JPH0149716B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0149716B2 JPH0149716B2 JP55011433A JP1143380A JPH0149716B2 JP H0149716 B2 JPH0149716 B2 JP H0149716B2 JP 55011433 A JP55011433 A JP 55011433A JP 1143380 A JP1143380 A JP 1143380A JP H0149716 B2 JPH0149716 B2 JP H0149716B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- polymerization
- reaction
- ether
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 29
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 6
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- -1 aromatic diazonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 1-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C RBGUKBSLNOTVCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006416 CBr Chemical group BrC* 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012656 cationic ring opening polymerization Methods 0.000 description 2
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGWYWKIOMUZSQF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triethoxypropane Chemical compound CCOC(CC)(OCC)OCC FGWYWKIOMUZSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWGTKZEDLCVIG-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(CCl)=CC=CC2=C1 XMWGTKZEDLCVIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromopropane Chemical compound CCCBr CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMWXMYZMODXKMM-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,1,1-triethoxypropane Chemical compound CCOC(OCC)(OCC)C(C)Br GMWXMYZMODXKMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCPOKPFKMYZWBC-UHFFFAOYSA-N 2-octoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCCCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 QCPOKPFKMYZWBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXHIVNMNGMVDEJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-3,5,8-trioxabicyclo[2.2.2]octane Chemical compound O1CC2COC1(CC)OC2 TXHIVNMNGMVDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical class CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NJFMNPFATSYWHB-UHFFFAOYSA-N ac1l9hgr Chemical compound [Fe].[Fe] NJFMNPFATSYWHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K antimony trifluoride Chemical compound F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は、新規化合物であつて、例えば重合性
単量体として有用な1−ビニル−4−アルキル−
2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,2〕
