JPH0443980B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0443980B2 JPH0443980B2 JP20477584A JP20477584A JPH0443980B2 JP H0443980 B2 JPH0443980 B2 JP H0443980B2 JP 20477584 A JP20477584 A JP 20477584A JP 20477584 A JP20477584 A JP 20477584A JP H0443980 B2 JPH0443980 B2 JP H0443980B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel
- etching
- alloy
- less
- carbon content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 30
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 13
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 9
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 241000490494 Arabis Species 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910000655 Killed steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02F—CYLINDERS, PISTONS OR CASINGS, FOR COMBUSTION ENGINES; ARRANGEMENTS OF SEALINGS IN COMBUSTION ENGINES
- F02F7/00—Casings, e.g. crankcases
- F02F7/0002—Cylinder arrangements
- F02F7/0019—Cylinders and crankshaft not in one plane (deaxation)
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は微細エツチング加工用素材に係り、更
に詳しくは高精細シヤドウマスクなどの微細エツ
チング加工用素材に関する。 〔従来の技術〕 IC用リードフレームの多くは板厚0.10〜0.30mm
の42合金と呼ばれる42％ニツケル−鉄合金をプレ
ス打ち抜き加工、あるいはエツチング加工によつ
て製造されている。またカラーブラウン管用シヤ
ドウマスクは従来アルミキルド鋼が用いられてき
たが、熱膨脹係数の小さいアンバー材（36％ニツ
ケル−鉄合金）も用いられるようになつてきた。
この他、表示管などの各種電子部品用素材として
50％ニツケル−鉄合金や52％ニツケル−鉄合金な
どのニツケル−鉄合金が用いられている。 こうしたエツチング加工によつて製造される製
品は寸法精度の許容範囲も大きく、エツチング加
工によつて作られる形状の直線性や真円性もそれ
ほど厳しいものではなく、従来技術によつて十分
に対応できるものであつた。ところがリードフレ
ームにおける100〜160ピンといつた多ピン製品、
シヤドウマスクにおける0.2〜0.3mmピッチの高精
細マスクなどの微細加工製品については次のよう
ないくつかの技術的問題点があつた。 第一にピツチの細かいリードフレームやシヤド
ウマスク、その他電子部品をエツチング加工する
と、エツチング時間が長くなることから、フオト
レジストと素材の密着力が低下し、エツチングに
よつて形成される製品の加工部の直線性や真円度
がそこなわれるという問題があつた。 第二にエツチングによつて形成される断面がア
ラビと呼ばれる状態になり、ガサツキが生じてし
まうという問題があつた。こうしたアラビは例え
ばシヤドウマスクにおいては微妙にムラに影響
し、マスク全体の品位が低下してしまうことにな
る。 第三にピン数の少ないリードフレームや民生用
シヤドウマスクでは実用上問題のなかつた大きさ
の介在物が多ピンのリードフレーム、高精細シヤ
ドウマスクでは問題となり、エツチング工程での
歩留りが低下するという問題があつた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 そこで本発明が解決しようとする問題点は上記
の従来の欠点を解消した微細エツチング加工用素
材を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は上記の問題点を解決すべく研究の結
果、素材中の炭素含有量を0.01％以下にし、且つ
JIS Ｇ 0555によつて規定される断面清浄度を
0.017％以下にすることにより、所期の目的を達
成し得ることを見いだし、かかる知見にもとづい
て本発明を完成したものである。 即ち、本発明の要旨は冷間圧延によつて製造さ
れる板厚0.020〜0.40mmの42％Ni−Fe合金または
36％Ni−Fe合金からなるエツチング加工用のニ
ツケル−鉄合金素材において、該素材中の炭素含
有量が0.01％以下であり、且つJIS Ｇ 0555によ
つて規定される断面清浄度を0.017％以下である
ことを特徴とする微細エツチング加工用素材であ
る。 ここで、42％Ni−Fe合金、36％Ni−Fe合金と
