ニトロプロ
パン、ニトロエンヤン等から選ばれるものであり、より
好ましくはニトロメタンである。フェノール類としては
下記−取代で示されるものが好ましく、Ｒ’＋ （ここで、Ｒ＋ 、Ｒ’＋ 、Ｒ”＋ 、Ｒ−ｒは旧（
又は炭素数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。） フェノール、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、チモール、ｐ−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、０−メトキシフェノール、４．４′−ジ
ヒドロキシフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２
．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、２．６−ジー
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールである。
数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の
炭化水素基）で示されるものが好ましく、ニトロメタン
、ニトロエタン、ｌ−ニトロプロパン、２−ニトロプロ
パン、ニトロエンヤン等から選ばれるものであり、より
好ましくはニトロメタンである。フェノール類としては
下記−取代で示されるものが好ましく、Ｒ’＋ （ここで、Ｒ＋ 、Ｒ’＋ 、Ｒ”＋ 、Ｒ−ｒは旧（
又は炭素数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。） フェノール、０−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−ク
レゾール、チモール、ｐ−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、０−メトキシフェノール、４．４′−ジ
ヒドロキシフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２
．６−ジーｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、２．６−ジー
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールである。
アミン類としては、下記−取代で示されるものが好まし
く、 Ｒ，−Ｎ ｆＲ″ｚ）２． （Ｒａｌ ２−Ｎ ｆＲ
’ ｚ） ！＋ （Ｒａ）−ＮＲ” ２゜［Ｒ２）
２Ｎ−Ｒ′、−Ｎ−ｆＲ″、） ２． Ｒ，−Ｒ’ 、
−ＮＩＩＲ″２゜Ｒ２−ＣＨＮ （Ｒ′−） ２−ＲＺ
−Ｎ−（Ｒ’“２）２゜（Ｒ２１ａＮ−Ｒ’ ２−Ｎ１
１−Ｒ′２−Ｎ−ｆＲ″’ ａｌ ２゜（Ｌｌ ２Ｎ−
（Ｒ” −Ｎｉｌ） ４−Ｒ＃２． Ｒａ−Ｎ１１−Ｒ
′ｘ。
く、 Ｒ，−Ｎ ｆＲ″ｚ）２． （Ｒａｌ ２−Ｎ ｆＲ
’ ｚ） ！＋ （Ｒａ）−ＮＲ” ２゜［Ｒ２）
２Ｎ−Ｒ′、−Ｎ−ｆＲ″、） ２． Ｒ，−Ｒ’ 、
−ＮＩＩＲ″２゜Ｒ２−ＣＨＮ （Ｒ′−） ２−ＲＺ
−Ｎ−（Ｒ’“２）２゜（Ｒ２１ａＮ−Ｒ’ ２−Ｎ１
１−Ｒ′２−Ｎ−ｆＲ″’ ａｌ ２゜（Ｌｌ ２Ｎ−
（Ｒ” −Ｎｉｌ） ４−Ｒ＃２． Ｒａ−Ｎ１１−Ｒ
′ｘ。
（Ｒ２） ２−Ｎ−ＯＲ＋ ２
（ここで、Ｒ２，Ｒ′、、Ｒ“２． Ｒ”’ 、は水素
原子又は炭素数１〜１０の飽和又は不飽和結合を有する
鎖状又は環状の炭化水素基。） ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第２ブチルアミン、第
３ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン、２−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ペンシルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ−フェ
ニル−１−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
原子又は炭素数１〜１０の飽和又は不飽和結合を有する
鎖状又は環状の炭化水素基。） ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、Ｎ−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メチル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第２ブチルアミン、第
３ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン、２−エチルヘ
キシルアミン、アニリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ペンシルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ−フェ
ニル−１−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く。
く。
！４Ｏ−Ｒ３−０−Ｒ′３．１１０−Ｒ，−０−Ｒ’３
−０−Ｒ“８． ＩＩ Ｏ−Ｒｓ〜０１１゜（ここで、
Ｒ３，Ｒ’３．Ｒ′３は炭素数１〜１０の飽和又は不飽
和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。） １．４−ジオキサン、１．２−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジアリルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、１．２−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは１．２−ブタ
ンジオール、１．４−ジ才キサン、１．２−ジメトキシ
エタンである。
−０−Ｒ“８． ＩＩ Ｏ−Ｒｓ〜０１１゜（ここで、
Ｒ３，Ｒ’３．Ｒ′３は炭素数１〜１０の飽和又は不飽
和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。） １．４−ジオキサン、１．２−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジアリルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、１．２−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは１．２−ブタ
ンジオール、１．４−ジ才キサン、１．２−ジメトキシ
エタンである。
アミン類として好ましくは、α−アミレン、β−アミレ
ン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
ン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 Ｒ４０−Ｒ′、−ＣＤＯＩＩ″、。
く、 Ｒ４０−Ｒ′、−ＣＤＯＩＩ″、。
（ここで、Ｒ，、ｒ＜’４．Ｒ”４ は水素原子又は炭
素数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。） 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
素数１〜６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状
の炭化水素基。） 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
有機ホスファイト類としては、次の一般式で示されるも
のが好ましく、（Ｒｓｏ）ａｐ、 ｆＲ６−Ｒ’、−
