JPH0152809B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0152809B2 JPH0152809B2 JP56017248A JP1724881A JPH0152809B2 JP H0152809 B2 JPH0152809 B2 JP H0152809B2 JP 56017248 A JP56017248 A JP 56017248A JP 1724881 A JP1724881 A JP 1724881A JP H0152809 B2 JPH0152809 B2 JP H0152809B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- gap
- glass
- welding
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
利用産業分野
この発明は、ビデオテープレコーダ用画像ヘツ
ドの如き狭トラツク幅かつ高周波域で使用される
磁気ヘツドの製造方法に係り、フエライトコアの
接合強度とギヤツプ長寸法精度を向上させるとと
もに、従来の２種類の高、低融点ガラスを使い分
けガラスボンデイング工程を１回とした磁気ヘツ
ドコアの製造方法に関する。
ドの如き狭トラツク幅かつ高周波域で使用される
磁気ヘツドの製造方法に係り、フエライトコアの
接合強度とギヤツプ長寸法精度を向上させるとと
もに、従来の２種類の高、低融点ガラスを使い分
けガラスボンデイング工程を１回とした磁気ヘツ
ドコアの製造方法に関する。
従来の技術
今日のVTR用画像ヘツドは、トラツク幅が20
〜30μmの狭トラツク幅であるばかりでなく、ギ
ヤツプ長さが0.3μm、さらに狭ギヤツプ化されよ
り高周波域での使用が望まれている。
〜30μmの狭トラツク幅であるばかりでなく、ギ
ヤツプ長さが0.3μm、さらに狭ギヤツプ化されよ
り高周波域での使用が望まれている。
従つて、かかる磁気ヘツドの製造は精密な加
工、特に表面歪のない加工が必要であり、複雑な
工程を経て作製されている。
工、特に表面歪のない加工が必要であり、複雑な
工程を経て作製されている。
このVTR用画像ヘツドの一般的な製造方法を
説明すると、Mn−Zn単結晶フエライトの磁性材
料から一対の平板を切り出し、平板の所定面に一
方向の例えばＵ字形溝を穿設して、これを突合せ
てトラツク幅に該当する部分を形成し、平板より
適当なブロツクを切り出し、一方のブロツクに巻
線用溝並びに溶着用横溝を加工してコ字形ブロツ
クとし、両ブロツクのＵ字形溝に補強用ガラスを
充填し、突合せするギヤツプ形成面を鏡面研摩し
たのち、所定のギヤツプを構成すめための非磁性
体のスペーサーを付着させ、スペーサーを介して
両ブロツクを圧力をかけて突合せ、上述の補強ガ
ラスより溶融温度の低い接合ガラスを巻線用溝と
溶着横溝に入れて加熱溶着させて磁気ヘツドコア
を作製していた。
説明すると、Mn−Zn単結晶フエライトの磁性材
料から一対の平板を切り出し、平板の所定面に一
方向の例えばＵ字形溝を穿設して、これを突合せ
てトラツク幅に該当する部分を形成し、平板より
適当なブロツクを切り出し、一方のブロツクに巻
線用溝並びに溶着用横溝を加工してコ字形ブロツ
クとし、両ブロツクのＵ字形溝に補強用ガラスを
充填し、突合せするギヤツプ形成面を鏡面研摩し
たのち、所定のギヤツプを構成すめための非磁性
体のスペーサーを付着させ、スペーサーを介して
両ブロツクを圧力をかけて突合せ、上述の補強ガ
ラスより溶融温度の低い接合ガラスを巻線用溝と
溶着横溝に入れて加熱溶着させて磁気ヘツドコア
を作製していた。
従来技術の問題点
この従来の製造方法において問題となるのは、
上述の如くガラスボンデイング工程が２回必要な
こと、そして、ギヤツプ形成面における表面歪の
ない加工が困難なことの２点にある。
上述の如くガラスボンデイング工程が２回必要な
こと、そして、ギヤツプ形成面における表面歪の
