JPH02185597A - フッ素化炭化水素系混合組成物 - Google Patents
フッ素化炭化水素系混合組成物Info
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- JPH02185597A JPH02185597A JP459589A JP459589A JPH02185597A JP H02185597 A JPH02185597 A JP H02185597A JP 459589 A JP459589 A JP 459589A JP 459589 A JP459589 A JP 459589A JP H02185597 A JPH02185597 A JP H02185597A
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- Japan
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- ether
- weight
- fluorinated hydrocarbon
- ethyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系混
合組成物に関するものである。
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系混
合組成物に関するものである。
[従来の技術]
フッ素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として1,1.2− )リクロロー1.2.2− ト
リフルオロエタン(R113)が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン(R12)が使わ
れている。
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として1,1.2− )リクロロー1.2.2− ト
リフルオロエタン(R113)が、発泡剤としてトリク
ロロモノフルオロメタン(R11)が、プロペラントや
冷媒としてジクロロジフルオロメタン(R12)が使わ
れている。
[発明が解決しようとする課題]
化学的に特に安定なR11,R12,R113は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明は1,1.2−トリクロロフルオロエタン(R1
13)及びハロゲン化炭化水素類からなるフッ素化炭化
水素系混合組成物に関するものである。本発明の混合物
は不燃又は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特
に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄力が高
いため、R113の代替として極めて有用なものである
。
13)及びハロゲン化炭化水素類からなるフッ素化炭化
水素系混合組成物に関するものである。本発明の混合物
は不燃又は難燃性であるとともに共沸組成が存在し、特
に洗浄溶剤として従来のR113単体よりも洗浄力が高
いため、R113の代替として極めて有用なものである
。
本発明組成物の混合割合はR113/2−ブロモプロパ
ン=50〜99重量%/l〜50重量%、好ましくは6
0〜95重量%15〜40重量%であり、さらに好まし
くは共沸組成となる90重量%/10重量%である。
ン=50〜99重量%/l〜50重量%、好ましくは6
0〜95重量%15〜40重量%であり、さらに好まし
くは共沸組成となる90重量%/10重量%である。
又、R113/1−クロロプロパン/2−ブロモプロパ
ンの混合割合は20〜30重量%/61〜79重量%/
l〜9重量%、好ましくは22〜28量量%/65〜7
5重量%/3〜7重量%であり、さらに好ましくは共沸
組成となる25重量%/70重量%15重量%である。
ンの混合割合は20〜30重量%/61〜79重量%/
l〜9重量%、好ましくは22〜28量量%/65〜7
5重量%/3〜7重量%であり、さらに好ましくは共沸
組成となる25重量%/70重量%15重量%である。
又、R113/1.1−ジクロロエタン/2−ブロモプ
ロパンの混合割合は71〜91重量%/7〜18重量%
72〜11重量%、好ましくは75〜85重量%/lO
〜15重量%15〜8重量%であり、さらに好ましくは
共沸組成となる81重量%/ 12.5重量%/6.5
重量%である。
ロパンの混合割合は71〜91重量%/7〜18重量%
72〜11重量%、好ましくは75〜85重量%/lO
〜15重量%15〜8重量%であり、さらに好ましくは
共沸組成となる81重量%/ 12.5重量%/6.5
重量%である。
前記各共沸組成割合は、混合する化合物の純度の違いに
より約±0.5〜1重量%程度変化し得るものである。
より約±0.5〜1重量%程度変化し得るものである。
本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物を安定化する必
要がある場合には、安定化剤として、ニトロ化合物、フ
ェノール類、アミン類、エーテル類、アミシン類、エス
テル類、有機ホスファイト類、エポキサイド類、フラン
類、アルコール類、ケトン類及びトリアゾール類の群か
ら選ばれる少なくとも1種を添加することができる。添
加量としては特に限定されないが、混合溶剤組成物に対
して1 ppm−lO%、好ましくはloppm〜5%
、さらに好ましくは1100pp〜3%である。
要がある場合には、安定化剤として、ニトロ化合物、フ
ェノール類、アミン類、エーテル類、アミシン類、エス
テル類、有機ホスファイト類、エポキサイド類、フラン
類、アルコール類、ケトン類及びトリアゾール類の群か
ら選ばれる少なくとも1種を添加することができる。添
加量としては特に限定されないが、混合溶剤組成物に対
して1 ppm−lO%、好ましくはloppm〜5%
、さらに好ましくは1100pp〜3%である。
ニトロ化合物類としては一般式R−NO2(R:炭素数
1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、l−ニトロプロパン、2−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、(ここで、R+
、R′+ 、R″3.R”′+はOH又は炭素数1〜6
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール、チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、0−メトキシフェノール、4,4′−ジ
ヒドロキシフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2
.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、2.6−ジー
t−ブチル−p−クレゾールである。
1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭
化水素基)で示されるものが好ましく、ニトロメタン、
ニトロエタン、l−ニトロプロパン、2−ニトロプロパ
ン、ニトロベンゼン等から選ばれるものであり、より好
ましくはニトロメタンである。フェノール類としては下
記一般式で示されるものが好ましく、(ここで、R+
、R′+ 、R″3.R”′+はOH又は炭素数1〜6
の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素
基。) フェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−ク
レゾール、チモール、p−ターシャリ−ブチルフェノー
ル、ターシャリ−ブチルカテコール、カテコール、イソ
オイゲノール、0−メトキシフェノール、4,4′−ジ
ヒドロキシフェニル−2,2−プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2
.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール等から選ばれる
ものである。より好ましくはフェノール、2.6−ジー
t−ブチル−p−クレゾールである。
アミン類としては、下記一般式で示されるものが好まし
く、 R2−NCR’2)2. (R2)2−N(R′2)
2. (R2)2−NR’2゜(R2) 2N−R’
2−N−(R″2) 2. R2−R’ 2−NH
−R″2゜R2−CHN(R’2)2−R”2−N−(
R”′2)2゜(R2)J−R’2−NH−R″2−N
−(R”′i)2゜(R2)J−(R’JH)4−R″
2. Rg−NH−R’a。
く、 R2−NCR’2)2. (R2)2−N(R′2)
2. (R2)2−NR’2゜(R2) 2N−R’
2−N−(R″2) 2. R2−R’ 2−NH
−R″2゜R2−CHN(R’2)2−R”2−N−(
R”′2)2゜(R2)J−R’2−NH−R″2−N
−(R”′i)2゜(R2)J−(R’JH)4−R″
2. Rg−NH−R’a。
(R2)2−N−叶゛2
(ここで、R2、R’2.R”2.R”’ 2は水素原
子又は炭素数1〜10の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メヂル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン、2−エヂルヘ
キシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン、
N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、N−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
子又は炭素数1〜10の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。) ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジイソブチルアミン、ジノルマルプロピルアミン、
ジアリルアミン、トリエチルアミン、N−メチルアニリ
ン、ピリジン、ピコリン、モルホリン、N−メチルモル
ホリン、トリアリルアミン、アリルアミン、α−メヂル
ベンジルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、プロピ
ルアミン、イソプロピルアミン、ジプロピルアミン、ブ
チルアミン、イソブチルアミン、第2ブチルアミン、第
3ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、
ジベンジルアミン、トリペンチルアミン、2−エヂルヘ
キシルアミン、アニリン、N、N−ジメチルアニリン、
N、N−ジエチルアニリン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレン
ペンタミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフ
ェニルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N−フェ
ニル−1−ナフチルアミン、ジオクチルアミン、N−メ
チルベンジルアミン等から選ばれるものである。より好
ましくは、ジイソプロピルアミン、ジアリルアミン、ジ
フェニルアミンである。
エーテル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 HO−R3−0−R′3.HO−R3−0−R′a−0
−R”3.HO−R3−OH。
く、 HO−R3−0−R′3.HO−R3−0−R′a−0
−R”3.HO−R3−OH。
(ここで、R2、R′3.R”、は炭素数1〜10の飽
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。
和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。
)
1.4−ジオキサン、1.2−ブタンジオール、イソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは1.2−ブタ
ンジオール、1.4−ジオキサン、1.2−ジメトキシ
エタンである。
ロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールメチルエーテル、エチルイソブチルエーテル、エ
チルイソプロピルエーテル、エチルイソペンチルエーテ
ル、エチルナフチルエーテル、エチルビニルエーテル、
エチルフェニルエーテル、アニソール、アネトール、エ
チルプロパルギルエーテル、エチルプロピルエーテル、
エチルメチルエーテル、エチレングリコール、メチルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、エチレングリコールジフェニルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノ
フェニルエーテル、エチレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジア
リルエーテル、アリルエチルエーテル、ジイソペンチル
エーテル、ジアリルエーテル、ブチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ジプロピルエーテル、
エチルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル
、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジノルマルプ
ロピルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキ
シエタン、トリメトキシエタン、トリエトキシエタン等
から選ばれるものである。より好ましくは1.2−ブタ
ンジオール、1.4−ジオキサン、1.2−ジメトキシ
エタンである。
アミン類として好ましくは、α−アミレン、β−アミレ
ン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
ン、γ−アミレン、α−イソアミレン、β−イソアミレ
ン等から選ばれるものであり、より好ましくはβ−アミ
レンである。
エステル類としては次の一般式で示されるものが好まし
く、 は、次の一般式で示されるものが好ましく、(R,,0
)3P、 (RI、−R’5−0)3P、 (R50)
2POR’5゜R40−R′4−GOOR”、。
く、 は、次の一般式で示されるものが好ましく、(R,,0
)3P、 (RI、−R’5−0)3P、 (R50)
2POR’5゜R40−R′4−GOOR”、。
(ここで、R4,R’、、R” は水素原子又は炭素
数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の
炭化水素基。) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
数1〜6の飽和又は不飽和結合を有する鎖状又は環状の
炭化水素基。) 酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ノルマル
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸フェニル
、アクリル酸アリル、カプロラクタム、カルバミド酸エ
チル、カルバミド酸メチル、サリチル酸メチル等から選
ばれるものであり、より好ましくは酢酸メチルである。
有機ホスファイト類とじて(ここでR,、R’5.R”
5.R”’5は水素原子又は炭素数1〜18の飽和又は
不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフエニルジプロピレング
リコールペンクエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはトリフェニルホスファイトである
。
5.R”’5は水素原子又は炭素数1〜18の飽和又は
不飽和結合を有する鎖状又は環状の炭化水素基。) トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)
ホスファイト、トリエチルホスファイト、トリス(2−
エチルヘキシル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリブチルホスファイト、ジフェニルモノ(2−エ
チルヘキシル)ホスファイト、ジフェニルモノデシルホ
スファイト、ジフェニルモノトリデシルホスファイト、
ジラウリルハイドロゲンホスファイト、ジフェニルハイ
ドロゲンホスファイト、テトラフエニルジプロピレング
リコールペンクエリスリトールテトラホスファイト、ト
リラウリルトリチオホスファイト、ビス(トリデシル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフ
ェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
テアリルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリト
ールジホスファイト、トリス(2,4−ジ−ターシャリ
−ブチルフェニル)ホスファイト等から選ばれるもので
ある。より好ましくはトリフェニルホスファイトである
。
エポキサイド類としては、次の一般式で示されるものが
好ましく、 Rho、 XR60 (ここで、R6は炭素数1〜8の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。
好ましく、 Rho、 XR60 (ここで、R6は炭素数1〜8の飽和又は不飽和結合を
有する鎖状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。
)
1.2−ブチレンオキサイド、エビクロルヒトリン、プ
ロピレンオキサイド、2.3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1.2ブチレンオキサイドである。
ロピレンオキサイド、2.3−ブチレンオキサイド、ス
チレンオキサイド等から選ばれるものであり、より好ま
しくは1.2ブチレンオキサイドである。
フラン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (ここでR,、R′、、R″、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基。) テトラヒドロフラン、N−メチルビロール、2−メチル
ビロール、3−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはN−メチルビロールである。
く、 (ここでR,、R′、、R″、は炭素数1〜2の飽和及
び/又は不飽和結合を有する炭化水素基。) テトラヒドロフラン、N−メチルビロール、2−メチル
ビロール、3−メチルビロール等から選ばれるものであ
り、より好ましくはN−メチルビロールである。
ケトン類としては、次の一般式で示されるものが好まし
く、 (R8)2co、 Re−C0−R′g、 (Ra
NCO)z。
く、 (R8)2co、 Re−C0−R′g、 (Ra
NCO)z。
R5−C0N−(R’ 8) z、(Ra) JCON
(R’ a) 2゜り好ましくはメチルエチルケトン
である。
(R’ a) 2゜り好ましくはメチルエチルケトン
である。