いうのは、たとえばMilitary規格（MIL−Ｉ−
23011C（1974年３月29日）「IRON−NICKEL
ALLOYS FOR SEALING TO GLASSES
AND CERAMICS」（Table Class5、
Class7参照））で規定される公知のいわゆる42％
合金、36％合金を意味し、具体的には、42％程度
のNiを含有する、あるいは36％程度のNiを含有
するNi−Fe合金を意味する。 〔作用〕 而して本発明において炭素含有量を0.01％以下
にすることによりエツチング速度は早められると
共にアラビが解消されるものである。 ニツケル−鉄合金のエツチング速度はニツケル
含有量によつて変わり、ニツケル含有量が少ない
ほど早くなる傾向はあるが、ニツケル含有量が50
％以下のニツケル−鉄合金について調べた結果、
複数のニツケル含有量が異なるニツケル−鉄合金
について炭素含有量が0.01％以下のときエツチン
グ速度が早いという共通の現象が認められた。 第１図は42％ニツケル−鉄合金についてもとめ
た炭素含有量によるエツチング速度の変化を示
す。 この図からあきらかなように炭素含有量が0.02
％のときのエツチング速度を１とすると0.01％以
下の炭素含有量のときには1.25〜1.30と炭素含有
量が0.02％の場合に比して25％〜30％早くなる。 又、第２図は、36％ニツケル−鉄合金について
もとめた炭素含有量によるエツチング速度の変化
を示す。36％ニツケル−鉄合金についても42％ニ
ツケル−鉄合金の場合も同様に炭素含有量が0.01
％以下のときにエツチング速度が早くなつてい
る。 更に炭素含有量を0.01％以下にすることにより
炭化物系介在物による不良が実質的に解消される
ものである。 第１表は0.3mmピツチ高精細シヤドウマスクの
炭化物系介在物による不良率と炭素含有量の関係
を示す。
に詳しくは高精細シヤドウマスクなどの微細エツ
チング加工用素材に関する。 〔従来の技術〕 IC用リードフレームの多くは板厚0.10〜0.30mm
の42合金と呼ばれる42％ニツケル−鉄合金をプレ
ス打ち抜き加工、あるいはエツチング加工によつ
て製造されている。またカラーブラウン管用シヤ
ドウマスクは従来アルミキルド鋼が用いられてき
たが、熱膨脹係数の小さいアンバー材（36％ニツ
ケル−鉄合金）も用いられるようになつてきた。
この他、表示管などの各種電子部品用素材として
50％ニツケル−鉄合金や52％ニツケル−鉄合金な
どのニツケル−鉄合金が用いられている。 こうしたエツチング加工によつて製造される製
品は寸法精度の許容範囲も大きく、エツチング加
工によつて作られる形状の直線性や真円性もそれ
ほど厳しいものではなく、従来技術によつて十分
に対応できるものであつた。ところがリードフレ
ームにおける100〜160ピンといつた多ピン製品、
シヤドウマスクにおける0.2〜0.3mmピッチの高精
細マスクなどの微細加工製品については次のよう
ないくつかの技術的問題点があつた。 第一にピツチの細かいリードフレームやシヤド
ウマスク、その他電子部品をエツチング加工する
と、エツチング時間が長くなることから、フオト
レジストと素材の密着力が低下し、エツチングに
よつて形成される製品の加工部の直線性や真円度
がそこなわれるという問題があつた。 第二にエツチングによつて形成される断面がア
ラビと呼ばれる状態になり、ガサツキが生じてし
まうという問題があつた。こうしたアラビは例え
ばシヤドウマスクにおいては微妙にムラに影響
し、マスク全体の品位が低下してしまうことにな
る。 第三にピン数の少ないリードフレームや民生用
シヤドウマスクでは実用上問題のなかつた大きさ
の介在物が多ピンのリードフレーム、高精細シヤ
ドウマスクでは問題となり、エツチング工程での
歩留りが低下するという問題があつた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 そこで本発明が解決しようとする問題点は上記
の従来の欠点を解消した微細エツチング加工用素
材を提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は上記の問題点を解決すべく研究の結
果、素材中の炭素含有量を0.01％以下にし、且つ
JIS Ｇ 0555によつて規定される断面清浄度を
0.017％以下にすることにより、所期の目的を達
成し得ることを見いだし、かかる知見にもとづい
て本発明を完成したものである。 即ち、本発明の要旨は冷間圧延によつて製造さ
れる板厚0.020〜0.40mmの42％Ni−Fe合金または
36％Ni−Fe合金からなるエツチング加工用のニ
ツケル−鉄合金素材において、該素材中の炭素含
有量が0.01％以下であり、且つJIS Ｇ 0555によ
つて規定される断面清浄度を0.017％以下である
ことを特徴とする微細エツチング加工用素材であ
る。 ここで、42％Ni−Fe合金、36％Ni−Fe合金と
いうのは、たとえばMilitary規格（MIL−Ｉ−
23011C（1974年３月29日）「IRON−NICKEL
ALLOYS FOR SEALING TO GLASSES
AND CERAMICS」（Table Class5、
Class7参照））で規定される公知のいわゆる42％
合金、36％合金を意味し、具体的には、42％程度
のNiを含有する、あるいは36％程度のNiを含有
するNi−Fe合金を意味する。 〔作用〕 而して本発明において炭素含有量を0.01％以下
にすることによりエツチング速度は早められると