ない加工が困難なことの２点にある。
すなわち、ガラスボンデイング工程が２回必要
なため、工程が繁雑となり、しかも２種類の高、
低融点ガラスを使い分ける必要があり、これにと
もなう熱処理工程の長時間化によりギヤツプ形成
面がガラスの熱侵蝕にさらされるのである。
なため、工程が繁雑となり、しかも２種類の高、
低融点ガラスを使い分ける必要があり、これにと
もなう熱処理工程の長時間化によりギヤツプ形成
面がガラスの熱侵蝕にさらされるのである。
また、磁気ヘツドの性能を左右するヘツドギヤ
ツプを構成するための上記のギヤツプ形成面は、
表面歪のないことが理想とされるため、通常の鏡
面研摩に加えて、電解研摩や化学的エツチングに
よつて表面歪の少ない加工が施され、高周波域で
の特性改善が図られている。
ツプを構成するための上記のギヤツプ形成面は、
表面歪のないことが理想とされるため、通常の鏡
面研摩に加えて、電解研摩や化学的エツチングに
よつて表面歪の少ない加工が施され、高周波域で
の特性改善が図られている。
一方、メカノケミカル研摩の適用も提案されて
いるが、かかるVTR用画像ヘツドの如き小片の
フエライトコアにおいて、トラツク構成溝や巻線
用及びガラス溶着用溝が加工された面をメカノケ
ミカル研摩することは困難である。
いるが、かかるVTR用画像ヘツドの如き小片の
フエライトコアにおいて、トラツク構成溝や巻線
用及びガラス溶着用溝が加工された面をメカノケ
ミカル研摩することは困難である。
すなわち、ギヤツプ長の相対的な寸法からみる
と、加工溝のエツジ部分は機械的強加工の影響に
より破砕されているため、メカノケミカル研摩の
際にピツチングが発生して無歪の加工とすること
が困難である。
と、加工溝のエツジ部分は機械的強加工の影響に
より破砕されているため、メカノケミカル研摩の
際にピツチングが発生して無歪の加工とすること
が困難である。
同様に、トラツク幅溝成溝に補強用ガラスを充
填し固化させた複合面をメカノケミカル研摩する
ことも、フエライトとガラスの複合面であるた
め、両材質を均等にかつ無歪の超精密研摩するこ
とは極めて困難となる。
填し固化させた複合面をメカノケミカル研摩する
ことも、フエライトとガラスの複合面であるた
め、両材質を均等にかつ無歪の超精密研摩するこ
とは極めて困難となる。
以上の如く、従来の製造方法は、かかる磁気ヘ
ツドの高周波特性を向上させることが容易でな
く、しかも複雑な工程により製造しなければなら
なかつた。
ツドの高周波特性を向上させることが容易でな
く、しかも複雑な工程により製造しなければなら
なかつた。
そこでこの発明は、所要の高周波特性を得るこ
とができ、しかもフエライトコアの接合強度とギ
ヤツプ長寸法精度を向上させるとともに、前述し
たガラス溶着を１回とした簡易な方法の狭トラツ
ク幅の磁気ヘツドの製造方法を目的とする。
とができ、しかもフエライトコアの接合強度とギ
ヤツプ長寸法精度を向上させるとともに、前述し
たガラス溶着を１回とした簡易な方法の狭トラツ
ク幅の磁気ヘツドの製造方法を目的とする。
発明の概要
この発明は、
磁気回路を構成する一対の単結晶Mn−Znフエラ
イトコアのギヤツプ形成（100）面を機械研摩後
に粒径70〜200ÅのSiO2微細粉の純水中懸濁液を
酸性領域に調整して、無歪仕上ポリツシングし、 ポリツシユした各ギヤツプ形成面にギヤツプ形成
面にギヤツプを構成する非磁性体膜を被着したの
ち、 ヘツドのトラツク幅を構成する縦溝を加工して
コアの一方に設けた巻線用横溝に縦溝先端が連通
するよう構成すると共にガラス溶着用後方溝を形
成し、 これらの１対のコアをトラツク幅が一致するよう
対向させ組合せ、溶着用後方溝を上にしてこの後
方溝と巻線用横溝にギヤツプ形成膜とほぼ同一温
度で溶着できるガラス棒を挿入し、一対のコアを
加熱圧着することを要旨とする。
イトコアのギヤツプ形成（100）面を機械研摩後
に粒径70〜200ÅのSiO2微細粉の純水中懸濁液を
