JPH0153873B2 - - Google Patents

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JPH0153873B2
JPH0153873B2 JP59165797A JP16579784A JPH0153873B2 JP H0153873 B2 JPH0153873 B2 JP H0153873B2 JP 59165797 A JP59165797 A JP 59165797A JP 16579784 A JP16579784 A JP 16579784A JP H0153873 B2 JPH0153873 B2 JP H0153873B2
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Japan
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phenyl
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Shinji Nishitani
Junichi Namikawa
Masanobu Kano
Junichiro Ootsubo
Yoshiaki Manabe
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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    • C07D211/92—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with a hetero atom directly attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、新規なジヒドロピリジン誘導体の製
造法に関する。更に詳しくは、本発明は一般式 〔式中R1、R2及びR4はそれぞれ低級アルキル基
を示す。R3はニトロ基又は置換基としてハロゲ
ン原子を１〜３個有することのある低級アルキル
基を示す。R5は低級アルコキシ基、ハロゲン原
子、低級アルキルチオ基、水酸基、低級アルカノ
イルオキシ基、テトラヒドロピラニルオキシ基、
及び低級アルコキシ低級アルコキシ基からなる群
から選ばれた置換基を１〜３個有することのある
フエニル基を示す。Ａは不飽和鎖状炭化水素残基
を示す。〕で表わされるジヒドロピリジン誘導体
及びその塩を製造する方法に関する。 発明の開示 本明細書において低級アルキル基としては、例
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等
の炭素数１〜６のアルキル基を挙げることができ
る。 置換基としてハロゲン原子を有することのある
低級アルキル基としては、例えば上記炭素数１〜
６のアルキル基に加えて、トリフルオロメチル、
２，２−ジフルオロエチル、１，１−ジクロロエ
チル、トリクロロメチル、ジクロロメチル、トリ
ブロモメチル、２，２，２−トリフルオロエチ
ル、２，２，２−トリクロロエチル、２−クロロ
エチル、１，２−ジクロロエチル、３，３，３−
トリクロロプロピル、３−フルオロプロピル、４
−クロロブチル、３−クロロ−２−メチルエチル
基等の置換基としてハロゲン原子を１〜３個有す
ることのある炭素数１〜６のアルキル基を挙げる
ことができる。低級アルコキシ基としては、例え
ばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコ
キシ基を挙げることができる。ハロゲン原子とし
ては、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子
を例示できる。 低級アルコキシ低級アルコキシ基としては、例
えばメトキシメトキシ、２−メトキシエトキシ、
１−メトキシエトキシ、３−メトキシプロポキ
シ、４−メトキシブトキシ、１，１−ジメチル−
２−メトキシエトキシ、５−メトキシペンチルオ
キシ、６−メトキシヘキシルオキシ、２−メチル
−３−メトキシプロポキシ、エトキシメトキシ、
３−エトキシプロポキシ、６−エトキシヘキシル
オキシ、２−プロポキシエトキシ、４−プロポキ
シブトキシ、５−ブトキシペンチルオキシ、ペン
チルオキシメトキシ、１−ペンチルオキシエトキ
シ、１，１−ジメチル−２−ヘキシルオキシエト
キシ、３−ヘキシルオキシプロポキシ基等の各々
のアルコキシ部分が炭素数１〜６のアルコキシア
ルコキシ基を挙げることができる。 不飽和鎖状炭化水素残基としては、ビニレン、
１−プロペニレン、１−メチル−１−プロペニレ
ン、２−メチル−１−プロペニレン、２−プロペ
ニレン、２−ブテニレン、１−ブテニレン、３−
ブテニレン、２−ペンテニレン、１−ペンテニレ
ン、３−ペンテニレン、４−ペンテニレン、１，
３−ブタジエニレン、１，３−ペンタジエニレ
ン、２−ペンテン−４−イニレン、２−ヘキセニ
レン、１−ヘキセニレン、５−ヘキセニレン、３
−ヘキセニレン、４−ヘキセニレン、３，３−ジ
メチル−１−プロペニレン、２−エチル−１−プ
ロペニレン、エチニレン、２−プロピニレン、１
−プロピニレン、１，１−ジメチル−２−プロピ
ニレン、３，３−ジメチル−１−プロピニレン、
２−ブチニレン、３−ブチニレン、１−ブチニレ
ン、２−ペンチニレン、１−ペンチニレン、３−
ペンチニレン、４−ペンチニレン、２−ヘキシニ
レン、１−ヘキシニレン、３−ヘキシニレン、４
−ヘキシニレン、５−ヘキシニレン、１，３−ヘ
キサジエニレン、１，４−ヘキサジエニレン、
１，３，５−ヘキサトリエニレン基等の二重結合
又は／及び三重結合を１〜３個有する炭素数２〜
６個の直鎖又は分枝鎖の不飽和炭化水素残基を例
示できる。 低級アルキルチオ基としては、例えばメチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチ
オ、ヘキシルチオ基等の炭素数１〜６のアルキル
チオ基を挙げることができる。 低級アルカノイルオキシ基としては、例えばホ
ルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニ
ルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオ
キシ基、ペンタノイルオキシ基、tert−ブチリル
オキシ基、ヘキサノイルオキシ基等の炭素数１〜
６個のアルカノイルオキシ基を挙げることができ
る。 低級アルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキ
ルチオ基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、
テトラヒドロピラニルオキシ基及び低級アルコキ
シ低級アルコキシ基からなる群から選ばれた置換