共にアラビが解消されるものである。 ニツケル−鉄合金のエツチング速度はニツケル
含有量によつて変わり、ニツケル含有量が少ない
ほど早くなる傾向はあるが、ニツケル含有量が50
％以下のニツケル−鉄合金について調べた結果、
複数のニツケル含有量が異なるニツケル−鉄合金
について炭素含有量が0.01％以下のときエツチン
グ速度が早いという共通の現象が認められた。 第１図は42％ニツケル−鉄合金についてもとめ
た炭素含有量によるエツチング速度の変化を示
す。 この図からあきらかなように炭素含有量が0.02
％のときのエツチング速度を１とすると0.01％以
下の炭素含有量のときには1.25〜1.30と炭素含有
量が0.02％の場合に比して25％〜30％早くなる。 又、第２図は、36％ニツケル−鉄合金について
もとめた炭素含有量によるエツチング速度の変化
を示す。36％ニツケル−鉄合金についても42％ニ
ツケル−鉄合金の場合も同様に炭素含有量が0.01
％以下のときにエツチング速度が早くなつてい
る。 更に炭素含有量を0.01％以下にすることにより
炭化物系介在物による不良が実質的に解消される
ものである。 第１表は0.3mmピツチ高精細シヤドウマスクの
炭化物系介在物による不良率と炭素含有量の関係
を示す。
【表】
この表から明らかなように炭素含有量が0.01％
以下のとき炭化物系介在物による不良率は０％で
ある。 次に本発明においてJIS Ｇ 0555によつて規定
される断面清浄度を0.017％以下にすることによ
り、素材中の非金属介在物の存在が実質的に微細
加工の障害とならない程度に迄、素材中の非金属
介在物個数が減少せしめられるものである。 鉄−ニツケル系合金において、炭素含有量を
0.01％以下にした場合、素材中の非金属介在物は
Al，Si，Mn，Caといつた元素の酸化物が主体と
なる。これらの酸化物のうち10μm以上の大きさ
のものは微細加工上問題となるものである。 第２表にJIS Ｇ 0555に規定される非金属介在
物の断面清浄度と10μm以上の大きさをもつ非金
属介在物個数（10mm×10mmあたりの個数）との関
係を示す。
以下のとき炭化物系介在物による不良率は０％で
ある。 次に本発明においてJIS Ｇ 0555によつて規定
される断面清浄度を0.017％以下にすることによ
り、素材中の非金属介在物の存在が実質的に微細
加工の障害とならない程度に迄、素材中の非金属
介在物個数が減少せしめられるものである。 鉄−ニツケル系合金において、炭素含有量を
0.01％以下にした場合、素材中の非金属介在物は
Al，Si，Mn，Caといつた元素の酸化物が主体と
なる。これらの酸化物のうち10μm以上の大きさ
のものは微細加工上問題となるものである。 第２表にJIS Ｇ 0555に規定される非金属介在
物の断面清浄度と10μm以上の大きさをもつ非金
属介在物個数（10mm×10mmあたりの個数）との関
係を示す。
【表】
実施例 １
板厚0.13mmのNi％；35.7％、Ｃ％；0.004％であ
り、JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.004％の
ニツケル−鉄合金よりなる素材の一方の面に0.25
mmピツチで配列された多数の大円ドツト状開口歩
（直径0.150mm）を有する第１レジストパターンを
設け、他方の面に0.25mmピツチで配列された多数
の小円ドツト状開口部（直径0.090mm）を有する
第２レジストパターンを設け、液温60℃の
46°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングして大孔部の口
径0.220mm、小孔部の口径0.110mmの開孔を多数エ
ツチング加工し、製品を得た。 実施例 ２ 板厚0.15mmのNi％；41.5％、Ｃ％；0.007％、
JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.008％のニツ
ケル−鉄合金よりなる素材の両面に160ピンのリ
ードフレームのレジストパターンを設け、液温70
℃の48°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプ
レイ圧で両面からスプレイエツチングして製品を
得た。 〔比較例〕 比較例 １ 板厚0.13mmのNi％；35.5％、Ｃ％；0.022％であ
り、JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.033％の
ニツケル−鉄合金よりなる素材に対して実施例１
と同様にしてレジスト製版したのち、液温60℃の
46°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングして大孔部の口
径0.220mm小孔部の口径0.110mm開孔を多数エツチ
ング加工し、製品を得た。 比較例 ２ 板厚0.15mmのNi％；41.8％、Ｃ％；0.023％、
JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.050％のニツ
ケル−鉄合金よりなる素材に対して実施例２と同
様にしてレジスト製版したのち、液温70℃の
48°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングし、製品を得
た。 第４表は実施例１，２、及び比較例１，２の結
果を示す。
り、JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.004％の