酸性領域に調整して、無歪仕上ポリツシングし、 ポリツシユした各ギヤツプ形成面にギヤツプ形成
面にギヤツプを構成する非磁性体膜を被着したの
ち、 ヘツドのトラツク幅を構成する縦溝を加工して
コアの一方に設けた巻線用横溝に縦溝先端が連通
するよう構成すると共にガラス溶着用後方溝を形
成し、 これらの１対のコアをトラツク幅が一致するよう
対向させ組合せ、溶着用後方溝を上にしてこの後
方溝と巻線用横溝にギヤツプ形成膜とほぼ同一温
度で溶着できるガラス棒を挿入し、一対のコアを
加熱圧着することを要旨とする。
また、磁気ヘツドのフエライトコアに用いられ
るMn−Zn単結晶フエライトにおいて、各種結晶
面に関しては、無歪ポリツシングを施した場合、
形状精度として重要な表面粗度については各結晶
面とも差異は見出されなかつた。
るMn−Zn単結晶フエライトにおいて、各種結晶
面に関しては、無歪ポリツシングを施した場合、
形状精度として重要な表面粗度については各結晶
面とも差異は見出されなかつた。
(1) 残留加工歪については、結晶面（100）面が
もつとも少なく、また (2) 化学エツチングによる残留歪の測定を実施し
た結果では、（100）面にはエツチングした後、
スクラツチ等の表面粗度の劣化は全くみられ
ず、 (3) 無歪ポリツシユの研摩速度は、（100）面が最
も早い等の大きな差異が見出された。
もつとも少なく、また (2) 化学エツチングによる残留歪の測定を実施し
た結果では、（100）面にはエツチングした後、
スクラツチ等の表面粗度の劣化は全くみられ
ず、 (3) 無歪ポリツシユの研摩速度は、（100）面が最
も早い等の大きな差異が見出された。
以上の如く、(1)(2)の残留歪の残存については磁
気ヘツドのギヤツプ形成を行なつたとき、形状精
度とは別に最も磁気特性の劣化を招来し、(3)に関
しては生産性の面で重要である。
気ヘツドのギヤツプ形成を行なつたとき、形状精
度とは別に最も磁気特性の劣化を招来し、(3)に関
しては生産性の面で重要である。
この発明において、一対の単結晶Mn−Znフエ
ライトコアのギヤツプ形成面に、結晶面（100）
面を用いた理由は上記の理由による。
ライトコアのギヤツプ形成面に、結晶面（100）
面を用いた理由は上記の理由による。
発明の効果
この発明による製造方法によつて、単結晶Mn
−Znフエライトからなる磁気ヘツドコアチツプ
は、ギヤツプ形成面の（100）面を特定条件の無
歪のメカノケミカル研摩し、ギヤツプ形成膜を被
着した後、トラツク幅を構成する縦溝と他の溝を
加工しているために、トラツク部においてチツピ
ングの発生が少なく、しかも無歪加工を施したこ
とにより磁気ヘツドの特性が向上する。
−Znフエライトからなる磁気ヘツドコアチツプ
は、ギヤツプ形成面の（100）面を特定条件の無
歪のメカノケミカル研摩し、ギヤツプ形成膜を被
着した後、トラツク幅を構成する縦溝と他の溝を
加工しているために、トラツク部においてチツピ
ングの発生が少なく、しかも無歪加工を施したこ
とにより磁気ヘツドの特性が向上する。
しかも、ガラス溶着が１回で完了するのみなら
ず、ギヤツプ形成膜に用いる非磁性体とトラツク
幅部分の補強用ガラスおよびコア溶着用のガラス
がほぼ同一溶融温度を有しているため、熱処理工
程によるギヤツプ形成面の熱侵蝕が減少し、磁気
ヘツドの特性が向上する。
ず、ギヤツプ形成膜に用いる非磁性体とトラツク
幅部分の補強用ガラスおよびコア溶着用のガラス
がほぼ同一溶融温度を有しているため、熱処理工
程によるギヤツプ形成面の熱侵蝕が減少し、磁気
ヘツドの特性が向上する。
さらには、１回のガラス溶着でいずれの部分に
おいても、強固な溶着力が得られるため強度の高
い磁気ヘツドが製造できる。
おいても、強固な溶着力が得られるため強度の高
い磁気ヘツドが製造できる。
発明の図面に基づく開示
第１図から第４図はこの発明による製造方法の
工程を示すフエライトコアの説明図である。以下
