JPS59161382A - スピロオルソカ−ボネ−ト化合物 - Google Patents

スピロオルソカ−ボネ−ト化合物

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JPS59161382A
JPS59161382A JP58032874A JP3287483A JPS59161382A JP S59161382 A JPS59161382 A JP S59161382A JP 58032874 A JP58032874 A JP 58032874A JP 3287483 A JP3287483 A JP 3287483A JP S59161382 A JPS59161382 A JP S59161382A
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JP
Japan
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compound
formula
reaction
polymerization
tetraoxaspiro
Prior art date
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Pending
Application number
JP58032874A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyokazu Mizutani
水谷 清和
Hitoshi Kato
仁 加藤
Yoshihisa Ogasawara
小笠原 誉久
Takeshi Endo
剛 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Publication date
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規化合物である2、7−ジメテレンー1.
4.6.9−テトラオキサスピロ〔4,4〕ノナン(以
下化合物〔1〕という)を提供するもので、化合物〔1
〕は下式〔1〕によって示され、例えば重合性単景体と
して概能する有用なものである。
化合物〔1〕は下式〔2〕で示される2、7−ビス−ハ
ロゲン化メチル−1,4,6,9−テトラオキサスピロ
[:4,4〕ノナン(以下化合物(2〕という)の脱/
・ロゲン化水素反応によって製造される。
(ここでXはcz l B r + I等のハロゲン原
子を    か示す。以下同様とする。) この反応を示すと以下のごとくになる。
化合物〔2〕は、オルト炭酸ニスデルと6−ノ・ロダン
−1,2−プロパンジオールとの反応によって製造する
ことができる。
この反応式を示すと以下のごとくになる。
CoOR)4+2 X  C■(2−CHCH2−1; or−x  OH (上記の反応式において、Rは直鎖または分枝状の炭素
数1〜5の低級アルキル基を表わす。)化む物〔2〕の
製造に際しては、オルト炭酸ニスデルと6−ハロケン−
1,2−グロパンジオールを、例えばキシレン、ジ−n
−オクチルツクレート等の溶剤中で、例えば1)  )
ルエンスルフオン醒あるいは硫酸のごとき酸を触媒とし
て反応さぜる。触媒の使用量は原料化合′吻に対して一
般に0、001 =、 5 wt %である。反応温度
に符に1助限はないがフ瓜常500〜180’Cで行う
。生だ、仕込みモル比に関しても特に制限はないが、6
−ハロゲン−1,2−プロパンジオールはオルl’ 嵐
a9エステル(1モル)に対し」理論量(2モル少又は
理論量よりやや少なめに用いるのが好ましい。
上述の反応は、脱アルコール反応であり、生成するアル
コールは系外に留出させるのが一般的である。反応の進
行の程度は留出アルコール量を計測することによって知
ることかできる他、反応液をクリえは、液体クロマトグ
ラフやガスクロマトグラフで分析することによっても知
ることができる。
生成したスビ0万ルソカーボ坏−ト化合物は、通電酸触
媒をアルカリで中和した後、減圧蒸留によって反応生成
液から分離する。
化合物〔1〕の合J戎は、化合物〔2〕を嫡当な溶媒例
えば、N、N−ジメナルホルムアミド、ピリジン等の溶
媒中で、理論量ないしそれより過剰の」jl−好ましく
は22〜10倍モル量のアルカリ例えはすl・リウムア
ルコラート等と反応さ−じ脱ハロゲン化水素することに
より、行なフっれ6゜反応も1.N度に格別の15(j
限はプよいが一般にD゛C〜6D℃で行なわれる。
また反応の進行程度は、反応液を例えはガスクロマトグ
ラフ又は液体クロマトグラフ(+−(L Cと略記する
うで分析することによって、容易に知ることが出来る。
反応液からの化合り〔1〕の分離取得は、例えば反応液
を水に注ぎ、有機層と水層を分取し、その侵エーテル、
クロロホルム、トルエン等の有機溶媒で水1曽に対する
抽出操作をイ1ない、抽出層と1」4J記有、除屑を合