オクタン(以下化合物〔1〕という)に関するも
ので、この化合物は下式〔1〕によつて示され
る。 (ここでRはメチル基、エチル基、プロピル基
またはブチル基のごとき低級アルキル基を示す。) 化合物〔1〕は下式〔2〕で示される1−ハロ
ゲン化メチル−4−アルキル−2,6,7−トリ
オキサビシクロ〔2,2,2〕オクタン(以下化
合物〔2〕という)の脱ハロゲン化水素反応によ
つて製造される。 (ここでXはCl,Br,I等のハロゲン原子を
示す。またRは〔1〕式におけるものと同じ低級
アルキル基である。) この反応を示すと以下のごとくになる。 上記の反応は、化合物〔2〕を適当な溶媒例え
ば、テトラヒドロフラン等のごとき溶媒中で、ア
ルカリ例えば、t−ブトキシカリウム等と反応さ
せ脱ハロゲン化水素することにより行なわれ、こ
れによつて新規な化合物〔1〕が合成される。反
応の進行程度は、反応液を例えば、液体クロマト
グラフイで分析することによつて、容易に知るこ
とが出来、反応液からの化合物〔1〕の分離取得
は、例えば反応液を水に注ぎ、エーテル、ベンゼ
ン等の有機溶媒で抽出し、有機層を脱水乾燥後溶
媒を留去し、残渣を減圧蒸留することによつて行
ない得る。 なお、化合物〔2〕は、1,1,1−トリアル
コキシ−2−ハロゲン化プロパンと2−アルキル
−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオ
ール例えばトリメチロールプロパンまたはトリメ
チロールエタンなどとを、p−トルエンスルホン
酸のごとき酸性触媒の存在下に、140℃前後に加
熱しながらほぼ等モル量反応させ、反応生成物を
減圧蒸留することによつて、製造取得することが
できる。反応は脱アルコール反応であり、生成す
るアルコールは系外に排出され反応の進行の程度
は生成アルコール量を計測することによつて確認
可能である。その反応式を示すと以下のごとくで
ある。 (こゝでR′は低級アルキル基を示す。またX
とRはそれぞれ〔2〕式におけるものと同じハロ
ゲン原子と低級アルキル基である。) 本発明に係る化合物〔1〕が属するビシクロオ
ルソエステル類の重合に関して今まで全く知られ
ていない。本発明者等は、化合物〔1〕がラジカ
ル重合するのみならずカチオン開環重合するとい
う予想外の知見を得るに到つた。すなわち化合物
〔1〕はラジカル重合開始剤によりラジカル重合
をし、重合物を与え、またカチオン重合開始剤に
よりカチオン開環重合がおこり、粘稠な重合物な
いしは三次元化した硬い透明な重合物を与える。 化合物〔1〕の重合は次のような機構によつて
進むものと考えられる。 ラジカル重合機構; カチオン重合機構;下記の反応ならびにビニル
基による重合反応が起きる。 化合物〔1〕からの重合物は各種の金属、ガラ
スなどに対する密着性が優れており、特にカチオ
ン重合による重合物はガラス等に対して良好な接
着性を示す。従つて本発明の化合物〔1〕は接着
剤、複合材料、注型材料、塗料、成形材料などに
使用して極めて有用な化合物である。 本発明に係る化合物〔1〕の重合手段について
説明すると、まずラジカル重合としては、通常の
ラジカル重合手段例えば、紫外線、赤外線、熱、
電子線またはマイクロ波などによる重合が可能で
ある。 紫外線ラジカル重合では、通常光開始剤が用い
られる。 好適に利用できる光開始剤としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオク
チルエーテル、ベンジル、ジアセチル、メチルア
ントラキノン、アセトフエノン、ベンゾフエノ
ン、ジチオカーバメート、α−クロルメチルナフ
タリン、アントラセン等がある。 又、赤外線、熱、マイクロ波による重合に際し
ては、分解によつてラジカルを生成し得るもので
あればいずれのラジカル開始剤の使用も可能であ
る。例えば、2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−
ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキ
シ)ヘキサン、tert−ブチルハイドロパーオキサ
イド、tert−ブチルパーオキシベンゾエートなど
が使用できる。 又、電子線などの電離性放射線による重合は、
通常無触媒系で行なわれる。 触媒を使用するときの量は、目的に応じて0.01
〜10wt%好ましくは、0.1〜5wt%の範囲とする
のが良い。 ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線
の照射による場合は常温でも進むが、その他の場
合は、加温ないし加熱状態で円滑に進行する。つ
ぎにカチオン重合の手段としては紫外線、赤外
線、熱またはマイクロ波などによる重合手段が採
用できる。 紫外線重合時のカチオン重合触媒として、例え
ばφ−N+≡N・PF6−,φ−N+≡N・BF4−などの
芳香族ジアゾニウム塩;φ−I+−φ・BF4等の芳
香族ハロニウム塩;
単量体として有用な1−ビニル−4−アルキル−
2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,2〕
オクタン(以下化合物〔1〕という)に関するも
ので、この化合物は下式〔1〕によつて示され
る。 (ここでRはメチル基、エチル基、プロピル基
またはブチル基のごとき低級アルキル基を示す。) 化合物〔1〕は下式〔2〕で示される1−ハロ
