JPH0827457B2 - 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 - Google Patents
液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法Info
- Publication number
- JPH0827457B2 JPH0827457B2 JP61193401A JP19340186A JPH0827457B2 JP H0827457 B2 JPH0827457 B2 JP H0827457B2 JP 61193401 A JP61193401 A JP 61193401A JP 19340186 A JP19340186 A JP 19340186A JP H0827457 B2 JPH0827457 B2 JP H0827457B2
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- alignment film
- substrate
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 この発明は、液晶表示パネルの基板上にギャップ用ス
ペーサを形成する際に、液晶配向面が損傷したり画素上
にスペーサが存在して表示欠陥を生じる問題を解決する
ため、スペーサ形成用の穴が形成されたマスク材を用い
てエッチングにより当該基板上の配向膜を部分的に除去
し、その除去部分に蒸着等でスペーサ用の絶縁層を形成
するようにしたものである。
ペーサを形成する際に、液晶配向面が損傷したり画素上
にスペーサが存在して表示欠陥を生じる問題を解決する
ため、スペーサ形成用の穴が形成されたマスク材を用い
てエッチングにより当該基板上の配向膜を部分的に除去
し、その除去部分に蒸着等でスペーサ用の絶縁層を形成
するようにしたものである。
この発明は、液晶表示パネルのギャップ用スペーサ形
成方法に関するものである。
成方法に関するものである。
液晶表示パネルの基板間の距離（ギャップ）は、高表
示品質を得るために均一かつ正確に設定する必要があ
り、この条件を満たすギャップ用スペーサの容易な製造
方法が要望されている。
示品質を得るために均一かつ正確に設定する必要があ
り、この条件を満たすギャップ用スペーサの容易な製造
方法が要望されている。
第３図は従来の液晶表示パネルの構造を示す断面図
で、11および12は一対のガラス基板、13および14は交叉
状に対向する一対のITO膜よりなる表示電極、15は配向
膜、16はガラスパウダやガラスファイバよりなる玉状の
スペーサを示す。
で、11および12は一対のガラス基板、13および14は交叉
状に対向する一対のITO膜よりなる表示電極、15は配向
膜、16はガラスパウダやガラスファイバよりなる玉状の
スペーサを示す。
前記スペーサ16の構築は、アルコールなどの揮発性溶
媒中に例えばガラスファイバ小片を懸濁させ、この懸濁
液をガラス基板11上に滴下し該基板を回転させることに
よって、前記ガラスファイバ小片をガラス基板上に散布
しスペーサ16として構成するものである。
媒中に例えばガラスファイバ小片を懸濁させ、この懸濁
液をガラス基板11上に滴下し該基板を回転させることに
よって、前記ガラスファイバ小片をガラス基板上に散布
しスペーサ16として構成するものである。
前記従来のスペーサ形成方法では、そのスペーサが画
素上すなわち対向した表示電極対間の交叉部上にも置か
れ、それが両ガラス基板を重ね合わせて接合する際に各
基板上の配向膜を傷付け、そのために液晶の配向が乱れ
て表示欠陥を生じコントラストを低下させる問題があっ
た。また分散されたスペーサとガラス基板表面との間に
は接着性がないため、両ガラス基板の接合時の小さい振
動などによりスペーサが位置ずれし他のスペーサとくっ
つき合い、結果的に径が大きくなって基板間の距離が一
定に保たれないという問題を生じていた。
素上すなわち対向した表示電極対間の交叉部上にも置か
れ、それが両ガラス基板を重ね合わせて接合する際に各
基板上の配向膜を傷付け、そのために液晶の配向が乱れ
て表示欠陥を生じコントラストを低下させる問題があっ
た。また分散されたスペーサとガラス基板表面との間に
は接着性がないため、両ガラス基板の接合時の小さい振
動などによりスペーサが位置ずれし他のスペーサとくっ
つき合い、結果的に径が大きくなって基板間の距離が一
定に保たれないという問題を生じていた。
この発明は、以上のような従来の状況から、液晶配向
面を損傷させないうえに一定の高さのスペーサを基板上
に形成できるスペーサ形成方式の提供を目的とするもの
である。
面を損傷させないうえに一定の高さのスペーサを基板上
に形成できるスペーサ形成方式の提供を目的とするもの
である。
上記目的を達成するためにこの発明は、第１図スペー