基を１〜３個有することのあるフエニル基として
は、例えばフエニル、２−、３−または４−クロ
ロフエニル、２−、３−または４−フルオロフエ
ニル、２−、３−または４−ブロモフエニル、２
−、３−または４−ヨードフエニル、３，５−ジ
クロロフエニル、２，６−ジクロロフエニル、
３，４−ジクロロフエニル、３，４−ジフルオロ
フエニル、３，５−ジブロモフエニル、２−、３
−または４−メチルチオフエニル、２−、３−ま
たは４−エチルチオフエニル、４−プロピルチオ
フエニル、３−イソプロピルチオフエニル、２−
ブチルチオフエニル、４−ヘキシルチオフエニ
ル、３−ペンチルチオフエニル、４−tert−ブチ
ルチオフエニル、３，４−ジメチルチオフエニ
ル、２，５−ジメチルチオフエニル、２−、３−
または４−メトキシフエニル、２−、３−または
４−エトキシフエニル、３−プロポキシフエニ
ル、４−イソプロポキシフエニル、３−ブトキシ
フエニル、２−ペンチルオキシフエニル、４−
tert−ブトキシフエニル、４−ヘキシルオキシフ
エニル、３，４−ジメトキシフエニル、３，４−
ジエトキシフエニル、２，５−ジメトキシフエニ
ル、２−、３−または４−（２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ）フエニル、２，４−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）フエニル、３−メチルチ
オ−４−クロロフエニル、２−クロロ−６−メチ
ルチオフエニル、２−メトキシ−３−ヒドロキシ
フエニル、３，４，５−トリメトキシフエニル、
３，４，５−トリメチルチオフエニル、３，４，
５−トリクロロフエニル、２−、３−または４−
ヒドロキシフエニル、３，４−ジヒドロキシフエ
ニル、２，６−ジヒドロキシフエニル、３，４，
５−トリヒドロキシフエニル、２−、３−または
４−アセチルオキシフエニル、４−プロピオニル
オキシフエニル、３−イソプロピオニルオキシフ
エニル、２−ブチリルオキシフエニル、４−ヘキ
サノイルオキシフエニル、３−ペンタノイルオキ
シフエニル、４−tert−ブチリルオキシフエニ
ル、３，４−ジアセチルオキシフエニル、２，５
−ジアセチルオキシフエニル、３，４，５−トリ
ジアセチルオキシフエニル、２−メトキシメトキ
シフエニル、３−（２−メトキシエトキシ）フエ
ニル、４−（１−メトキシエトキシ）フエニル、
２−（３−メトキシプロポキシ）フエニル、３−
（４−メトキシブトキシ）フエニル、４−（１，１
−ジメチル−２−メトキシエトキシ）フエニル、
２−（５−メトキシペンチルオキシ）フエニル、
３−（６−メトキシヘキシルオキシフエニル）、４
−（２−メチル−３−メトキシプロポキシ）フエ
ニル、２−（エトキシメトキシ）フエニル、３−
（３−エトキシプロポキシ）フエニル、４−（６−
エトキシヘキシルオキシ）フエニル、２−（２−
プロポキシエトキシ）フエニル、３−（４−プロ
ポキシブトキシ）フエニル、４−（５−ブトキシ
ペンチルオキシ）フエニル、２−（ペンチルオキ
シメトキシ）フエニル、３−（１−ペンチルオキ
シエトキシ）フエニル、４−（１，１−ジメチル
−２−ヘキシルオキシエトキシ）フエニル、２−
（３−ヘキシルオキシプロポキシ）フエニル基等
の置換基として炭素数１〜６のアルコキシ基、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６のアルキルチオ橋、水
酸基、炭素数１〜６のアルカノイルオキシ基、テ
トラヒドロピラニルオキシ基又は各々のアルコキ
シ部分が炭素数１〜６のアルコキシアルコキシ基
を１〜３個有することのあるフエニル基を挙げる
ことができる。 上記一般式(1)で表わされるジヒドロピリジン誘
導体は、新規化合物であり、優れたカルシウム拮
抗作用（Ca−Antagonist）、降圧作用、血小板凝
集抑制作用及びホスホジエステラーゼ阻害作用を
有し、例えば冠血管拡張剤等の冠循環改良剤、降
圧剤、血栓症の予防乃至治療剤、ホスホジエステ
ラーゼ阻害剤等として有用である。さらに一般式
(1)の化合物は、過酸化脂質低下作用及びカルモジ
ユリン阻害作用をも有しており、過酸化脂質低下
剤、消炎剤及び制癌剤としても有用である。加え
て一般式(1)の化合物は、副作用が少なく、しかも
上記薬効の持続時間が長いという特徴を有してい
る。 本発明によれば、一般式 〔式中R1、R3及びR4は前記に同じ。〕 で表わされるフエニル誘導体と一般式 〔式中R2、R5及びＡは前記に同じ。〕 で表わされるエナミン誘導体とを反応させること
により一般式 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5及びＡは前記に同
じ。〕 で表わされるジヒドロピリジン誘導体が製造され
る。本発明の方法に従えば、該ジヒドロピリジン
誘導体を簡便な方法にて高純度、高収率で製造し
得る。 一般式(2)のフエニル誘導体と一般式(3)のエナミ
ン誘導体との反応は、適当な溶媒中塩基性化合物
の存在下又は非存在下に行なわれる。ここで使用
される溶媒としては、反応に悪影響を与えない不
活性のものがすべて用いられ、例えばアセトン等
のケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン、四
塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノー
ル、エチレングリコール等のアルコール類、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、
酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、ピリジン
等の有機塩基、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ
る。一般式(2)の化合物の使用量としては、一般式
(3)の化合物に対して通常少なくとも等モル、好ま
しくは等モル〜1.5倍モル量とするのがよい。該
反応は通常−20〜200℃、好ましくは50〜150℃程
度にて好適に進行し、一般に10分〜20時間程度で
終了する。使用される塩基性化合物としては、例
えばピリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、
ジエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，
４，０〕ウンデセン−７（DBU）等の有機塩基、
ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラート等
の金属アルコラート類、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基を例示で
きる。該反応は、好ましくは塩基性化合物の非存
在下に行うのが有利である。 出発原料として用いられる一般式(3)の化合物
は、例えば下記反応行程式−１及び２に示す方法
に従つて製造される。 〔反応行程式−１〕 〔式中R5及びＡは前記に同じ。〕 上記反応行程式−１における化合物(4)と化合物
(5)との反応は、適当な溶媒中触媒の存在下に行な
われる。触媒としては、例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等の有
機塩基、酢酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機
塩基等の塩基性化合物、ｐ−トルエンスルホン酸
等のスルホン酸、三弗化硼素等のルイス酸等の酸
性化合物等を挙げることができる。また溶媒とし
ては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等の
エステル類、塩化メチレン、クロロホルム、１，
２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モ
ノグライム、ジグライム等のエーテル類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ−メチルピロ
リドン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げること
ができる。化合物(4)と化合物(5)との使用割合とし
ては、通常前者に対して後者を少なくとも等モル
量程度、好ましくは１〜２倍モル程度使用すれば
よい。また上記触媒の使用量としては、特に限定
されないが、通常化合物(4)に対して1/100〜10倍
モル程度とするのがよい。好ましくは1/10〜５倍
モル程度使用すればよい。該反応は、通常−20〜
200℃、好ましくは−20〜100℃程度にて、一般に
10分〜20時間程度で終了する。 次いで得られる化合物(6)とアンモニアガスとの
反応も亦、適当な溶媒中にて行なわれる。使用さ
れる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、エチレングリコール等のアルコール
類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、
塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性
溶媒、酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、ピ
リジン等を挙げることができる。アンモニアガス
の使用量は、一般式(6)の化合物に対して少なくと
も１当量、通常１〜50当量使用するのがよい。該
反応は、通常−20゜〜200℃、好ましくは−20゜〜
150℃程度にて好適に進行し、一般に10分〜10時
間程度にて反応は終了する。 〔反応行程式−２〕 〔式中R2、R4、R5、及びＡに同じ。〕 化合物(4)と公知の化合物（7a）との反応は、
前記反応行程式−１の化合物(4)と化合物(5)との反
応と同様の条件下に行ない得る。また化合物
（6b）とアンモニアガスとの反応は、前記反応行
程式−１の化合物（6a）とアンモニアガスとの
反応と同様の条件下に行ない得る。 他の一方の出発原料として用いられる一般式(2)
の化合物は、例えば下記反応行程式−３に示す方
法に従つて製造される。 〔反応行程式−３〕 〔式中R1、R3及びR4は前記に同じ。〕 一般式（7b）の化合物と一般式(8)の化合物と
の反応は、適当な溶媒中触媒の存在下又は非存在
下に行なわれる。該溶媒としては、例えばメタノ
ール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、エチレングリコール等のアル
コール類、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、塩化メチレン、クロロホルム、１，２
−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プ
ロトン性極性溶媒、酢酸、プロピオン酸等のカル
ボン酸類、ピリジン等を挙げることができ、また
触媒としては、例えばピペリジン、トリエチルア
ミン、ジエチルアミン、DBU等の有機塩基、ピ
リジン、キノリン、イソキノリン、アニリン、ｏ
−アニシジン、ｐ−アニシジン、ｍ−アニシジ
ン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、ｐ−クロ
ルアニリン、アニリン、ｏ−フエネチジン等の芳
香族アミン類、ナトリウムエチラート、ナトリウ
ムメチラート等の金属アルコラート類、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、酢酸
カリウム等の無機塩基、塩酸、硫酸等の鉱酸類、
酢酸、プロピオン酸等のカルボン酸類、三弗化硼
素等のルイス酸類等が挙げられる。この中で芳香
族アミン類が好ましい。化合物（7a）と化合物
(8)との使用割合としては、通常前者に対して後者
を少くとも等モル量、好ましくは等モル〜２倍モ
ル程度使用すればよい。また触媒の使用量として
は、特に限定されないが、通常化合物（7b）に
対して1/100〜10倍モル程度とするのがよく、好
ましくは1/10〜５倍モル程度使用すればよい。該
反応は、通常−20〜200℃、好ましくは−20〜150
℃程度にて、一般に10分〜50時間程度で終了す
る。 上記で用いられる一般式(4)の化合物には新規化
合物が包含されており、該化合物〔一般式
（4a）、（4b）、（4c）、（4d）及び（4f）〕は下記反
応行程式−４〜８に従い製造される。 〔反応行程式−４〕 〔式中R5は前記に同じ。R6は水素原子又は低級
アルキル基を示す。R7は低級アルキル基を示す。 R8はカルボキシル基又は基
〔式中R5、R7、Ｂ、Ｏ、ｍ及びｏは前記に同じ。X1はハロゲン原子を示す。Ｍは銅、ナトリウム、リチウム、カリウム等の金属を示す。D′は飽和又は不飽和アルキレン基を示す。〕
一般式(12)の化合物と一般式（13）の化合物の反
応は、適当な溶媒中にて行なわれる。使用される
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグ
ライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のアミン
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキサイド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等
の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。反応温
度は通常０〜200℃、好ましくは室温〜150℃付近
とするのがよく、一般に0.5〜10時間程度で反応
は終了する。一般式（13）の化合物の使用量とし
ては、一般式(12)の化合物に対して少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量とするのが
よい。 一般式（14）の化合物の還元反応は、前記反応
行程式−４の一般式(11)の化合物の還元反応と同様
に条件下に行なうことができる。 一般式（4a）及び（4b）の化合物は、適当な
酸化剤の存在化に該化合物を酸化することにより
一般式 〔式中Ｚは基
〔式中R5、Ｂ、D′、ｍ及びｏは前記に同じ。R9は水酸基又は低級アルカノイル基を示す。〕
一般式（4c）の還元反応は、公知の各種還元反
応に従い行い得る。例えばパラジウム黒、パラジ
ウム炭素、酸化白金、白金黒、ラネーニツケル、
リンドラー触媒等の触媒を用いる接触還元法、水
素化硼素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウ
ム等による還元法等を適用できる。 接触還元法による還元に際しては、例えば水、
メタノール、エタノール、イソプロパノール、酢
酸、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の慣用の
溶媒を用い、上記触媒の存在下通常常圧〜20気
圧、好ましくは常圧〜10気圧の水素雰囲気中、通
常−30℃〜100℃好ましくは０〜50℃の温度で反
応させるのが良い。触媒の使用量は、一般式
（4c）の化合物に対して通常0.1〜40重量％、好ま
しくは１〜20重量％である。反応時間は通常１〜
12時間である。 水素化アルミニウムリチウム等の還元剤を用い
て還元を行なう場合には、還元剤を一般式（4c）
の化合物に対して等モル〜20倍モル好ましくは
1.5〜3.5倍モル量を用い、慣用の溶媒、例えばジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等の溶媒中で通常−30〜100℃好ましくは０℃
〜70℃で30分〜12時間程度反応させればよい。こ
れらの還元反応によつて容易に一般式（4d）で
表わされる化合物を得ることができる。 一般式（4d）の化合物でR9が低級アルカノイ
ルオキシ基の場合、加水分解してR9が水酸基の
化合物に導くこともできる。該加水分解反応は、
通常一般的に広く行なわれるエステルの加水分解
反応と同様にして実施できる。例えば酸又はアル
カリ触媒の存在下、不活性溶媒中で０〜100℃の
温度条件下に、１〜５時間程度を要して行なわれ
る。触媒としては例えば塩酸、硫酸、塩化アルミ
ニウム等の無機酸、酢酸、蟻酸等の有機酸、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム
等の無機塩基、アンモニア、トリエチルアミン等
の有機塩酸基などが挙げられる。不活性溶媒とし
ては水、メチルアルコール、エチルアルコール等
のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等のカルボ
ン酸、エチルエーテル等のエーテル類、ジメチル
ホルムアミド、アセトアミド等のアミド類が挙げ
られる。 一般式（4c）の化合物の一部は以下の反応行程
式−７の方法に従い製造することができる。 〔反応行程式−７〕 R5−(B)nX1 (12)MC≡Ｃ−(D)′ｏ−R10 (16) ―――――――――――――――→ R5−(B)nＣ≡Ｃ−(D)′p−R10 (4e) 〔式中R5、Ｂ、ｍ、X1、Ｍ、D′及びｏは前記に
同じ。R10は低級アルカノイル基を示す。〕 一般式(12)の化合物と一般式（16）の化合物の反
応は、前記反応行程式−５における一般式(12)の化
合物と一般式（13）の化合物の反応と同様の条件
下に行うことができる。 〔反応行程式−８〕 〔式中R5、Ｂ及びｍは前記に同じ。〕 一般式（9a）の化合物の還元反応は、前記反
応行程式−４の一般式(11)の化合物の還元反応と同
様の条件下に行ない得る。 斯くして得られる一般式(1)で表わされる化合物
のうち塩基性基を有する化合物は薬理的に許容し
得る酸と塩を形成し得る。斯かる酸として具体的
には硫酸、硝酸、塩酸、臭化水素酸等の無機酸、
シユウ酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、
クエン酸、安息香酸等の有機酸等を例示できる。 斯くして得られる本発明の化合物は通常用いら
れている分離手段により容易に単離、精製され
る。斯かる分離手段としては沈殿法、抽出法、再
結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテ
イブ薄層クロマトグラフイー等を例示できる。 本発明の化合物は、光学異性体も当然に包含す
るものである。 実施例 参考例 １ ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド20ｇ及びモノ
エチルマロネイト32.5ｇにピリジン６ml及びピペ
リジン0.2mlを加え、100〜110℃にて10時間加熱
撹拌後、冷却し、クロロホルムを加え、飽和亜硫
酸水素カリウム、水で順次洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を濃縮後残渣をイソプロピル
エーテル−ｎ−ヘキサンより結晶化し、25.2ｇの
エチル ４−ヒドロキシシンナメイトを得る。 mp70〜71℃、淡黄色無定形晶 参考例 ２ ３−ヒドロキシベンズアルデヒド20ｇ及びモノ
エチルマロネイト32.5ｇを用い参考例１と同様の
条件下に反応して、25.5ｇのエチル ３−ヒドロ
キシシンナメイトを得る。 mp65〜68℃ （イソプロピルエーテルより再結晶） 参考例 ３ ４−ヒドロキシ−３−クロロベンズアルデヒド
25.8ｇ及びモノエチルマロネイト32−５ｇを用い
参考例１と同様にて、46ｇのエチル ４−ヒドロ
キシ−３−クロロシンナメイトを得る。 mp118〜119℃（塩化メチレンより再結晶）無
色プリズム状晶 参考例 ４ エチル ４−ヒドロキシシンナメイト５ｇの無
水エーテル溶液30mlに、ジヒドロピラン7.1ml及
びｐ−トルエンスルホン酸50mgを加え室温で２時
間撹拌後、反応液を１％NaOHで中和し、水洗
乾燥（芒硝）後、溶媒留去して6.8ｇのエチル４
−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シンナメ
イトを得る。 mp52〜53℃ 無色不定形晶 参考例 ５ エチル ４−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）シンナメイト6.8ｇを含む無水エーテル溶液
50mlを、−30℃に冷却したリチウムアルミニウム
ハイドライド0.47ｇを含む無水エーテル溶液に滴
下する。滴下終了後同温度で１時間撹拌し、徐々
に−10℃まで昇温した後、飽和芒硝水を徐々に加
え析出物を別する。液を芒硝で乾燥後、濃縮
乾固し、残渣をシリカゲルクロマトグラフイー
（溶出液；クロロホルム）に精製して、3.2ｇの無
色油状物の４−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）シンナミルアルコールを得る。 η22 D 1.5520 参考例 ６ ４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シン
ナミルアルコール15ｇ、酢酸ナトリウム5.2ｇを
懸濁した無水塩化メチレン溶液に、氷冷下１度に
ピリジウムクロロクロメイト18ｇを加え、、同温
度で１時間撹拌後室温にもどし、更に１時間撹拌
する。エーテル100mlを加えた後反応液をセライ
ト過し、溶出液を濃縮し、残渣をシリカゲルク
ロマトした後、エーテルより再結晶し無色針状晶
の４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）シン
ナミアルデヒド3.5ｇを得る。 mp65〜67℃ 参考例 ７ トリエチルフオスフオノアセテート5.6ｇを60
％ナトリウムハイドライド1.06ｇのテトラヒドロ
フラン溶液に室温で滴下撹拌後、40℃で１時間撹
拌する。室温まで冷却した後４−（２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ）シンナミルアルデヒド5.6
ｇを含むTHF溶液を加え、室温２時間撹拌後、
水100mlにあける。エーテルを加え、エーテル抽
出した後、水、飽和食塩水で順次洗浄後芒硝で乾
燥する。イソプロピルエーテルより再結晶し、無
色針状晶のエチル ５−〔４−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）フエニル〕−２(E)，４(E)−ペン
タジエノエート3.8ｇを得る。 mp66〜67.5℃ 参考例 ８ エチル ５−〔４−（２−テトラヒドロピラニル
オキシ）フエニル−２(E)，４(E)−ペンタジエノエ
ート3.6ｇの無水ベンゼン溶液30mlに水冷下水素
化ジイソブチルアルミニウム15ml（25％Ｗ／Ｖ）
を滴下し室温２時間撹拌後、飽和塩化アンモニア
水にあけ室温２時間撹拌する。不溶物をセライト
過し、不溶物をエーテルで洗浄する。有機層を
水洗後芒硝で乾燥する。濃縮後残渣をクロロホル
ム−ｎ−ヘキサンより再結晶し、無色針状晶の５
−〔４−（２−テトラヒドロピラニル）フエニル〕
−２(E)，４(E)−ペンタジエノール2.8ｇを得る。 mp54〜58℃ 参考例 ９ ｐ−ヒドロキシアセトフエノン25ｇ、ジヒドロ
ピラン50ml及びｐ−トルエンスルホン酸0.25ｇを
無水エーテル中室温２時間撹拌後、1N水酸化ナ
トリウムで中和、水、飽和食塩水で順次洗浄後芒
硝で乾燥する。濃縮して34ｇの４−（２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ）アセトフエノンを得る。 mp79〜83℃ 無色プリズム状晶 参考例 10 トリエチルフオスフオノアセテート45.8ｇ及び
60％ナトリウムハイドライド8.7ｇの無水テトラ
ヒドロフラン溶液を40℃１時間撹拌後冷却し４−
（２−テトラヒドロピラニルオキシ）アセトフエ
ノン30ｇを加える。４時間加熱還流させた後、溶
媒を留去し、残渣をエーテル抽出、水洗乾燥す
る。更に濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイーで精製して、27.5ｇのエチル３−メチ
ル−ｐ−（２−テトラピラニルオキシ）シンナメ
イトを得る。 淡黄色油状 1H−NMR（90MHz、CDCl3）δ： 1.29（3H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、1.4〜2.1（6H、ｍ）、
2.49（3H、ｄ、Ｊ＝１Hz）、3.3〜3.9（2H、ｍ）、
4.10（2H、ｑ、Ｊ＝６Hz）、5.3〜5.45（1H、
ｍ）、6.03（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz）、6.9〜7.4（4H、
ｍ） 参考例 11 エチル ３−メチル−ｐ−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）シンナメイト27.5ｇのテトラヒ
ドロフラン溶液に水素化ジイソブチルアルミニウ
ム（25％Ｗ／Ｖ）118mlを室温で滴下する。２時
間後、氷冷した塩化アンモニア水に注ぎ、不溶物
を別する。液を水洗、芒硝で乾燥後濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーで精
製して12.7ｇの無色油状の３−メチル−ｐ−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）シンナミルアル
コールを得る。 1H−NMR（90MHz、CDCl3）δ： 1.5〜2.0（6H、ｍ）、2.0（3H、ｓ）、3.3〜4.0
（2H、ｍ）、4.1〜4.3（3H、ｍ）、5.26〜5.4（1H、
ｍ）、5.81（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、6.8〜7.5（4H、
ｍ） 参考例 12 ｐ−ヨードフエノール10ｇ、ジヒドロピラン８
ml及びｐ−トルエンスルホン酸触媒量を無水エー
テル30mlに溶解し、室温で２時間撹拌する。反応
液を水洗、乾燥後、溶媒を留去して黄色油状の４
−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ヨー
ドベンゼン12.4ｇを得る。 bp84〜87℃（25mmHg） 参考例 13 トリエチルフオスフオノクロトネート6.25ｇを
60％ナトリウムハイドライド1.06ｇのテトラヒド
ロフラン溶液に室温で滴下撹拌後40℃１時間撹拌
する。室温まで冷却した後ｐ−（２−テトラヒド
ロピラニルオキシ）ベンズアルデヒド5.0ｇを含
むテトラヒドロフラン溶液を加え、室温２時間撹
拌後、水100mlに注ぎ込む。エーテルで抽出後、
水、飽和食塩水で順次洗浄後、芒硝で乾燥する。
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
イー（溶出液；ヘキサン−クロロホルム）で精製
し、次いでイソプロピルエーテルより再結晶して
4.01ｇのエチル５−〔４−（２−テトラヒドロピラ
ニルオキシフエニル）〕−２(E)，４(E)−ペンタジエ
ノエートを得る。 無色針状晶、mp66〜67.5℃ 参考例 14 ｐ−テトラヒドロピラニルオキシヨードベンゼ
ン20ｇ及び３−アセチルオキシ−１−プロピン−
１−イド銅（）11.3ｇの無水ピリジン70ml溶液
をアルゴン雰囲気下、６時間加熱還流する。反応
終了後反応液を水に注ぎ、クロロホルム抽出す
る。水洗、乾燥後溶媒を留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイー（溶出液；クロロ
ホルム：ｎ−ヘキサン＝１：１）にて精製して、
８ｇの４−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）フエニル〕−３−ブチニルアセテートを得る。 無色油状 1H−NMR（60MHz、CDCl3）δ： 6.98（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、6.63（2H、ｄ、Ｊ＝
８Hz）、6.15（1H、ｍ）、4.05（2H、ｔ、Ｊ＝６
Hz）、3.3〜3.7（2H、ｍ）、2.58（2H、ｔ、Ｊ＝
６Hz）、1.97（3H、ｓ）、1.5〜1.9（6H、ｍ） 参考例 15 ４−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
フエニル〕−３−ブチニルアセテート2.4ｇの無水
テトラヒドロフラン溶液に水素化アルミニウムリ
チウム１ｇを加え12時間加熱還流する。反応終了
後、飽和芒硝水を徐々に加え析出物を去し、
液を芒硝で乾燥後、濃縮乾固する。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精製
して、無色油状の４−〔（２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ）フエニル〕−３(E)−ブテニルアルコー
ル２ｇを得る。 1H−NMR（90MHz、CDCl3）δ： 1.5〜2.1（6H、ｍ）、2.43（2H、ｑ、Ｊ＝６Hz）、
3.4〜4.0（5H、ｍ）、5.37（1H、ｍ）、6.03（1H、
ｄ、ｔ、Ｊ＝16Hz、６Hz）、6.40（1H、ｄ、Ｊ
＝16Hz）、6.97（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.25（2H、
ｄ、Ｊ＝９Hz） 参考例 16 ４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミルア
セトアセテート10ｇをトルエン20mlに溶解し、撹
拌しながら約80℃で２ｇのアンモニアガスを通じ
る。生成した水はトルエンとの共沸によつて除去
する。約２時間後、トルエンを減圧留去して10ｇ
の４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミル
３−アミノクロトネートを油状物として得る。 NMR（CDCl3）δ： 1.18（3H、ｔ、Ｊ＝7.5Hz）、1.47（3H、ｄ、Ｊ
＝６Hz）、1.90（3H、ｓ）、3.35〜3.85（2H、
ｍ）、4.55（1H、ｓ）、4.68（2H、ｄ、Ｊ＝６
Hz）、5.35（1H、ｑ、Ｊ＝６Hz）、6.15（1H、dt、
Ｊ＝６Hz、15.5Hz）、6.57（1H、ｄ、Ｊ＝15.5
Hz）、6.90（2H、ｄ、Ｊ＝8.4Hz）、7.30（2H、
ｄ、Ｊ＝8.4Hz） IR（フイルム）ν：3460、3350、1610cm-1 Mass.（ｍ／ｅ）M+305、 参考例 17 ４−ヒドロキシシンナミルアルデヒド１ｇのテ
トラヒドロフラン5.0ml溶液中に、エチルビニル
エーテル0.5ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸10mg
を加え、１時間室温放置する。その後水素化ホウ
素ナトリウム0.3ｇの３ml水溶液を加え、30分間
室温で放置する。その後反応液をｎ−ヘキサンで
抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を留
去して1.3ｇの４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕
シンナミルアルコールを油状物として得る。 参考例 18 ４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミルア
ルコール12ｇにジクロロメタン36mlを加え、次い
で無水酢酸ナトリウム60mgを加える。加熱還流下
にジケテン５ｇを滴下し、２時間後さらにジケテ
ン0.42ｇを滴下し、その後1.5時間加熱還流する。
反応終了後ジクロロメタンを減圧留去し、残渣に
ヘキサン27mlと活性炭1.2ｇを加え、30分間撹拌
する。活性炭を過、液を濃縮し、15ｇの４−
〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミルアセトア
セテートを油状物として得る。 NMR（CDCl3）δ： 1.15（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、1.44（3H、ｄ、Ｊ＝
5.4Hz）、2.20（3H、ｓ）、3.31〜3.95（2H、ｍ）、
３，45（2H、ｓ）、4.71（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
5.35（1H、ｑ、Ｊ＝5.2Hz）、6.10（1H、dt、Ｊ＝
6.1Hz、15.3Hz）、6.59（1H、ｄ、Ｊ＝15.3Hz）、
6.91（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.29（2H、ｄ、Ｊ＝
９Hz） IR（フイルム）ν：1650、1730cm-1、 参考例 19 ｍ−ニトロベンズアルデヒド151ｇの750mlのメ
タノール溶液にアセト酢酸メチル116ｇ及びｏ−
アニシジン24.1ｇを加え、室温で19時間放置す
る。析出量を取し、アセトンより再結晶して、
ｍ−ニトロベンジリデンアセトアセテート213ｇ
を得る。 mp157〜158℃ 参考例 20 ５−アセチル−２，２−ジメチル−１，３−ジ
オキサン−４，６−ジオン18.6ｇ及び４−（１−
エトキシエトキシ）シンナミルアルコール22.2ｇ
のテトラヒドロフラン50mlの溶液を６時間加熱還
流する。反応終了後、溶媒を留去する。得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶
出液：酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）で精
製して、5.8ｇの４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕
シンナミルアセトアセテートを油状物として得
る。 NMR（CDCl3）δ： 1.15（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、1.44（3H、ｄ、Ｊ＝
5.4Hz）、2.20（3H、ｓ）、3.31〜3.95（2H、ｍ）、
3.45（2H、ｓ）、4.71（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
5.35（1H、ｑ、Ｊ＝5.2Hz）、6.10（1H、dt、Ｊ＝
6.1Hz、15.3Hz）、6.59（1H、ｄ、Ｊ＝15.3Hz）、
6.91（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.29（2H、ｄ、Ｊ＝
９Hz） IR（フイルム）ν：1650、1730cm-1 参考例 21 ｍ−ニトロベンズアルデヒド3.0ｇ、アセト酢
酸メチル2.3ｇ及びｍ−トルイジン0.4ｇをメタノ
ール15ml中に溶解し、室温にて45時間放置する。
反応終了後、析出晶を取し、メタノールにて洗
浄する。アセトンより再結晶して4.1ｇのｍ−ニ
トロベンジリデンアセテートを得る。 mp157−158℃ 上記と同様の条件下、ｍ−トルイジンの代りに
下記に示す触媒を用いて、下記収量にてｍ−ニト
ロベンジリデンアセテートを得る。 触 媒 量 収量 ｐ−クロルアニリン 0.5ｇ 3.9ｇ アニリン 0.3ｇ 3.9ｇ ｐ−トルイジン 0.4ｇ 2.7ｇ ｏ−フエネチジン 0.5ｇ 4.3ｇ 実施例 １ ４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミル ３−アミノクロトネート3.3ｇ、ｍ−ニトロベ
ンジリデンアセトアセテート2.6ｇ及びイソプロ
パノール26mlの混合物を窒素気流撹拌下、約３時
間加熱還流する。溶媒を減圧留去し、5.9ｇのメ
チル ４−〔（１−エトキシ）エトキシ〕シンナミ
ル １，４−ジヒドロ−２，６−ジメチル−４−
（３−ニトロフエニル）ピリジン−３，５−ジカ
ルボキシレートを得る。 IR（KBr）：3370、1680、1650、1610cm-1、 NMR（CDCl3）δ： 1.17（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、1.47（3H、ｄ、Ｊ＝
5.5Hz）、2.34（6H、ｓ）、3.35〜3.95（2H、ｍ）、
3.60（3H、ｓ）、4.65（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、
5.10（1H、ｓ）、5.35（1H、ｑ、Ｊ＝5.5Hz）、
6.05（1H、dt、Ｊ＝６Hz、15.5Hz）、6.46（1H、
ｄ、Ｊ＝15.5Hz）、6.89（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、
7.18〜8.09（6H、ｍ） 適当な出発原料を用い、実施例１と同様にして
以下第１表に示す化合物を得る。
【表】
【表】
【表】
【表】 NMR(1)（90MHz、CDCl3）： 2.28（3H、ｓ）2.35（6H、ｓ）、3.64（3H、ｓ）、
4.67（2H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、5.12（1H、ｓ）、
6.06（1H、broad、ｓ）、6.15（1H、ｄ、ｔ、Ｊ
＝７Hz）、Jb＝16Hz）、6.50（1H、ｄ、Ｊ＝16
Hz）、7.03（2H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、7.30（2H、ｄ、
Ｊ＝８Hz）、7.32（1H、ｔ、Ｊ＝８Hz）、7.63
（1H、dt、Ja＝２Hz）、Jb＝８Hz）、7.97（1H、
ｄ、ｔ、Ja＝２Hz、Jb＝８Hz）、8.12（1H、ｔ、
Ｊ＝２Hz） NMR(2)（90MHz、CDCl3）： 1.45〜2.10（6H、ｍ）、2.30（6H、ｔ）、3.40〜
4.00（2H、ｍ）、3.56（3H、ｓ）、4.63（2H、ｄ、
Ｊ＝６Hz）、5.10（1H、ｓ）、5.37（1H、ｔ、Ｊ
＝３Hz）、6.17（1H、ｄ、ｔ、Ja＝６Hz、Jb＝
16Hz）、6.45（1H、ｄ、Ｊ＝16Hz）、6.65〜7.20
（4H、ｍ）、7.30（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、7.62
（1H、ｄ、ｔ、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、7.95
（1H、ｄ、ｔ、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、8.13
（1H、ｔ、Ｊ＝２Hz） NMR(3)（90MHz、CDCl3）： 2.30（3H、ｓ）、2.32（3H、ｓ）、3.38（3H、ｓ）、
3.53（3H、ｓ）、4.65（2H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、
5.10（1H、ｓ）、5.13（2H、ｓ）、6.20（1H、dt、
Ja＝６Hz、Jb＝16Hz）、6.47（1H、ｓ）、6.87
（1H、ｄ、Ｊ＝16Hz）、6.87〜7.48（5H、ｍ）、
7.62（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、7.93
（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、8.12（1H、
ｔ、Ｊ＝２Hz） NMR(4)（90MHz、CDCl3）： 1.50〜1.95（6H、ｍ）、1.97（3H、ｓ）、2.32
（6H、ｓ）、3.34〜3.90（1H、ｍ）、3.53（3H、
ｓ）、4.65（2H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、5.03（1H、
ｓ）、5.33（1H、ｔ、Ｊ＝３Hz）、5.70（1H、ｔ、
Ｊ＝７Hz）、5.95（1H、broad、ｓ）、6.97（2H、
ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.23（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、
7.28（1H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、7.58（1H、ｄ、ｔ、
Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、7.93（1H、dt、Ja＝２
Hz、Jb＝７Hz）、8.08（1H、ｔ、Ｊ＝２Hz） NMR(5)（90MHz、CDCl3）： 1.30〜2.0（6H、ｍ）2.32（6H、ｓ）、3.53（3H、
ｓ）、3.3〜3.95（2H、ｍ）、4.79（2H、ｓ）、5.07
（1H、ｓ）、5.33（1H、ｔ、Ｊ＝３Hz）、6.02
（1H、ｓ）、6.93（2H、ｄ、Ｊ＝10Hz）、7.28
（2H、ｄ、Ｊ＝10Hz）、7.27（1H、ｔ、Ｊ＝８
Hz）、7.66（1H、ｄ、Ｊ＝８Hz）、7.93（1H、ｄ、
Ｊ＝８Hz）、8.10（1H、ｓ） NMR(6)（90MHz、CDCl3）： 1.40〜2.10（6H、ｍ）、2.32（6H、ｓ）、3.43
（3H、ｓ）、3.20〜3.85（2H、ｍ）、4.43（2H、
ｄ、Ｊ＝７Hz）、4.95（1H、ｓ）、5.23（1H、ｔ、
Ｊ＝３Hz）、5.40〜5.80（1H、ｍ）、5.93〜6.53
（3H、ｍ）、6.60（1H、ｓ）、6.87（2H、ｄ、Ｊ
＝10Hz）、7.20（2H、ｄ、Ｊ＝10Hz）、7.23（1H、
ｔ、Ｊ＝８Hz）、7.53（1H、ｄ、ｔ、Ja＝２Hz、
Jb＝８Hz）、7.88（1H、ｄ、ｔ、Ja＝２Hz、Jb
＝８Hz） NMR(7)（60MHz、CDCl3）： 1.40〜2.0（6H、ｍ）、2.30（3H、ｓ）、2.33（3H、
ｓ）、3.20〜3.90（2H、ｍ）、3.60（3H、ｓ）、
4.63（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、5.37（1H、ｔ、Ｊ＝
３Hz）、5.80（1H、ｓ）、6.03（1H、ｄ、Ja＝６
Hz、Jb＝16Hz）、6.80（1H、ｓ）、6.38（1H、ｄ、
Ｊ＝16Hz）、6.90（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.20
（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、6.75〜7.80（4H、ｍ） NMR(8)（90MHz、CDCl3）： 1.43〜2.15（6H、ｍ）、2.30（6H、ｓ）、3.38
（3H、ｓ）、3.20〜3.80（2H、ｍ）、4.47（2H、
dd、Ja＝３Hz、Jb＝７Hz）、5.23（1H、ｔ、Ｊ
＝３Hz）、5.43（1H、ｓ）、6.83（1H、boad
ｓ）、5.94（1H、dt、Ja＝６Hz、Jb＝16Hz）、
6.23（1H、ｄ、Ｊ＝16Hz）、6.87（2H、ｄ、Ｊ＝
９Hz）、7.13（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、6.75〜7.60
（4H、ｍ） NMR(9)（90MHz、CDCl3）： 1.5〜2.1（6H、ｍ）、2.28（3H、ｓ）、3.53（3H、
ｓ）、3.76（3H、ｓ）、3.4〜4.1（1H、ｍ）、4.57
（2H、ｄ、Ｊ＝６）、5.27（1H、ｔ、Ｊ＝３
Hz）、5.99（1H、dt、Ja＝６Hz、Jb＝16Hz）、
6.07（1H、ｓ）、6.36（1H、ｄ、Ｊ＝16）、6.73
（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、6.78（1H、ｓ）、6.93
（1H、ｄ、Ｊ＝７Hz）、7.18（1H、ｔ、Ｊ＝７
Hz）、7.50（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、
7.83（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、7.99
（1H、ｔ、Ｊ＝２Hz） NMR(10)（60MHz、CDCl3）： 1.24（3H、ｔ、Ｊ＝７Hz）、2.37（3H、ｓ）、
3.66（3H、ｓ）、3.79（2H、ｑ、Ｊ＝７Hz）、
4.70（2H、ｄ、Ｊ＝６Hz）、5.16（1H、ｓ）、
5.30（2H、ｓ）、5.91（1H、broad ｓ）、6.10
（1H、dt、Ja＝６Hz、Jb＝16Hz）、6.40（1H、
ｄ、Ｊ＝16Hz）、7.00〜7.47（4H、ｍ）、7.64
（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、7.97（1H、
dt、Ja＝２Hz、Jb＝７Hz）、8.14（1H、ｔ、Ｊ
＝２Hz） NMR(11)（90MHz、CDCl3）： 1.40〜2.10（6H、ｍ）、2.26（6H、ｍ）、3.53
（3H、ｓ）、3.40〜4.0（2H、ｍ）、4.58（2H、ｄ、
Ｊ＝６）、5.03（1H、ｓ）、5.30（1H、ｔ、Ｊ＝
３Hz）、5.97（1H、dt、Ja＝６Hz、Jb＝16Hz）、
6.30（1H、broad ｓ）、6.37（1H、ｄ、Ｊ＝16
Hz）、6.88（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.14（2H、ｄ、
Ｊ＝９Hz）、7.20（1H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、7.50
（1H、dt、Ja＝２Hz、Jb＝６Hz）、7.82（1H、
dt、Ja＝２Hz、Jb＝６Hz）、8.00（1H、ｔ、Ｊ
＝２Hz） NMR(12)（90MHz、CDCl3）： 1.5〜2.1（6H、ｍ）、2.33（6H、ｓ）、2.48（2H、
ｑ、Ｊ＝６Hz）、3.58（3H、ｓ）、3.5〜4.0（2H、
ｍ）、4.15（2H、ｔ、Ｊ＝６Hz）、5.09（1H、
ｓ）、5.40（1H、ｍ）、5.93（1H、ｄ、ｔ、Ｊ＝
15Hz、６Hz）、6.30（1H、ｓ）、6.32（1H、ｄ、
Ｊ＝15Hz）、6.96（2H、ｄ、Ｊ＝９Hz）、7.19
（2H、ｄ、９Hz）、7.1〜7.3（1H、ｍ）、7.5〜7.7
（1H、ｄ、ｍ、Ｊ＝６Hz）、7.8〜8.0（1H、ｄ、
ｍ、Ｊ＝６Hz）、8.10（1H、ｍ）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1及びR4はそれぞれ低級アルキル基を示
    す。R3はニトロ基又は置換基としてハロゲン原
    子を１〜３個有することのある低級アルキル基を
    示す。〕で表わされるフエニル誘導体と一般式 〔式中R2は低級アルキル基を示す。R5は低級ア
    ルコキシ基、ハロゲン原子、低級アルキルチオ
    基、水酸基、低級アルカノイルオキシ基、テトラ
    ヒドロピラニルオキシ基及び低級アルコキシ低級
    アルコキシ基なる群から選ばれた置換基を１〜３
    個有することのあるフエニル基を示す。Ａは不飽
    和鎖状炭化水素残基を示す。〕 で表わされるエナミン誘導体とを反応させて 一般式 〔式中R1、R2、R3、R4、R5及びＡは前記に同
    じ。〕 で表わされるジヒドロピリジン誘導体及びその塩
    を得ることを特徴とするジヒドロピリジン誘導体
    の製造法。
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EP0173126B1 (en) 1990-01-10
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