わせて脱水乾燥後溶媒を留去し、7A直を減圧蒸留する
ことによって行ない得る1、不発明者らは、ラジカル重
合性単量体に関して独々恢討した結果、化合物〔1〕が
カチオンi;’Y線重合するのみl頴らず、ラジカル重
合するという知見を得た。
ラジカル7J、−合性のスピロオルツカ−ボネート潰に
ついて、Endo T、、and  Ba1ley W
、J−+J、polym、sci、、 Polym、C
hern、E(1,,13゜2525 (1975)等
に記載されている。しかしながらこれらのスピロオルツ
カ−ボネート類の合成方法は複雑であり、しかも沸点が
低くて有害なC82−IP高価な原料を使用する必要が
あるため、製造が容易でなく、また目的物が高価となる
欠点を有する。
これに対して本発明者らは鋭意/、vt究の結果、容易
に合成することができ、しかもカチオン重合するのみな
らずラジカル重合する化合物を見出したものである、 上述のように本発明の化合・物〔1〕は、一般にF1月
搬されている6−ノ・ロダン−1,2−プロノくンジオ
ールとオルト炭酸エステルから合成される化合物〔2〕
を原料として、脱ノ・ロゲン化水素という簡単な反応に
よって容易に合成できる利点ン有する。
化合物〔1〕はラジカル重合によって硬℃・架橋した重
合物を、またカチオン重合により粘稠な重合物を、それ
ぞれ形成する。
上述のように本発明の化合物〔1〕は容易かつ安価に製
造することができ、しかもラジカル片(合およびカチオ
ン重合のいずれの方法によっても重合させることが可能
であり、重合物はその主鎖中にカーボネート基またはス
ピロオルソカーボネート基を有している。従って本発明
の化合物〔1〕は、成形制料、接着剤、塗料などの原料
として極めて有用な化合物である。
化合物〔1〕のラジカル重合は、通常のラジカル重合手
段、例えば紫外腺、赤外線、熱、電子線又はマイクロ波
により行なうことができる。
紫外肪ラジカル重合では、通常光開始剤が用いられる。
好適に利用できる光開始剤としては、アセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2
,2−ジエトキンアセトフエノン、4’−イソプロピル
−2−ヒドロキン−2−メチルグロピオフエノン、2−
ヒドロキシ−2−メチルグロピオフエノン、’4+ 4
(−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノ/、ベンゾフ
ェノン、メチル=(0−ベンゾイル)−ベンゾエート、
1−フェニル−1,2−フロパンジオン−2−(0−エ
トキシカルボニル)−オキシム、1−フェニル−1,2
−プロパンジオン−2−(0−ベンソイル)−万ギシム
、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ペンゾイン
エチルエーテノへペンゾインイングロビルエーテル、ペ
ンゾインイソブチルエーテノV1ベンゾインオクチルエ
ーテル、ベンジル又はジアセチル等のカルボニル化合物
;メチルアントラヤノン、クロロアントラキノン、クロ
ロチメギケントン、2−メチルチオキサントン又は2−
i−プロビルチオキザントン等のアントラキノン又はキ
リーントン誘導体;ジフェニルスルフィド、ジフェニル
ジスルフィド又はジチオカーバメート等の硫黄化合物;
α−クロロメチルナフタレン、アントラセン等がある、 赤外線、熱、マイクロ波による重合に際しては、分解に
よってラジカルを生成し得るものであればいずれのラジ
カル開始剤の使用も司能である。例えば、ジーtert
−ブブルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ
(tert−ブナルバーオキシ)ヘキサノ、tert−
ブナルハイドロパーオキシド、tert=ブチルパーオ
キシベンゾエート等の有イ幾過酸化物;2,2’−アゾ
ビスイソフチロニトリル等のアゾ化合′吻;過硫敵アン
モニウム、過値酸カリウム等の過1役塩が使用できる。
又、電子線などの電離性放射線による重合は通?b′無
順媒系で行なわれる。
)独媒を用いる場合その使用量は、一般に単量体の合計
量に基づき0.01〜10wt  飴、好ましくは01
〜5 w を係の・出回て゛ある。
ラジカル重合は、紫外線あるいは電離性放射線の照射に
よる場合は常温でも進むが、その他の場合は、加温ない
し加熱状態で円滑に進行する。重合時に溶媒を使用する
場合、好ましく用いられる溶媒としては例えばトルエン
、キシレン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミ
ド、クロロホルム、ジオキサン等があげられる。また化
合物〔1〕のカチオン重合は一般によく仰られている方
法、ずなわらカチオン」合開始剤の存在下例えば紫外瞭
、赤外線、熱またはマイクロ波などによって行なう。
紫外線照射の場合のカチオン重合触媒として、例えば φ−肖ヨN ’ l) F、、φ−N三指・BF′4.
などの芳香族ジアゾニウム塩;φ−1−φ・BF4等の
芳香族ハロニウム堪; CトI3 寺の周ル」律表第Va族元素の芳香族オニウム塩;族元
素の芳イ「族オニウム塩; a −V a族元素のジカルボニル錯化合物が使用され
つる。
また、その他のカチオン重合2懺媒としては、例えばB
JI”3. fi’ecI3.5nCI4. SbF3
. TiC14などのルイス酸; BF30Et2.B
F3−アニリンコンプレックス等のごときルイス酸と0
.S、Nなどを有する化合物との配位化合物;ルイス酸
のオキソニウム塩、ジアゾニウム塩、カルボニウム塩;
ハロケン化合物、混合ハロゲン化合物または過ハロゲン
酸誘惑体などがあげられる。
触媒の使用jさは一般に重合しようとする単量体に対し
、o、ooi〜10w、tチ好ましくは01から5wt
%の範囲が好適である。重合温度に関する制限は特にな
いが、通常常温〜200°Cで行なわれる。
iq合時に溶媒を使用する場合は、生長カチオンと反応
してその活性ン低下させない化合物を選ぶことが望まし
い。使用に通した溶媒としては、ヘキサノ、オクタン等
の脂肋尿炭化水系;トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素;塩化メチレン、1.1−ジクロルエタン等のハロ
ゲン化炭化水素ソの他かある。
実施例1 撹拌機、コンデンサー、温度計及びγj11千ロートを
係iえた4つ口500 mlフラスコに、ナトリウムメ
ナラー1−21.69 (0,4モルラ及び」\、 r
’l−ジメチルホルムアミド1oo7!を入れ、撹拌し
7.cがら2.7−ビス−クロルメチルー1.4.6.
9−テトラオキサスピロ(4,4)ノナン22.9 g
(0,1モル)を室温において1時間かけて、滴下した
。その後60’Cで4時間反応させ一夜放置した。次に
反応液を40[IT、eの水に注ぎ、有様層と水)tイ
を分離した。次に水層にエチルエーテル80m6を加え
て抽出する操作を6回くり返し、各エチルエーテル層と
前記有機層を合わせて水100mAで洗浄した。
これを硫酸マグネシウムで脱水し、ロータリーエバボレ
ークーで脱溶剤後、減圧蒸留して、沸点78°Q76m
mH9−において透明液状の2.7−シメチレンー1.
4.6.9−テトラオキサスピロ(4,4)ノナン5.
59(収率ろ5ヂ)を得た。
その物性値は下記の通りである。
0比= ; i、 19ろ(25°C)・沸点;78°
0/6關Hり ・赤外吸収スペクトル(以下I I(、と略記する);
(851図参照) 1702 Cn1’ (C−CH2)。
1220(,77+ ’ 、1030〜1060o、q
  ’(C−0−C)0核磁気共19スペクトル(以下
N IVI Rと略記する) (CDCA3中); (第2図参照) θ(ppm) 4.04   (2H,0−CH2) 4.49   (2H,0−CH2) 4、68   (4H,2CH2=C’)なお上記で使
用した2、7−ビス−クロルメチル−i、 4.6.9
−テトラオキサスピロ[:4.4)ノナンは以下の方法
で製造したものである。
づ−なわち、挑拌模、コンデンサーー、温度tト、窒素
吹込み管を備えた4つ口500m1フラスコに6−クロ
ロ−1,2−プロパンジオール66.39(0,、s 
ロモル)、テトラメチルlr )Vソカーボネー1−4
7.65シ(065モル)、キシレン15〇−および触
媒としてI) −トルエンスルフォン!?、1.30り
を仕込み、屋累ガスを施し攪拌しながら90°0におい
て1時間、次に100aにおいて1時間、さらに11o
’aにおいて2時間加熱して留出メタノールを約659
抽果した。
次にトリエチルアミン0.6 me、を加え、触踪を失
活させた。
次にロータリーエバポレーターで脱d剤を行ない残直な
減圧蒸留した。沸点115〜120°C/2 ttxm
 k(りにおいて、2,7−ビス−クロルメチルー1.