サ形成用の穴22が形成されたマスク材21を用い、基板上
に形成した配向膜の上に該マスク材21を載置し、この状
態でマスク材のスペーサ形成用穴が位置する前記配向膜
部分をエッチングにより除去する工程と、その配向膜が
除去された箇所の基板上に前記マスク材のスペーサ形成
用穴を通して蒸着またはスパッタにより絶縁層を形成す
る工程とを順に行い、配向膜表面から突出した形状の該
絶縁層によりスペーサを形成する方法を採っている。
サ形成用の穴22が形成されたマスク材21を用い、基板上
に形成した配向膜の上に該マスク材21を載置し、この状
態でマスク材のスペーサ形成用穴が位置する前記配向膜
部分をエッチングにより除去する工程と、その配向膜が
除去された箇所の基板上に前記マスク材のスペーサ形成
用穴を通して蒸着またはスパッタにより絶縁層を形成す
る工程とを順に行い、配向膜表面から突出した形状の該
絶縁層によりスペーサを形成する方法を採っている。
第１図（ｂ）はこの方法によって形成したスペーサを
有する一方の基板の断面図を示す。この図において、11
は基板、13は表示電極、31は配向膜、41はスペーサであ
る。
有する一方の基板の断面図を示す。この図において、11
は基板、13は表示電極、31は配向膜、41はスペーサであ
る。
スペーサ形成用マスク材は、基板に対しスペーサ形成
用穴を所定位置に位置合わせすることにより、該基板上
の画素位置とは異なる位置に絶縁層よりなるスペーサを
容易に形成でき、しかも該絶縁層の厚みにより基板間の
距離を自由に制御可能である。
用穴を所定位置に位置合わせすることにより、該基板上
の画素位置とは異なる位置に絶縁層よりなるスペーサを
容易に形成でき、しかも該絶縁層の厚みにより基板間の
距離を自由に制御可能である。
〔実施例〕 第２図はこの発明の一実施例を工程順に沿って示す液
晶表示パネルの一方の基板の要部断面図である。
晶表示パネルの一方の基板の要部断面図である。
まず第２図（ａ）に示すように電極幅40μｍ、電極間
間隔20μｍのITO膜よりなる表示電極13とポリビニール
アルコール（PVA）よりなる配向膜31を積層形成したガ
ラス基板11の上に、ギャップ形成用マスク材21を載置す
る。本実施例の場合マスク材は、厚さ0.5mmの金属板
（例えばステンレス板）21の一面に前記配向膜と同材料
のPVAの膜23を膜厚0.1μｍ形成し、かつ直径10μｍで間
隔が60μｍの穴22を形成したものである。このマスク材
21を、PVA膜23を下にしかつ穴22を基板11上の電極13間
に位置合わせして該基板11の配向膜31上に載置する。
間隔20μｍのITO膜よりなる表示電極13とポリビニール
アルコール（PVA）よりなる配向膜31を積層形成したガ
ラス基板11の上に、ギャップ形成用マスク材21を載置す
る。本実施例の場合マスク材は、厚さ0.5mmの金属板
（例えばステンレス板）21の一面に前記配向膜と同材料
のPVAの膜23を膜厚0.1μｍ形成し、かつ直径10μｍで間
隔が60μｍの穴22を形成したものである。このマスク材
21を、PVA膜23を下にしかつ穴22を基板11上の電極13間
に位置合わせして該基板11の配向膜31上に載置する。
この状態でまずドライエッチングを行い、マスク材21
の穴22に露出した配向膜31aを除去する。第２図（ｂ）
はこの部分的配向膜除去後の基板構造を示す。これに引
き続いて二酸化ケイ素（SiO2）を基板11に蒸着して、第
２図（ｃ）に示すようにマスク材21の穴22に露出した基
板表面に厚さ２μｍのSiO2層41を形成する。この後、マ
スク材21を除去すると基板11上には第２図（ｄ）に示す
配向膜表面より突出した形状の絶縁層よりなる高さ２μ
ｍのスペーサ41が構築される。
の穴22に露出した配向膜31aを除去する。第２図（ｂ）
はこの部分的配向膜除去後の基板構造を示す。これに引
き続いて二酸化ケイ素（SiO2）を基板11に蒸着して、第
２図（ｃ）に示すようにマスク材21の穴22に露出した基
板表面に厚さ２μｍのSiO2層41を形成する。この後、マ
スク材21を除去すると基板11上には第２図（ｄ）に示す
配向膜表面より突出した形状の絶縁層よりなる高さ２μ
ｍのスペーサ41が構築される。
なお、マスク材21の配向膜と接する面に形成されたPV
A膜23は、配向膜31と同じような繊維質であるために、
配向膜のエッチング時および絶縁層の成膜時においてマ
スク材の微妙な動きによる配向膜表面の傷つけを防ぐ働
きをする。
A膜23は、配向膜31と同じような繊維質であるために、
配向膜のエッチング時および絶縁層の成膜時においてマ
スク材の微妙な動きによる配向膜表面の傷つけを防ぐ働
きをする。
以上この発明の一実施例について説明したが、本発明
の本質はこれに限定されずに次のような変形が可能であ
る。すなわち、マスク材21に被覆した繊維質の膜23の材
料としてポリミイドまたはセルロースが使用可能であ
