JPH0134989B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0134989B2 JPH0134989B2 JP61162886A JP16288686A JPH0134989B2 JP H0134989 B2 JPH0134989 B2 JP H0134989B2 JP 61162886 A JP61162886 A JP 61162886A JP 16288686 A JP16288686 A JP 16288686A JP H0134989 B2 JPH0134989 B2 JP H0134989B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acetamide
- carboxylic acid
- syn isomer
- thiomethyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/44—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles
- C07D209/48—Iso-indoles; Hydrogenated iso-indoles with oxygen atoms in positions 1 and 3, e.g. phthalimide
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D213/72—Nitrogen atoms
- C07D213/75—Amino or imino radicals, acylated by carboxylic or carbonic acids, or by sulfur or nitrogen analogues thereof, e.g. carbamates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D277/38—Nitrogen atoms
- C07D277/44—Acylated amino or imino radicals
- C07D277/46—Acylated amino or imino radicals by carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/587—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with aliphatic hydrocarbon radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms, said aliphatic radicals being substituted in the alpha-position to the ring by a hetero atom, e.g. with m >= 0, Z being a singly or a doubly bound hetero atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/5537—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom the heteroring containing the structure -C(=O)-N-C(=O)- (both carbon atoms belong to the heteroring)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6561—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing systems of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring or ring system, with or without other non-condensed hetero rings
- C07F9/65613—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom containing systems of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring or ring system, with or without other non-condensed hetero rings containing the ring system (X = CH2, O, S, NH) optionally with an additional double bond and/or substituents, e.g. cephalosporins and analogs
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Oncology (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Pharmacology & Pharmacy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Communicable Diseases (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
この発明は新規なアミノチアゾリル酢酸誘導体
およびその塩類に関するものであり、さらに詳細
には抗菌性物質として有用な３，７―ジ置換―３
―セフエム―４―カルボン酸化合物またはその塩
類を製造するための原料化合物であるアミノチア
ゾリル酢酸誘導体およびその塩類に関するもので
ある。 この発明により提供されるアミノチアゾリル酢
酸誘導体は次の一般式（）で表われる。 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
ノ基、 R2は式―CONH―R5（式中、R5は適当な置換
基を有していてもよいアリール基、ピリジル基も
しくはチアゾリル基を意味する）で示される基、 式
およびその塩類に関するものであり、さらに詳細
には抗菌性物質として有用な３，７―ジ置換―３
―セフエム―４―カルボン酸化合物またはその塩
類を製造するための原料化合物であるアミノチア
ゾリル酢酸誘導体およびその塩類に関するもので
ある。 この発明により提供されるアミノチアゾリル酢
酸誘導体は次の一般式（）で表われる。 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
ノ基、 R2は式―CONH―R5（式中、R5は適当な置換
基を有していてもよいアリール基、ピリジル基も
しくはチアゾリル基を意味する）で示される基、 式
【式】
（式中、R6は水素またはアルキル基を意味す
る）で示される基、または 式―NHCO―R5（式中、R5は適当な置換基を有
していてもよいアリール基を意味する）で示され
る基、 Ａはアルキレン基をそれぞれ意味する］ この発明の目的化合物（）は新規化合物であ
り、例えば下記に示す方法により製造することが
できる。 方法 １ 方法 ２ （式中、R1，R2，R5およびＡは前と同じ意味） この発明の目的化合物（）および（ａ）な
らびに原料化合物（）はそれぞれの分子の構造
式中式
る）で示される基、または 式―NHCO―R5（式中、R5は適当な置換基を有
していてもよいアリール基を意味する）で示され
る基、 Ａはアルキレン基をそれぞれ意味する］ この発明の目的化合物（）は新規化合物であ
り、例えば下記に示す方法により製造することが
できる。 方法 １ 方法 ２ （式中、R1，R2，R5およびＡは前と同じ意味） この発明の目的化合物（）および（ａ）な
らびに原料化合物（）はそれぞれの分子の構造
式中式
【式】の部分構造に由来する幾何異性体
であるシン異性体、アンチ異性体およびこれら異
性体の混合物を包含する。 例えば目的化合物（）について示すと、シン
異性体とは 式 （式中、R1，R2およびＡは前と同じ意味） で示される幾何異性体を意味し、アンチ異性体と
は 式 （式中、R1，R2およびＡは前と同じ意味） で示されるもう一方の幾何異性体を意味する。 また、この発明の目的化合物（）および（
ａ）ならびに原料化合物（）および（）は互
変異性体を包含する。即ち、これらの目的化合物
および原料化合物が 式 （式中、R1は前と同じ意味） で示される基を有している場合には、この基はそ
の互変異性体である。 式 （式中、R1′はイミノ基または保護されたイミ
ノ基を意味する） で示される基で表わすこともできる。即ち、これ
らの基は互いに平衡関係にあり、下記の平衡式で
示すことができる。 （式中、R1およびR1′はそれぞれ前と同じ意
味） 上記したようなアミノ化合物と対応するイミノ
化合物との互変異性は周知であり、両者は相互に
変換できるが、通常、両者は実質的に同じ化合物
として当業者に取扱われている。 この明細書の説明および特許請求の範囲ではこ
れらの目的化合物および原料化合物を便宜的に互
変異性体の一方の表現方法である。 式 （式中、R1は前と同じ意味） で示したが、これに限定されるものではなく、両
者の互変異性体がこの発明の範囲に包含されるも
のである。 この発明の目的化合物（）の塩類としては、
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩等の無機塩基との基、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基との塩等が挙げられる。 次に上記一般式の定義について説明する。 なお、この明細書では、別に定めない限り「低
級」なる語句は、炭素数１〜６を意味するものと
する。 R1における保護されたアミノ基としては、ア
シルアミノ基のほかアミノ基がベンジル、トリチ
ル等のアラルキル基のようなアシル基以外の慣用
される保護基で置換されたものが挙げられる。 アシルアミノ基におけるアシル部分としては、
例えばカルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香環
または複素環を含むアシル基が挙げられさらに詳
細には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、オキサリル、サクシニル、ピバロイル等のア
ルカノイル基、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、１―シクロプ
ロピルエトキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカ
ルボニル、ペンチルオキシカルボニル、第３級ペ
ンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニル等のアルコキシカルボニル基、メシル、エタ
ンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパ
ンスルホニル、ブタンスルホニル等のアルカンス
ルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシル等のア
レーンスルホニル基、ベンゾイル、トルオイル、
キシロイル、ナフトイル、フタロイル、インダン
カルボニル等のアロイル基、フエニルアセチル、
フエニルプロピオニル等のアラルカノイル基、ベ
ンジルオキシカルボニル、フエネチルオキシカル
ボニル等のアラルコキシカルボニル基等が挙げら
れ、これらのアシル部分は、例えば後記のような
ハロゲン等の適当な置換基を１個以上有していて
もよい。 好ましいアシルアミノ基の例としては、低級ア
ルカノイルアミノ基が挙げられる。 適当な置換基を有していてもよいアリール基に
おけるアリール基としては、フエニル、トリル、
キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル等が挙
げられ、このアリール基は、塩素、臭素、沃素、
弗素のようなハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキ
シ基、後記のようなエステル化されたカルボキシ
基等の適当な置換基を１個以上有していてもよ
く、置換基を２個以上有する場合にはそれらの置
換分は同一であつても異つていてもよい。 アルキル基としては、直鎖状または分枝鎖状の
アルキル基を含み、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、好
ましくは低級アルキル基が挙げられる。 アルキレン基としては、直鎖状または分枝鎖状
のアルキレン基を含み、例えばメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げら
れ、好ましくは、低級アルキレン基が挙げられ
る。 目的化合物（）の好ましい例を次に挙げる。 R1の好ましい例としてはアミノ基または低級
アルカノイルアミノ基、 R2の好ましい例としては、式―CONH―R5［こ
こでR5の好ましい例としては置換基として同一
もしくは異つて１個以上のハロゲン、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基またはヒドロキ
シ基を有するアリール基（さらに好ましくは、前
記の置換基を有するフエニル基）、ピリジル基ま
たはチアゾリル基が挙げられる］で示される基、 式
性体の混合物を包含する。 例えば目的化合物（）について示すと、シン
異性体とは 式 （式中、R1，R2およびＡは前と同じ意味） で示される幾何異性体を意味し、アンチ異性体と
は 式 （式中、R1，R2およびＡは前と同じ意味） で示されるもう一方の幾何異性体を意味する。 また、この発明の目的化合物（）および（
ａ）ならびに原料化合物（）および（）は互
変異性体を包含する。即ち、これらの目的化合物
および原料化合物が 式 （式中、R1は前と同じ意味） で示される基を有している場合には、この基はそ
の互変異性体である。 式 （式中、R1′はイミノ基または保護されたイミ
ノ基を意味する） で示される基で表わすこともできる。即ち、これ
らの基は互いに平衡関係にあり、下記の平衡式で
示すことができる。 （式中、R1およびR1′はそれぞれ前と同じ意
味） 上記したようなアミノ化合物と対応するイミノ
化合物との互変異性は周知であり、両者は相互に
変換できるが、通常、両者は実質的に同じ化合物
として当業者に取扱われている。 この明細書の説明および特許請求の範囲ではこ
れらの目的化合物および原料化合物を便宜的に互
変異性体の一方の表現方法である。 式 （式中、R1は前と同じ意味） で示したが、これに限定されるものではなく、両
者の互変異性体がこの発明の範囲に包含されるも
のである。 この発明の目的化合物（）の塩類としては、
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩等の無機塩基との基、トリメチル
アミン、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基との塩等が挙げられる。 次に上記一般式の定義について説明する。 なお、この明細書では、別に定めない限り「低
級」なる語句は、炭素数１〜６を意味するものと
する。 R1における保護されたアミノ基としては、ア
シルアミノ基のほかアミノ基がベンジル、トリチ
ル等のアラルキル基のようなアシル基以外の慣用
される保護基で置換されたものが挙げられる。 アシルアミノ基におけるアシル部分としては、
例えばカルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香環
または複素環を含むアシル基が挙げられさらに詳
細には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、オキサリル、サクシニル、ピバロイル等のア
ルカノイル基、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、プロポキシカルボニル、１―シクロプ
ロピルエトキシカルボニル、イソプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキシカ
ルボニル、ペンチルオキシカルボニル、第３級ペ
ンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニル等のアルコキシカルボニル基、メシル、エタ
ンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパ
ンスルホニル、ブタンスルホニル等のアルカンス
ルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシル等のア
レーンスルホニル基、ベンゾイル、トルオイル、
キシロイル、ナフトイル、フタロイル、インダン
カルボニル等のアロイル基、フエニルアセチル、
フエニルプロピオニル等のアラルカノイル基、ベ
ンジルオキシカルボニル、フエネチルオキシカル
ボニル等のアラルコキシカルボニル基等が挙げら
れ、これらのアシル部分は、例えば後記のような
ハロゲン等の適当な置換基を１個以上有していて
もよい。 好ましいアシルアミノ基の例としては、低級ア
ルカノイルアミノ基が挙げられる。 適当な置換基を有していてもよいアリール基に
おけるアリール基としては、フエニル、トリル、
キシリル、メシチル、クメニル、ナフチル等が挙
げられ、このアリール基は、塩素、臭素、沃素、
弗素のようなハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキ
シ基、後記のようなエステル化されたカルボキシ
基等の適当な置換基を１個以上有していてもよ
く、置換基を２個以上有する場合にはそれらの置
換分は同一であつても異つていてもよい。 アルキル基としては、直鎖状または分枝鎖状の
アルキル基を含み、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第３
級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、好
ましくは低級アルキル基が挙げられる。 アルキレン基としては、直鎖状または分枝鎖状
のアルキレン基を含み、例えばメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げら
れ、好ましくは、低級アルキレン基が挙げられ
る。 目的化合物（）の好ましい例を次に挙げる。 R1の好ましい例としてはアミノ基または低級
アルカノイルアミノ基、 R2の好ましい例としては、式―CONH―R5［こ
こでR5の好ましい例としては置換基として同一
もしくは異つて１個以上のハロゲン、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基またはヒドロキ
シ基を有するアリール基（さらに好ましくは、前
記の置換基を有するフエニル基）、ピリジル基ま
たはチアゾリル基が挙げられる］で示される基、 式
【式】（ここでR6の好ましい例とし
ては、水素または低級アルキル基が挙げられる）
で示される基、または 式―NHCO―R5［ここでR5の好ましい例として
は、置換基としてハロゲンおよびヒドロキシ基を
有するアリール基（さらに好ましくはフエニル
基）が挙げられる］で示される基、 Ａの好ましい例としては低級アルキレン基がそ
れぞれ挙げられる。 以下に、目的化合物（）の製造法について説
明する。 （）＋（）→（）の製造法 ［方法１］ 化合物（）またはその塩類は化合物（）ま
たはその塩類に化合物（）を作用させることに
より製造することができる。 化合物（）は新規化合物を含み、実施例に示
された方法により製造できる。 化合物（）の塩類としては、塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、ｐ―トル
エンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。 この反応は通常溶媒中で行なわれ、溶媒として
は、水、メタノール、エタノール等のアルコー
ル、これらの混合溶媒の他、この反応に悪影響を
及ぼさないすべての溶媒が使用される。 この反応は、化合物（）をその塩類の形で使
用する場合には、例えば前記した様な有機もしく
は無機の塩基の存在下に行われるのが好ましい。 反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下
〜加熱下で行なわれることが多い。 この反応で目的化合物（）のシン異性体を選
択的にかつ高収率で得ようとする場合には、この
反応を中性付近で行なうのが好ましい。 （）＋（XI）→（ａ）の製造法 ［方法２］ 化合物（ａ）またはその塩類は化合物（）
またはその塩類に化合物（XI）もしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩類を
作用させることにより製造することができる。 化合物（）は新規物質を含み、実施例に示さ
れた方法により製造できる。 化合物（）および化合物（XI）の塩類として
は、化合物（）の塩類として例示したものが挙
げられ、化合物（XI）のカルボキシ基における反
応性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、さらに詳細には酸クロリド、酸アジド、ジア
ルキルりん酸混合酸無水物、フエニルりん酸混合
酸無水物、ジフエニルりん酸混合酸無水物、ジベ
ンジルりん酸混合酸無水物、ハロゲン化りん酸混
合酸無水物等の置換りん酸混合酸無水物、ジアル
キル亜りん酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水
物、チオ硫酸混合酸無水物、硫酸混合酸無水物、
アルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸
（たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタ
ン酸、２―エチルブタン酸、トリクロル酢酸）混
合酸無水物、芳香族カルボン酸（たとえば安息香
酸）混合酸無水物、対称形酸無水物等の酸無水
物、イミダゾール、４―置換イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、
などとの酸アミド、シアノメチルエステル、メト
キシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
［（CH3）2Ｎ＋＝CH―］エステル、ビニルエステル、
プロパルギルエステル、ｐ―ニトロフエニルエス
テル、２，４―ジニトロフエニルエステル、ペン
タクロロフエニルエステル、メシルフエニルエス
テル、フエニルアゾフエニルエステル、フエニル
チオエステル、ｐ―ニトロフエニルチオエステ
ル、ｐ―クレジルチオエステル、カルボキシメチ
ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジルエステル、８―キノリルチオ
エステル、または、Ｎ，Ｎ―ジメチルヒドロキシ
ルアミン、１―ヒドロキシ―２―（1H）―ピリ
ドン、Ｎ―ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ―ヒド
ロキシフタルイミド、１―ヒドロキシ―６―クロ
ロ―1H―ベンゾトリアゾール等とのエステル等
のエステル類が挙げられ、これらは使用する化合
物（XI）の種類に応じて適宜選択される。 この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、ピリジンまたはその
他の反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒等の
溶媒中で行なわれ、これらのうち、親水性の溶媒
は水と混合して使用することもできる。 この反応において化合物（XI）を遊離酸もしく
はその塩類の状態で使用する際は、縮合剤の存在
下に行うのが有利である。縮合剤としては、たと
えば、Ｎ，N′―ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ―シクロヘキシル―N′―モルホリノエチ
ルカルボジイミド、Ｎ―シクロヘキシル―N′―
（４―ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド、Ｎ，N′―ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
N′―ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ―エチ
ル―N′―（３―ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド、Ｎ，N′―カルボニルビス（２―メ
チルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン―Ｎ
―シクロヘキシルイミン、ジフエニルケテン―Ｎ
―シクロヘキシルイミン、アルコキシアセチレ
ン、１―アルコキシ―１―クロロエチレン、１―
（４―クロロベンゼンスルホニルオキシ）―６―
クロロ―1H―ベンゾトリアゾール、亜りん酸ト
リアルキルエステル、ポリりん酸エチルエステ
ル、ポリりん酸イソプロピルエステル、オキシ塩
化りん、３塩化りん、塩化チオニル、オキサリル
クロリド、トリフエニルホスフイン、Ｎ―エチル
ベンズイソキサゾリウム塩、Ｎ―エチル―５―フ
エニルイソキサゾリウム―3′―スルホナート、ジ
メチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン又
はオキシ塩化りん等から製造されるいわゆるビル
スマイヤー（Vilsmeier）試薬等が挙げられる。 また、この反応は水酸化アルカリ金属、炭酸水
素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリアルキ
ルアミン、Ｎ，Ｎ―ジアルキルアニリン、Ｎ，Ｎ
―ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ―ア
ルキルモルホリン、１，５―ジアザビシクロ
［４，３，０］ノン―５―エン、１，４―ジアザ
ビシクロ［２，２，２］オクタン、１，５―ジア
ザビシクロ［５，４，０］ウンデセン―５等の有
機もしくは無機の塩基の存在下に行なつてもよ
く、塩基もしくは前述の縮合剤のうち、液体のも
のは溶媒を兼ねて使用出来る。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いしは室温で行なわれることが多い。 この発明の目的化合物（）は抗菌性物質とし
て有用な３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カ
ルボン酸化合物またはその塩類を製造するための
原料化合物として有用であり、例えば目的化合物
（）を原料化合物として以下に示す方法により
該３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン
酸化合物を製造することができる。
で示される基、または 式―NHCO―R5［ここでR5の好ましい例として
は、置換基としてハロゲンおよびヒドロキシ基を
有するアリール基（さらに好ましくはフエニル
基）が挙げられる］で示される基、 Ａの好ましい例としては低級アルキレン基がそ
れぞれ挙げられる。 以下に、目的化合物（）の製造法について説
明する。 （）＋（）→（）の製造法 ［方法１］ 化合物（）またはその塩類は化合物（）ま
たはその塩類に化合物（）を作用させることに
より製造することができる。 化合物（）は新規化合物を含み、実施例に示
された方法により製造できる。 化合物（）の塩類としては、塩酸塩、臭化水
素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、ｐ―トル
エンスルホン酸塩等の有機酸塩等が挙げられる。 この反応は通常溶媒中で行なわれ、溶媒として
は、水、メタノール、エタノール等のアルコー
ル、これらの混合溶媒の他、この反応に悪影響を
及ぼさないすべての溶媒が使用される。 この反応は、化合物（）をその塩類の形で使
用する場合には、例えば前記した様な有機もしく
は無機の塩基の存在下に行われるのが好ましい。 反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下
〜加熱下で行なわれることが多い。 この反応で目的化合物（）のシン異性体を選
択的にかつ高収率で得ようとする場合には、この
反応を中性付近で行なうのが好ましい。 （）＋（XI）→（ａ）の製造法 ［方法２］ 化合物（ａ）またはその塩類は化合物（）
またはその塩類に化合物（XI）もしくはそのカル
ボキシ基における反応性誘導体またはその塩類を
作用させることにより製造することができる。 化合物（）は新規物質を含み、実施例に示さ
れた方法により製造できる。 化合物（）および化合物（XI）の塩類として
は、化合物（）の塩類として例示したものが挙
げられ、化合物（XI）のカルボキシ基における反
応性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、さらに詳細には酸クロリド、酸アジド、ジア
ルキルりん酸混合酸無水物、フエニルりん酸混合
酸無水物、ジフエニルりん酸混合酸無水物、ジベ
ンジルりん酸混合酸無水物、ハロゲン化りん酸混
合酸無水物等の置換りん酸混合酸無水物、ジアル
キル亜りん酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水
物、チオ硫酸混合酸無水物、硫酸混合酸無水物、
アルキル炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸
（たとえばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタ
ン酸、２―エチルブタン酸、トリクロル酢酸）混
合酸無水物、芳香族カルボン酸（たとえば安息香
酸）混合酸無水物、対称形酸無水物等の酸無水
物、イミダゾール、４―置換イミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、
などとの酸アミド、シアノメチルエステル、メト
キシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
［（CH3）2Ｎ＋＝CH―］エステル、ビニルエステル、
プロパルギルエステル、ｐ―ニトロフエニルエス
テル、２，４―ジニトロフエニルエステル、ペン
タクロロフエニルエステル、メシルフエニルエス
テル、フエニルアゾフエニルエステル、フエニル
チオエステル、ｐ―ニトロフエニルチオエステ
ル、ｐ―クレジルチオエステル、カルボキシメチ
ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジルエステル、８―キノリルチオ
エステル、または、Ｎ，Ｎ―ジメチルヒドロキシ
ルアミン、１―ヒドロキシ―２―（1H）―ピリ
ドン、Ｎ―ヒドロキシサクシンイミド、Ｎ―ヒド
ロキシフタルイミド、１―ヒドロキシ―６―クロ
ロ―1H―ベンゾトリアゾール等とのエステル等
のエステル類が挙げられ、これらは使用する化合
物（XI）の種類に応じて適宜選択される。 この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、ピリジンまたはその
他の反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒等の
溶媒中で行なわれ、これらのうち、親水性の溶媒
は水と混合して使用することもできる。 この反応において化合物（XI）を遊離酸もしく
はその塩類の状態で使用する際は、縮合剤の存在
下に行うのが有利である。縮合剤としては、たと
えば、Ｎ，N′―ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、Ｎ―シクロヘキシル―N′―モルホリノエチ
ルカルボジイミド、Ｎ―シクロヘキシル―N′―
（４―ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジ
イミド、Ｎ，N′―ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
N′―ジイソプロピルカルボジイミド、Ｎ―エチ
ル―N′―（３―ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド、Ｎ，N′―カルボニルビス（２―メ
チルイミダゾール）、ペンタメチレンケテン―Ｎ
―シクロヘキシルイミン、ジフエニルケテン―Ｎ
―シクロヘキシルイミン、アルコキシアセチレ
ン、１―アルコキシ―１―クロロエチレン、１―
（４―クロロベンゼンスルホニルオキシ）―６―
クロロ―1H―ベンゾトリアゾール、亜りん酸ト
リアルキルエステル、ポリりん酸エチルエステ
ル、ポリりん酸イソプロピルエステル、オキシ塩
化りん、３塩化りん、塩化チオニル、オキサリル
クロリド、トリフエニルホスフイン、Ｎ―エチル
ベンズイソキサゾリウム塩、Ｎ―エチル―５―フ
エニルイソキサゾリウム―3′―スルホナート、ジ
メチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン又
はオキシ塩化りん等から製造されるいわゆるビル
スマイヤー（Vilsmeier）試薬等が挙げられる。 また、この反応は水酸化アルカリ金属、炭酸水
素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリアルキ
ルアミン、Ｎ，Ｎ―ジアルキルアニリン、Ｎ，Ｎ
―ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、Ｎ―ア
ルキルモルホリン、１，５―ジアザビシクロ
［４，３，０］ノン―５―エン、１，４―ジアザ
ビシクロ［２，２，２］オクタン、１，５―ジア
ザビシクロ［５，４，０］ウンデセン―５等の有
機もしくは無機の塩基の存在下に行なつてもよ
く、塩基もしくは前述の縮合剤のうち、液体のも
のは溶媒を兼ねて使用出来る。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いしは室温で行なわれることが多い。 この発明の目的化合物（）は抗菌性物質とし
て有用な３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カ
ルボン酸化合物またはその塩類を製造するための
原料化合物として有用であり、例えば目的化合物
（）を原料化合物として以下に示す方法により
該３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン
酸化合物を製造することができる。
【表】
［式中、R1，R2，R5およびＡは前と同じ意味、
R3はカルボキシ基または保護されたカルボキ
シ基、 R4はアシルオキシ基または適当な置換基を有
していてもよい複素環チオ基、 R1aは保護されたアミノ基、 R6aはアルキル基、 R4aは適当な置換基を有していてもよい複素環
チオ基、 Ｙは式：―R4a（式中、R4aは前と同じ意味）で
示される基で置換されうる基をそれぞれ意味す
る。］ 以上の化合物においてR1，R2，R5およびＡの
各定義については前に詳述した通りである。 R3における保護されたカルボキシ基としては、
エステル化されたカルボキシ基が挙げられ、ここ
でエステルとしては、例えばメチルエステル、エ
チルエステル、プロピルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第３級ブチルエステル、ペンチルエステル、
第３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１
―シクロプロピルエステル等のアルキルエステ
ル、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、２―アセ
トキシエチルエステル、２―プロピオニルオキシ
エチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステ
ル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等のアル
カノイルオキシアルキルエステル、メシルメチル
エステル、エタンスルホニルエステル等のアルカ
ンスルホニルアルキルエステル、２―ヨードエチ
ルエステル、２，２，２―トリクロロエチルエス
テル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロア
ルキルエステル等のように、１個以上の適当な置
換基を有するアルキルエステル、ビニルエステ
ル、アリルエステル等のアルケニルエステル、エ
チニルエステル、プロピニルエステル等のアルキ
ニルエステル、ベンジルエステル、４―メトキシ
ベンジルエステル、４―ニトロベンジルエステ
ル、フエネチルエステル、トリチルエステル、ジ
フエニルメチルエステル、ジフエニルエチルエス
テル、ビス（メトキシフエニル）メチルエステ
ル、３，４―ジメトキシベンジルエステル、４―
ヒドロキシ―３，５―ジ（第３級ブチル）ベンジ
ルエステル等のように、１個以上の適当な置換基
を有していてもよいアラルキルエステル、好まし
くは、モノ（もしくはジもしくはトリ）フエニル
アルキルエステル、フエニルエステル、トリルエ
ステル、第３級ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル等のように、１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいアリールエステル等が挙げられる。上
記のエステル化されたカルボキシ基の好ましい例
としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニル、第３級ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、第３級ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル、１―シクロプ
ロピルエトキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニル基が挙げられる。 R4でのアシルオキシ基におけるアシル部分と
しては、例えばカルバモイル基、脂肪族アシル
基、芳香環または複素環を含むアシル基が挙げら
れさらに詳細には、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、オキサリル、サクシニル、ピバロイ
ル等のアルカノイル基、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１―
シクロプロピルエトキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
第３級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等のアルコキシカルボニル基、メシ
ル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イ
ソプロパンスルホニル、ブタンスルホニル等のア
ルカンスルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシ
ル等のアレーンスルホニル基、ベンゾイル、トル
オイル、キシロイル、ナフトイル、フタロイル、
インダンカルボニル等のアロイル基、フエニルア
セチル、フエニルプロピオニル等のアラルカノイ
ル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオ
キシカルボニル等のアラルコキシカルボニル基等
が挙げられ、これらのアシル部分は、例えば後記
のようなハロゲン等の適当な置換基を１個以上有
していてもよい。 好ましいアシルオキシ基の例としては、低級ア
ルカノイルオキシ基が挙げられる。 R4およびR4aにおける「適当な置換基を有して
いてもよい複素還チオ基」において複素環部分と
しては、 飽和もしくは不飽和の、単環もしくは多環の、
酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を
１個以上含む複素環式基を意味し、さらに詳細に
は、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラ
ゾリル、ピリジルもしくはそのＮ―オキサイド、
ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、4H―
１，２，４―トリアゾリル、1H―１，２，３―
トリアゾリル、2H―１，２，３―トリアゾリル
等のトリアゾリル、1H―テトラゾリル、2H―テ
トラゾリル等のテトラゾリル等の窒素含有不飽和
単環複素環式基、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素含有飽和
単環複素環式基、インドリル、イソインドリル、
インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリ
ル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリア
ゾリル等の窒素含有不飽和縮合複素環式基、オキ
サゾリル、イソキサゾリル、１，２，４―オキサ
ジアゾリル、１，３，４―オキサジアゾリル、
１，２，５―オキサジアゾリル等のオキサジアゾ
リル等の酸素および窒素含有不飽和単環複素環式
基、モルホリニルのような酸素および窒素含有飽
和単環複素環式基、ベンズオキサゾリル、ベンズ
オキサジアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和
縮合複素環式基、チアゾリル、１，２，４―チア
ジアゾリル、１，３，４―チアジアゾリル、１，
２，５―チアジアゾリル等のチアジアゾリル等の
硫黄および窒素含有不飽和単環複素環式基、チア
ゾリジニルの様な硫黄および窒素含有飽和単環複
素環式基、チエニルのような硫黄含有不飽和単環
複素環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアゾリ
ル等の硫黄および窒素含有不飽和縮合複素環式基
等が挙げられ、これらの複素環式基は、例えば後
記のようなアルキル基、ジメチルアミノメチル、
ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノプロピ
ル、ジエチルアミノブチル等のジアルキルアミノ
アルキル基、ビニル、アリル、ブテニル等のアル
ケニル基、前記のような適当な置換基を有してい
てもよいアリール基、前記のようなハロゲン、ア
ミノメチル、アミノエチル等のアミノアルキル
基、カルボキシメチル、カルボキシエチル等のカ
ルボキシアルキル基等の適当な置換基を１個以上
有していてもよい。 置換基を有する複素環部分の好ましい例として
は、メチルテトラゾリル、エチルテトラゾリル等
の低級アルキル基置換テトラゾリル基、メチルチ
アジアゾリル、エチルチアジアゾリル等の低級ア
ルキル基置換チアジアゾリル基、５―メチル―３
―（クロロフエニル）イソキサゾリル、５―メチ
ル―３―（ブロモフエニル）イソキサゾリル、５
―エチル―３―（クロロフエニル）イソキサゾリ
ル等の低級アルキル基およびハロゲン置換アリー
ルを置換基として有するイソキサゾリル基が挙げ
られる。 R1aにおける「保護されたアミノ基」および
R6aにおける「アルキル基」としては、それぞれ
前に例示したものが挙げられる。 Ｙにおける、式：―R4aで示される基で置換さ
れうる基としては、アジド、前記のハロゲン、前
記のアシルオキシ等の酸残基が挙げられる。 ここで、上記方法Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤおよびＥにつ
いては後述の参考例により詳細に説明する。 この発明の目的化合物（）を原料化合物とし
て使用して製造される３，７―ジ置換―３―セフ
エム―４―カルボン酸化合物の代表的なものにつ
いての試験管内抗菌作用のデータを以下に示す。 試験化合物 (1) ７―［２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド］―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 (2) ７―［２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド］―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 (3) ７―［２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド］―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 (4) ７―［２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド］―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）。 試験方法 試験は寒天平板希釈法（接種菌量：108個／ml）
で行い、各試験菌の増殖が起こらなくなる最小発
育阻止濃度（MIC）を観察し、記録した。
シ基、 R4はアシルオキシ基または適当な置換基を有
していてもよい複素環チオ基、 R1aは保護されたアミノ基、 R6aはアルキル基、 R4aは適当な置換基を有していてもよい複素環
チオ基、 Ｙは式：―R4a（式中、R4aは前と同じ意味）で
示される基で置換されうる基をそれぞれ意味す
る。］ 以上の化合物においてR1，R2，R5およびＡの
各定義については前に詳述した通りである。 R3における保護されたカルボキシ基としては、
エステル化されたカルボキシ基が挙げられ、ここ
でエステルとしては、例えばメチルエステル、エ
チルエステル、プロピルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステ
ル、第３級ブチルエステル、ペンチルエステル、
第３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１
―シクロプロピルエステル等のアルキルエステ
ル、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、２―アセ
トキシエチルエステル、２―プロピオニルオキシ
エチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステ
ル、ヘキサノイルオキシメチルエステル等のアル
カノイルオキシアルキルエステル、メシルメチル
エステル、エタンスルホニルエステル等のアルカ
ンスルホニルアルキルエステル、２―ヨードエチ
ルエステル、２，２，２―トリクロロエチルエス
テル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハロア
ルキルエステル等のように、１個以上の適当な置
換基を有するアルキルエステル、ビニルエステ
ル、アリルエステル等のアルケニルエステル、エ
チニルエステル、プロピニルエステル等のアルキ
ニルエステル、ベンジルエステル、４―メトキシ
ベンジルエステル、４―ニトロベンジルエステ
ル、フエネチルエステル、トリチルエステル、ジ
フエニルメチルエステル、ジフエニルエチルエス
テル、ビス（メトキシフエニル）メチルエステ
ル、３，４―ジメトキシベンジルエステル、４―
ヒドロキシ―３，５―ジ（第３級ブチル）ベンジ
ルエステル等のように、１個以上の適当な置換基
を有していてもよいアラルキルエステル、好まし
くは、モノ（もしくはジもしくはトリ）フエニル
アルキルエステル、フエニルエステル、トリルエ
ステル、第３級ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル等のように、１個以上の適当な置換基を有して
いてもよいアリールエステル等が挙げられる。上
記のエステル化されたカルボキシ基の好ましい例
としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカ
ルボニル、第３級ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、第３級ペンチルオキシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル、１―シクロプ
ロピルエトキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニル基が挙げられる。 R4でのアシルオキシ基におけるアシル部分と
しては、例えばカルバモイル基、脂肪族アシル
基、芳香環または複素環を含むアシル基が挙げら
れさらに詳細には、ホルミル、アセチル、プロピ
オニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、オキサリル、サクシニル、ピバロイ
ル等のアルカノイル基、メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１―
シクロプロピルエトキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブ
トキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
第３級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキ
シカルボニル等のアルコキシカルボニル基、メシ
ル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イ
ソプロパンスルホニル、ブタンスルホニル等のア
ルカンスルホニル基、ベンゼンスルホニル、トシ
ル等のアレーンスルホニル基、ベンゾイル、トル
オイル、キシロイル、ナフトイル、フタロイル、
インダンカルボニル等のアロイル基、フエニルア
セチル、フエニルプロピオニル等のアラルカノイ
ル基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオ
キシカルボニル等のアラルコキシカルボニル基等
が挙げられ、これらのアシル部分は、例えば後記
のようなハロゲン等の適当な置換基を１個以上有
していてもよい。 好ましいアシルオキシ基の例としては、低級ア
ルカノイルオキシ基が挙げられる。 R4およびR4aにおける「適当な置換基を有して
いてもよい複素還チオ基」において複素環部分と
しては、 飽和もしくは不飽和の、単環もしくは多環の、
酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を
１個以上含む複素環式基を意味し、さらに詳細に
は、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラ
ゾリル、ピリジルもしくはそのＮ―オキサイド、
ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、4H―
１，２，４―トリアゾリル、1H―１，２，３―
トリアゾリル、2H―１，２，３―トリアゾリル
等のトリアゾリル、1H―テトラゾリル、2H―テ
トラゾリル等のテトラゾリル等の窒素含有不飽和
単環複素環式基、ピロリジニル、イミダゾリジニ
ル、ピペリジノ、ピペラジニル等の窒素含有飽和
単環複素環式基、インドリル、イソインドリル、
インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリ
ル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリア
ゾリル等の窒素含有不飽和縮合複素環式基、オキ
サゾリル、イソキサゾリル、１，２，４―オキサ
ジアゾリル、１，３，４―オキサジアゾリル、
１，２，５―オキサジアゾリル等のオキサジアゾ
リル等の酸素および窒素含有不飽和単環複素環式
基、モルホリニルのような酸素および窒素含有飽
和単環複素環式基、ベンズオキサゾリル、ベンズ
オキサジアゾリル等の酸素および窒素含有不飽和
縮合複素環式基、チアゾリル、１，２，４―チア
ジアゾリル、１，３，４―チアジアゾリル、１，
２，５―チアジアゾリル等のチアジアゾリル等の
硫黄および窒素含有不飽和単環複素環式基、チア
ゾリジニルの様な硫黄および窒素含有飽和単環複
素環式基、チエニルのような硫黄含有不飽和単環
複素環式基、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアゾリ
ル等の硫黄および窒素含有不飽和縮合複素環式基
等が挙げられ、これらの複素環式基は、例えば後
記のようなアルキル基、ジメチルアミノメチル、
ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノプロピ
ル、ジエチルアミノブチル等のジアルキルアミノ
アルキル基、ビニル、アリル、ブテニル等のアル
ケニル基、前記のような適当な置換基を有してい
てもよいアリール基、前記のようなハロゲン、ア
ミノメチル、アミノエチル等のアミノアルキル
基、カルボキシメチル、カルボキシエチル等のカ
ルボキシアルキル基等の適当な置換基を１個以上
有していてもよい。 置換基を有する複素環部分の好ましい例として
は、メチルテトラゾリル、エチルテトラゾリル等
の低級アルキル基置換テトラゾリル基、メチルチ
アジアゾリル、エチルチアジアゾリル等の低級ア
ルキル基置換チアジアゾリル基、５―メチル―３
―（クロロフエニル）イソキサゾリル、５―メチ
ル―３―（ブロモフエニル）イソキサゾリル、５
―エチル―３―（クロロフエニル）イソキサゾリ
ル等の低級アルキル基およびハロゲン置換アリー
ルを置換基として有するイソキサゾリル基が挙げ
られる。 R1aにおける「保護されたアミノ基」および
R6aにおける「アルキル基」としては、それぞれ
前に例示したものが挙げられる。 Ｙにおける、式：―R4aで示される基で置換さ
れうる基としては、アジド、前記のハロゲン、前
記のアシルオキシ等の酸残基が挙げられる。 ここで、上記方法Ａ，Ｂ，Ｃ，ＤおよびＥにつ
いては後述の参考例により詳細に説明する。 この発明の目的化合物（）を原料化合物とし
て使用して製造される３，７―ジ置換―３―セフ
エム―４―カルボン酸化合物の代表的なものにつ
いての試験管内抗菌作用のデータを以下に示す。 試験化合物 (1) ７―［２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド］―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 (2) ７―［２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド］―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 (3) ７―［２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド］―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 (4) ７―［２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド］―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）。 試験方法 試験は寒天平板希釈法（接種菌量：108個／ml）
で行い、各試験菌の増殖が起こらなくなる最小発
育阻止濃度（MIC）を観察し、記録した。
【表】
この発明の目的化合物（）から製造される
３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン酸
化合物を医薬として用いる場合は、医薬上許容さ
れる塩類の形で使用してもよい。 この発明の目的化合物（）から製造される
３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン酸
化合物およびその医薬上許容される塩類は、その
有効かつ非毒性量を含有する組成物の形で投与さ
れる。投与量は患者の年令、疾病の種類、目的化
合物（）から製造される３，７―ジ置換―３―
セフエム―４―カルボン酸化合物の種類等により
異なるが、一般に１日の投与量として、約１〜
3000mgもしくはそれ以上を投与することができ
る。この組成物は医薬の製剤において慣用されて
いる無機もしくは有機のあるいは固体または液体
の製剤用担体とともに、経口または非経口投与に
適した剤形で使用される。この場合の経口剤とし
ては、錠剤、カプセル剤、トローチ剤、散剤等の
固体製剤あるいはシロツプ剤等に液剤が挙げら
れ、非経口剤としては注射剤、坐剤等が挙げられ
る。これら各種の製剤は当業界周知の方法で製造
することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 ［］ 目的化合物（）の製造 実施例 １ (1) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―ブロモアセトアミドの製造。 ２―アミノ―４―クロロフエノール（19.50
ｇ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン（19.90ｇ）およ
び乾燥アセトン（200ml）の混液にブロモアセチ
ルブロミド（33.2ｇ）を氷冷撹拌下に10℃以下で
15分間を要して滴下し、次いで同温度で45分間撹
拌する。反応液からアセトンを留去し、残渣に酢
酸エチル、次いで水を加え、これを５％塩酸で２
回、次いで水で洗浄する。酢酸エチル溶液に水を
加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で水層のPH
を７〜８にしてから、水で２回、次いで飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マグネシウム
で乾燥し、活性炭処理し、次いで蒸発乾固する。
残査を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混
液から再結晶して標題化合物（18.91ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3390，3150，1650cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.22（2H，ｓ），6.8〜7.2（2H，ｍ），8.05
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (2) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―（フタルイミドオキシ）アセトアミ
ドの製造。 Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（10.84ｇ）、トリ
エチルアミン（6.72ｇ）および乾燥アセトニトリ
ル（160ml）の混液にＮ―（２―ヒドロキシ―５
―クロロフエニル）―２―ブロモアセトアミド
（17.6ｇ）を氷冷撹拌下に加え、次いで室温で1.5
時間撹拌する。反応液中の析出物を取し、これ
をアセトニトリル次いで酢酸エチル次いで水で洗
浄して標題化合物（18.4ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400，3100，1800，1740，1660cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.92（2H，ｓ），6.9〜7.1（1H，ｍ），7.90
（4H，ｓ），8.08（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (3) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―（アミノオキシ）アセトアミドの製
造。 Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニル）
―２―（フタルイミドオキシ）アセトアミド
（10.0ｇ）、ヒドラジン・１水加物（1.442ｇ）お
よびエタノール（100ml）の混合物を２時間加熱
還流する。反応液を氷冷下に放置し、析出物を
去し、これをエタノールで洗浄する。液と洗液
を合した後、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチルを
加え、不溶物を去する。液を５％塩酸で抽出
し、抽出液を酢酸エチルで洗浄後炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で約PH７に調整し、これを酢酸エチル
で抽出する。抽出液を塩化ナトリウム水溶液で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を
留去して標題化合物の結晶（4.59ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3260，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.20（2H，ｓ），6.9〜7.1（2H，ｍ），8.1〜8.2
（1H，ｍ） (4) ２―〔Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフ
エニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）の製造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（2.79ｇ）、Ｎ―（２―ヒド
ロキシ―５―クロロフエニル）―２―（アミノオ
キシ）アセトアミド（3.32ｇ）およびエタノール
（30ml）の混液を室温で５時間撹拌する。反応液
を蒸発乾固し、残渣に酢酸エチル、水および10％
塩酸の混液を加えよく振とうする。酢酸エチル層
を分離し、これを希塩酸次いで塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去し、少量にまで濃縮してから氷冷下に放置
する。生じた析出物を取し、酢酸エチルで洗浄
した後、減圧下に乾燥すると標題化合物（4.59
ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1735，1695，1640cm-1 N.M.R.スペクトル（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.83（2H，ｓ），6.8〜7.2（2H，ｍ），7.63
（1H，ｓ），8.15（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.55
（1H，ｓ） 実施例 ２ (1) ジエチル（フタルイミドオキシメチル）ホス
ホナートの製造。 ジエチル ヒドロキシメチルホスホナート
（18.4ｇ）、Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（12.6
ｇ）、トリフエニルホスフイン（28.8ｇ）および
テトラヒドロフラン（270ml）の混液にジエチル
アゾホルメート（21.0ｇ）を冷水冷却下に滴下
し、次いで室温で一夜撹拌する。反応液からテト
ラヒドロフランを留去し、残渣にジエチルエーテ
ル（300ml）を加え、これを氷冷下に30分間撹拌
した後、不溶物を去し、次いで液を濃縮す
る。濃縮液をカラムクロマトグラフイー（シリカ
ゲル：600ｇ）に付し、ベンゼンと酢酸エチル
（１：１）の混液で溶出する。目的物とトリフエ
ニルホスフインオキシドの混合物を含む分画を合
し、これを蒸発乾固する。残渣にジエチルエーテ
ルを加え、不溶物を去した後、溶媒を留去して
粗製の標題化合物（19.0ｇ）を得る。 N.M.R.（CDCl3，δ） 2.36（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），4.25（4H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝14，７Hz，4.56（2H，ｄ，Ｊ＝10
Hz），7.2〜7.9（13H，ｍ） ここで得られた化合物は、これをそのまま次の
工程に付す。 (2) ジエチル（アミノオキシメチル）ホスホナー
トの製造。 ジエチル（フタルイミドオキシメチル）ホスホ
ナート（14.48ｇ）、ヒドラジン・１水化物（2.32
ｇ）およびエタノール（130ml）の混合物を２時
間加熱還流する。反応液を氷冷後、不溶物を去
し、これをエタノールで洗浄する。液と洗液を
合し、これを濃縮する。濃縮液にクロロホルムを
加え、不溶物を別し、これをクロロホルムで洗
浄し、液と洗液を合し、これを再び濃縮する。
濃縮液を酢酸エチルに溶解し、これに水および10
％塩酸を加えて、よく振とうする（水層のPHは約
２）。混液から酢酸エチル層を分取し、以下これ
に水および10％塩酸を加えて振とうする操作を２
回繰り返す。水層を合し、これを酢酸エチルで洗
浄後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて約PH４
に調整し、次いで約25ｇまで減圧濃縮して標題化
合物を含有する濃縮液を得る。ここで得られた濃
縮液は、そのまま引き続き次の工程に付す。 (3) ２―（０，０―ジエチルホスホノ）メトキシ
イミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）酢酸（シン異性体）の製造。 製造例２―(2)で得られた、ジエチル（アミノオ
キシメチル）ホスホナートを含有する濃縮液にエ
タノール（80ml）および２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）グリオキシル酸（5.80
ｇ）を加え、これを室温で１時間撹拌する。反応
液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、水
層のPHを約７とし、エタノールを留去後、残渣に
少量の水を加え、これを酢酸エチルで洗浄し、次
いで10％塩酸で水層のPHを２とする。析出する油
状物を酢酸エチルで抽出し、この抽出液を少量の
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭
処理してから溶媒を留去すると、泡状の標題化合
物（9.35ｇ）を得る。 I.R.（KBr） 1740，1700cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.33（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），4.27（4H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝15，７Hz），4.70（2H，ｄ，Ｊ＝７
Hz），7.43（1H，ｓ），8.70（1H，ｓ） 実施例 ３ (1) ジエチル（２―フタルイミドオキシエチル）