ニツケル−鉄合金よりなる素材の一方の面に0.25
mmピツチで配列された多数の大円ドツト状開口歩
（直径0.150mm）を有する第１レジストパターンを
設け、他方の面に0.25mmピツチで配列された多数
の小円ドツト状開口部（直径0.090mm）を有する
第２レジストパターンを設け、液温60℃の
46°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングして大孔部の口
径0.220mm、小孔部の口径0.110mmの開孔を多数エ
ツチング加工し、製品を得た。 実施例 ２ 板厚0.15mmのNi％；41.5％、Ｃ％；0.007％、
JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.008％のニツ
ケル−鉄合金よりなる素材の両面に160ピンのリ
ードフレームのレジストパターンを設け、液温70
℃の48°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプ
レイ圧で両面からスプレイエツチングして製品を
得た。 〔比較例〕 比較例 １ 板厚0.13mmのNi％；35.5％、Ｃ％；0.022％であ
り、JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.033％の
ニツケル−鉄合金よりなる素材に対して実施例１
と同様にしてレジスト製版したのち、液温60℃の
46°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングして大孔部の口
径0.220mm小孔部の口径0.110mm開孔を多数エツチ
ング加工し、製品を得た。 比較例 ２ 板厚0.15mmのNi％；41.8％、Ｃ％；0.023％、
JIS Ｇ 0555による断面清浄度が0.050％のニツ
ケル−鉄合金よりなる素材に対して実施例２と同
様にしてレジスト製版したのち、液温70℃の
48°Be′ FeCl3腐蝕液を用い、20Kg／cm2のスプレイ
圧で両面からスプレイエツチングし、製品を得
た。 第４表は実施例１，２、及び比較例１，２の結
果を示す。
以上、詳記した通り、本発明の素材によれば速
く精度良く微細エツチング加工することができ、
アラビはみられず、非金属介在物によるエツチン
グ不良もみられず、品質の良いエツチング製品を
製造することができる。
く精度良く微細エツチング加工することができ、
アラビはみられず、非金属介在物によるエツチン
グ不良もみられず、品質の良いエツチング製品を
製造することができる。
第１図は42％Ni−Fe合金についてもとめた炭
素量によるエツチング速度の変化を示すグラフ、
第２図は36％Ni−Fe合金についてもとめた炭素
量によるエツチング速度の変化を示すグラフであ
る。
素量によるエツチング速度の変化を示すグラフ、
第２図は36％Ni−Fe合金についてもとめた炭素
量によるエツチング速度の変化を示すグラフであ
る。
Claims (1)
- 冷間圧延によつて製造される板厚0.020〜0.40
mmの42％Ni−Fe合金または36％Ni−Fe合金より
なるエツチング加工用のニツケル−鉄合金素材に
おいて、該素材中の炭素含有量が0.01％以下であ
り、且つJIS Ｇ 0555によつて規定される断面清
浄度が0.017％以下であることを特徴とする微細
エツチング加工用素材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20477584A JPS6184356A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 微細エッチング加工用素材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20477584A JPS6184356A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 微細エッチング加工用素材 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23808396A Division JPH09118963A (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 微細エッチング加工用素材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6184356A JPS6184356A (ja) | 1986-04-28 |
| JPH0443980B2 true JPH0443980B2 (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=16496139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20477584A Granted JPS6184356A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 微細エッチング加工用素材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6184356A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2523603B2 (ja) * | 1987-03-19 | 1996-08-14 | 日立金属株式会社 | 高精細度シヤドウマスク |
