JPH0194969A - スピンコーターの試料台 - Google Patents
スピンコーターの試料台Info
- Publication number
- JPH0194969A JPH0194969A JP62249596A JP24959687A JPH0194969A JP H0194969 A JPH0194969 A JP H0194969A JP 62249596 A JP62249596 A JP 62249596A JP 24959687 A JP24959687 A JP 24959687A JP H0194969 A JPH0194969 A JP H0194969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base plate
- substrate
- sample stand
- spin coater
- square base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液晶表示体の基板の製造工程で基板上に均一
な塗膜を行なうために用いるスピンコーターにおいて、
基板を固定し回転を加える機能を有する試料台の形状に
関するものである。
な塗膜を行なうために用いるスピンコーターにおいて、
基板を固定し回転を加える機能を有する試料台の形状に
関するものである。
（従来の技術〕
従来のスピンコーターの試料台は、塗膜を行なう基板よ
りも小さく作られることが一般的であった。これは、基
板の試料台への脱着を容易にするためと、塗液が試料台
にかかることをきらったためである。
りも小さく作られることが一般的であった。これは、基
板の試料台への脱着を容易にするためと、塗液が試料台
にかかることをきらったためである。
しかし、前述の従来技術では、多角形基板シ・：特に四
角形基板の内接円内となる領域は膜厚が均一となる塗膜
ができるものの、その外部の領域は回転時に基板端面か
ら発生する乱流により低圧となるため膜厚が厚くなって
有効に利用できないという問題点を有する。
角形基板の内接円内となる領域は膜厚が均一となる塗膜
ができるものの、その外部の領域は回転時に基板端面か
ら発生する乱流により低圧となるため膜厚が厚くなって
有効に利用できないという問題点を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは多角形基板内接円の外部の領域に
も内接円内と同様に均一な膜厚の塗膜を行なう方法を提
供するところＫある。
の目的とするところは多角形基板内接円の外部の領域に
も内接円内と同様に均一な膜厚の塗膜を行なう方法を提
供するところＫある。
（問題点を解決するための手段〕
本発明のスピンコーターの試料台は、基板が載置固定さ
れており、回転機能を有するスピンコーターの試料台に
おいて、該試料台が、該試料台の回転中心を中心とする
前記基板の内接円より大きい径を有する円板であり、該
円板と前記基板との固定面が、前記基板固定領域内で且
つ前記基板の板厚に相当する深さの凹部な有することを
特徴とする。
れており、回転機能を有するスピンコーターの試料台に
おいて、該試料台が、該試料台の回転中心を中心とする
前記基板の内接円より大きい径を有する円板であり、該
円板と前記基板との固定面が、前記基板固定領域内で且
つ前記基板の板厚に相当する深さの凹部な有することを
特徴とする。
本発明の上記の構・成によれば、円板状をなす試料台の
多角形基板固定領域において、ガラス端面からの乱流が
発生しないためこの影響を受けることなく塗膜を行なう
ことができ、あらゆる多角形基板の内接円内と同様な膜
厚を持ち有効に利用できる領域を拡大することができる
。
多角形基板固定領域において、ガラス端面からの乱流が
発生しないためこの影響を受けることなく塗膜を行なう
ことができ、あらゆる多角形基板の内接円内と同様な膜
厚を持ち有効に利用できる領域を拡大することができる
。
第１図は本発明によるスピンコーターの試料台とそこに
固定された四角形基板を示す平面図である。
固定された四角形基板を示す平面図である。
試料台は、回転中心１を中心とする円板２を四角形基板
固定領域３について四角形基板４の板厚だけさらい加工
を行なったものである。さらに四角形基板固定領域３に
は四角形基板４を固定する目的で真空吸着を行なう吸着
溝５が加工されている。また、四角形基板固定領域５の
ある面の裏面は、試料台に艙動源からの回転を伝えるた
めの回転軸が固定されている。
固定領域３について四角形基板４の板厚だけさらい加工
を行なったものである。さらに四角形基板固定領域３に
は四角形基板４を固定する目的で真空吸着を行なう吸着
溝５が加工されている。また、四角形基板固定領域５の
ある面の裏面は、試料台に艙動源からの回転を伝えるた
めの回転軸が固定されている。
この試料台を用いてスピンコーＦを行なった場合試料台
の四角形基板固定領域５のある面は、四角形基板４を置
くことによりもとの平面となるので回転時にガラス端面
から乱流が発生しない。そこで本発明による試料台を用
いて四角形基板４にスピンフートを行なった場合、四角
形基板固定領域５について均一な塗膜を行なうことがで
きた。
の四角形基板固定領域５のある面は、四角形基板４を置
くことによりもとの平面となるので回転時にガラス端面
から乱流が発生しない。そこで本発明による試料台を用
いて四角形基板４にスピンフートを行なった場合、四角
形基板固定領域５について均一な塗膜を行なうことがで
きた。
これは、試料台の円板２を１枚の基板に見たててこれに
スピンコードな行なうのと同様である。
スピンコードな行なうのと同様である。
ここで円板２の大きさは均一な塗膜を得ることのできる
有効面積を増やす意味から少なくとも四角形基板の内接
円６より大きいことが必要である、また逆に円板２の大
きさが四角形基板の外接円 。
有効面積を増やす意味から少なくとも四角形基板の内接
円６より大きいことが必要である、また逆に円板２の大
きさが四角形基板の外接円 。
７より大きくなることは、その有効面積を拡大する効果