ホスホナートの製造。 Ｎ―（２―ブロモエトキシ）フタルイミド
（2.0ｇ）およびトリエチル ホスヒツト（2.46
ｇ）の混合物を155〜160℃の油浴上で４時間撹拌
する。反応液から過剰のトリエチル ホスヒツト
を留去し、油状の残渣を酢酸エチルに溶解し、こ
れを水、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液、次い
で水で洗浄した後、乾燥し、次いで溶媒を留去し
て油状物（3.3ｇ）を得る。これをカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲル：90ｇ）に付し、酢酸
エチルで溶出すると、標題化合物（0.9ｇ）を得
る。 I.R.（ヌジヨール） 1782，1730cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.33（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.33（2H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝20，８Hz），3.8〜4.7（6H，ｍ），7.8
（4H，ｓ） (2) ジエチル（２―アミノオキシエチル）ホスホ
ナートの製造。 ジエチル（２―フタルイミドオキシエチル）ホ
スホナート（20ｇ）およびエタノール（200ml）
の混合物にヒドラジン・１水加物（3.06ｇ）を加
えて得られる混合物を撹拌下に２時間加熱還流す
る。反応液を冷却後、過し、不溶物を別し、
これをクロロホルムで洗浄する。液と洗液を合
した後、溶媒を留去する。残渣にクロロホルムを
加え、不溶物を去し、再び溶媒を留去する。残
渣にクロロホルムを加えた後、活性炭処理し、
過し、不溶物を去する。液から溶媒を留去す
ると、油状の標題化合物（12.1ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3500，3350，3280，3200cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.28（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.10（2H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝19，７Hz），3.6〜4.4（6H，ｍ），
5.45（2H，broad ｓ） (3) ２―｛２―（０，０―ジエチルホスホノ）エ
トキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチア
ゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）の製
造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（６ｇ）、ジエチル（２―ア
ミノオキシエチル）ホスホナート（7.09ｇ）およ
びエタノール（60ml）の混合物を室温で４時間撹
拌する。反応液を蒸発乾固した後、残渣を酢酸エ
チルに溶解し、これを５％塩酸、次いで水で洗浄
し、乾燥してから、溶媒を留去すると、酢酸エチ
ルを約16％含有するアメ状の標題化合物（11.1
ｇ）を得る。 I.R.（CHCl3） 1745，1710cm-1 N.M.R.スペクトル（CDCl3，δ） 1.30（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.7（2H，
ｍ），3.8〜5.0（6H，ｍ），7.40（1H，ｓ），
8.73（1H，ｓ） 実施例 ４ (1) Ｎ―（３―ピリジル）―２―ブロモアセトア
ミドの製造。 ３―アミノピリジン（11ｇ）、トリエチルアミ
ン（13.0ｇ）および乾燥酢酸エチル（300ml）の
混合物にブロモアセチルブロミド（26.0ｇ）およ
び乾燥酢酸エチル（26ml）の混合物を撹拌下に０
〜５℃で30分間を要して滴下し、次いで同温度で
２時間撹拌する。反応液に、冷却した炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えてよく振とうし酢酸エチル
層を分取し、これを水、次いで炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄後乾燥してから濃縮す
ると標題化合物を含有する液（200ml）を得る。
ここで得られた混液はそのまま引き続いて次の工
程に付す。 (2) Ｎ―（３―ピリジル）―２―（フタルイミド
オキシ）アセトアミドの製造。 Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（17.2ｇ）および
トリエチルアミン（10.6ｇ）のアセトニトリル
（200ml）溶液に、製造例４―(1)で得られたＮ―
（３―ピリジル）―２―ブロモアセトアミドを含
有する液を、撹拌下に室温で加え、次いで45〜50
℃で１時間撹拌する。反応液に酢酸エチルおよび
水を加えてよく振とうする。酢酸エチル層を分取
し、これを水、次いで炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで水で洗浄した後、乾燥し、活性炭処理
し、次いで体積が100〜150mlになるまで溶媒を留
去する。濃縮液を過し、標題化合物（10.7ｇ）
を取する。さらに、液を蒸発乾固し、残渣を
ジエチルエーテルで洗浄して同一化合物（1.9ｇ）
を得る。総収量（12.6ｇ）。 I.R.（ヌジヨール） 1795，1740，1695cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.86（2H，ｓ），7.38（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝８，
４Hz），7.88（4H，ｓ），8.08（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝８，２Hz），8.32（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
8.78（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (3) Ｎ―（３―ピリジル）―２―（アミノオキ
シ）アセトアミドの製造。 Ｎ―（３―ピリジル）―２―（フタルイミドオ
キシ）アセトアミド（7.8ｇ）、ヒドラジン・１水
加物（1.3ｇ）およびエタノール（80ml）の混合
物を撹拌下に1.5時間加熱還流する。反応液を冷
却後不溶物を去する。液から溶媒を留去し、
残渣に５％塩酸および水を加えた後再び不溶物を
去し、液（PH１〜２）を30mlまで濃縮して、
標題化合物を含有する液を得る。ここで得られた
液はそのまま引き続いて次の工程に付す。 (4) ２―〔Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイルメ
トトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）の製
造。 実施例４(3)で得られたＮ―（３―ピリジル）―
２―（アミノオキシ）アセトアミドを含有する液
（30ml）を炭酸水素ナトリウムでPH３〜４に調整
し、これにエタノール（100ml）次いで２―（２
―ホルムアミドチアゾール―４―イル）グリオキ
シル酸（4.0ｇ）を15〜20℃で加えた後、再び炭
酸水素ナトリウムでPH３〜４に調整し、18〜20℃
で３時間撹拌する。反応液からエタノールを留去
し、析出物を取し、水とエタノールの混液で洗
浄すると結晶（6.6ｇ）を得る。この結晶をエタ
ノール（20ml）、水（80ml）および炭酸水素ナト
リウム（2.38ｇ）の混合物に溶解し、不溶物を
去後、液に1N塩酸（28.5ml）を加えてPH３〜
４に調整し、析出物を取すると、標題化合物の
結晶（6.3ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3180，3050，1700，1600cm-1 N.M.R.（D2O＋NaHCO3，δ） 5.00（2H，ｓ），7.45（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝８，
４Hz）7.62（1H，ｓ），7.9〜8.2（1H，ｍ），
8.37（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝４，２Hz），8.63
（1H，ｓ），8.77（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） 実施例 ５ (1) ２―ニトロ安息香酸の第３級ブチルエステル
の製造。 ２―ニトロ安息香酸（25.0ｇ）およびチオニル
クロリド（50ml）の混液を１時間還流後、チオニ
ルクロリドを留去し、残渣にベンゼンを加え、次
いでベンゼンを留去する。残渣に再びベンゼン
（125ml）次いで氷冷下にピリジン（23.7ｇ）次い
で第３級ブチルアルコール（22.2ｇ）を加え、得
られた混液を２時間加熱還流する。反応液を氷水
に注入し、これを水、次いで1N水酸化ナトリウ
ム水溶液で２回、次いで水、次いで1Mクエン酸
水溶液で２回、次いで水、次いで塩化ナトリウム
水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭処理してから、これをカラムクロマト
グラフイー（シリカゲル：150ｇ）に付す。ベン
ゼン―ｎ―ヘキサン（１：１）の混液で溶出する
と、黄色油状の標題化合物（23.6ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 1737，1540，1373，1310，1232cm-1 Ｎ，M.R.（CDCl3，δ） 7.17〜8.0（5H，ｍ），1.55（9H，ｓ） (2) ２―アミノ安息香酸の第３級ブチルエステル
の製造。 ２―ニトロ安息香酸の第３級ブチルエステル
（2.1ｇ）およびメタノール（200ml）の混液にパ
ラジウムカーボン（２ｇ）を加え、常温常圧で振
とうを続けながら、3.5時間還元を行う。反応液
からパラジウム―カーボンを去後、溶媒を留去
する。残渣にジエチルエーテル次いで塩化ナトリ
ウム水溶液を加えてよく振とうし有機層を分取し
て硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭処理し、次
いで溶媒を留去すると、油状の標題化合物
（16.13ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3520，3420，1690，1610，1592，1303，
1252，1160cm-1 N.M.R.（CCl4，δ） 7.83〜6.30（4H，ｍ），5.67（2H，broad ｓ），
1.53（9H，ｓ） (3) Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボニルフエニ
ル）―２―ブロモアセトアミドの製造。 ２―アミノ安息香酸の第３級ブチルエステル
（5.79ｇ）、トリエチルアミン（3.99ｇ）および塩
化メチレン（100ml）の混液にブロモアセチルブ
ロミド（8.01ｇ）を氷冷撹拌下に５〜10℃で15分
間を要して滴下し、次いで同温度で1.75時間撹拌
する。反応液を1Mクエン酸水溶液（50ml）で２
回、次いで水、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（25ml）で２回、次いで水、次いで塩化ナト
リウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、活性炭処理してから、溶媒を留去する
と、油状の標題化合物（9.65ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3280，1690，1582，1530，1450，1144cm-1 N.M.R.（CCl4，δ） 11.75（1H，broad ｓ），8.75〜6.83（4H，
ｍ），3.88（2H，ｓ），1.60（9H，ｓ） (4) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 ２―（２―フタルイミドオキシ）アセトアミ
ド安息香酸の第３級ブチルエステル（結晶）、
mp142〜144℃。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1792，1745，1703，1685，1525，
1142，700cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 11.40（1H，broad ｓ），8.5〜7.1（8H，ｍ），
4.93（2H，ｓ），1.58（9H，ｓ） (5) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)、および４―
(3)と同様にして次の化合物を得る。 ２―（２―アミノオキシアセトアミド）安息
香酸の第３級ブチルエステル、mp87〜89℃。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1700，1683，1592，1522，1283，
1162，1143cm-1 N.M.R（CDCl3.δ） 7.8〜7.0（4H，ｍ），6.06（2H，broad ｓ），
4.28（2H，ｓ），1.62（9H，ｓ） (6) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボニル
フエニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）
酢酸（シン異性体）、mp159〜161℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1745，1700，1675，1598，1550，1270
cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 12.68（1H，broad ｓ），11.43（1H，ｓ），
8.70〜7.03（5H，ｍ），4.82（2H，ｓ），1.43
（9H，ｓ） 実施例 ６ (1) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 Ｎ―（３―クロロフエニル）―２―（フタル
イミドオキシ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 3370，1795，1745，1675cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.87（2H，ｓ），7.0〜7.8（4H，ｍ），7.93
（4H，ｓ） (2) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)および４―(3)
と同様にして次の化合物を得る。 Ｎ―（３―クロロフエニル）―２―アミノオ
キシ）アセトアミド、mp68〜73℃。 I.R.（ヌジヨール） 3350，3280，1670，1595cm-1 N.M.R（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.17（2H，ｓ），7.0〜8.0（4H，ｍ） (3) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（３―クロロフエニル）カルバモ
イルメトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3150，3050，1725，1685，1620cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.80（2H，ｓ），7.0〜8.0（4H，ｍ），7.63
（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ） 実施例 ７ (1) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 Ｎ―（２―チアゾリル）―２―（フタルイミ
ドオキシ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 1795，1745，1710cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.92（2H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.86（4H，ｓ） (2) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)および４―(3)
と同様にして次の化合物を得る。 Ｎ―（２―チアゾリル）―２―（アミノオキ
シ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 3350，3300，3200，1700，1580cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.34（2H，ｓ），7.22（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz） (3) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―チアゾリル）カルバモイル
メトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 1700，1670，1580，1560cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.94（2H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.60（1H，ｓ），
8.56（1H，ｓ） 実施例 ８ 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)と
同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５―ジクロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1755，1720，1680，1590，1540cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.93（2H，ｓ），7.28（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.67（1H，ｓ），8.00（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
8.60（1H，ｓ） 実施例 ９ (1) ２―（２―アミノエトキシイミノ）―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）の製造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（5.5ｇ）のエタノール（100
ml）との混液に２―（アミノオキシ）エチルアミ
ンのジ塩酸塩の水（50ml）との混液を加え、これ
を炭酸水素ナトリウム水溶液でPH４としてから室
温で３時間撹拌する。反応液からエタノールを留
去し体積を100mlとした後、冷却下に析出物を
取し、これを冷水、次いでエタノールで洗浄する
と、標題化合物（6.5ｇ）を得る。mp213〜214℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜2100，1705，1658，1590cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 8.58（1H，ｓ），7.42（1H，ｓ），4.5〜3.92
（2H，ｍ），3.25〜2.67（2H，ｍ） (2) ２―〔２―（２―ヒドロキシ―５―クロロベ
ンズアミド）エトキシイミノ〕―２―（２―ホ
ルムアミドチアゾール―４―イル）酢酸（シン
異性体）の製造。 ２―（２―アミノエトキシイミノ）―２―（２
―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢酸（シ
ン異性体）（5.10ｇ）の塩化メチレン（100ml）懸
濁液に１，５―ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウ
ンデセン―５（7.2ｇ）を加えて溶解し、次いでこ
れにトリメチルシリルクロリド（5.14ｇ）を加
え、10℃で１時間撹拌する。さらにビス（トリメ
チルシリル）アセトアミド（21.7ｇ）を加え、10
℃で５分間撹拌する。得られた均一溶液に、２―
ヒドロキシ―５―クロロ安息香酸クロリド（4.54
ｇ）の塩化メチレン（20ml）溶液を−15〜−５℃
で加え、これを−５〜５℃で２時間、次いで室温
で１時間撹拌する。反応液を濃縮乾固し、残渣に
冷却水および酢酸エチルを加えた後、炭酸水素ナ
トリウムで水層のPHを８に調整する。水層を分取
し、これを酢酸エチルで洗浄後、10％塩酸でPH２
に調整してから、生じた析出物を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗後、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮乾固して、その残渣をジエチ
ルエーテルを加えてこすると、標題化合物（4.1
ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400，3220，3090，1745，1681，1642，
1600，1557cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.60（1H，ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.60（1H，ｓ），7.46（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝２，
９Hz）7.00（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），4.35（2H，
ｔ，Ｊ＝６Hz），3.72（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz） ［］ 目的化合物（）を原料化合物として使
用する。 ３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン
酸化合物の製造 参考例 １ ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ジメチルホルムアミド（10ml）とオキシ塩化燐
（0.507ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、次い
で−10℃に冷却した後、これに２―〔Ｎ―（２―
ヒドロキシ―５―クロロフエニル）カルバモイル
メトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチア
ゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）（1.00ｇ）
を加える。得られた混液を−10〜−５℃で50分間
撹拌する。また一方、トリメチルシリルアセトア
ミド（3.60ｇ）の塩化メチレン（15ml）溶液に７
―アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（1.003ｇ）を溶解する。この溶液に、
先に撹拌して得られた混液を−25℃で加え、これ
を−20〜−10℃で２時間撹拌する。反応液を濃縮
し、その残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（25ml）、次いで水（50ml）を加える。この混液を
酢酸エチルで洗浄した後、再び酢酸エチル（100
ml）を加える。得られた混液を10％塩酸でPH２に
調整した後、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、活性炭処理し、次いで濃縮する。残渣にジエ
チルエーテルを加え、これをこすることにより生
じた析出物を取後、ジエチルエーテルで洗浄し
て粉末（1.0ｇ）を得る。この粉末を少量のアセ
トンおよび酢酸エチルの混液に溶解し、水で２回
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。得ら
れた溶液を少量にまで濃縮し、これにジエチルエ
ーテルを加えてから室温で一夜撹拌する。生じた
析出物を取し、これをジエチルエーテルで洗浄
後、乾燥すると標題化合物（0.63ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール） 3250，1780，1680cm-1 NMR（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.92（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.8―7.2（2H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.53（1H，
ｓ） 参考例 ２ ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メト
キシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）の
製造。 ジメチルホルムアミド（1.09ｇ）とオキシ塩化
燐（2.08ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、次
いでこれに乾燥塩化メチレン（30ml）を−15℃で
加える。さらにこれに、２―（０，０―ジエチル
ホスホノ）メトキシイミノ―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）
（4.5ｇ）と乾燥塩化メチレン（40ml）の混合物
を、−10℃で加え、得られた混液を−10〜−５℃
で１時間撹拌する。また一方、７―アミノ―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（4.9
ｇ）、トリメチルシリルアセトアミド（10.6ｇ）
および乾燥塩化メチレン（75ml）の混合物を35〜
40℃で15分間撹拌し、透明な溶液を得る。この溶
液に、先に得られた塩化メチレン溶液を−15〜−
10℃で加え、これを−10〜−５℃で１時間、次い
で５℃以下で１時間撹拌する。反応液を、濃縮
し、その残渣に冷却水および炭酸水素ナトリウム
を加えた後、これを酢酸エチルで洗浄する。水層
に酢酸エチルを加えた後、10％塩酸でPH３〜４に
調整する。この混液を振とう後酢酸エチル層を分
取する。水層には、再び酢酸エチルを加え、10％
塩酸でPH３〜４に調整した後、振とうし、次いで
この混液から酢酸エチル層を分取する。両酢酸エ
チル層を合わし、これを水洗後、乾燥してから濃
縮する。残渣にジエチルエーテルを加え析出物を
取し、これを少量の酢酸エチルで洗浄すると、
標題化合物の粉末（4.6ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1730，1690cm-1 NMR（d6―DMSO，δ） 1.20（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），3.67（2H，broad
ｓ），3.7−4.7（8H，ｍ），3.90（3H，ｓ），
5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.78（1H，dd，Ｊ
＝５，８Hz），7.43（1H，ｓ），8.50（1H，ｓ） 参考例 ３ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ）―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）の製造。 オキシ塩化燐（4.9ｇ）とジメチルホルムアミ
ド（2.56ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、こ
れに乾燥塩化メチレン（50ml）を加える。さらに
これに、２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）（9.3
ｇ）と乾燥塩化メチレン（50ml）の混合物を撹拌
下に−５〜−10℃で５分間を要して加え、次いで
これを同温度で40分間撹拌する。また一方、７―
アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（10.72ｇ）、トリメチルシリルアセトア
ミド（31ｇ）および塩化メチレン（150ml）の混
合物を35〜40℃で15分間撹拌後、−15℃に冷却す
る。この混合物に先に得られた塩化メチレン混液
を−10℃で加え、これを−10〜−５℃で１時間、
次いで−５〜０℃で30分間撹拌後反応液を濃縮す
る。残渣に酢酸エチル（500ml）および氷水（200
ml）を加え、振とう後、酢酸エチル層を分取す
る。この酢酸エチル層を水洗、乾燥した後濃縮す
る。その残渣（15ｇ）に酢酸エチルを加えた後、
一夜撹拌し、生じた粉末を取する。この粉末に
再び少量の酢酸エチルを加え、撹拌した後、析出
物を取すると、標題化合物の粉末（9.7ｇ）を
得る。 I.R.（ヌジヨール） 1785，1730，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 1.24（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.6（2H，
ｍ），3.4〜4.6（10H，ｍ），3.96（3H，ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.85（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），7.50（1H，ｓ），8.54（1H，ｓ） 参考例 ４ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフ
エム―４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 オキシ塩化燐（1.397ｇ）とジメチルホルムア
ミド（0.730ｇ）の混合物を塩化メチレン（１ml）
に40℃以下で加え、この混液を40℃で30分間撹拌
した後、これに塩化メチレン（20ml）を加え、−
11℃に冷却する。さらにこの混液に、２―｛２―
（０，０―ジエチルホスホノ）エトキシイミノ｝
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）酢酸（シン異性体）（2.65ｇ）と塩化メチレ
ン（20ml）の混合物を撹拌下に−11〜−８℃で５
分間を要して加え、これを−10〜−８℃で40分間
撹拌する。また一方、７―アミノ―３―（２―ベ
ンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（2.65ｇ）とトリメチルシリルアセ
トアミド（10.1ｇ）の混合物を塩化メチレン（50
ml）に溶解する。この溶液に、先に撹拌して得ら
れた塩化メチレン混液を−30℃に冷却下で、一度
に加え、次いでこれを−10〜−８℃で1.5時間撹
拌する。反応液から溶媒を留去し、その残渣に酢
酸エチルおよび水を加え、この混液を水と塩酸の
混液（約PH２）で洗浄した後飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で抽出する。抽出液を酢酸エチルで洗
浄後、酢酸エチルを積層し、これに10％塩酸を加
えて約PH２に調整する。酢酸エチル層を分取し、
これを水、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭処理し、
次いで濃縮する。残渣にジエチルエーテルを加
え、こすると、標題化合物（3.37ｇ）を得る。 mp132〜150℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 1.20（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.6（2H，
ｍ），3.60，3.88（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.9
―5.0（8H，ｍ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.85（1H，dd，Ｊ＝５，８Hz），7.50（1H，
ｓ），7.2―8.1（4H，ｍ），8.52（1H，ｓ），
9.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 参考例 ５ ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異
性体）の製造。 オキシ塩化燐（1.6ｇ）およびジメチルホルム
アミド（31ml）の混合物を40℃で30分間加温し、
次いで−10℃に冷却した後、これに２―〔Ｎ―
（３―ピリジル）カルバモイルメトキシイミノ〕