に、図面に基づいてこの発明を詳述する。
工程を示すフエライトコアの説明図である。以下
に、図面に基づいてこの発明を詳述する。
まず第１図に示す如く、単結晶Mn−Znフエラ
イト素材のブロツクを所定寸法に切出し、磁気ヘ
ツドを構成する一対のコア１，１ａを準備する。
イト素材のブロツクを所定寸法に切出し、磁気ヘ
ツドを構成する一対のコア１，１ａを準備する。
このコア１，１ａを対向させ、ギヤツプを構成
するギヤツプ形成面の（100）面を、ダイヤモン
ドパウダーによる機械研摩を施し、その後に加工
歪を取るための特定条件のメカノケミカル研摩に
よるポリツシングを行なう。
するギヤツプ形成面の（100）面を、ダイヤモン
ドパウダーによる機械研摩を施し、その後に加工
歪を取るための特定条件のメカノケミカル研摩に
よるポリツシングを行なう。
次に、この研摩した単結晶Mn−Znフエライト
の（100）面の各々のギヤツプ形成面に、所定の
ギヤツプ長寸法の1/2の厚みに相当する非磁性体
からなるギヤツプ形成膜２，２ａを、蒸着法また
はスパツター法により被着させる。
の（100）面の各々のギヤツプ形成面に、所定の
ギヤツプ長寸法の1/2の厚みに相当する非磁性体
からなるギヤツプ形成膜２，２ａを、蒸着法また
はスパツター法により被着させる。
さらに、第２図に示すように、コア１，１ａの
ギヤツプ形成膜２，２ａを被着した面に、トラツ
ク幅を規制する縦溝３を所定間隔で溝加工し、一
対のコア１，１ａのうち、一方のコア１ａに縦溝
３先端が連通するように、断面がコ字形で巻線を
収容しかつガラス溶着にも使用する横溝４を溝加
工する。
ギヤツプ形成膜２，２ａを被着した面に、トラツ
ク幅を規制する縦溝３を所定間隔で溝加工し、一
対のコア１，１ａのうち、一方のコア１ａに縦溝
３先端が連通するように、断面がコ字形で巻線を
収容しかつガラス溶着にも使用する横溝４を溝加
工する。
そしてこのコア１ａには、縦溝３とは反対側の
面に、コア１と突合せたとき溶着用溝となるべき
後方溝５を加工する。
面に、コア１と突合せたとき溶着用溝となるべき
後方溝５を加工する。
以上の如く、ギヤツプ形成膜２，２ａを被着し
たのち溝加工を施した各コア１，１ａを第３図の
ａ図に示すように、ギヤツプ形成膜２，２ａを突
合せ、さらにトラツク幅を規制する縦溝３を相合
致するよう組合せて両側から加圧する。
たのち溝加工を施した各コア１，１ａを第３図の
ａ図に示すように、ギヤツプ形成膜２，２ａを突
合せ、さらにトラツク幅を規制する縦溝３を相合
致するよう組合せて両側から加圧する。
そして、このギヤツプ形成膜２，２ａとほぼ同
一の溶融温度を有する溶着用ガラス棒６，７を、
後方溝５側を上方にし、後方溝５と横溝４内に挿
入し、両コア１，１ａを接合中心へ加圧した状態
で、所定の温度まで加熱し保持する。
一の溶融温度を有する溶着用ガラス棒６，７を、
後方溝５側を上方にし、後方溝５と横溝４内に挿
入し、両コア１，１ａを接合中心へ加圧した状態
で、所定の温度まで加熱し保持する。
このとき、横溝３内に挿入したガラス棒７は溶
融して連通する対溝３内へも流入し、トラツク部
の補強ガラスを形成する。
融して連通する対溝３内へも流入し、トラツク部
の補強ガラスを形成する。
このようにして、溶着が完了したのち冷却し、
第３図のｂ図に示す如く、１点鎖線上、すなわち
縦溝３の中央部でブロツクをスライスし、その両
面をラツプ仕上げする。
第３図のｂ図に示す如く、１点鎖線上、すなわち
縦溝３の中央部でブロツクをスライスし、その両
面をラツプ仕上げする。
すると第４図に示すように、磁気ヘツド用のフ
エライトコアチツプ８が得られる。
エライトコアチツプ８が得られる。
上記の１回のガラスボンデイングによつて、ト
ラツク面の補強ガラス７′と横溝における補強ガ
ラス７′が共有され、さらにバツクサイドの溶着
用ガラス６′とが同時に溶着され、熱侵蝕による
性能の劣化が少なく、寸法精度のすぐれたフエラ
イトコアチツプ８が得られる。