０）、Ｐ、 （ＲｓＯ）ｚＰＯＲ”ｓ。
のが好ましく、（Ｒｓｏ）ａｐ、 ｆＲ６−Ｒ’、−
０）、Ｐ、 （ＲｓＯ）ｚＰＯＲ”ｓ。
（ここでＲＳ、Ｒ′ｓ、Ｒ″、、Ｒ’″６は水素原子又
は炭素数１〜１８の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。） トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス（２−
エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ（２−エ
チルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモ７ノデシル
ホスファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト
、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハ
イドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレン
グリコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、
トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（トリデシル
）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリ
ステアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ターシャ
リ−ブチルフェニル）ホスファイト等から選ばれるもの
である。より好ましくはトリフェニルホスファイトであ
る。
は炭素数１〜１８の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又
は環状の炭化水素基。） トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス（２−
エチルヘキシル）ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ（２−エ
チルヘキシル）ホスファイト、ジフェニルモ７ノデシル
ホスファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト
、ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハ
イドロゲンホスファイト、テトラフェニルジブロビレン
グリコールベンタエリスリトールテトラホスファイト、
トリラウリルトリチオホスファイト、ビス（トリデシル
）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニル
フェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、トリ
ステアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリ
トールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ターシャ
リ−ブチルフェニル）ホスファイト等から選ばれるもの
である。より好ましくはトリフェニルホスファイトであ
る。
エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 Ｒ，ｔＯ，ＸＲ，０ （ここで、Ｒ６は炭素数１〜８の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Ｘはハロゲン原子。
好ましく、 Ｒ，ｔＯ，ＸＲ，０ （ここで、Ｒ６は炭素数１〜８の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Ｘはハロゲン原子。
）
１．２−ブチレンオキサイド、エピクロルヒドリン、プ
ロピレンオキサイド、２．３−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは１．２ブチレンオキサイドである。
ロピレンオキサイド、２．３−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは１．２ブチレンオキサイドである。
フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 （ここでＲ？ 、 Ｒ”＝、 Ｒ−１は炭素数１〜２の
飽和及び／又は不飽和結合を有する炭化水素基。） テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルビロール、２−メチル
ビロール、３−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはＮ−メデルビロールである。
く、 （ここでＲ？ 、 Ｒ”＝、 Ｒ−１は炭素数１〜２の
飽和及び／又は不飽和結合を有する炭化水素基。） テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルビロール、２−メチル
ビロール、３−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはＮ−メデルビロールである。
ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く。
く。
（Ｒａｔ ２ＣＯ，Ｒｓ−Ｃｏ−Ｒ′ａ、（Ｒ，ＮＧＯ
） ２゜Ｒａ−Ｃ０Ｎ−（Ｒ′８１２． （８８１２
ＮＣＯＮ （Ｒ’ ８１２゜（ここでｎ、 、 ｒ；＋
’、、 ｒｔ”、、 ｒで′８は水素原子又は炭素数１
〜４の飽和又は不飽和結合を有する炭化水素基。） アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、２−ピ
ロリドン、Ｎ、 Ｎ、 Ｎ′、 Ｎ′−テトラメチル尿
素、Ｎ−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、
より好ましくはメチルエチルケトンである。
） ２゜Ｒａ−Ｃ０Ｎ−（Ｒ′８１２． （８８１２
ＮＣＯＮ （Ｒ’ ８１２゜（ここでｎ、 、 ｒ；＋
’、、 ｒｔ”、、 ｒで′８は水素原子又は炭素数１
〜４の飽和又は不飽和結合を有する炭化水素基。） アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、２−ピ
ロリドン、Ｎ、 Ｎ、 Ｎ′、 Ｎ′−テトラメチル尿
素、Ｎ−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、
より好ましくはメチルエチルケトンである。
トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 Ｒ，−Ｎ、−Ｒ’９． Ｒ，−Ｎ、−Ｒ′、−０）１
゜Ｒ′９ Ｘ−Ｔｌ５−Ｎ５−Ｒ” 、−Ｒ”９． Ｒ９−Ｎｎ
−Ｒ′９−Ｎ−Ｒ”。
ましく、 Ｒ，−Ｎ、−Ｒ’９． Ｒ，−Ｎ、−Ｒ′、−０）１
゜Ｒ′９ Ｘ−Ｔｌ５−Ｎ５−Ｒ” 、−Ｒ”９． Ｒ９−Ｎｎ
−Ｒ′９−Ｎ−Ｒ”。
Ｒ”’９
（ここでＲ，、Ｒ′、、Ｒ”、、Ｒ”’ ９は水素原子
又は炭素数１−１６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。Ｘはハロゲン原子。） ２−（２“ −ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２°−ヒドロキシ−３”−
ターシャリ−ブチル−５゜−メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、１．２．３−ヘンシトリア
ゾール、１−［（Ｎ、Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）