トリアゾール類としては次の一般式で示されるものが好
ましく、 (ここでR,、R′、、R”、、R”’、は水素原子又
は炭素数1〜4の飽和又は不飽和結合を有する炭化水素
基。) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、N、 N、 N′、 N′−テトラメチル尿
素、N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、
よ(ここでRe 、R′e、R”s、R”’eは水素原
子又は炭素数1〜16の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。) 2− (2’ −ヒドロキシ−5°−メチル−フェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2゜ヒドロキシ−3°−
ターシャリ−ブチル−5゜−メチルフェニル)−5−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、1,2.3−ベンゾトリア
ゾール、1−[(N、N−ビス−2−エチルヘキシル)
アミノメチル]ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
であり、より好ましくは1,2.3−ベンゾトリアゾー
ルである。
ましく、 (ここでR,、R′、、R”、、R”’、は水素原子又
は炭素数1〜4の飽和又は不飽和結合を有する炭化水素
基。) アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、アゾジカルボンアミド、マレイン酸ヒドラジド、フ
タル酸ヒドラジン、ホルムアミド、N−メチルホルムア
ミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジエチ
ルホルムアミド、N−メチルプロピオンアミド、2−ピ
ロリドン、N、 N、 N′、 N′−テトラメチル尿
素、N−メチルピロリドン等から選ばれるものであり、
よ(ここでRe 、R′e、R”s、R”’eは水素原
子又は炭素数1〜16の飽和又は不飽和結合を有する鎖
状又は環状の炭化水素基。Xはハロゲン原子。) 2− (2’ −ヒドロキシ−5°−メチル−フェニル
)ベンゾトリアゾール、2−(2゜ヒドロキシ−3°−
ターシャリ−ブチル−5゜−メチルフェニル)−5−ク
ロロ−ベンゾトリアゾール、1,2.3−ベンゾトリア
ゾール、1−[(N、N−ビス−2−エチルヘキシル)
アミノメチル]ベンゾトリアゾール等から選ばれるもの
であり、より好ましくは1,2.3−ベンゾトリアゾー
ルである。
本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は例えば、従来
のR113と同様の各種用途に使用でき、特にR113
単独のものより溶解力が優れている点で有利である。
のR113と同様の各種用途に使用でき、特にR113
単独のものより溶解力が優れている点で有利である。
本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は、従来のフロ
ンと同様、冷媒、発泡剤、プロペラント、溶剤等の各種
用途に使用できる。
ンと同様、冷媒、発泡剤、プロペラント、溶剤等の各種
用途に使用できる。
溶剤の具体的な用途としてはフラックス、グリース、油
、ワックス、研磨剤、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、
抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス、プラスチック、ゴ
ム、金属製各種物品等の洗浄及びドライクリーニング用
溶剤として、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音波
洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
、ワックス、研磨剤、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、
抽出剤、シミ抜き剤、セラミックス、プラスチック、ゴ
ム、金属製各種物品等の洗浄及びドライクリーニング用
溶剤として、特にIC部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や水切り剤を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー揺動、超音波
洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
[実施例]
実施例1
第1表に示した各組成からなる混合物1000gを各々
、蒸留フラスコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い
、大気圧下で蒸留を行ない、各々200の留分を得た。
、蒸留フラスコに入れ、理論段数20段の精留塔を用い
、大気圧下で蒸留を行ない、各々200の留分を得た。
この時の留出温度は第2表の通りであった。又、この留
分なガスクロマトグラフで測定した結果、第2表の通り
であった。
分なガスクロマトグラフで測定した結果、第2表の通り
であった。
第 1 表
第 2 表
第 3
表
実施例2〜4
第3表に示す本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄
試験を行なった。
試験を行なった。
プリント基板(銅張積層板)全面にフラックス(スパー
クルフラックスPO−F−309、千住金属■製)を塗
布し200℃の電気炉で1分間焼成後、混合溶剤組成物
に3分間浸漬した。フラックスの除去の度合を第3表に
示す。
クルフラックスPO−F−309、千住金属■製)を塗
布し200℃の電気炉で1分間焼成後、混合溶剤組成物
に3分間浸漬した。フラックスの除去の度合を第3表に
示す。
0:良好に除去できる ○:はぼ良好
△:微量残存 ×:かなり残存[発明の効果]
本発明のフッ素化炭化水素系混合組成物は、従来のフロ
ンが有している優れた特性を満足しながら該フロンの使
用量低減ができるとともに、共沸点が存在するため、リ
サイクル時に組成変動がない、従来の単一フロンと同じ
使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われているR113単
体よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためR
113に替わる洗浄溶剤として好代理人(ブ「理士)Δ
ト自4.1」手
ンが有している優れた特性を満足しながら該フロンの使
用量低減ができるとともに、共沸点が存在するため、リ
サイクル時に組成変動がない、従来の単一フロンと同じ
使い方ができ、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われているR113単
体よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためR
113に替わる洗浄溶剤として好代理人(ブ「理士)Δ
ト自4.1」手
Claims (3)
- 1.1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン及び2
−ブロモプロパンからなるフッ素化炭化水素系混合組成
物。 - 2.1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン、2−
ブロモプロパン及び1−クロロプロパンからなるフッ素
化炭化水素系混合組成物。 - 3.1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン、2−
ブロモプロパン及び1,1−ジクロロエタンからなるフ
ッ素化炭化水素系混合組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP459589A JPH02185597A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | フッ素化炭化水素系混合組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP459589A JPH02185597A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | フッ素化炭化水素系混合組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02185597A true JPH02185597A (ja) | 1990-07-19 |
Family
ID=11588397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP459589A Pending JPH02185597A (ja) | 1989-01-13 | 1989-01-13 | フッ素化炭化水素系混合組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02185597A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220494A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-09 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| JPH07150197A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| JPH07150196A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| US5824162A (en) * | 1995-12-29 | 1998-10-20 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an environmentally safe solvent |
-
1989
- 1989-01-13 JP JP459589A patent/JPH02185597A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220494A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-09 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| EP0609004B2 (en) † | 1993-01-25 | 2005-04-27 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Deterging solvent composition and a method for washing an article with the same |
| JPH07150197A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| JPH07150196A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| US5824162A (en) * | 1995-12-29 | 1998-10-20 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an environmentally safe solvent |
| US5938859A (en) * | 1995-12-29 | 1999-08-17 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminants from parts utilizing an environmentally safe solvent |
| US6176942B1 (en) | 1995-12-29 | 2001-01-23 | Lawrence Industries, Inc | Solvent mixture for use in a vapor degreaser and method of cleaning an article in a vapor degreaser utilizing said solvent |
| US6402857B2 (en) | 1995-12-29 | 2002-06-11 | Lawrence Industries, Inc. | Solvent mixture for use in a vapor degreaser and method of cleaning an article in a vapor degreaser utilizing said solvent |
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