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）酢酸（シン異性体）（3.1ｇ）を加え、これを
−10〜−７℃で１時間撹拌する。また一方、７―
アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（3.2ｇ）、トリメチルシリルアセトアミ
ド（７ｇ）および塩化メチレン（60ml）の混合物
を室温で30分間撹拌し、次いで−15℃に冷却す
る。この混合物に、先に得られたジメチルホルム
アミド混液を加え、次いでこれを−15〜−10℃で
1.5時間撹拌する。反応液に氷水および炭酸水素
ナトリウムを加えた後、水層（PH７〜８）を分取
し、これを酢酸エチルで洗浄し、さらに酢酸エチ
ルを加え、次いで10％塩酸でPH３〜４に調整す
る。生じた析出物に炭素水素ナトリウム水溶液を
加えた後、活性炭処理し、次いで水層を分取し、
これを10％塩酸でPH３〜４に調整し、析出物を
取すると、標題化合物（2.0ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.90（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz），7.2〜7.5（1H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.9〜8.4（2H，ｍ）8.53（1H，ｓ），8.8
（1H，broad ｓ） 参考例 ６ 参考例１〜５と同様にして以下の化合物を得
る。 (1) ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカル
ボニルフエニル）カルバモイルメトキシイミ
ノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４
―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
mp175〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜3100，1790，1700，1540cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 9.38（1H，broad ｄ，Ｊ＝９Hz），8.58（1H，
ｓ），8.6〜7.1（5H，ｍ），6.00（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，９Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.83（1H，ｓ），4.35（2H，broad ｓ），3.97
（3H，ｓ），3.73（2H，broad ｓ），1.47（9H，
ｓ） (2) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1785，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.93（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.92（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz），7.0〜8.0（4H，ｍ），
7.57（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ） (3) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1700，1670cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.93（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.9（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝５，８Hz），7.25（1H，ｄ，Ｊ＝４
Hz），7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.53（1H，
ｓ），8.53（1H，ｓ），9.90（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz） (4) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）。 (5) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）粉末。 I.R.（ヌジヨール） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.53（1H，ｓ），7.87（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.47（1H，ｓ），7.38（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝２，
９Hz），6.90（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），5.85（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.5〜4.0（4H，ｍ），3.92（3H，ｓ），3.8〜3.1
（4H，ｍ） (6) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）、mp165〜175℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.80（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.7〜7.1（3H，ｍ），8.0（1H，
broad ｓ） (7) ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp210〜220℃
（分解） I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.94（3H，ｓ），4.3
（4H，broad ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.80（1H，
ｓ） (8) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩
酸塩（シン異性体）、mp170〜180℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 1.23（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），1.9〜2.5（2H，
ｍ），4.00（3H，ｓ），3.5〜4.8（10H，ｍ），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝４，５Hz），5.83（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝４，５，８Hz），7.10（1H，
ｓ），9.93（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz）， (9) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）、mp180〜
210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 1.7〜2.4（2H，ｍ），3.7（2H，broad ｓ），
3.92（3H，ｓ），4.0〜4.6（4H，ｍ），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.77（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），6.77（1H， ｓ） (10) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（２―ベンゾチアゾリル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp170〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 N.M.R.（73℃，D2O＋NaHCo3，δ） 1.9〜2.4（2H，ｍ），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.92（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (11) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）、mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.97（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（2H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.97（1H，Ｓ），7.47（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝４，８Hz），8.0〜8.5（2H，ｍ），8.85
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (12) ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニ
ル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 N.M.R.スペクトル（d6−DMSO＋D2O，δ） 8.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.99（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），7.62（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），7.20
（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.91（1H，ｓ），5.89
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.74（2H，ｓ），4.37，4.22（2H，
ABq，Ｊ＝13Hz），3.94（3H，ｓ），3.75，
3.60（2H，ABq，Ｊ＝17Hz） (13) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ア
ミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）、mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.7（2H，broad ｓ），
5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.83（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.93（1H，ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (14) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カル
バモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノ
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.74，3.64（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.95
（3H，ｓ），4.26，4.35（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.85（2H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.88（1H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），9.80（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） (15) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，
５―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシ
イミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、
mp161〜170℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.56，3.76（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.90
（3H，ｓ），4.20，4.38（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.73（2H，ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.84（1H，ｓ），7.24（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.80（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (16) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―
クロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 9.56（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），8.90（1H，broad
ｓ），7.91（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.44（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝２，９Hz），6.96（1H，ｄ，Ｊ
＝９Hz），6.82（1H，ｓ），5.85（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，８Hz），５，13（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），4.6〜4.0（4H，ｍ），3.93（3H，ｓ），3.1
〜3.9（4H，ｍ）， 参考例 ７ ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）の製造。 アセトン（１ml）、メタノール（４ml）および
７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロ
フエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）アセ
トアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）（0.55ｇ）の混合物
に濃塩酸（0.11ml）を加えた後、これを室温で３
時間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に水（３
ml）次いで炭酸水素ナトリウム水溶液を加え約PH
２に調整し、これを室温で撹拌する。混液中の不
溶物を取、水洗すると、標題化合物（0.40ｇ）
を得る。mp165〜175℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.80（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.7〜7.1（3H，ｍ），8.0（1H，
broad ｓ） 参考例 ８ ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕
―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル―３―セ
フエム―４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メト
キシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
（4.3ｇ）、塩化メチレン（65ml）およびビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（6.5ｇ）の混合
物を室温で30分間撹拌し、これにトリメチルシリ
ルブロミド（4.85ｇ）を撹拌下に−20℃で15分間
を要して加え、室温で４時間撹拌する。７―〔２
―ホスホノメトキシイミノ―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）を含有する反応液を濃縮し、残渣に冷
却下メタノール（65ml）を加え、次いで濃塩酸
（２ml）を撹拌下に加え、室温で1.5時間撹拌した
後、濃縮する。残渣に水（150ml）を加え、これ
を酢酸エチルで２回洗浄した後、水層（PH１）を
分取する。水層から酢残エチルを留去し、これに
炭酸水素ナトリウムを加え、PH２〜３に調整した
後、これをカラムクロマトグラフイー（非イオン
性吸着樹脂、ダイアイオンHP20、商標、三菱化
成工業株式会社製）（150ml）に付す。このカラム
を水（１）で洗浄後、10％メタノール（１）、
次いで20％メタノール（１）、次いで30％メタ
ノール（３）で溶出すると、標題化合物（2.6
ｇ）を得る。mp210〜220℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.94（3H，ｓ），4.3
（4H，broad ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.80（1H，
ｓ） 参考例 ９ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メ
チル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチ
ル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩酸塩（シ
ン異性体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）（0.9ｇ）とメタノール（10ml）の混合物
に濃塩酸（0.2ml）を加え、これを室温で2.5時間
撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチルを
加え、これを撹拌する。析出物を取すると、標
題化合物（0.85ｇ）を得る。mp170〜180℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 1.23（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），1.9〜2.5（2H，
ｍ），4.00（3H，ｓ），3.5〜4.8（10H，ｍ），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.83（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz），7.10（1H，ｓ），9.93
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 参考例 10 ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）―
２―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）（6.2ｇ）塩化メチレン（90ml）およびビ
ス（トリメチルシリル）アセトアミド（9.2ｇ）
の混合物を室温で30分間撹拌し、これにトリメチ
ルシリルブロミド（6.9ｇ）を撹拌下に20〜25℃
で30分間を要して加えた後、さらに25〜27℃で５
時間撹拌を続ける。７―〔２―（２―ホスホノエ
トキシイミノ）―２―（２―ホルムアミドチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メ
チル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチ
ル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）を含有する反応液を濃縮し、残渣に冷却下
で、メタノール（100ml）、次いで濃塩酸（４ml）
を加え、室温で１時間撹拌する。その後、さらに
濃塩酸（２ml）を加え、室温で１時間撹拌し、得
られた混液を濃縮する。残渣に水（300ml）を加
えた後、炭酸水素ナトリウムでPH２〜３に調整し
てからこの混液をカラムクロマトグラフイー（非
イオン性吸着樹脂、ダイアイオンHP20、商標、
三菱化成工業株式会社製）（200ml）に付す。この
カラムを水（１）で洗浄後、10％メタノール
（１）、次いで20％メタノール（１）、次いで
30％メタノール（１）、次いで40％メタノール
（２）で溶出すると、標題化合物（3.7ｇ）を得
る。mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 1.7〜2.4（2H，ｍ），3.7（2H，broad ｓ），
3.92（3H，ｓ），4.0〜4.6（4H，ｍ），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.77（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），6.77（1H，ｓ） 参考例 11 ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）―
２―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（２―ベンゾチアゾリル）チオメ
チル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ）｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフ
エム―４―カルボン酸（シン異性体）（2.59ｇ）、
塩化メチレン（30ml）およびビス（トリメチルシ
リル）アセトアミド（2.14ｇ）の混合物を18〜20
℃で30分間撹拌し、これにトリメチルシリルブロ
ミド（2.68ｇ）を加え、さらに19〜21℃で５時間
45分撹拌する。７―〔２―（２―ホスホノエトキ
シイミノ）―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（２―ベンゾ
チアゾリル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）を含有する反応液を、濃
縮し、残渣に、メタノール（30ml）次いで濃塩酸
（３ml）を加え、室温で1.5時間撹拌した後、溶媒
を留去する。残渣を炭酸水素ナトリウム水溶液に
溶解した後、これを酢酸エチルで洗浄し、次いで
10％塩酸で約PH２に調整する。生じた析出物を冷
却下に取し、水洗し減圧下に乾燥した後、メタ
ノール（20ml）に懸濁し、これに濃塩酸を加え完
全に溶解させる。この溶液を活性炭処理し、次い
でこれに氷冷下に濃アンモニア水とメタノール
（１：５）の混液を滴下して、PH３〜４とし、生
じた析出物を冷却下に取すると、標題化合物の
粉末（0.85ｇ）を得る。mp170〜210℃。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 N.M.R.（73℃，D2O＋NaHCO3，δ） 1.9〜2.4（2H，ｍ），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.92（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） 参考例 12 ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチアゾー
ル―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異
性体）（2.7ｇ）のメタノール（40ml）懸濁液に撹
拌下に室温で濃塩酸（1.09ml）を加え、次いで室
温で２時間撹拌する。反応液を傾しや法によりメ
タノール層と析出物（アメ状）に分離する。メタ
ノール層は、活性炭処理後、濃縮し、その残渣を
水に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液でPH３〜
４に調整する。生じた析出物を取すると、標題
化合物の粉末（0.6ｇ）を得る。また一方先に分
離した析出物（アメ状）は、メタノール、濃塩酸
および水の混液に溶解し、これを室温で１時間撹
拌し、活性炭処理した後、濃縮する。残渣を水に
溶解した後これに冷却下で炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、PH３〜４に調勢し、析出物を取す
ると、標題化合物の粉末（1.0ｇ）を得る。総収
量（1.6ｇ）。mp180〜210℃。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.97（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.97（1H，ｓ），7.47（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝４，８Hz），8.0〜8.5（2H，ｍ），8.85
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） 参考例 13 ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボ
ニルフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―
２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム
―４―カルボン酸（シン異性体）（2.0ｇ）をトリ
フルオロ酢酸（７ml）とアニソール（0.35ml）の
混液に約10℃で撹拌下に加えた後、５〜10℃で
1.5時間、次いで室温で15分間撹拌する。反応液
を濃縮し、残渣にメタノール（30ml）および濃塩
酸（2.33ml）を加え、これを室温で1.5時間撹拌
した後、濃縮する。残渣に炭酸水素ナトリウム水
溶液および酢酸エチルを加えてよく振とうしたの
ち、水層（PH７〜８）を分離し、これに酢酸エチ
ル次いで撹拌下に10％塩酸を加え、水層のPHを２
〜３とする。得られた混液を酢酸エチル層と析出
物と水層に分離する。酢酸エチル層（50ml）に炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え、よく振とうした
のち水層を分離し、これを先に得られた析出物
（1.2ｇ）の炭酸水素ナトリウム水溶液混合物と合
する。この混液（150ml）に酢酸エチル（300ml）
次いで撹拌下に10％塩酸を加え水層のPHを２〜３
としたのち、酢酸エチル層を分離し、これを塩化
ナトリウム水溶液で洗浄後、乾燥してから濃縮す
る。残渣をジエチルエーテルで洗浄すると、標題
化合物（0.8ｇ）を得る。mp220〜230℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.99（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），7.62（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），7.20
（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.91（1H，ｓ），5.89
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.74（2H，ｓ），4.37，4.22（2H，
ABq，Ｊ＝13Hz），3.94（3H，ｓ），3.75，
3.60（2H，ABq，Ｊ＝17Hz） 参考例 14 参考例７〜13と同様にして以下の化合物を得
る。 (1) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）、mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.7（2H，broad ｓ），
5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.83（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.93（1H，ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (2) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.74，3.64（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.95
（3H，ｓ），4.26，4.35（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.85（2H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.88（1H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），9.80（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） (3) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラ―ゾール―５―イル）チオメチル―３
―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、
mp161〜170℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.56，3.76（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.90
（3H，ｓ），4.20，4.38（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.73（2H，ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.84（1H，ｓ），7.24（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.80（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (4) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1460，1595，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 9.56（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），8.90（1H，broad
ｓ），7.91（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.44（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝２，９Hz），6.96（1H，ｄ，Ｊ
＝９Hz），6.82（1H，ｓ），5.85（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，８Hz），5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.6〜4.0（4H，ｍ），3.93（3H，ｓ），3.1〜3.9
（4H，ｍ） 参考例 15 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸（シン異性体）
（653mg）、１―メチル―1H―テトラゾール―５―
チオール（140mg）および炭酸水素ナトリウム
（190mg）をリン酸緩衝液（PH6.4）（50ml）に加え
て得られた溶液を60〜65℃で５時間撹拌する。反
応液を冷却後、酢酸エチルで洗浄し、次いで酢酸
エチルを積層し、10％塩酸でPH２に調整する。酢
酸エチル層を分取し、これを水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を留去する。残渣を
ジエチルエーテルで粉末化し、これをジエチルエ
ーテルで洗浄後、取乾燥すると標題化合物