において円板２が四角形基板の外接円７と同様の大きさ
である場合と変わりなく、一方で円板の慣性モーメント
が増し、より強力な駆動力が必要になるため望ましくな
い。
において円板２が四角形基板の外接円７と同様の大きさ
である場合と変わりなく、一方で円板の慣性モーメント
が増し、より強力な駆動力が必要になるため望ましくな
い。
有効面積という観点から円板２の大きさは、四角形基板
の外接円７と同機であることが望ましい、しかし、基板
の脱着を考えると、円板２を四角形基板の外接円７より
少し小さくし、四角形基板４の四端を支持できるように
するのが理想的である。
の外接円７と同機であることが望ましい、しかし、基板
の脱着を考えると、円板２を四角形基板の外接円７より
少し小さくし、四角形基板４の四端を支持できるように
するのが理想的である。
また、本実施例において多角形基板は四角形である場合
の例を示したが、角を落した形状や他の多角形でも同様
の効果が得られることは言うまでもない。
の例を示したが、角を落した形状や他の多角形でも同様
の効果が得られることは言うまでもない。
以上述べたように本発明によれば、スピンコーターの試
料台を回転中心を中心とする四角形基板の内接円より大
きな円板を前記四角形基板固定領域について前記四角形
基板の厚さだけさらい加工した形状とすることにより、
四角形基板上の均一な塗膜を得ることのできる有効面積
が、四角形基板固定領域まで拡大するという効果を有す
る！
料台を回転中心を中心とする四角形基板の内接円より大
きな円板を前記四角形基板固定領域について前記四角形
基板の厚さだけさらい加工した形状とすることにより、
四角形基板上の均一な塗膜を得ることのできる有効面積
が、四角形基板固定領域まで拡大するという効果を有す
る！
第１図は、本発明によるスピンコーターの試料台に四角
形基板を固定したところを示す平面図。、１・・・・・
・・・・回転中心 ２・・・・・・・・・円 板 ３・・・・・・・・・四角形基板固定領域４・・・・・
・・・・四角形基板 ５・・・・・・・・・吸着溝
形基板を固定したところを示す平面図。、１・・・・・
・・・・回転中心 ２・・・・・・・・・円 板 ３・・・・・・・・・四角形基板固定領域４・・・・・
・・・・四角形基板 ５・・・・・・・・・吸着溝
Claims (1)
- 基板が載置固定されており、回転機能を有するスピン
コーターの試料台において、該試料台が、該試料台の回
転中心を中心とする前記基板の内接円より大きい径を有
する円板であり、該円板と前記基板との固定面が、前記
基板固定領域内で且つ前記基板の板厚に相当する深さの
凹部を有することを特徴とするスピンコーターの試料台
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62249596A JPH0194969A (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | スピンコーターの試料台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62249596A JPH0194969A (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | スピンコーターの試料台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0194969A true JPH0194969A (ja) | 1989-04-13 |
Family
ID=17195367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62249596A Pending JPH0194969A (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | スピンコーターの試料台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0194969A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024102848A (ja) * | 2023-01-19 | 2024-07-31 | エスケー エンパルス カンパニー リミテッド | ブランクマスクの製造装置およびブランクマスクの製造方法 |
| JP2024102847A (ja) * | 2023-01-19 | 2024-07-31 | エスケー エンパルス カンパニー リミテッド | ブランクマスクの製造装置およびブランクマスクの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295172A (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-01 | Hitachi Ltd | 回転塗布装置 |
-
1987
- 1987-10-02 JP JP62249596A patent/JPH0194969A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6295172A (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-01 | Hitachi Ltd | 回転塗布装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2024102848A (ja) * | 2023-01-19 | 2024-07-31 | エスケー エンパルス カンパニー リミテッド | ブランクマスクの製造装置およびブランクマスクの製造方法 |
| JP2024102847A (ja) * | 2023-01-19 | 2024-07-31 | エスケー エンパルス カンパニー リミテッド | ブランクマスクの製造装置およびブランクマスクの製造方法 |
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