ラツク面の補強ガラス７′と横溝における補強ガ
ラス７′が共有され、さらにバツクサイドの溶着
用ガラス６′とが同時に溶着され、熱侵蝕による
性能の劣化が少なく、寸法精度のすぐれたフエラ
イトコアチツプ８が得られる。
しかも、ギヤツプ形成面は機械研摩して、特定
粒径のSiO2微細粉を懸濁した酸性領域の懸濁液
中にて無歪メカノケミカル研摩を施した後、ギヤ
ツプ形成膜を被着してあり、さらにその後に溝加
工を行なうため、トラツク部のチツピングの発生
が少なく、上記の無歪加工も施されているため、
得られる磁気ヘツドの特性が大きく向上する。
粒径のSiO2微細粉を懸濁した酸性領域の懸濁液
中にて無歪メカノケミカル研摩を施した後、ギヤ
ツプ形成膜を被着してあり、さらにその後に溝加
工を行なうため、トラツク部のチツピングの発生
が少なく、上記の無歪加工も施されているため、
得られる磁気ヘツドの特性が大きく向上する。
実施例
以下にこの発明による実施例を示しその効果を
明らかにする。
明らかにする。
フエライトコアに、Mn−Zn単結晶フエライト
の10×５×1.6mmブロツクを２個使用し、その結
晶面（100）をギヤツプ形成面とし、ダイヤモン
ド1/2μm砥粒による機械研摩を施し、さらに粒径
70〜200ÅのSiO2パウダーを使用し、酸性領域で
行なうメカノケミカル研摩を施して、先の機械研
摩による加工歪を除去した。
の10×５×1.6mmブロツクを２個使用し、その結
晶面（100）をギヤツプ形成面とし、ダイヤモン
ド1/2μm砥粒による機械研摩を施し、さらに粒径
70〜200ÅのSiO2パウダーを使用し、酸性領域で
行なうメカノケミカル研摩を施して、先の機械研
摩による加工歪を除去した。
こうして得られたギヤツプ形成面に、各々厚さ
0.15μmのガラス層をスパツタリングによつて被
着してギヤツプ形成膜とした。
0.15μmのガラス層をスパツタリングによつて被
着してギヤツプ形成膜とした。
ギヤツプ形成膜を被着したのち、縦溝は溝幅
200μm、溝深さ400μmで切残し、幅20μm、すな
わちトラツク幅20μmとなるように溝加工し、さ
らに横溝、後方溝を加工した。
200μm、溝深さ400μmで切残し、幅20μm、すな
わちトラツク幅20μmとなるように溝加工し、さ
らに横溝、後方溝を加工した。
次に、ギヤツプ形成膜を対向させてフエライト
コアを所定位置に組み、加熱条件750℃×1.5時間
で加熱圧着した。
コアを所定位置に組み、加熱条件750℃×1.5時間
で加熱圧着した。
この際溶着用ガラスには、0.5mmφの鉛ガラス
棒を使用した。
棒を使用した。
さらに溶着完了後、冷却させ、スライス後、ラ
ツプ仕上げを行ない、0.2mmｔのフエライトコア
チツプに仕上げた。
ツプ仕上げを行ない、0.2mmｔのフエライトコア
チツプに仕上げた。
この結果、この発明方法によるVTR画像ヘツ
ド用フエライトコアチツプは、ギヤツプ寸法精度
も所定の0.3μmに対して±５％の範囲内となり、
トラツク幅は所定どおりにおさまつており、ギヤ
ツプ形成面は完全に溶着され、補強ガラスによる
溶着強度も高くなつている。
ド用フエライトコアチツプは、ギヤツプ寸法精度
も所定の0.3μmに対して±５％の範囲内となり、
トラツク幅は所定どおりにおさまつており、ギヤ
ツプ形成面は完全に溶着され、補強ガラスによる
溶着強度も高くなつている。
そして、この発明において、無歪メカノケミカ
ル研摩を完全に実施できたため、従来の機械研摩
のみの加工によつて鏡面仕上げを行ない従来方法
で磁気ヘツドに組立てた場合と比較して、この発
明による磁気ヘツドの場合は、その出力差が、
5MHzで＋3dB、8MHzで6dBとなり、再生出力が
大きく増加した。
ル研摩を完全に実施できたため、従来の機械研摩
のみの加工によつて鏡面仕上げを行ない従来方法
で磁気ヘツドに組立てた場合と比較して、この発
明による磁気ヘツドの場合は、その出力差が、
5MHzで＋3dB、8MHzで6dBとなり、再生出力が
大きく増加した。