（350mg）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1780，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.92（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.8〜7.2（2H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.53（1H，
ｓ） 参考例 16 参考例15と同様にして以下の化合物を得る。 (1) ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メ
トキシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1730，1690cm-1 (2) ７―〔２―｛２―０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 1785，1730，1690cm-1 (3) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）の製
造。 mp132〜150℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1690cm-1 (4) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）の製造。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680cm-1 (5) ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカル
ボニルフエニル）カルバモイルメトキシイミ
ノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４
―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）。
mp175〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜3100，1790，1700，1540cm-1 (6) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1785，1690cm-1 (7) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド）―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1700，1670cm-1 (8) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）。 (9) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。粉末。 I.R.（ヌジヨル） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 (10) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 mp165〜175℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 (11) ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 mp210〜220℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 (12) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩
酸塩（シン異性体）。mp170〜180℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 (13) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミ
ノ）―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）。 mp180〜210℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 (14) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミ
ノ）―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（２―ベンゾチアゾ
リル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。mp170〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 (15) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチール―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）。mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 (16) ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニ
ル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。mp220〜230℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 (17) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ア
ミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 (18) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カル
バモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノ
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）。mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 (19) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，
５―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシ
イミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、 mp161〜170℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 (20) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―
クロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 参考例 17 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエニ
ル）―５―メチルイソキサゾール―４―イル｝カ
ルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―（２―ホ
ルムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―２―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―（２―アミノエトキシイミノ）―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾー
ル―２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸のギ酸塩（シン異性体）（0.5ｇ）およ
びビス（トリメチルシリル）アセトアミド（1.5
ｇ）の乾燥テトラヒドロフラン（10ml）溶液を０
〜５℃で撹拌後、これに３―（２―クロロフエニ
ル）―５―メチルイソキサゾール―４―カルボニ
ルクロリド（0.23ｇ）を加える。得られた混液を
０〜５℃で５時間撹拌する。反応液に水（20ml）
および酢酸エチル（20ml）を加える。有機層を分
取し、これを飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下に
溶媒を留去して標題化合物（0.4ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1780，1660，1540cm-1 N.M.R.（DMSO−d6，δ） 2.43（3H，ｓ），3.17−3.73（4H，ｍ），4.07
（2H，ｍ），4.42（1H，ｑ，Ｊ＝13Hz），5.12
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝
５および８Hz），7.38（1H，ｓ），7.45（4H，
ｓ），8.47（1H，ｓ），9.48（1H，ｓ），9.52
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.5（1H，broad ｓ） 参考例 18 参考例17と同様にして以下の化合物を得る。 (1) ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル｝カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―
２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1770，1650，1520cm-1 (2) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕― ３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５
―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カル
ボン酸（シン異性体）。粉末。 I.R.（ヌジヨール） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 (3) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 mp220―230℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 参考例 19 (1) 参考例１―５と同様にして次の化合物を得
る。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸（シン
異性体）。 mp170〜190℃（着色分解） I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1670cm-1 N.M.R（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.02（3H，ｓ），3.46，3.65（2H，ABq，Ｊ＝
17Hz）4.77，5.02（2H，ABq，Ｊ＝13Hz），
4.85（2H，ｓ）5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.91（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）6.85〜7.15（2H，
ｍ），7.57（1H，ｓ），8.00（1H，ｄ，Ｊ＝２
Hz），8.54（1H，ｓ）， (2) 参考例１―５および７―13と同様にして次の
化合物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸（シン異性
体）。 mp＞250℃。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1777，1738，1670cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.03（3H，ｓ），3.45，3.62（2H，ABq，Ｊ＝
14Hz），4.72，4.97（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），
5.17（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.6〜7.1（3H，ｍ），8.00（1H，ｄ，
Ｊ＝２Hz） (3) 参考例１―５および15と同様にして次の化合
物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（５―メチル―１，３，４―チアジ
アゾール―２―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。mp160℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1735，1680cm-1 Ｎ，Ｍ，R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.72（3H，ｓ），3.75（2H，broad ｓ），4.30，
4.57（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），4.83（2H，
broad ｓ），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.00
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.0〜8.0（5H，ｍ），
8.58（1H，ｓ） (4) 参考例１―５，７―13および15と同様にして
次の化合物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（５―メチル―１，３，４―チアジアゾール
―２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。mp173℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3320，1767，1675cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O） 2.70（3H，ｓ），3.60，3.77（2H，ABq，Ｊ＝
18Hz），4.22，4.48（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），
4.77（2H，broad ｓ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.88（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.93（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (5) 参考例１―５および15と同様にして次の化合
物を得る。 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル｝カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾ
ール―２―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1780，1660，1540cm-1 (6) 参考例１―５，７―13および15と同様にして
次の化合物を得る。 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル〕カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―
２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1770，1650，1520cm-1 N.M.R.（DMSO−d6，δ） 3.17―3.87（4H，ｍ），4.1（2H，ｍ），4.45
（2H，ｑ，Ｊ＝14Hz），5.17（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.80（1H，dd，Ｊ＝５および８Hz），
6.80（1H，ｓ），7.55（4H，ｓ），9.50（1H，
ｄ，Ｊ＝８Hz），9.56（1H，ｓ）。
３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン酸
化合物を医薬として用いる場合は、医薬上許容さ
れる塩類の形で使用してもよい。 この発明の目的化合物（）から製造される
３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン酸
化合物およびその医薬上許容される塩類は、その
有効かつ非毒性量を含有する組成物の形で投与さ
れる。投与量は患者の年令、疾病の種類、目的化
合物（）から製造される３，７―ジ置換―３―
セフエム―４―カルボン酸化合物の種類等により
異なるが、一般に１日の投与量として、約１〜
3000mgもしくはそれ以上を投与することができ
る。この組成物は医薬の製剤において慣用されて
いる無機もしくは有機のあるいは固体または液体
の製剤用担体とともに、経口または非経口投与に
適した剤形で使用される。この場合の経口剤とし
ては、錠剤、カプセル剤、トローチ剤、散剤等の
固体製剤あるいはシロツプ剤等に液剤が挙げら
れ、非経口剤としては注射剤、坐剤等が挙げられ
る。これら各種の製剤は当業界周知の方法で製造
することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 ［］ 目的化合物（）の製造 実施例 １ (1) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―ブロモアセトアミドの製造。 ２―アミノ―４―クロロフエノール（19.50
ｇ）、Ｎ，Ｎ―ジメチルアニリン（19.90ｇ）およ
び乾燥アセトン（200ml）の混液にブロモアセチ
ルブロミド（33.2ｇ）を氷冷撹拌下に10℃以下で
15分間を要して滴下し、次いで同温度で45分間撹
拌する。反応液からアセトンを留去し、残渣に酢
酸エチル、次いで水を加え、これを５％塩酸で２
回、次いで水で洗浄する。酢酸エチル溶液に水を
加え、５％炭酸水素ナトリウム水溶液で水層のPH
を７〜８にしてから、水で２回、次いで飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄した後硫酸マグネシウム
で乾燥し、活性炭処理し、次いで蒸発乾固する。
残査を酢酸エチルとジイソプロピルエーテルの混
液から再結晶して標題化合物（18.91ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3390，3150，1650cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.22（2H，ｓ），6.8〜7.2（2H，ｍ），8.05
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (2) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―（フタルイミドオキシ）アセトアミ
ドの製造。 Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（10.84ｇ）、トリ
エチルアミン（6.72ｇ）および乾燥アセトニトリ
ル（160ml）の混液にＮ―（２―ヒドロキシ―５
―クロロフエニル）―２―ブロモアセトアミド
（17.6ｇ）を氷冷撹拌下に加え、次いで室温で1.5
時間撹拌する。反応液中の析出物を取し、これ
をアセトニトリル次いで酢酸エチル次いで水で洗
浄して標題化合物（18.4ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400，3100，1800，1740，1660cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.92（2H，ｓ），6.9〜7.1（1H，ｍ），7.90
（4H，ｓ），8.08（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (3) Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニ
ル）―２―（アミノオキシ）アセトアミドの製
造。 Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフエニル）
―２―（フタルイミドオキシ）アセトアミド
（10.0ｇ）、ヒドラジン・１水加物（1.442ｇ）お
よびエタノール（100ml）の混合物を２時間加熱
還流する。反応液を氷冷下に放置し、析出物を
去し、これをエタノールで洗浄する。液と洗液
を合した後、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチルを
加え、不溶物を去する。液を５％塩酸で抽出
し、抽出液を酢酸エチルで洗浄後炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で約PH７に調整し、これを酢酸エチル
で抽出する。抽出液を塩化ナトリウム水溶液で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで溶媒を
留去して標題化合物の結晶（4.59ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3260，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.20（2H，ｓ），6.9〜7.1（2H，ｍ），8.1〜8.2
（1H，ｍ） (4) ２―〔Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロフ
エニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）の製造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（2.79ｇ）、Ｎ―（２―ヒド
ロキシ―５―クロロフエニル）―２―（アミノオ
キシ）アセトアミド（3.32ｇ）およびエタノール
（30ml）の混液を室温で５時間撹拌する。反応液
を蒸発乾固し、残渣に酢酸エチル、水および10％
塩酸の混液を加えよく振とうする。酢酸エチル層
を分離し、これを希塩酸次いで塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去し、少量にまで濃縮してから氷冷下に放置
する。生じた析出物を取し、酢酸エチルで洗浄
した後、減圧下に乾燥すると標題化合物（4.59
ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1735，1695，1640cm-1 N.M.R.スペクトル（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.83（2H，ｓ），6.8〜7.2（2H，ｍ），7.63
（1H，ｓ），8.15（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.55
（1H，ｓ） 実施例 ２ (1) ジエチル（フタルイミドオキシメチル）ホス
ホナートの製造。 ジエチル ヒドロキシメチルホスホナート
（18.4ｇ）、Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（12.6
ｇ）、トリフエニルホスフイン（28.8ｇ）および
テトラヒドロフラン（270ml）の混液にジエチル
アゾホルメート（21.0ｇ）を冷水冷却下に滴下
し、次いで室温で一夜撹拌する。反応液からテト
ラヒドロフランを留去し、残渣にジエチルエーテ
ル（300ml）を加え、これを氷冷下に30分間撹拌
した後、不溶物を去し、次いで液を濃縮す
る。濃縮液をカラムクロマトグラフイー（シリカ
ゲル：600ｇ）に付し、ベンゼンと酢酸エチル
（１：１）の混液で溶出する。目的物とトリフエ
ニルホスフインオキシドの混合物を含む分画を合
し、これを蒸発乾固する。残渣にジエチルエーテ
ルを加え、不溶物を去した後、溶媒を留去して
粗製の標題化合物（19.0ｇ）を得る。 N.M.R.（CDCl3，δ） 2.36（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），4.25（4H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝14，７Hz，4.56（2H，ｄ，Ｊ＝10
Hz），7.2〜7.9（13H，ｍ） ここで得られた化合物は、これをそのまま次の
工程に付す。 (2) ジエチル（アミノオキシメチル）ホスホナー
トの製造。 ジエチル（フタルイミドオキシメチル）ホスホ
ナート（14.48ｇ）、ヒドラジン・１水化物（2.32
ｇ）およびエタノール（130ml）の混合物を２時
間加熱還流する。反応液を氷冷後、不溶物を去
し、これをエタノールで洗浄する。液と洗液を
合し、これを濃縮する。濃縮液にクロロホルムを
加え、不溶物を別し、これをクロロホルムで洗
浄し、液と洗液を合し、これを再び濃縮する。
濃縮液を酢酸エチルに溶解し、これに水および10
％塩酸を加えて、よく振とうする（水層のPHは約
２）。混液から酢酸エチル層を分取し、以下これ
に水および10％塩酸を加えて振とうする操作を２
回繰り返す。水層を合し、これを酢酸エチルで洗
浄後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて約PH４
に調整し、次いで約25ｇまで減圧濃縮して標題化
合物を含有する濃縮液を得る。ここで得られた濃
縮液は、そのまま引き続き次の工程に付す。 (3) ２―（０，０―ジエチルホスホノ）メトキシ
イミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）酢酸（シン異性体）の製造。 製造例２―(2)で得られた、ジエチル（アミノオ
キシメチル）ホスホナートを含有する濃縮液にエ
タノール（80ml）および２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）グリオキシル酸（5.80
ｇ）を加え、これを室温で１時間撹拌する。反応
液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、水
層のPHを約７とし、エタノールを留去後、残渣に
少量の水を加え、これを酢酸エチルで洗浄し、次
いで10％塩酸で水層のPHを２とする。析出する油
状物を酢酸エチルで抽出し、この抽出液を少量の
水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭
処理してから溶媒を留去すると、泡状の標題化合
物（9.35ｇ）を得る。 I.R.（KBr） 1740，1700cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.33（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），4.27（4H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝15，７Hz），4.70（2H，ｄ，Ｊ＝７
Hz），7.43（1H，ｓ），8.70（1H，ｓ） 実施例 ３ (1) ジエチル（２―フタルイミドオキシエチル）
ホスホナートの製造。 Ｎ―（２―ブロモエトキシ）フタルイミド
（2.0ｇ）およびトリエチル ホスヒツト（2.46
ｇ）の混合物を155〜160℃の油浴上で４時間撹拌
する。反応液から過剰のトリエチル ホスヒツト
を留去し、油状の残渣を酢酸エチルに溶解し、こ
れを水、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液、次い
で水で洗浄した後、乾燥し、次いで溶媒を留去し
て油状物（3.3ｇ）を得る。これをカラムクロマ
トグラフイー（シリカゲル：90ｇ）に付し、酢酸
エチルで溶出すると、標題化合物（0.9ｇ）を得
る。 I.R.（ヌジヨール） 1782，1730cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.33（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.33（2H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝20，８Hz），3.8〜4.7（6H，ｍ），7.8
（4H，ｓ） (2) ジエチル（２―アミノオキシエチル）ホスホ
ナートの製造。 ジエチル（２―フタルイミドオキシエチル）ホ
スホナート（20ｇ）およびエタノール（200ml）
の混合物にヒドラジン・１水加物（3.06ｇ）を加
えて得られる混合物を撹拌下に２時間加熱還流す
る。反応液を冷却後、過し、不溶物を別し、
これをクロロホルムで洗浄する。液と洗液を合
した後、溶媒を留去する。残渣にクロロホルムを
加え、不溶物を去し、再び溶媒を留去する。残
渣にクロロホルムを加えた後、活性炭処理し、
過し、不溶物を去する。液から溶媒を留去す
ると、油状の標題化合物（12.1ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3500，3350，3280，3200cm-1 N.M.R.（CDCl3，δ） 1.28（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.10（2H，ｄ，
ｔ，Ｊ＝19，７Hz），3.6〜4.4（6H，ｍ），
5.45（2H，broad ｓ） (3) ２―｛２―（０，０―ジエチルホスホノ）エ
トキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチア
ゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）の製
造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（６ｇ）、ジエチル（２―ア
ミノオキシエチル）ホスホナート（7.09ｇ）およ
びエタノール（60ml）の混合物を室温で４時間撹
拌する。反応液を蒸発乾固した後、残渣を酢酸エ
チルに溶解し、これを５％塩酸、次いで水で洗浄
し、乾燥してから、溶媒を留去すると、酢酸エチ
ルを約16％含有するアメ状の標題化合物（11.1
ｇ）を得る。 I.R.（CHCl3） 1745，1710cm-1 N.M.R.スペクトル（CDCl3，δ） 1.30（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.7（2H，
ｍ），3.8〜5.0（6H，ｍ），7.40（1H，ｓ），
8.73（1H，ｓ） 実施例 ４ (1) Ｎ―（３―ピリジル）―２―ブロモアセトア
ミドの製造。 ３―アミノピリジン（11ｇ）、トリエチルアミ
ン（13.0ｇ）および乾燥酢酸エチル（300ml）の
混合物にブロモアセチルブロミド（26.0ｇ）およ
び乾燥酢酸エチル（26ml）の混合物を撹拌下に０
〜５℃で30分間を要して滴下し、次いで同温度で
２時間撹拌する。反応液に、冷却した炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えてよく振とうし酢酸エチル
層を分取し、これを水、次いで炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、次いで水で洗浄後乾燥してから濃縮す
ると標題化合物を含有する液（200ml）を得る。
ここで得られた混液はそのまま引き続いて次の工
程に付す。 (2) Ｎ―（３―ピリジル）―２―（フタルイミド
オキシ）アセトアミドの製造。 Ｎ―ヒドロキシフタルイミド（17.2ｇ）および
トリエチルアミン（10.6ｇ）のアセトニトリル
（200ml）溶液に、製造例４―(1)で得られたＮ―
（３―ピリジル）―２―ブロモアセトアミドを含
有する液を、撹拌下に室温で加え、次いで45〜50
℃で１時間撹拌する。反応液に酢酸エチルおよび
水を加えてよく振とうする。酢酸エチル層を分取
し、これを水、次いで炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで水で洗浄した後、乾燥し、活性炭処理
し、次いで体積が100〜150mlになるまで溶媒を留
去する。濃縮液を過し、標題化合物（10.7ｇ）
を取する。さらに、液を蒸発乾固し、残渣を
ジエチルエーテルで洗浄して同一化合物（1.9ｇ）
を得る。総収量（12.6ｇ）。 I.R.（ヌジヨール） 1795，1740，1695cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.86（2H，ｓ），7.38（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝８，