アミノメチル］ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
であり、より好ましくは１，２．３−ベンゾトリアゾー
ルである。
又は炭素数１−１６の飽和又は不飽和結合を有する鎖状
又は環状の炭化水素基。Ｘはハロゲン原子。） ２−（２“ −ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２°−ヒドロキシ−３”−
ターシャリ−ブチル−５゜−メチルフェニル）−５−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、１．２．３−ヘンシトリア
ゾール、１−［（Ｎ、Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）
アミノメチル］ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
であり、より好ましくは１，２．３−ベンゾトリアゾー
ルである。
本発明の混合溶剤組成物は、従来の溶剤と同様の各種用
途に使用でき、特に従来の溶剤ｌｉｔ独のものよりプラ
スチック類に与えるｆｉ／ Ｉｌｌが少ない点で有利で
ある。
途に使用でき、特に従来の溶剤ｌｉｔ独のものよりプラ
スチック類に与えるｆｉ／ Ｉｌｌが少ない点で有利で
ある。
本発明の混合溶剤組成物の具体的な用途としてはフラッ
クス、グリース、油、ワックス、研磨剤、インキ等の除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス
、プラスチック、ゴム、金属製各種物品等の洗浄及びド
ライクリーニング用溶剤として、特にＩＣ部品、電気機
器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい
。
クス、グリース、油、ワックス、研磨剤、インキ等の除
去剤、塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス
、プラスチック、ゴム、金属製各種物品等の洗浄及びド
ライクリーニング用溶剤として、特にＩＣ部品、電気機
器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい
。
［実施例］
実施例１〜１２．比較例１〜４
第１表〜第２表に示す混合溶剤組成物を用いてフラック
スの洗浄試験を行なった。
スの洗浄試験を行なった。
プリント基板（８張積層板）仝而にフラックス（スパー
クルフラックスＰＯ−Ｆ−３０９，千住金属■製）を塗
布し ２００℃の電気炉で１分間焼成後、混合溶剤組成
物に１分間浸漬じた。フラックスの除去の度合を第１表
〜第２表に示す。
クルフラックスＰＯ−Ｆ−３０９，千住金属■製）を塗
布し ２００℃の電気炉で１分間焼成後、混合溶剤組成
物に１分間浸漬じた。フラックスの除去の度合を第１表
〜第２表に示す。
第１表
（）内は混合比［重量％］
○；良好に除去できる △：少量残存×：かなり残存
第２表
（）内は混合比［重量％］
○；良好に除去できる △；少量残存×；かなり残
存 実施例１３〜１６、比較例５〜８ 第３表に示す混合溶剤組成物を用いて引火点の測定を行
なった。
存 実施例１３〜１６、比較例５〜８ 第３表に示す混合溶剤組成物を用いて引火点の測定を行
なった。
各組成物の所定量をペンスキーマルテンス式引火点測定
器の試料カップに取り、ＪＩＳ−に２２６５に定める条
件に従い、引火点を測定した。結果を第３表に示す。
器の試料カップに取り、ＪＩＳ−に２２６５に定める条
件に従い、引火点を測定した。結果を第３表に示す。
第３表
（）内は混合比［重量％］
［発明の効果］
本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなように、
洗浄効果の優れたものである。又、従来使用されていた
炭化水素類、アルコール類、エステル類等と同様に適度
な溶解力を持つことから、金属、プラスチック及びエラ
ストマーから成る複合部品に悪影響を与えることなく、
フラックス等を洗浄することができる。
洗浄効果の優れたものである。又、従来使用されていた
炭化水素類、アルコール類、エステル類等と同様に適度
な溶解力を持つことから、金属、プラスチック及びエラ
ストマーから成る複合部品に悪影響を与えることなく、
フラックス等を洗浄することができる。
又５実施例から明らかなように、引火点の無い組成が得
られるため、加熱浸漬洗浄、蒸気洗浄等に於て、特に安
全面から有利である。
られるため、加熱浸漬洗浄、蒸気洗浄等に於て、特に安
全面から有利である。
Claims (1)
- １．酢酸メチル、酢酸イソプロピル、ｎ−ヘキサン、及
びシクロヘキサンの少なくとも１種、メタノール及びト
リクロロトリフルオロエタンからなる混合溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14828288A JPH01318092A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14828288A JPH01318092A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01318092A true JPH01318092A (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=15449280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14828288A Pending JPH01318092A (ja) | 1988-06-17 | 1988-06-17 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01318092A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002046349A1 (en) * | 2000-12-07 | 2002-06-13 | 3M Innovative Properties Company | Brake cleaner compositions and method of using same |
| JP2008248104A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Lion Corp | ドライクリーニング用組成物 |
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
-
1988
- 1988-06-17 JP JP14828288A patent/JPH01318092A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002046349A1 (en) * | 2000-12-07 | 2002-06-13 | 3M Innovative Properties Company | Brake cleaner compositions and method of using same |
| US6448209B1 (en) | 2000-12-07 | 2002-09-10 | 3M Innovative Properties Company | Brake cleaner compositions comprising methyl acetate and acetone and method of using same |
| US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
| JP2008248104A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Lion Corp | ドライクリーニング用組成物 |
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