ゲン化メチル−4−アルキル−2,6,7−トリ
オキサビシクロ〔2,2,2〕オクタン(以下化
合物〔2〕という)の脱ハロゲン化水素反応によ
つて製造される。 (ここでXはCl,Br,I等のハロゲン原子を
示す。またRは〔1〕式におけるものと同じ低級
アルキル基である。) この反応を示すと以下のごとくになる。 上記の反応は、化合物〔2〕を適当な溶媒例え
ば、テトラヒドロフラン等のごとき溶媒中で、ア
ルカリ例えば、t−ブトキシカリウム等と反応さ
せ脱ハロゲン化水素することにより行なわれ、こ
れによつて新規な化合物〔1〕が合成される。反
応の進行程度は、反応液を例えば、液体クロマト
グラフイで分析することによつて、容易に知るこ
とが出来、反応液からの化合物〔1〕の分離取得
は、例えば反応液を水に注ぎ、エーテル、ベンゼ
ン等の有機溶媒で抽出し、有機層を脱水乾燥後溶
媒を留去し、残渣を減圧蒸留することによつて行
ない得る。 なお、化合物〔2〕は、1,1,1−トリアル
コキシ−2−ハロゲン化プロパンと2−アルキル
−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオ
ール例えばトリメチロールプロパンまたはトリメ
チロールエタンなどとを、p−トルエンスルホン
酸のごとき酸性触媒の存在下に、140℃前後に加
熱しながらほぼ等モル量反応させ、反応生成物を
減圧蒸留することによつて、製造取得することが
できる。反応は脱アルコール反応であり、生成す
るアルコールは系外に排出され反応の進行の程度
は生成アルコール量を計測することによつて確認
可能である。その反応式を示すと以下のごとくで
ある。 (こゝでR′は低級アルキル基を示す。またX
とRはそれぞれ〔2〕式におけるものと同じハロ
ゲン原子と低級アルキル基である。) 本発明に係る化合物〔1〕が属するビシクロオ
ルソエステル類の重合に関して今まで全く知られ
ていない。本発明者等は、化合物〔1〕がラジカ
ル重合するのみならずカチオン開環重合するとい
う予想外の知見を得るに到つた。すなわち化合物
〔1〕はラジカル重合開始剤によりラジカル重合
をし、重合物を与え、またカチオン重合開始剤に
よりカチオン開環重合がおこり、粘稠な重合物な
いしは三次元化した硬い透明な重合物を与える。 化合物〔1〕の重合は次のような機構によつて
進むものと考えられる。 ラジカル重合機構; カチオン重合機構;下記の反応ならびにビニル
基による重合反応が起きる。 化合物〔1〕からの重合物は各種の金属、ガラ
スなどに対する密着性が優れており、特にカチオ
ン重合による重合物はガラス等に対して良好な接
着性を示す。従つて本発明の化合物〔1〕は接着
剤、複合材料、注型材料、塗料、成形材料などに
使用して極めて有用な化合物である。 本発明に係る化合物〔1〕の重合手段について
説明すると、まずラジカル重合としては、通常の
ラジカル重合手段例えば、紫外線、赤外線、熱、
電子線またはマイクロ波などによる重合が可能で
ある。 紫外線ラジカル重合では、通常光開始剤が用い
られる。 好適に利用できる光開始剤としては、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオク
チルエーテル、ベンジル、ジアセチル、メチルア
ントラキノン、アセトフエノン、ベンゾフエノ
ン、ジチオカーバメート、α−クロルメチルナフ
タリン、アントラセン等がある。 又、赤外線、熱、マイクロ波による重合に際し
ては、分解によつてラジカルを生成し得るもので
あればいずれのラジカル開始剤の使用も可能であ
る。例えば、2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−
ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキ
シ)ヘキサン、tert−ブチルハイドロパーオキサ
イド、tert−ブチルパーオキシベンゾエートなど
が使用できる。 又、電子線などの電離性放射線による重合は、
通常無触媒系で行なわれる。 触媒を使用するときの量は、目的に応じて0.01
〜10wt%好ましくは、0.1〜5wt%の範囲とする
のが良い。 ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線
の照射による場合は常温でも進むが、その他の場
合は、加温ないし加熱状態で円滑に進行する。つ
ぎにカチオン重合の手段としては紫外線、赤外
線、熱またはマイクロ波などによる重合手段が採
用できる。 紫外線重合時のカチオン重合触媒として、例え
ばφ−N+≡N・PF6−,φ−N+≡N・BF4−などの
芳香族ジアゾニウム塩;φ−I+−φ・BF4等の芳
香族ハロニウム塩;
【式】等の周期律表第
a族元素の芳香族オニウム塩;
【式】等の周期律表第
a族元素の芳香族オニウム塩などがあげられ
る。 また、その他のカチオン重合時の触媒として
は、例えばBF3,FeCl3,SnCl4,SbCl5,SbF3,
TiCl4などのルイス酸;BF3OEt2,BF3−アニリ
ンコンプレツクス等のごときルイス酸とO,S,
Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸
のオキソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウ
ム塩、ハロゲン化合物、混合ハロゲン化合物また
は過ハロゲン酸誘導体などがあげられる。 触媒の使用量は通常0.001〜10wt%の範囲が好
適である。重合温度に関する制限は特にないが、
通常常温〜20.0℃で行なわれる。 実施例 1 250mlフラスコを使用して、t−ブトキシカリ
ウム11g(0.1モル)をテトラヒドロフラン100ml
に溶かした溶液に、1−ブロモエチル−4−エチ
ル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,
2〕オクタン25g(0.1モル)を室温で約1時間
かけて滴下した。さらに還流温度で5時間反応さ
せた後、反応液を水に注いだ。この溶液をエーテ
ルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで脱水し
た後、エーテルを蒸発させた。蒸発残渣をさらに
減圧蒸留することにより、化合物〔1〕として1
−ビニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサ
ビシクロ〔2,2,2〕オクタンを14g得た。こ
の収率は83%であり、その物性値は下記の通りで
ある。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;63.4,H;8.3 C9H14O3としての計算値(理論値)… C;63.5,H;8.2 Γ 沸点;68〜72℃/2mmHg Γ 赤外吸収スペクトル; 1100cm-1(エーテル)、990cm-1(CH2=CH−) (図1参照) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); (δ(ppm);0.6−1,4(5H,Et),4.0(6H,
−CH2−O−),5.2〜6.0(3H,CH2=CH−) (図2参照) なお、上記で使用した1−ブロモエチル−4−
エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,
2,2〕オクタンは、以下の方法で製造したもの
である。すなわち1,1,1−トリエトキシ−2
−ブロモプロパン25.5g(0.1モル)とトリメチ
ルロールプロパン17.6g(0.1モル)とP−トル
エンスルホン酸0.05gをDean−Stark冷却器付フ
ラスコに入れ、140℃で約2時間加熱した。理論
量のエチルアルコールが留出した後、反応を停止
し、反応液をVigreaux蒸留カラムを使つて減圧
蒸留することにより、沸点81〜83℃/0.1mmHgに
おいて、1−ブロモエチル−4−エチル−2,
6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,2〕オク
タン16g(収率;63%)を得た。その物性値は下
記のとおりである。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;43.10,H;5.83,Br;31.96 C8H15O3Brとしての計算値(理論値)… C;43.03,H;5.98,Br;31.87 Γ 赤外吸収スペクトル; 1122cm-1(エーテル)、1250cm-1(C−Br) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); δ(PPm);0.7−1.6(5H,Et),1.68(3H,
Me),3.92(6H,−CH2O−),3.7−4.2(1H,
BrCH) また、こゝで用いた1,1,1−トリエトキシ
−2−ブロモプロパンは、反応溶媒である四塩化
炭素1とトリエチルオルソプロピオネート176
g(1モル)およびピリジン96g(1.2モル)か
らなる溶液を2フラスコに入れ、溶液に氷冷下
で臭素160g(1モル)を2時間にわたり、ゆつ
くり加え、反応溶液を室温で1日置いた後、沈澱
を濾過して除き、濾液から溶媒を蒸留によつて除
去し、さらに残渣を減圧蒸留することによつて得
たものであり、その沸点は85℃/13mmHgであり、
収量は206g(収率;81%)であつた。その物性
は下記のとおりである。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;42.27,H;7.40,Br;31.60 C9H19O3Brとしての計算値(理論値) …C;42.35,H;7.45,Br;31.37 Γ 赤外吸収スペクトル 1120cm-1(エーテル)、1245cm-1(C−Br) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); δ(PPm);1.18(9H,3CH3−),1.69(3H,−
CH3),3.63(6H,3−CH2−),4.17(1H,
BrCH) 参考例 1 実施例1で得た化合物〔1〕を次の方法によつ
てカチオン重合させた。 (1) 化合物〔1〕に重合触媒としてBF3OEt23wt
%を添加し封管中で70℃で20時間重合した。そ
の結果、テトラヒドロフランに不溶性の硬い透
明固体がえられた。この重合体の比重は1.195
(25℃)であつた。 (2) 化合物〔1〕に重合触媒としてBF3OEt21wt
%を添加し、30℃で3時間反応させた。反応物
をn−ヘキサン中に注いで沈澱させることによ
り、重合体を精製した。収率89%で粘調な重合
体が得られた。 この重合体の平均分子量は約3000であつた。
その赤外吸収スペクトルは940cm-1のピークが
消失し、1190cm-1,1720〜1730cm-1,3400cm-1
のピークが生成した。 また、この重合体の比重は1.140(25℃)であ
つた。 参考例 2 実施例1で得た化合物〔1〕を以下の方法でラ
ジカル重合させた。 (1) 化合物〔1〕に重合触媒としてアゾビスイソ
ブチロニトリル3モル%を加え、封管中で70℃
において17時間重合させた。重合率は約28%
で、重合物の平均分子量は約2000であつた。そ
の赤外吸収スペクトルは1100cm-1,1420cm-1の
ピークが消失した。 (2) 化合物〔1〕に重合触媒としてジ−tert−ブ
チルパーオキサイド3モル%を添加し、封管中
で130℃で17時間重合させたところ、重合率約
40%で重合物が生成した。 参考例 3 実施例1の化合物〔1〕に触媒として
BF3OEt23モル%を加えてなる組成物によつて被
着材を接着した。 接着後70℃で1時間さらに120℃で3時間養生
した後、JIS K−6850−1976に準じて剪断接着強
度を測定した。 その結果、鉄−鉄の剪断接着強度は120Kg/cm2
であり、一方ガラス−ガラス(基材の厚み5mm)
では母材破壊した。
る。 また、その他のカチオン重合時の触媒として
は、例えばBF3,FeCl3,SnCl4,SbCl5,SbF3,
TiCl4などのルイス酸;BF3OEt2,BF3−アニリ
ンコンプレツクス等のごときルイス酸とO,S,
Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸
のオキソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウ
ム塩、ハロゲン化合物、混合ハロゲン化合物また
は過ハロゲン酸誘導体などがあげられる。 触媒の使用量は通常0.001〜10wt%の範囲が好
適である。重合温度に関する制限は特にないが、
通常常温〜20.0℃で行なわれる。 実施例 1 250mlフラスコを使用して、t−ブトキシカリ
ウム11g(0.1モル)をテトラヒドロフラン100ml
に溶かした溶液に、1−ブロモエチル−4−エチ
ル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,
2〕オクタン25g(0.1モル)を室温で約1時間
かけて滴下した。さらに還流温度で5時間反応さ
せた後、反応液を水に注いだ。この溶液をエーテ
ルで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで脱水し
た後、エーテルを蒸発させた。蒸発残渣をさらに
減圧蒸留することにより、化合物〔1〕として1
−ビニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサ
ビシクロ〔2,2,2〕オクタンを14g得た。こ
の収率は83%であり、その物性値は下記の通りで
ある。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;63.4,H;8.3 C9H14O3としての計算値(理論値)… C;63.5,H;8.2 Γ 沸点;68〜72℃/2mmHg Γ 赤外吸収スペクトル; 1100cm-1(エーテル)、990cm-1(CH2=CH−) (図1参照) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); (δ(ppm);0.6−1,4(5H,Et),4.0(6H,
−CH2−O−),5.2〜6.0(3H,CH2=CH−) (図2参照) なお、上記で使用した1−ブロモエチル−4−
エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,
2,2〕オクタンは、以下の方法で製造したもの
である。すなわち1,1,1−トリエトキシ−2
−ブロモプロパン25.5g(0.1モル)とトリメチ
ルロールプロパン17.6g(0.1モル)とP−トル
エンスルホン酸0.05gをDean−Stark冷却器付フ
ラスコに入れ、140℃で約2時間加熱した。理論
量のエチルアルコールが留出した後、反応を停止
し、反応液をVigreaux蒸留カラムを使つて減圧
蒸留することにより、沸点81〜83℃/0.1mmHgに
おいて、1−ブロモエチル−4−エチル−2,
6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,2〕オク
タン16g(収率;63%)を得た。その物性値は下
記のとおりである。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;43.10,H;5.83,Br;31.96 C8H15O3Brとしての計算値(理論値)… C;43.03,H;5.98,Br;31.87 Γ 赤外吸収スペクトル; 1122cm-1(エーテル)、1250cm-1(C−Br) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); δ(PPm);0.7−1.6(5H,Et),1.68(3H,
Me),3.92(6H,−CH2O−),3.7−4.2(1H,
BrCH) また、こゝで用いた1,1,1−トリエトキシ
−2−ブロモプロパンは、反応溶媒である四塩化
炭素1とトリエチルオルソプロピオネート176
g(1モル)およびピリジン96g(1.2モル)か
らなる溶液を2フラスコに入れ、溶液に氷冷下
で臭素160g(1モル)を2時間にわたり、ゆつ
くり加え、反応溶液を室温で1日置いた後、沈澱
を濾過して除き、濾液から溶媒を蒸留によつて除
去し、さらに残渣を減圧蒸留することによつて得
たものであり、その沸点は85℃/13mmHgであり、
収量は206g(収率;81%)であつた。その物性
は下記のとおりである。 Γ 元素分析(%); 実測値…C;42.27,H;7.40,Br;31.60 C9H19O3Brとしての計算値(理論値) …C;42.35,H;7.45,Br;31.37 Γ 赤外吸収スペクトル 1120cm-1(エーテル)、1245cm-1(C−Br) Γ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3中); δ(PPm);1.18(9H,3CH3−),1.69(3H,−
CH3),3.63(6H,3−CH2−),4.17(1H,
BrCH) 参考例 1 実施例1で得た化合物〔1〕を次の方法によつ
てカチオン重合させた。 (1) 化合物〔1〕に重合触媒としてBF3OEt23wt
%を添加し封管中で70℃で20時間重合した。そ
の結果、テトラヒドロフランに不溶性の硬い透
明固体がえられた。この重合体の比重は1.195
(25℃)であつた。 (2) 化合物〔1〕に重合触媒としてBF3OEt21wt
%を添加し、30℃で3時間反応させた。反応物
をn−ヘキサン中に注いで沈澱させることによ
り、重合体を精製した。収率89%で粘調な重合
体が得られた。 この重合体の平均分子量は約3000であつた。
その赤外吸収スペクトルは940cm-1のピークが
消失し、1190cm-1,1720〜1730cm-1,3400cm-1
のピークが生成した。 また、この重合体の比重は1.140(25℃)であ
つた。 参考例 2 実施例1で得た化合物〔1〕を以下の方法でラ
ジカル重合させた。 (1) 化合物〔1〕に重合触媒としてアゾビスイソ
ブチロニトリル3モル%を加え、封管中で70℃
において17時間重合させた。重合率は約28%
で、重合物の平均分子量は約2000であつた。そ
の赤外吸収スペクトルは1100cm-1,1420cm-1の
ピークが消失した。 (2) 化合物〔1〕に重合触媒としてジ−tert−ブ
チルパーオキサイド3モル%を添加し、封管中
で130℃で17時間重合させたところ、重合率約
40%で重合物が生成した。 参考例 3 実施例1の化合物〔1〕に触媒として
BF3OEt23モル%を加えてなる組成物によつて被
着材を接着した。 接着後70℃で1時間さらに120℃で3時間養生
した後、JIS K−6850−1976に準じて剪断接着強
度を測定した。 その結果、鉄−鉄の剪断接着強度は120Kg/cm2
であり、一方ガラス−ガラス(基材の厚み5mm)
では母材破壊した。
図1は実施例1で得た化合物〔1〕の赤外吸収
スペクトル図であり、図2は同化合物の核磁気共
鳴スペクトル図である。
スペクトル図であり、図2は同化合物の核磁気共
鳴スペクトル図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下式〔1〕で示される1−ビニル−4−アル
キル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,
2,2〕オクタン (上記式においてRは低級アルキル基を示す。)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1143380A JPS56108793A (en) | 1980-02-04 | 1980-02-04 | 1-vinyl-4-alkyl-2,6,7-trioxabicyclo 2,2,2 octane |
| US06/230,537 US4425473A (en) | 1980-02-04 | 1981-02-02 | Polymerizable bicyclic orthoester compounds |
| DE19813103779 DE3103779A1 (de) | 1980-02-04 | 1981-02-04 | Polymerisierbare bicyclische orthoesterverbindungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1143380A JPS56108793A (en) | 1980-02-04 | 1980-02-04 | 1-vinyl-4-alkyl-2,6,7-trioxabicyclo 2,2,2 octane |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56108793A JPS56108793A (en) | 1981-08-28 |
| JPH0149716B2 true JPH0149716B2 (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=11777941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1143380A Granted JPS56108793A (en) | 1980-02-04 | 1980-02-04 | 1-vinyl-4-alkyl-2,6,7-trioxabicyclo 2,2,2 octane |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56108793A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4405798A (en) * | 1981-03-30 | 1983-09-20 | Celanese Corporation | Acrylate and methacrylate monoesters of pentaerythritol and pentaerythritol orthoesters and polymers and copolymers derived therefrom |
| JPS58109534A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-29 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 硬化用組成物 |
| JPS60133025A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-16 | Tokuyama Soda Co Ltd | ビシクロ化合物の開環重合方法 |
| US5466710A (en) * | 1988-03-21 | 1995-11-14 | Roussel Uclaf | Heterobicycloalkanes as pesticidal compounds |
| DE102004003495A1 (de) * | 2004-01-23 | 2005-08-11 | Bayer Materialscience Ag | Orthoestergruppenhaltige Bindemittel |
-
1980
- 1980-02-04 JP JP1143380A patent/JPS56108793A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56108793A (en) | 1981-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1593222A (en) | Perfluoroesters and their preparation | |
| JP2902269B2 (ja) | オキセタン化合物 | |
| JPH0149716B2 (ja) | ||
| DE19714320A1 (de) | Hydrolysierbare und polymerisierbare Vinylcyclopropansilane | |
| US5039716A (en) | Alk-1-enyl ether silicates and radiation curable composition containing alk-1-enyl ether silicates | |
| US5567858A (en) | Propenyl ether monomers for photopolymerization | |
| US6235808B1 (en) | Radiation-curable cycloaliphatic epoxy compounds, uses thereof, and compositions containing them | |
| JPH08225576A (ja) | ビシクロ脂肪族2−メチレン−1,3−ジオキセパン | |
| JP2797000B2 (ja) | (メタ)アクリレート化合物の製造方法 | |
| JPH0830028B2 (ja) | 含フッ素脂環式化合物及びその製造法 | |
| JPH10316670A (ja) | 新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 | |
| JPS645038B2 (ja) | ||
| JPH0149717B2 (ja) | ||
| JPH11171967A (ja) | 新規脂環式エポキシビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 | |
| JPH0441150B2 (ja) | ||
| JPH0519555B2 (ja) | ||
| JPS6154789B2 (ja) | ||
| JPS5839680A (ja) | ケタ−ル化されたグリセロ−ルアリルエ−テルの合成法 | |
| JPS6043354B2 (ja) | 1−アルキノル−4−ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ〔2,2,2〕オクタン | |
| US5094917A (en) | Alk-1-enyl ether silicates | |
| JPH04502007A (ja) | ビス―メチレン スピロオルトカーボネートの製造方法 | |
| JPH0425271B2 (ja) | ||
| JPS626569B2 (ja) | ||
| JPS59161382A (ja) | スピロオルソカ−ボネ−ト化合物 | |
| US5189184A (en) | 2-(3'-butenyl)-3,4-dihydro-2h-pyrans, their synthesis and use |