４Hz），7.88（4H，ｓ），8.08（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝８，２Hz），8.32（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
8.78（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (3) Ｎ―（３―ピリジル）―２―（アミノオキ
シ）アセトアミドの製造。 Ｎ―（３―ピリジル）―２―（フタルイミドオ
キシ）アセトアミド（7.8ｇ）、ヒドラジン・１水
加物（1.3ｇ）およびエタノール（80ml）の混合
物を撹拌下に1.5時間加熱還流する。反応液を冷
却後不溶物を去する。液から溶媒を留去し、
残渣に５％塩酸および水を加えた後再び不溶物を
去し、液（PH１〜２）を30mlまで濃縮して、
標題化合物を含有する液を得る。ここで得られた
液はそのまま引き続いて次の工程に付す。 (4) ２―〔Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイルメ
トトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）の製
造。 実施例４(3)で得られたＮ―（３―ピリジル）―
２―（アミノオキシ）アセトアミドを含有する液
（30ml）を炭酸水素ナトリウムでPH３〜４に調整
し、これにエタノール（100ml）次いで２―（２
―ホルムアミドチアゾール―４―イル）グリオキ
シル酸（4.0ｇ）を15〜20℃で加えた後、再び炭
酸水素ナトリウムでPH３〜４に調整し、18〜20℃
で３時間撹拌する。反応液からエタノールを留去
し、析出物を取し、水とエタノールの混液で洗
浄すると結晶（6.6ｇ）を得る。この結晶をエタ
ノール（20ml）、水（80ml）および炭酸水素ナト
リウム（2.38ｇ）の混合物に溶解し、不溶物を
去後、液に1N塩酸（28.5ml）を加えてPH３〜
４に調整し、析出物を取すると、標題化合物の
結晶（6.3ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3180，3050，1700，1600cm-1 N.M.R.（D2O＋NaHCO3，δ） 5.00（2H，ｓ），7.45（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝８，
４Hz）7.62（1H，ｓ），7.9〜8.2（1H，ｍ），
8.37（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝４，２Hz），8.63
（1H，ｓ），8.77（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） 実施例 ５ (1) ２―ニトロ安息香酸の第３級ブチルエステル
の製造。 ２―ニトロ安息香酸（25.0ｇ）およびチオニル
クロリド（50ml）の混液を１時間還流後、チオニ
ルクロリドを留去し、残渣にベンゼンを加え、次
いでベンゼンを留去する。残渣に再びベンゼン
（125ml）次いで氷冷下にピリジン（23.7ｇ）次い
で第３級ブチルアルコール（22.2ｇ）を加え、得
られた混液を２時間加熱還流する。反応液を氷水
に注入し、これを水、次いで1N水酸化ナトリウ
ム水溶液で２回、次いで水、次いで1Mクエン酸
水溶液で２回、次いで水、次いで塩化ナトリウム
水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭処理してから、これをカラムクロマト
グラフイー（シリカゲル：150ｇ）に付す。ベン
ゼン―ｎ―ヘキサン（１：１）の混液で溶出する
と、黄色油状の標題化合物（23.6ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 1737，1540，1373，1310，1232cm-1 Ｎ，M.R.（CDCl3，δ） 7.17〜8.0（5H，ｍ），1.55（9H，ｓ） (2) ２―アミノ安息香酸の第３級ブチルエステル
の製造。 ２―ニトロ安息香酸の第３級ブチルエステル
（2.1ｇ）およびメタノール（200ml）の混液にパ
ラジウムカーボン（２ｇ）を加え、常温常圧で振
とうを続けながら、3.5時間還元を行う。反応液
からパラジウム―カーボンを去後、溶媒を留去
する。残渣にジエチルエーテル次いで塩化ナトリ
ウム水溶液を加えてよく振とうし有機層を分取し
て硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭処理し、次
いで溶媒を留去すると、油状の標題化合物
（16.13ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3520，3420，1690，1610，1592，1303，
1252，1160cm-1 N.M.R.（CCl4，δ） 7.83〜6.30（4H，ｍ），5.67（2H，broad ｓ），
1.53（9H，ｓ） (3) Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボニルフエニ
ル）―２―ブロモアセトアミドの製造。 ２―アミノ安息香酸の第３級ブチルエステル
（5.79ｇ）、トリエチルアミン（3.99ｇ）および塩
化メチレン（100ml）の混液にブロモアセチルブ
ロミド（8.01ｇ）を氷冷撹拌下に５〜10℃で15分
間を要して滴下し、次いで同温度で1.75時間撹拌
する。反応液を1Mクエン酸水溶液（50ml）で２
回、次いで水、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（25ml）で２回、次いで水、次いで塩化ナト
リウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムで
乾燥し、活性炭処理してから、溶媒を留去する
と、油状の標題化合物（9.65ｇ）を得る。 I.R.（液膜） 3280，1690，1582，1530，1450，1144cm-1 N.M.R.（CCl4，δ） 11.75（1H，broad ｓ），8.75〜6.83（4H，
ｍ），3.88（2H，ｓ），1.60（9H，ｓ） (4) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 ２―（２―フタルイミドオキシ）アセトアミ
ド安息香酸の第３級ブチルエステル（結晶）、
mp142〜144℃。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1792，1745，1703，1685，1525，
1142，700cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 11.40（1H，broad ｓ），8.5〜7.1（8H，ｍ），
4.93（2H，ｓ），1.58（9H，ｓ） (5) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)、および４―
(3)と同様にして次の化合物を得る。 ２―（２―アミノオキシアセトアミド）安息
香酸の第３級ブチルエステル、mp87〜89℃。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1700，1683，1592，1522，1283，
1162，1143cm-1 N.M.R（CDCl3.δ） 7.8〜7.0（4H，ｍ），6.06（2H，broad ｓ），
4.28（2H，ｓ），1.62（9H，ｓ） (6) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボニル
フエニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）
酢酸（シン異性体）、mp159〜161℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1745，1700，1675，1598，1550，1270
cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 12.68（1H，broad ｓ），11.43（1H，ｓ），
8.70〜7.03（5H，ｍ），4.82（2H，ｓ），1.43
（9H，ｓ） 実施例 ６ (1) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 Ｎ―（３―クロロフエニル）―２―（フタル
イミドオキシ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 3370，1795，1745，1675cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.87（2H，ｓ），7.0〜7.8（4H，ｍ），7.93
（4H，ｓ） (2) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)および４―(3)
と同様にして次の化合物を得る。 Ｎ―（３―クロロフエニル）―２―アミノオ
キシ）アセトアミド、mp68〜73℃。 I.R.（ヌジヨール） 3350，3280，1670，1595cm-1 N.M.R（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.17（2H，ｓ），7.0〜8.0（4H，ｍ） (3) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（３―クロロフエニル）カルバモ
イルメトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3150，3050，1725，1685，1620cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.80（2H，ｓ），7.0〜8.0（4H，ｍ），7.63
（1H，ｓ），8.57（1H，ｓ） 実施例 ７ (1) 実施例１―(2)および４―(2)と同様にして次の
化合物を得る。 Ｎ―（２―チアゾリル）―２―（フタルイミ
ドオキシ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 1795，1745，1710cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 4.92（2H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.86（4H，ｓ） (2) 実施例１―(3)，２―(2)，３―(2)および４―(3)
と同様にして次の化合物を得る。 Ｎ―（２―チアゾリル）―２―（アミノオキ
シ）アセトアミド。 I.R.（ヌジヨール） 3350，3300，3200，1700，1580cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.34（2H，ｓ），7.22（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz） (3) 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)
と同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―チアゾリル）カルバモイル
メトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 1700，1670，1580，1560cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.94（2H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.60（1H，ｓ），
8.56（1H，ｓ） 実施例 ８ 実施例１―(4)，２―(3)，３―(3)および４―(4)と
同様にして次の化合物を得る。 ２―〔Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５―ジクロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ〕―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1755，1720，1680，1590，1540cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 4.93（2H，ｓ），7.28（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.67（1H，ｓ），8.00（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
8.60（1H，ｓ） 実施例 ９ (1) ２―（２―アミノエトキシイミノ）―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢
酸（シン異性体）の製造。 ２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）グリオキシル酸（5.5ｇ）のエタノール（100
ml）との混液に２―（アミノオキシ）エチルアミ
ンのジ塩酸塩の水（50ml）との混液を加え、これ
を炭酸水素ナトリウム水溶液でPH４としてから室
温で３時間撹拌する。反応液からエタノールを留
去し体積を100mlとした後、冷却下に析出物を
取し、これを冷水、次いでエタノールで洗浄する
と、標題化合物（6.5ｇ）を得る。mp213〜214℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜2100，1705，1658，1590cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 8.58（1H，ｓ），7.42（1H，ｓ），4.5〜3.92
（2H，ｍ），3.25〜2.67（2H，ｍ） (2) ２―〔２―（２―ヒドロキシ―５―クロロベ
ンズアミド）エトキシイミノ〕―２―（２―ホ
ルムアミドチアゾール―４―イル）酢酸（シン
異性体）の製造。 ２―（２―アミノエトキシイミノ）―２―（２
―ホルムアミドチアゾール―４―イル）酢酸（シ
ン異性体）（5.10ｇ）の塩化メチレン（100ml）懸
濁液に１，５―ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウ
ンデセン―５（7.2ｇ）を加えて溶解し、次いでこ
れにトリメチルシリルクロリド（5.14ｇ）を加
え、10℃で１時間撹拌する。さらにビス（トリメ
チルシリル）アセトアミド（21.7ｇ）を加え、10
℃で５分間撹拌する。得られた均一溶液に、２―
ヒドロキシ―５―クロロ安息香酸クロリド（4.54
ｇ）の塩化メチレン（20ml）溶液を−15〜−５℃
で加え、これを−５〜５℃で２時間、次いで室温
で１時間撹拌する。反応液を濃縮乾固し、残渣に
冷却水および酢酸エチルを加えた後、炭酸水素ナ
トリウムで水層のPHを８に調整する。水層を分取
し、これを酢酸エチルで洗浄後、10％塩酸でPH２
に調整してから、生じた析出物を酢酸エチルで抽
出する。抽出液を水洗後、硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮乾固して、その残渣をジエチ
ルエーテルを加えてこすると、標題化合物（4.1
ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400，3220，3090，1745，1681，1642，
1600，1557cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.60（1H，ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.60（1H，ｓ），7.46（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝２，
９Hz）7.00（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），4.35（2H，
ｔ，Ｊ＝６Hz），3.72（2H，ｔ，Ｊ＝６Hz） ［］ 目的化合物（）を原料化合物として使
用する。 ３，７―ジ置換―３―セフエム―４―カルボン
酸化合物の製造 参考例 １ ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ジメチルホルムアミド（10ml）とオキシ塩化燐
（0.507ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、次い
で−10℃に冷却した後、これに２―〔Ｎ―（２―
ヒドロキシ―５―クロロフエニル）カルバモイル
メトキシイミノ〕―２―（２―ホルムアミドチア
ゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）（1.00ｇ）
を加える。得られた混液を−10〜−５℃で50分間
撹拌する。また一方、トリメチルシリルアセトア
ミド（3.60ｇ）の塩化メチレン（15ml）溶液に７
―アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（1.003ｇ）を溶解する。この溶液に、
先に撹拌して得られた混液を−25℃で加え、これ
を−20〜−10℃で２時間撹拌する。反応液を濃縮
し、その残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（25ml）、次いで水（50ml）を加える。この混液を
酢酸エチルで洗浄した後、再び酢酸エチル（100
ml）を加える。得られた混液を10％塩酸でPH２に
調整した後、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、活性炭処理し、次いで濃縮する。残渣にジエ
チルエーテルを加え、これをこすることにより生
じた析出物を取後、ジエチルエーテルで洗浄し
て粉末（1.0ｇ）を得る。この粉末を少量のアセ
トンおよび酢酸エチルの混液に溶解し、水で２回
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥する。得ら
れた溶液を少量にまで濃縮し、これにジエチルエ
ーテルを加えてから室温で一夜撹拌する。生じた
析出物を取し、これをジエチルエーテルで洗浄
後、乾燥すると標題化合物（0.63ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール） 3250，1780，1680cm-1 NMR（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.92（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.8―7.2（2H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.53（1H，
ｓ） 参考例 ２ ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メト
キシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）の
製造。 ジメチルホルムアミド（1.09ｇ）とオキシ塩化
燐（2.08ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、次
いでこれに乾燥塩化メチレン（30ml）を−15℃で
加える。さらにこれに、２―（０，０―ジエチル
ホスホノ）メトキシイミノ―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）
（4.5ｇ）と乾燥塩化メチレン（40ml）の混合物
を、−10℃で加え、得られた混液を−10〜−５℃
で１時間撹拌する。また一方、７―アミノ―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（4.9
ｇ）、トリメチルシリルアセトアミド（10.6ｇ）
および乾燥塩化メチレン（75ml）の混合物を35〜
40℃で15分間撹拌し、透明な溶液を得る。この溶
液に、先に得られた塩化メチレン溶液を−15〜−
10℃で加え、これを−10〜−５℃で１時間、次い
で５℃以下で１時間撹拌する。反応液を、濃縮
し、その残渣に冷却水および炭酸水素ナトリウム
を加えた後、これを酢酸エチルで洗浄する。水層
に酢酸エチルを加えた後、10％塩酸でPH３〜４に
調整する。この混液を振とう後酢酸エチル層を分
取する。水層には、再び酢酸エチルを加え、10％
塩酸でPH３〜４に調整した後、振とうし、次いで
この混液から酢酸エチル層を分取する。両酢酸エ
チル層を合わし、これを水洗後、乾燥してから濃
縮する。残渣にジエチルエーテルを加え析出物を
取し、これを少量の酢酸エチルで洗浄すると、
標題化合物の粉末（4.6ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1730，1690cm-1 NMR（d6―DMSO，δ） 1.20（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），3.67（2H，broad
ｓ），3.7−4.7（8H，ｍ），3.90（3H，ｓ），
5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.78（1H，dd，Ｊ
＝５，８Hz），7.43（1H，ｓ），8.50（1H，ｓ） 参考例 ３ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ）―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）の製造。 オキシ塩化燐（4.9ｇ）とジメチルホルムアミ
ド（2.56ｇ）の混合物を40℃で30分間加温し、こ
れに乾燥塩化メチレン（50ml）を加える。さらに
これに、２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）酢酸（シン異性体）（9.3
ｇ）と乾燥塩化メチレン（50ml）の混合物を撹拌
下に−５〜−10℃で５分間を要して加え、次いで
これを同温度で40分間撹拌する。また一方、７―
アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（10.72ｇ）、トリメチルシリルアセトア
ミド（31ｇ）および塩化メチレン（150ml）の混
合物を35〜40℃で15分間撹拌後、−15℃に冷却す
る。この混合物に先に得られた塩化メチレン混液
を−10℃で加え、これを−10〜−５℃で１時間、
次いで−５〜０℃で30分間撹拌後反応液を濃縮す
る。残渣に酢酸エチル（500ml）および氷水（200
ml）を加え、振とう後、酢酸エチル層を分取す
る。この酢酸エチル層を水洗、乾燥した後濃縮す
る。その残渣（15ｇ）に酢酸エチルを加えた後、
一夜撹拌し、生じた粉末を取する。この粉末に
再び少量の酢酸エチルを加え、撹拌した後、析出
物を取すると、標題化合物の粉末（9.7ｇ）を
得る。 I.R.（ヌジヨール） 1785，1730，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 1.24（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.6（2H，
ｍ），3.4〜4.6（10H，ｍ），3.96（3H，ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.85（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），7.50（1H，ｓ），8.54（1H，ｓ） 参考例 ４ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフ
エム―４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 オキシ塩化燐（1.397ｇ）とジメチルホルムア
ミド（0.730ｇ）の混合物を塩化メチレン（１ml）
に40℃以下で加え、この混液を40℃で30分間撹拌
した後、これに塩化メチレン（20ml）を加え、−
11℃に冷却する。さらにこの混液に、２―｛２―
（０，０―ジエチルホスホノ）エトキシイミノ｝
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）酢酸（シン異性体）（2.65ｇ）と塩化メチレ
ン（20ml）の混合物を撹拌下に−11〜−８℃で５
分間を要して加え、これを−10〜−８℃で40分間
撹拌する。また一方、７―アミノ―３―（２―ベ
ンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（2.65ｇ）とトリメチルシリルアセ
トアミド（10.1ｇ）の混合物を塩化メチレン（50
ml）に溶解する。この溶液に、先に撹拌して得ら
れた塩化メチレン混液を−30℃に冷却下で、一度
に加え、次いでこれを−10〜−８℃で1.5時間撹
拌する。反応液から溶媒を留去し、その残渣に酢
酸エチルおよび水を加え、この混液を水と塩酸の
混液（約PH２）で洗浄した後飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液で抽出する。抽出液を酢酸エチルで洗
浄後、酢酸エチルを積層し、これに10％塩酸を加
えて約PH２に調整する。酢酸エチル層を分取し、
これを水、次いで塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭処理し、
次いで濃縮する。残渣にジエチルエーテルを加
え、こすると、標題化合物（3.37ｇ）を得る。 mp132〜150℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 1.20（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），2.0〜2.6（2H，
ｍ），3.60，3.88（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.9
―5.0（8H，ｍ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.85（1H，dd，Ｊ＝５，８Hz），7.50（1H，
ｓ），7.2―8.1（4H，ｍ），8.52（1H，ｓ），
9.70（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 参考例 ５ ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異
性体）の製造。 オキシ塩化燐（1.6ｇ）およびジメチルホルム
アミド（31ml）の混合物を40℃で30分間加温し、
次いで−10℃に冷却した後、これに２―〔Ｎ―
（３―ピリジル）カルバモイルメトキシイミノ〕
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）酢酸（シン異性体）（3.1ｇ）を加え、これを
−10〜−７℃で１時間撹拌する。また一方、７―
アミノ―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（3.2ｇ）、トリメチルシリルアセトアミ
ド（７ｇ）および塩化メチレン（60ml）の混合物
を室温で30分間撹拌し、次いで−15℃に冷却す
る。この混合物に、先に得られたジメチルホルム
アミド混液を加え、次いでこれを−15〜−10℃で
1.5時間撹拌する。反応液に氷水および炭酸水素
ナトリウムを加えた後、水層（PH７〜８）を分取
し、これを酢酸エチルで洗浄し、さらに酢酸エチ
ルを加え、次いで10％塩酸でPH３〜４に調整す
る。生じた析出物に炭素水素ナトリウム水溶液を
加えた後、活性炭処理し、次いで水層を分取し、
これを10％塩酸でPH３〜４に調整し、析出物を
取すると、標題化合物（2.0ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.90（1H，ｄ，
Ｊ＝4.5Hz），7.2〜7.5（1H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.9〜8.4（2H，ｍ）8.53（1H，ｓ），8.8
（1H，broad ｓ） 参考例 ６ 参考例１〜５と同様にして以下の化合物を得
る。 (1) ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカル
ボニルフエニル）カルバモイルメトキシイミ
ノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４
―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
mp175〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜3100，1790，1700，1540cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 9.38（1H，broad ｄ，Ｊ＝９Hz），8.58（1H，
ｓ），8.6〜7.1（5H，ｍ），6.00（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，９Hz），5.25（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.83（1H，ｓ），4.35（2H，broad ｓ），3.97
（3H，ｓ），3.73（2H，broad ｓ），1.47（9H，
ｓ） (2) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1785，1690cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.93（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.92（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz），7.0〜8.0（4H，ｍ），
7.57（1H，ｓ），8.53（1H，ｓ） (3) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1700，1670cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.93（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.9（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝５，８Hz），7.25（1H，ｄ，Ｊ＝４
Hz），7.50（1H，ｄ，Ｊ＝４Hz），7.53（1H，
ｓ），8.53（1H，ｓ），9.90（1H，ｄ，Ｊ＝８
Hz） (4) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）。 (5) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）粉末。 I.R.（ヌジヨール） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.53（1H，ｓ），7.87（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.47（1H，ｓ），7.38（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝２，
９Hz），6.90（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），5.85（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz），5.12（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.5〜4.0（4H，ｍ），3.92（3H，ｓ），3.8〜3.1
（4H，ｍ） (6) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）、mp165〜175℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.80（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.7〜7.1（3H，ｍ），8.0（1H，
broad ｓ） (7) ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp210〜220℃
（分解） I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.94（3H，ｓ），4.3
（4H，broad ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.80（1H，
ｓ） (8) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩
酸塩（シン異性体）、mp170〜180℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 1.23（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），1.9〜2.5（2H，
ｍ），4.00（3H，ｓ），3.5〜4.8（10H，ｍ），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝４，５Hz），5.83（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝４，５，８Hz），7.10（1H，
ｓ），9.93（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz）， (9) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）、mp180〜
210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 1.7〜2.4（2H，ｍ），3.7（2H，broad ｓ），
3.92（3H，ｓ），4.0〜4.6（4H，ｍ），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.77（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），6.77（1H， ｓ） (10) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（２―ベンゾチアゾリル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp170〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 N.M.R.（73℃，D2O＋NaHCo3，δ） 1.9〜2.4（2H，ｍ），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.92（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (11) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）、mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.97（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（2H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.97（1H，Ｓ），7.47（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝４，８Hz），8.0〜8.5（2H，ｍ），8.85
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (12) ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニ
ル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 N.M.R.スペクトル（d6−DMSO＋D2O，δ） 8.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.99（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），7.62（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），7.20
（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.91（1H，ｓ），5.89
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.74（2H，ｓ），4.37，4.22（2H，
ABq，Ｊ＝13Hz），3.94（3H，ｓ），3.75，
3.60（2H，ABq，Ｊ＝17Hz） (13) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ア
ミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）、mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.7（2H，broad ｓ），
5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.83（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.93（1H，ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (14) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カル
バモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノ
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.74，3.64（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.95
（3H，ｓ），4.26，4.35（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.85（2H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.88（1H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），9.80（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） (15) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，
５―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシ
イミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、
mp161〜170℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.56，3.76（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.90
（3H，ｓ），4.20，4.38（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.73（2H，ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.84（1H，ｓ），7.24（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.80（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (16) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―
クロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 9.56（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），8.90（1H，broad
ｓ），7.91（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.44（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝２，９Hz），6.96（1H，ｄ，Ｊ
＝９Hz），6.82（1H，ｓ），5.85（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，８Hz），５，13（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），4.6〜4.0（4H，ｍ），3.93（3H，ｓ），3.1
〜3.9（4H，ｍ）， 参考例 ７ ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）の製造。 アセトン（１ml）、メタノール（４ml）および
７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロロ
フエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）アセ
トアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾ
ール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）（0.55ｇ）の混合物
に濃塩酸（0.11ml）を加えた後、これを室温で３
時間撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に水（３
ml）次いで炭酸水素ナトリウム水溶液を加え約PH
２に調整し、これを室温で撹拌する。混液中の不
溶物を取、水洗すると、標題化合物（0.40ｇ）
を得る。mp165〜175℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.80（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.7〜7.1（3H，ｍ），8.0（1H，
broad ｓ） 参考例 ８ ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕
―３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル―３―セ
フエム―４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メト
キシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
（4.3ｇ）、塩化メチレン（65ml）およびビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（6.5ｇ）の混合
物を室温で30分間撹拌し、これにトリメチルシリ
ルブロミド（4.85ｇ）を撹拌下に−20℃で15分間
を要して加え、室温で４時間撹拌する。７―〔２
―ホスホノメトキシイミノ―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シ
ン異性体）を含有する反応液を濃縮し、残渣に冷
却下メタノール（65ml）を加え、次いで濃塩酸
（２ml）を撹拌下に加え、室温で1.5時間撹拌した
後、濃縮する。残渣に水（150ml）を加え、これ
を酢酸エチルで２回洗浄した後、水層（PH１）を
分取する。水層から酢残エチルを留去し、これに
炭酸水素ナトリウムを加え、PH２〜３に調整した
後、これをカラムクロマトグラフイー（非イオン
性吸着樹脂、ダイアイオンHP20、商標、三菱化
成工業株式会社製）（150ml）に付す。このカラム
を水（１）で洗浄後、10％メタノール（１）、
次いで20％メタノール（１）、次いで30％メタ
ノール（３）で溶出すると、標題化合物（2.6
ｇ）を得る。mp210〜220℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.94（3H，ｓ），4.3
（4H，broad ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.76（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.80（1H，
ｓ） 参考例 ９ ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メ
チル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチ
ル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩酸塩（シ
ン異性体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）（0.9ｇ）とメタノール（10ml）の混合物
に濃塩酸（0.2ml）を加え、これを室温で2.5時間
撹拌する。反応液を濃縮し、残渣に酢酸エチルを
加え、これを撹拌する。析出物を取すると、標
題化合物（0.85ｇ）を得る。mp170〜180℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 1.23（6H，ｔ，Ｊ＝７Hz），1.9〜2.5（2H，
ｍ），4.00（3H，ｓ），3.5〜4.8（10H，ｍ），
5.23（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz），5.83（1H，ｄ，
ｄ，Ｊ＝4.5，８Hz），7.10（1H，ｓ），9.93
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz） 参考例 10 ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）―
２―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミド
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）（6.2ｇ）塩化メチレン（90ml）およびビ
ス（トリメチルシリル）アセトアミド（9.2ｇ）
の混合物を室温で30分間撹拌し、これにトリメチ
ルシリルブロミド（6.9ｇ）を撹拌下に20〜25℃
で30分間を要して加えた後、さらに25〜27℃で５
時間撹拌を続ける。７―〔２―（２―ホスホノエ
トキシイミノ）―２―（２―ホルムアミドチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メ
チル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチ
ル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）を含有する反応液を濃縮し、残渣に冷却下
で、メタノール（100ml）、次いで濃塩酸（４ml）
を加え、室温で１時間撹拌する。その後、さらに
濃塩酸（２ml）を加え、室温で１時間撹拌し、得
られた混液を濃縮する。残渣に水（300ml）を加
えた後、炭酸水素ナトリウムでPH２〜３に調整し
てからこの混液をカラムクロマトグラフイー（非
イオン性吸着樹脂、ダイアイオンHP20、商標、
三菱化成工業株式会社製）（200ml）に付す。この
カラムを水（１）で洗浄後、10％メタノール
（１）、次いで20％メタノール（１）、次いで
30％メタノール（１）、次いで40％メタノール
（２）で溶出すると、標題化合物（3.7ｇ）を得
る。mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 1.7〜2.4（2H，ｍ），3.7（2H，broad ｓ），
3.92（3H，ｓ），4.0〜4.6（4H，ｍ），5.10
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.77（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），6.77（1H，ｓ） 参考例 11 ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミノ）―
２―（２―アミノチアゾール―４―イル）アセト
アミド〕―３―（２―ベンゾチアゾリル）チオメ
チル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）の製造。 ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ）｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―セフ
エム―４―カルボン酸（シン異性体）（2.59ｇ）、
塩化メチレン（30ml）およびビス（トリメチルシ
リル）アセトアミド（2.14ｇ）の混合物を18〜20
℃で30分間撹拌し、これにトリメチルシリルブロ
ミド（2.68ｇ）を加え、さらに19〜21℃で５時間
45分撹拌する。７―〔２―（２―ホスホノエトキ
シイミノ）―２―（２―ホルムアミドチアゾール
―４―イル）アセトアミド〕―３―（２―ベンゾ
チアゾリル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）を含有する反応液を、濃
縮し、残渣に、メタノール（30ml）次いで濃塩酸
（３ml）を加え、室温で1.5時間撹拌した後、溶媒
を留去する。残渣を炭酸水素ナトリウム水溶液に
溶解した後、これを酢酸エチルで洗浄し、次いで
10％塩酸で約PH２に調整する。生じた析出物を冷
却下に取し、水洗し減圧下に乾燥した後、メタ
ノール（20ml）に懸濁し、これに濃塩酸を加え完
全に溶解させる。この溶液を活性炭処理し、次い
でこれに氷冷下に濃アンモニア水とメタノール
（１：５）の混液を滴下して、PH３〜４とし、生
じた析出物を冷却下に取すると、標題化合物の
粉末（0.85ｇ）を得る。mp170〜210℃。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 N.M.R.（73℃，D2O＋NaHCO3，δ） 1.9〜2.4（2H，ｍ），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.92（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） 参考例 12 ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチアゾー
ル―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチ
ル―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）
の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモイ
ルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミドチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異
性体）（2.7ｇ）のメタノール（40ml）懸濁液に撹
拌下に室温で濃塩酸（1.09ml）を加え、次いで室
温で２時間撹拌する。反応液を傾しや法によりメ
タノール層と析出物（アメ状）に分離する。メタ
ノール層は、活性炭処理後、濃縮し、その残渣を
水に溶解し、炭酸水素ナトリウム水溶液でPH３〜
４に調整する。生じた析出物を取すると、標題
化合物の粉末（0.6ｇ）を得る。また一方先に分
離した析出物（アメ状）は、メタノール、濃塩酸
および水の混液に溶解し、これを室温で１時間撹
拌し、活性炭処理した後、濃縮する。残渣を水に
溶解した後これに冷却下で炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え、PH３〜４に調勢し、析出物を取す
ると、標題化合物の粉末（1.0ｇ）を得る。総収
量（1.6ｇ）。mp180〜210℃。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.97（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.90（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.97（1H，ｓ），7.47（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝４，８Hz），8.0〜8.5（2H，ｍ），8.85
（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） 参考例 13 ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカルボ
ニルフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―
２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）
アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム
―４―カルボン酸（シン異性体）（2.0ｇ）をトリ
フルオロ酢酸（７ml）とアニソール（0.35ml）の
混液に約10℃で撹拌下に加えた後、５〜10℃で
1.5時間、次いで室温で15分間撹拌する。反応液
を濃縮し、残渣にメタノール（30ml）および濃塩
酸（2.33ml）を加え、これを室温で1.5時間撹拌
した後、濃縮する。残渣に炭酸水素ナトリウム水
溶液および酢酸エチルを加えてよく振とうしたの
ち、水層（PH７〜８）を分離し、これに酢酸エチ
ル次いで撹拌下に10％塩酸を加え、水層のPHを２
〜３とする。得られた混液を酢酸エチル層と析出
物と水層に分離する。酢酸エチル層（50ml）に炭
酸水素ナトリウム水溶液を加え、よく振とうした
のち水層を分離し、これを先に得られた析出物
（1.2ｇ）の炭酸水素ナトリウム水溶液混合物と合
する。この混液（150ml）に酢酸エチル（300ml）
次いで撹拌下に10％塩酸を加え水層のPHを２〜３
としたのち、酢酸エチル層を分離し、これを塩化
ナトリウム水溶液で洗浄後、乾燥してから濃縮す
る。残渣をジエチルエーテルで洗浄すると、標題
化合物（0.8ｇ）を得る。mp220〜230℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 N.M.R.（d6―DMSO＋D2O，δ） 8.54（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），7.99（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz），7.62（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），7.20
（1H，ｔ，Ｊ＝８Hz），6.91（1H，ｓ），5.89
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.16（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），4.74（2H，ｓ），4.37，4.22（2H，
ABq，Ｊ＝13Hz），3.94（3H，ｓ），3.75，
3.60（2H，ABq，Ｊ＝17Hz） 参考例 14 参考例７〜13と同様にして以下の化合物を得
る。 (1) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）、mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.90（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.7（2H，broad ｓ），
5.15（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.83（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.93（1H，ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (2) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）、mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 3.74，3.64（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.95
（3H，ｓ），4.26，4.35（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.85（2H，ｓ），5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.84（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.88（1H，ｓ），7.26（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），
7.50（1H，ｄ，Ｊ＝３Hz），9.80（1H，ｄ，Ｊ
＝８Hz） (3) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラ―ゾール―５―イル）チオメチル―３
―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、
mp161〜170℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 N.M.R.（d6―DMSO，δ） 3.56，3.76（2H，ABq，Ｊ＝18Hz），3.90
（3H，ｓ），4.20，4.38（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz），4.73（2H，ｓ），5.14（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.80（1H，ｄ，ｄ，Ｊ＝５，８Hz），
6.84（1H，ｓ），7.24（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），
7.80（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz） (4) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）、mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1460，1595，1540cm-1 N.M.R.（d6−DMSO，δ） 9.56（1H，ｄ，Ｊ＝９Hz），8.90（1H，broad
ｓ），7.91（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），7.44（1H，
ｄ，ｄ，Ｊ＝２，９Hz），6.96（1H，ｄ，Ｊ
＝９Hz），6.82（1H，ｓ），5.85（1H，ｄ，ｄ，
Ｊ＝５，８Hz），5.13（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
4.6〜4.0（4H，ｍ），3.93（3H，ｓ），3.1〜3.9
（4H，ｍ） 参考例 15 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラ
ゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―クロ
ロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸（シン異性体）
（653mg）、１―メチル―1H―テトラゾール―５―
チオール（140mg）および炭酸水素ナトリウム
（190mg）をリン酸緩衝液（PH6.4）（50ml）に加え
て得られた溶液を60〜65℃で５時間撹拌する。反
応液を冷却後、酢酸エチルで洗浄し、次いで酢酸
エチルを積層し、10％塩酸でPH２に調整する。酢
酸エチル層を分取し、これを水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を留去する。残渣を
ジエチルエーテルで粉末化し、これをジエチルエ
ーテルで洗浄後、取乾燥すると標題化合物
（350mg）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1780，1680cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 3.7（2H，broad ｓ），3.92（3H，ｓ），4.3
（2H，broad ｓ），4.8（2H，broad ｓ），
5.18（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.8〜7.2（2H，ｍ），7.57（1H，
ｓ），7.97（1H，ｄ，Ｊ＝２Hz），8.53（1H，
ｓ） 参考例 16 参考例15と同様にして以下の化合物を得る。 (1) ７―〔２―（０，０―ジエチルホスホノ）メ
トキシイミノ―２―（２―ホルムアミドチアゾ
ール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１―
メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チオ
メチル―３―セフエム―４―カルボン酸（シン
異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1730，1690cm-1 (2) ７―〔２―｛２―０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 1785，1730，1690cm-1 (3) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（２―ベンゾチアゾリル）チオメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）の製
造。 mp132〜150℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3200，1790，1690cm-1 (4) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバモ
イルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムアミ
ドチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イ
ル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）の製造。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680cm-1 (5) ７―〔２―｛Ｎ―（２―第３級ブトキシカル
ボニルフエニル）カルバモイルメトキシイミ
ノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４
―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）。
mp175〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3500〜3100，1790，1700，1540cm-1 (6) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1785，1690cm-1 (7) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホルムア
ミドチアゾール―４―イル）アセトアミド）―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1700，1670cm-1 (8) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，５
―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシイ
ミノ｝―２―（２―ホルムアミドチアゾール―
４―イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル
―1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル
―３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性
体）。 (9) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。粉末。 I.R.（ヌジヨル） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 (10) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１―メチル―1H―テト