第１図から第４図はこの発明による製造方法の
工程を示すフエライトコアの説明図である。 １，１ａ……コア、２，２ａ……ギヤツプ形成
膜、３……縦溝、４……横溝、５……後方溝、
６，７……溶着用ガラス棒、６′……溶着ガラス、
７′……補強ガラス、８……コアチツプ。
工程を示すフエライトコアの説明図である。 １，１ａ……コア、２，２ａ……ギヤツプ形成
膜、３……縦溝、４……横溝、５……後方溝、
６，７……溶着用ガラス棒、６′……溶着ガラス、
７′……補強ガラス、８……コアチツプ。
Claims (1)
- １ 磁気回路を構成する一対の単結晶Mn−Znフ
エライトコアのギヤツプ形成（100）面を機械研
摩後に粒径70〜200ÅのSiO2微細粉の純水中懸濁
液を酸性領域に調整して無歪仕上ポリツシング
し、ポリツシユした各ギヤツプ形成面にギヤツプ
を構成する非磁性体膜を被着したのち、磁気ヘツ
ドのトラツク幅を構成する縦溝を形成してコアの
一方に設けた巻線用横溝に縦溝先端が連通するよ
う構成すると共にガラス溶着用後方溝を形成し、
これらの１対のコアをトラツク幅が一致するよう
対向させ組合せ、溶着用後方溝を上にしてこの後
方溝と巻線用横溝にギヤツプ形成膜とほぼ同一温
度で溶着できるガラス棒を挿入し、一対のコアを
加熱圧着することを特徴とする磁気ヘツドコアの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1724881A JPS57133516A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Production of magnetic head core |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1724881A JPS57133516A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Production of magnetic head core |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57133516A JPS57133516A (en) | 1982-08-18 |
| JPH0152809B2 true JPH0152809B2 (ja) | 1989-11-10 |
Family
ID=11938642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1724881A Granted JPS57133516A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Production of magnetic head core |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57133516A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60239905A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53108409A (en) * | 1977-03-03 | 1978-09-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head and preparation thereof |
-
1981
- 1981-02-06 JP JP1724881A patent/JPS57133516A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57133516A (en) | 1982-08-18 |
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