4.6.9−テトラオキサスピロ(4,4)ノナン44
.6!7’(収率56チ)を得た。
その物性値は下記の通りである。
0沸点;115°〜120 ’c/ 2 關Hりoi 
R; 122”ran ’ 、 1060cm’ T1040
an’ (C−0−C)o N MR(CD C13甲
); δ(ppm) 4、ろ〜4.65  (24−1,、2CH−(J)6
8〜4゜3   (4H,、2CL12 0 )6.2
〜6.8   (4n、2cn2−cl)参考例1゜ 実施例1でイUた2、7−シメチレンー1.4.6.9
−テトラオキサスピロ(4,4)ノナンに、止金触媒と
してアゾヒスイソブチロニドl)ルを6モル俸添加し、
70’Oにおいて2011ン間重合さぜた。
この乗合物は、ショア硬度D−87の透明の硬い硬化物
であり、アセトンに平俗であった。
またこの渾金物の比重は25°Cにおいて1.686で
あり、この値より算出される重合の際の体積収縮率は1
6.7チであった。
また■几分析より12300nI + 1030crn
’  のピークが認められた。
参考例2゜ 実施例1で得た化合物にB−F30E t2を6モル係
添加し、80″Cにおいて2時間加熱した。
第1図は実施例1で得た2、7−シメチレンー1゜4、
6.9−テトラオキサスピロ(4,4)ノナンのI几ス
ペクトル図であり、第2図は同化合物のN M几スペク
トル図である。
特許出願人の名称 東亜合成化学工業株式会社 手続補正書 昭和58年 7月、、!左目 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、 事件の表示 昭和58年特許願第32874号 2、発明の名称 スビロオルソカーホネート化合物 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所  東京都港区西新橋1丁目」4番1号4、補正の
対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 5、補正の内容 (1)明細書第5頁6行にr13.Jとあるをr13.
Jとネ市正する。
とあるを「φ−NミN −B F4.Jと補正する。
以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.2.7−シメチレンー1.4.6.9−テトラオキ
    サスピロ(4,4)ノナン
JP58032874A 1983-03-02 1983-03-02 スピロオルソカ−ボネ−ト化合物 Pending JPS59161382A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6433182A (en) * 1987-07-30 1989-02-03 Agency Ind Science Techn Sparingly shrinking impregnating agent for porous body and sealing pore of porous body therewith
CN103601734A (zh) * 2013-11-19 2014-02-26 沈阳化工大学 利用环氧氯丙烷水解产物合成含氯螺环原碳酸酯的方法
CN103626786A (zh) * 2013-11-20 2014-03-12 沈阳化工大学 一种含氯螺环原碳酸酯单体的合成方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
THE JOURNAL OF ORGANIC CHEMISTRY=1978US *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6433182A (en) * 1987-07-30 1989-02-03 Agency Ind Science Techn Sparingly shrinking impregnating agent for porous body and sealing pore of porous body therewith
CN103601734A (zh) * 2013-11-19 2014-02-26 沈阳化工大学 利用环氧氯丙烷水解产物合成含氯螺环原碳酸酯的方法
CN103626786A (zh) * 2013-11-20 2014-03-12 沈阳化工大学 一种含氯螺环原碳酸酯单体的合成方法

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