| JPS6425944A (en) * | 1987-04-27 | 1989-01-27 | Nippon Mining Co | Shadow mask material |
| JP2590626B2 (ja) * | 1990-03-22 | 1997-03-12 | 日本鋼管株式会社 | 清浄性およびエッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金冷延板およびその製造方法 |
| EP0803584A3 (en) * | 1990-06-29 | 1997-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Fe-ni based alloy |
| JPH05222451A (ja) * | 1992-02-14 | 1993-08-31 | Hitachi Metals Ltd | Ｎｉ−Ｆｅ系合金の製造方法 |
| JPH08241677A (ja) * | 1996-01-23 | 1996-09-17 | Toshiba Corp | シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法 |
| JP2793544B2 (ja) * | 1996-01-23 | 1998-09-03 | 株式会社東芝 | シャドウマスクおよびこれを用いたカラー受像管と、このシャドウマスク用アンバー合金原板の製造方法ならびにこのシャドウマスクの製造方法 |
| KR100259300B1 (en) | 1998-04-16 | 2000-06-15 | Lg Electronics Inc | Shadow mask for color cathode ray tube |
| KR100259299B1 (en) | 1998-04-21 | 2000-06-15 | Lg Electronics Inc | Shadow mask of color cathode ray tube and method for fabricating the same |
| CN1205347C (zh) | 2000-11-21 | 2005-06-08 | 日本冶金工业株式会社 | 具有良好蚀刻加工性的荫罩用Fe－Ni合金材料 |
| JP4414125B2 (ja) * | 2002-05-22 | 2010-02-10 | 出光興産株式会社 | 冷間圧延油組成物 |
-
1984
- 1984-09-29 JP JP20477584A patent/JPS6184356A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6184356A (ja) | 1986-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0443980B2 (ja) | ||
| JP3487471B2 (ja) | エッチング加工性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金薄板 | |
| JPS63259054A (ja) | シヤドウマスク | |
| JPH09118963A (ja) | 微細エッチング加工用素材 | |
| JPS61223188A (ja) | エツチング時のスジむらの発生を抑制したシヤドウマスク用鉄−ニツケル系合金 | |
| JPH0587585B2 (ja) | ||
| JPS62243782A (ja) | シヤドウマスク用金属薄板の製造方法 | |
| JPS6056053A (ja) | シャドウマスク用素材 | |
| JP2000319728A (ja) | シャドウマスク用金属板の製造方法 | |
| JP3151100B2 (ja) | Ｆｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用素材 | |
| JPS63193440A (ja) | シヤドウマスク用合金板及びシヤドウマスク | |
| JP2523603B2 (ja) | 高精細度シヤドウマスク | |
| JP3309680B2 (ja) | エッチング性に優れた電子部品用低熱膨張合金薄板 | |
| JPH07252604A (ja) | エッチング性とプレス成形性に優れたＦｅ−Ｎｉ合金 | |
| JPS62243780A (ja) | シヤドウマスク用薄板材 | |
| JPS61201757A (ja) | シヤドウマスク材及びシヤドウマスク | |
| JP2000123754A (ja) | シャドウマスクおよびシャドウマスク用基材 | |
| JPH05311357A (ja) | シャドウマスク材 | |
| JPH09118959A (ja) | エッチング加工用素材 | |
| JP2597971B2 (ja) | シヤドウマスク | |
| JPH07180072A (ja) | エッチング加工部品の製造方法 | |
| JPH0250919A (ja) | シャドウマスク用鉄−ニッケル基合金材料の製造方法 | |
| JPS6316525A (ja) | シヤドウマスクの製造方法 | |
| JPS6251135A (ja) | シヤドウマスク | |
| JPS60114523A (ja) | シヤドウマスク用素材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |