JPH0139655B2 - - Google Patents

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JPH0139655B2
JPH0139655B2 JP57167065A JP16706582A JPH0139655B2 JP H0139655 B2 JPH0139655 B2 JP H0139655B2 JP 57167065 A JP57167065 A JP 57167065A JP 16706582 A JP16706582 A JP 16706582A JP H0139655 B2 JPH0139655 B2 JP H0139655B2
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JP
Japan
Prior art keywords
etching
long strip
strip
sealed chamber
mask
Prior art date
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Expired
Application number
JP57167065A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5956750A (ja
Inventor
Hiromichi Yoshida
Takashi Suzumura
Koichi Kayane
Shigeo Hagitani
Mitsuhiko Sugyama
Mamoru Onda
Fumio Nakano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP57167065A priority Critical patent/JPS5956750A/ja
Publication of JPS5956750A publication Critical patent/JPS5956750A/ja
Publication of JPH0139655B2 publication Critical patent/JPH0139655B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W70/00Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
    • H10W70/01Manufacture or treatment
    • H10W70/04Manufacture or treatment of leadframes
    • H10W70/042Etching

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は例えば表面を部分的にアルミで被覆し
た半導体用リードフレームを製造する場合におい
て、アルミを全面あるいは長手方向にストライプ
状に蒸着あるいはクラツド被覆した複合金属条か
ら不要部分のアルミを部分的に除去する様な場合
に適用することができる長尺条体の連続部分エツ
チング法に関するものである。
従来、トランジスタや集積回路(IC)の組立
てに使用されるリードフレームあるいは電気的端
子用リードフレームの製造には、ベース金属条の
一部に異種金属をクラツトあるいは蒸着等により
被覆した複合属条が素材として用いられる。異種
金属としては、主に金、銀、銅、アルミ等の金属
が用いられるが、これらは貴金属高謄の折から
金、銀から銅、アルミ等へと安いものに変わる傾
向にあり、その被覆部位も機能部あるいは必要部
に限るなど全面あるいはストライプ状被覆からス
ポツト状被覆に変わる傾向にある。
現在、このような複合金属条としてベース金属
条に異種金属をストライプ状あるいはスポツト状
に被覆したものが多く用いられ、しかもこの場合
被覆された異種金属の寸法精度は厚さを含めて極
めてシビアなものが要求されるようになつてきて
いる。
しかるに、ベース金属条に異種金属をスポツト
状に高精度に被覆接着することは、極めて困難な
ことであり、メツキの場合はともかく、クラツト
あるいは蒸着等の場合のやり方としてはベース金
属条に異種金属を全面被覆した後、印刷−エツチ
ング法により、不要部分の異種金属を部分的に除
去することが一般的に行われている。
ところで、印刷−エツチング法では、複合金属
条の必要部にエツチングレジストインキを塗布し
た後、全体をエツチング液中に浸漬する方法がと
られるが、このエツチング−印刷法では、少なく
ともインクを塗布、乾燥、エツチング及びインク
剥離の4工程を要し、さらに、各工程は厳しい品
質管理に基づき装置の保守、点検を要することか
ら複合金属条の各工程における所要時間が不規則
になるため、これを一ライン上で行うことは極め
て困難であり、複数のラインで行われるのが普通
一般である。
したがつて、前記印刷−エツチング法の場合は
工程の途中で複合金属条の巻き取り、搬出、巻き
戻しという移動のための操作が必ず必要になる
が、この移動操作により作業効率の低下と共に複
合金属条の損傷及びゴミ等の付着による歩留り並
びに品質の低下を招くという問題がある。
また、印刷−エツチング法の場合、インクを使
用する関係から作業環境上及び経済上の問題もあ
る。
本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解
消し、密閉室内において機械的マスクを用いてエ
ツチングする方式を採用することにより、インキ
等の塗布が不要となるほか一ライン上で連続して
エツチング処理できるので品質及び製造効率の著
しい向上を図ることができる長尺条体の連続部分
エツチング法に提供することにある。
本発明の連続部分エツチング法は、エツチング
処理の対象である被覆金属条からなる長尺条体を
用意し、前記長尺条体をエツチング処理を行うた
めの密閉室を通して間欠的に移動させる工程と、
前記密閉室内に機械的マスクを長尺条体に対し当
接及び離接可能に配置する行程と、長尺条体が密
閉室内を停止した状態のとき、密閉室内の前記機
械的マスクを長尺条体のエツチング不要部分に当
接すると同時にそれ以外の要エツチング部分をエ
ツチング液に接触させることによりエツチング処
理を行い、エツチング処理後、密閉室からエツチ
ング液を排出すると共に機械的マスクを長尺条体
から離接する行程と、長尺条体を間欠的に移動さ
せることにより前記エツチング行程を繰り返し行
う行程からなることを特徴とするものである。
本発明においては、長尺条体を間欠的に移動さ
せつつこれに有限長の機械的マスクを用いてエツ
チング処理を行うことにより、インキ等の塗布処
理を不要とできるほか、機械的マスク方式ではエ
ツチング処理を一ライン上で連続して行うことが
できるので、エツチング処理を効率的に行うこと
ができると共に品質の向上を図ることができ、さ
らに、密閉室内に前記マスクを配置してエツチン
グ処理を行うことによりエツチング液の飛散を防
止し、作業環境を改善し、これによりはじめて工
業的に連続してエツチング処理を行うことができ
るようにしたものである。
機械的マスクは、これを当接した部分の長尺条
体の表面がエツチング液に触れるのを防止するた
めのものであり、機械的マスクによりマスク方法
としては次のような方法が考えられる。
(1) ゴム、樹脂材料等の軟質弾性体、あるいは金
属等の剛体からなる機械的マスクを用い、これ
を長尺条体のエツチング不要部分に押し当てる
方法。
(2) 上記(1)の方法に加え、空気等のガス体を利用
してエツチング不要部分に対するエツチング液
の侵入を気密的に防止する方法。
以下、本発明を添付図面に示す実施例に基づい
て説明する。
第1図及び第2図は、本発明において使用され
るエツチング装置の断面図及び上面図である。こ
れらの図において、長尺条体1としては例えば鉄
−ニツケル合金製のベース金属の片側全面にアル
ミを被覆た複合金属条が用いられる。前記長尺条
体1はエツチング処理を行うための密閉室4を通
して間欠的に移動されるが、その一部は前記密閉
室4内に位置される。密閉室4はベースト2と上
蓋3からなり、その内部には長尺条体1の一部と
共に機械的マスク5が2個配置される。機械的マ
スク5は第3図に示すように本体部6と先端部1
4からなり、第3図の場合先端部14は約7mm角
のゴム等の軟質弾性体によつて構成される。機械
的マスク5の本体部6は、上蓋3によつて長尺条
体1に対する当接の真直性を保持されながら摺動
可能に設けられる。機械的マスク5の長尺条体1
に対する当接及び離接はエアシリンダ7により行
われる。密閉室4はその密閉度を高く保つため
に、必要に応じてパツキング8が配置され、ま
た、長尺条体1の移動に応じてエアシリンダ10
により解放されるようになつている。
次に、エツチング処理であるが、第1図に示す
ようにエアシリンダ7により機械的マスク5の先
端部を長尺条体1の所定部分に当接した状態にお
いて、上蓋3に設けられた入口11からエツチン
グ液を注入もしくは圧入し、ここで、エツチング
処理中は密閉室4内に空間9をエツチング液で満
たすために上蓋3に設けられた出口12からエツ
チング液を排出し、エツチング終了後はベース2
に設けられた出口13からエツチング液を排出す
ることにより、エツチング処理を行う。本実施例
の場合、アルミを被覆した長尺条体1に対するマ
スク5の押し付け圧力を3〜5Kgfとすることに
より、エツチングの精度としてはきわめて良好な
結果を得ることができた。
本実施例においては、マスク5の数は2個であ
るが、この数は密閉室4の空間構成部の製作精度
が許すかぎり増やすことができる。マスク5の先
端部が長尺条体1に一様に当たるように、ベース
2と長尺条体1との間に軟質シート材を挿入して
もよい。また、エツチング終了後は、本装置によ
る密閉室4の空間9を利用して洗浄水により洗浄
処理をすることもできる。
第4図は本発明の他の実施例を示し、マクスの
本体部6′の先の先端部15がステンレス等剛体
によつて構成され、かつ本体部6′の内部が外部
と導通する中空部16を有する構造となつている
ものである。このマスクの本体部6′によれば、
エツチング処理に際し、中空部16を通して0.05
〜0.9気圧(ゲージ圧)の内圧をかけることによ
り、マスク内へのエツチング液の侵入を確実に防
止することができ、その結果、境界のきわめて鮮
明なエツチング処理面を得ることができる。17
は長尺条体1に設けられたアルミ被覆である。
第5図及び第6図は、それぞれ本実施例に基づ
いてエツチング処理された製品の例を示す。すな
わち、第5図によれば、アルミ被覆金属条体から
なる長尺条体1に上記マスクの本体部6あるいは
6′を当接してエツチング処理を行い、必要なア
ルミ被覆部分をスポツト的に残してパターン化さ
せたICリードフレームを示す。第6図は前記リ
ードフレームをプレスにより打ち抜いて形成され
たICリードフレームを示す。
以上のように、本発明のエツチング法によれ
ば、長尺条体を間欠的に移動させつつこれに有限
長の機械的マスクを用いてエツチング処理を行う
ことにより、インキ等の塗布処理を不要とできる
ほか、機械的マスク方式ではエツチング処理を一
ライン上で連続して行うことができるので、エツ
チング処理を効果的に行うことができると共に品
質の向上を図ることができ、さらに、密閉室内に
前記マスクを配置してエツチング処理を行うこと
によりエツチング液の飛散を防止し、これにより
作業環境の問題を改善し、工業的かつ経済的には
じめて長尺条体に対しエツチング処理を行うこと
ができるようにしたものであり、その工業的価値
は従来の印刷−エツチング法と比較してきわめて
顕著なものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るエツチング装
置の断面図、第2図は第1図の上面図、第3図は
機械的マスクの正面図及び底面図、第4図は他の
機械的マスクノ断面図及び底面図、第5図及び第
6図はそれぞれエツチング処理を行つて製品化さ
れたICリードフレームの正面図である。 1:長尺条体、2:ベース、3:上蓋、4:密
閉室、5:機械的マスス、6:本体部、7,1
0:エアシリンダ、8:パツキン、9:密閉空
間、11:入口、12,13:出口。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 エツチング処理の対象である被覆金属条から
    なる長尺条体を用意し、前記長尺条体をエツチン
    グ処理を行うための密閉室を通して間欠的に移動
    させる工程と、前記密閉室内に機械的マスクを長
    尺条体に対し当接及び離接可能に配置する行程
    と、長尺条体が密閉室内を停止した状態のとき、
    密閉室内の前記機械的マスクを長尺条体のエツチ
    ング不要部分に当接すると同時にそれ以外の要エ
    ツチング部分をエツチング液に接触させることに
    よりエツチング処理を行い、エツチング処理後、
    密閉室からエツチング液を排出すると共に機械的
    マスクを長尺条体から離接する行程と、長尺条体
    を間欠的に移動させることにより前記エツチング
    行程を繰り返し行う行程からなることを特徴とす
    る長尺条体の連続部分エツチング法。
JP57167065A 1982-09-25 1982-09-25 長尺条体の連続部分エツチング法 Granted JPS5956750A (ja)

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JPS5956750A JPS5956750A (ja) 1984-04-02
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JPS6372889A (ja) * 1986-09-12 1988-04-02 Showa Alum Corp リ−ドフレ−ムの製造方法

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