ラゾール―５―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。 mp165〜175℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1780，1680，1640，1610cm-1 (11) ７―〔２―ホスホノメトキシイミノ―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 mp210〜220℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 1770，1650cm-1 (12) ７―〔２―｛２―（０，０―ジエチルホスホ
ノ）エトキシイミノ｝―２―（２―アミノチア
ゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―（１
―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）チ
オメチル―３―セフエム―４―カルボン酸の塩
酸塩（シン異性体）。mp170〜180℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1720，1680，1630cm-1 (13) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミ
ノ）―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―1H
―テトラゾール―５―イル）チオメチル―３―
セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）。 mp180〜210℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3300，1780，1670，1640cm-1 (14) ７―〔２―（２―ホスホノエトキシイミ
ノ）―２―（２―アミノチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕―３―（２―ベンゾチアゾ
リル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。mp170〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 1780，1680，1630cm-1 (15) ７―〔２―｛Ｎ―（３―ピリジル）カルバ
モイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノチ
アゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチール―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）。mp180〜210℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3340，3230，1770，1677，1623，1540cm-1 (16) ７―〔２―｛Ｎ―（２―カルボキシフエニ
ル）カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２
―アミノチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾール
―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。mp220〜230℃（分
解）。 I.R.（ヌジヨール） 3400〜3100，1782，1680，1538cm-1 (17) ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）
カルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ア
ミノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―
３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボ
ン酸（シン異性体）。mp191〜195℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1680cm-1 (18) ７―〔２―｛Ｎ―（２―チアゾリル）カル
バモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミノ
チアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３―
（１―メチル―1H―テトラゾール―５―イル）
チオメチル―３―セフエム―４―カルボン酸
（シン異性体）。mp180〜185℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，3230，1780，1680，1630，1550cm-1 (19) ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―３，
５―ジクロロフエニル）カルバモイルメトキシ
イミノ｝―２―（２―アミノチアゾール―４―
イル）アセトアミド〕―３―（１―メチル―
1H―テトラゾール―５―イル）チオメチル―
３―セフエム―４―カルボン酸（シン異性体）、 mp161〜170℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3300，3200，1775，1675cm-1 (20) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―
クロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。mp220〜230℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 参考例 17 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエニ
ル）―５―メチルイソキサゾール―４―イル｝カ
ルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―（２―ホ
ルムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―２―
イル）チオメチル―３―セフエム―４―カルボン
酸（シン異性体）の製造。 ７―〔２―（２―アミノエトキシイミノ）―２
―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾー
ル―２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸のギ酸塩（シン異性体）（0.5ｇ）およ
びビス（トリメチルシリル）アセトアミド（1.5
ｇ）の乾燥テトラヒドロフラン（10ml）溶液を０
〜５℃で撹拌後、これに３―（２―クロロフエニ
ル）―５―メチルイソキサゾール―４―カルボニ
ルクロリド（0.23ｇ）を加える。得られた混液を
０〜５℃で５時間撹拌する。反応液に水（20ml）
および酢酸エチル（20ml）を加える。有機層を分
取し、これを飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下に
溶媒を留去して標題化合物（0.4ｇ）を得る。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1780，1660，1540cm-1 N.M.R.（DMSO−d6，δ） 2.43（3H，ｓ），3.17−3.73（4H，ｍ），4.07
（2H，ｍ），4.42（1H，ｑ，Ｊ＝13Hz），5.12
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.78（1H，dd，Ｊ＝
５および８Hz），7.38（1H，ｓ），7.45（4H，
ｓ），8.47（1H，ｓ），9.48（1H，ｓ），9.52
（1H，ｄ，Ｊ＝８Hz），12.5（1H，broad ｓ） 参考例 18 参考例17と同様にして以下の化合物を得る。 (1) ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル｝カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―
２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1770，1650，1520cm-1 (2) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕― ３―（１―メチル―1H―テトラゾール―５
―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カル
ボン酸（シン異性体）。粉末。 I.R.（ヌジヨール） 3220，1797，1697，1650，1595，1535，1470
cm-1 (3) ７―〔２―｛２―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロベンズアミド）エトキシイミノ｝―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１―メチル―1H―テトラゾー
ル―５―イル）チオメチル―３―セフエム―４
―カルボン酸（シン異性体）。 mp220―230℃（分解） I.R.（ヌジヨール） 3330，1789，1678，1640，1595，1540cm-1 参考例 19 (1) 参考例１―５と同様にして次の化合物を得
る。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―ホルムアミドチアゾール―４―イ
ル）アセトアミド〕セフアロスポラン酸（シン
異性体）。 mp170〜190℃（着色分解） I.R.（ヌジヨール） 3250，1785，1740，1670cm-1 N.M.R（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.02（3H，ｓ），3.46，3.65（2H，ABq，Ｊ＝
17Hz）4.77，5.02（2H，ABq，Ｊ＝13Hz），
4.85（2H，ｓ）5.22（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），
5.91（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）6.85〜7.15（2H，
ｍ），7.57（1H，ｓ），8.00（1H，ｄ，Ｊ＝２
Hz），8.54（1H，ｓ）， (2) 参考例１―５および７―13と同様にして次の
化合物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（２―ヒドロキシ―５―ク
ロロフエニル）カルバモイルメトキシイミノ｝
―２―（２―アミノチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕セフアロスポラン酸（シン異性
体）。 mp＞250℃。 I.R.（ヌジヨール） 3330，1777，1738，1670cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.03（3H，ｓ），3.45，3.62（2H，ABq，Ｊ＝
14Hz），4.72，4.97（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），
5.17（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），5.87（1H，ｄ，Ｊ
＝５Hz），6.6〜7.1（3H，ｍ），8.00（1H，ｄ，
Ｊ＝２Hz） (3) 参考例１―５および15と同様にして次の化合
物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―ホル
ムアミドチアゾール―４―イル）アセトアミ
ド〕―３―（５―メチル―１，３，４―チアジ
アゾール―２―イル）チオメチル―３―セフエ
ム―４―カルボン酸（シン異性体）。mp160℃
（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3300，1735，1680cm-1 Ｎ，Ｍ，R.（d6−DMSO＋D2O，δ） 2.72（3H，ｓ），3.75（2H，broad ｓ），4.30，
4.57（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），4.83（2H，
broad ｓ），5.27（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.00
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），7.0〜8.0（5H，ｍ），
8.58（1H，ｓ） (4) 参考例１―５，７―13および15と同様にして
次の化合物を得る。 ７―〔２―｛Ｎ―（３―クロロフエニル）カ
ルバモイルメトキシイミノ｝―２―（２―アミ
ノチアゾール―４―イル）アセトアミド〕―３
―（５―メチル―１，３，４―チアジアゾール
―２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―
カルボン酸（シン異性体）。mp173℃（分解）。 I.R.（ヌジヨール） 3320，1767，1675cm-1 N.M.R.（d6−DMSO＋D2O） 2.70（3H，ｓ），3.60，3.77（2H，ABq，Ｊ＝
18Hz），4.22，4.48（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），
4.77（2H，broad ｓ），5.20（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz），5.88（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz），6.93（1H，
ｓ），7.0〜7.9（4H，ｍ） (5) 参考例１―５および15と同様にして次の化合
物を得る。 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル｝カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―ホルムアミドチアゾール―４―イル）ア
セトアミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾ
ール―２―イル）チオメチル―３―セフエム―
４―カルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1780，1660，1540cm-1 (6) 参考例１―５，７―13および15と同様にして
次の化合物を得る。 ７―〔２―〔２―〔｛３―（２―クロロフエ
ニル）―５―メチルイソキサゾール―４―イ
ル〕カルボキサミド〕エトキシイミノ〕―２―
（２―アミノチアゾール―４―イル）アセトア
ミド〕―３―（１，３，４―チアジアゾール―
２―イル）チオメチル―３―セフエム―４―カ
ルボン酸（シン異性体）。 I.R.（ヌジヨール） 3400―3100，1770，1650，1520cm-1 N.M.R.（DMSO−d6，δ） 3.17―3.87（4H，ｍ），4.1（2H，ｍ），4.45
（2H，ｑ，Ｊ＝14Hz），5.17（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz），5.80（1H，dd，Ｊ＝５および８Hz），
6.80（1H，ｓ），7.55（4H，ｓ），9.50（1H，
ｄ，Ｊ＝８Hz），9.56（1H，ｓ）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ［式中、R1はアミノ基または保護されたアミ
ノ基、 R2は式―CONH―R5（式中、R5は適当な置換
基を有していてもよいアリール基、ピリジル基も
しくはチアゾリル基を意味する）で示される基、 式【式】 （式中、R6は水素またはアルキル基を意味す
る）で示される基、または 式―NHCO―R5（式中、R5は適当な置換基を有
していてもよいアリール基を意味する）で示され
る基、 Ａはアルキレン基をそれぞれ意味する］ で示されるアミノチアゾリル酢酸誘導体およびそ
の塩類。 ２ R1がアミノ基またはアルカノイルアミノ基、 R2が式―CONH―R5（式中、R5は置換基とし
て１〜３個のハロゲン、ヒドロキシ基、カルボキ
シ基もしくはアルコキシカルボニル基を有するフ
エニル基、ピリジル基またはチアゾリル基を意味
する）で示される基、 式【式】 （式中、R6はアルキル基を意味する）で示さ
れる基、または 式―NHCO―R5 （式中、R5はハロゲンおよびヒドロキシ基を
それぞれ１個有するフエニル基を意味する）で示
される基である特許請求の範囲第１項に記載の化
合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB30080/78 | 1978-07-17 | ||
| GB7830080 | 1978-07-17 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9113379A Division JPS5519267A (en) | 1978-07-17 | 1979-07-17 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid, its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism comprising them as active constituents |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263577A JPS6263577A (ja) | 1987-03-20 |
| JPH0134989B2 true JPH0134989B2 (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=10498466
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9113379A Granted JPS5519267A (en) | 1978-07-17 | 1979-07-17 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid, its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism comprising them as active constituents |
| JP61162886A Granted JPS6263577A (ja) | 1978-07-17 | 1986-07-10 | アミノチアゾリル酢酸誘導体 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9113379A Granted JPS5519267A (en) | 1978-07-17 | 1979-07-17 | 3,7-disubstituted-3-cephem-4-carboxylic acid, its salts, their preparation, and preventive and remedy for microbism comprising them as active constituents |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US4288435A (ja) |
| EP (2) | EP0059486B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5519267A (ja) |
| AT (1) | ATE15897T1 (ja) |
| DE (1) | DE2967356D1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE878514A (fr) * | 1978-09-04 | 1980-02-29 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Procede de preparation de composes d'acide 3-cephem-4-carboxylique a disubstitution en positions 3 et 7, nouveaux produits ainsi obtenus et leur utilisation pour leur activite antibacterienne |
| US4408042A (en) * | 1979-10-12 | 1983-10-04 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephem compounds |
| GB2071664B (en) * | 1980-03-14 | 1984-03-21 | Squibb & Sons Inc | Phosphonic acid derivatives of 7-(2-amino-4- thiazolyl)oximino) cephalosporins |
| US4416879A (en) * | 1980-09-08 | 1983-11-22 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephem compounds |
| JPS5910591A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-20 | Meiji Seika Kaisha Ltd | １−オキサデチアセフアロスポリン化合物及びそれを含む抗菌剤 |
| IE55406B1 (en) * | 1982-08-07 | 1990-09-12 | Tanabe Seiyaku Co | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
| US4647660A (en) * | 1985-05-02 | 1987-03-03 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 3-acylamino-2-oxo-1-azetidinesulfonic acids |
| US4754041A (en) * | 1985-06-17 | 1988-06-28 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | 3-acylamino-2-oxo-1-azetidinesulfonic acids |
| EP0241901B1 (en) * | 1986-04-14 | 1994-08-24 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
| GB2214184A (en) * | 1988-01-06 | 1989-08-31 | Ciba Geigy Ag | Amino-oxyalkyl compounds and intermediates therefor |
| WO1992002523A1 (fr) * | 1990-08-02 | 1992-02-20 | Sankei Pharmaceutical Company Limited | Nouveau compose de cephalosporine |
| KR950013578B1 (ko) * | 1993-04-10 | 1995-11-09 | 주식회사럭키 | 신규 티아(디아)졸 초산의 반응성 티오포스페이트 유도체 및 그의 제조방법 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3870713A (en) * | 1970-12-07 | 1975-03-11 | Pfizer | Phosphono substituted alkylcephalosporins |
| US4093803A (en) * | 1971-05-14 | 1978-06-06 | Glaxo Laboratories Limited | 7β-[2-Etherified oximino-2-(thienyl-, furyl- or pyridylacetamido)] cephalosporins |
| DK154939C (da) * | 1974-12-19 | 1989-06-12 | Takeda Chemical Industries Ltd | Analogifremgangsmaade til fremstilling af thiazolylacetamido-cephemforbindelser eller farmaceutisk acceptable salte eller estere deraf |
| US4203899A (en) * | 1974-12-19 | 1980-05-20 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Thiazolylacetamido compounds |
| GB1555471A (en) * | 1975-06-19 | 1979-11-14 | Glaxo Lab Ltd | 7 carbamoylalkoxyimino acetamido 3 em 4 carboxylic acidsand derivatives thereof |
| DE2760123C2 (de) * | 1976-01-23 | 1986-04-30 | Roussel-Uclaf, Paris | 7-Aminothiazolyl-syn-oxyiminoacetamidocephalosporansäuren, ihre Herstellung und sie enthaltende pharmazeutische Zusammensetzungen |
| US4166115A (en) * | 1976-04-12 | 1979-08-28 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | Syn 7-oxoimino substituted derivatives of cephalosporanic acid |
| GB1576625A (en) * | 1976-04-12 | 1980-10-08 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Syn isomer 3,7 disubstituted 3 cephem 4 carboxylic acid compounds and processes for the preparation thereof |
| FR2384782A1 (fr) * | 1977-03-25 | 1978-10-20 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-acetoxymethyl 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
| SE439312B (sv) | 1977-03-25 | 1985-06-10 | Roussel Uclaf | Sett att framstella nya oximderivat av 3-acetoximetyl-7-aminotiazolylacetamido cefalosporansyra |
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPS609719B2 (ja) | 1977-08-06 | 1985-03-12 | 武田薬品工業株式会社 | セフアロスポリン誘導体およびその製造法 |
| FR2432521A1 (fr) * | 1978-03-31 | 1980-02-29 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes o-substituees derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
-
1979
- 1979-07-11 EP EP82102370A patent/EP0059486B1/en not_active Expired
- 1979-07-11 EP EP79102386A patent/EP0009548B1/en not_active Expired
- 1979-07-11 DE DE7979102386T patent/DE2967356D1/de not_active Expired
- 1979-07-11 AT AT82102370T patent/ATE15897T1/de active
- 1979-07-11 US US06/056,504 patent/US4288435A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-17 JP JP9113379A patent/JPS5519267A/ja active Granted
-
1981
- 1981-04-29 US US06/258,661 patent/US4506076A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-09-13 US US06/531,669 patent/US4599426A/en not_active Expired - Fee Related
-
1986
- 1986-07-08 US US06/883,165 patent/US4782158A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-07-10 JP JP61162886A patent/JPS6263577A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4599426A (en) | 1986-07-08 |
| EP0009548B1 (en) | 1985-01-16 |
| EP0059486B1 (en) | 1985-10-02 |
| JPS5519267A (en) | 1980-02-09 |
| EP0059486A1 (en) | 1982-09-08 |
| ATE15897T1 (de) | 1985-10-15 |
| EP0009548A2 (en) | 1980-04-16 |
| JPS6263577A (ja) | 1987-03-20 |
| US4288435A (en) | 1981-09-08 |
| JPH0144715B2 (ja) | 1989-09-29 |
| DE2967356D1 (en) | 1985-02-28 |
| EP0009548A3 (en) | 1980-06-25 |
| US4782158A (en) | 1988-11-01 |
| US4506076A (en) | 1985-03-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03135946A (ja) | 置換酢酸誘導体 | |
| JPS6337114B2 (ja) | ||
| JPS63264471A (ja) | チアジアゾール酢酸誘導体 | |
| JPH0641473B2 (ja) | 新規セフエム化合物およびその製造法 | |
| JPS633867B2 (ja) | ||
| JPH0314832B2 (ja) | ||
| EP0184227B1 (en) | 2-oxymino 2-aminothiazolyl acetic acid derivatives and processes for preparation thereof | |
| JPS6335628B2 (ja) | ||
| JPH0144715B2 (ja) | ||
| US4761410A (en) | Cephem Compounds | |
| JPH031314B2 (ja) | ||
| JPH0240678B2 (ja) | ||
| JPS5932475B2 (ja) | ２−アルキル−７−置換−２もしくは３−セフエム−４−カルボン酸化合物類およびその塩類およびそれらの製造法 | |
| JPH0686463B2 (ja) | 新規セフェム化合物、その製造法及び抗菌剤 | |
| JPH0123474B2 (ja) | ||
| KR840001616B1 (ko) | 새로운 세펨화합물의 제조 방법 | |
| JPS6133035B2 (ja) | ||
| JPH0526795B2 (ja) | ||
| KR820001323B1 (ko) | 세팔로스포린 유도체의 제조방법 | |
| JPS61243090A (ja) | 新規セフエム化合物およびその塩 | |
| GB2031413A (en) | 3,7-Disubstituted-3-cephem-4- carboxylic Acid Compounds and Processes for the Preparation Thereof | |
| JPS60105683A (ja) | 新規セフエム化合物及びその製造法 | |
| JPH0322393B2 (ja) | ||
| JPS6146477B2 (ja) | ||
| JPH0158193B2 (ja) |