り、またスペーサ41の材料として窒化物が使用可能であ
り、その形成法としてスパッタ法を適用できる。
の本質はこれに限定されずに次のような変形が可能であ
る。すなわち、マスク材21に被覆した繊維質の膜23の材
料としてポリミイドまたはセルロースが使用可能であ
り、またスペーサ41の材料として窒化物が使用可能であ
り、その形成法としてスパッタ法を適用できる。
以上説明したようにこの発明によれば、基板上の液晶
配向面を損傷することなく画素となる位置とは異なる位
置に一定高さのスペーサを容易に形成できるので、液晶
表示パネルの画素中の欠陥を減少してコントラスト比の
大幅（20％以上）向上を図ることが可能であり、また基
板間の距離の均一性を向上して表示品質の向上を図るこ
とができる。
配向面を損傷することなく画素となる位置とは異なる位
置に一定高さのスペーサを容易に形成できるので、液晶
表示パネルの画素中の欠陥を減少してコントラスト比の
大幅（20％以上）向上を図ることが可能であり、また基
板間の距離の均一性を向上して表示品質の向上を図るこ
とができる。
第１図はこの発明のギャップ用スペーサ形成方法の原理
を説明するためのもので、（ａ）はギャップ形成用マス
ク材、（ｂ）は一方のパネル基板の断面図、 第２図はこの発明の一実施例を工程順に示した断面図、 第３図は従来の液晶表示パネルの要部断面図である。 第１図、第２図において、 11はガラス基板、13は表示電極、21はギャップ形成用マ
スク材、22はパターン状の穴、23は繊維質の膜、31は配
向膜、41はスペーサ用絶縁層をそれぞれ示す。
を説明するためのもので、（ａ）はギャップ形成用マス
ク材、（ｂ）は一方のパネル基板の断面図、 第２図はこの発明の一実施例を工程順に示した断面図、 第３図は従来の液晶表示パネルの要部断面図である。 第１図、第２図において、 11はガラス基板、13は表示電極、21はギャップ形成用マ
スク材、22はパターン状の穴、23は繊維質の膜、31は配
向膜、41はスペーサ用絶縁層をそれぞれ示す。
Claims (2)
- 【請求項１】液晶表示パネルを構成する少なくとも一方
の基板上にギャップ用スペーサを形成するに際し、 スペーサ形成用の穴が形成されたマスク材を、配向膜を
形成した前記基板の配向膜上に載置し、この状態で該マ
スク材のスペーサ形成用穴が位置する前記配向膜部分を
エッチングにより除去する工程と、その配向膜が除去さ
れた箇所の基板上に前記マスク材のスペーサ形成用穴を
通して蒸着またはスパッタにより絶縁層を形成する工程
とを順に行い、配向膜表面から突出した形状の該絶縁層
によりギャップ用スペーサを形成する ことを特徴とする液晶表示パネルのギャップ用スペーサ
形成方法。 - 【請求項２】配向膜と接する内側面に配向膜と同質の膜
が形成されたマスク材を用いることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項に記載の液晶表示パネルのギャップ
用スペーサ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193401A JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61193401A JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6348525A JPS6348525A (ja) | 1988-03-01 |
| JPH0827457B2 true JPH0827457B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=16307333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61193401A Expired - Lifetime JPH0827457B2 (ja) | 1986-08-18 | 1986-08-18 | 液晶表示パネルのギヤツプ用スペ−サ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827457B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH024227A (ja) * | 1988-06-23 | 1990-01-09 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示セル及びその製造方法 |
| JPH0527223A (ja) * | 1991-07-03 | 1993-02-05 | Ace Denken:Kk | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
| FR2934061B1 (fr) * | 2008-07-15 | 2010-10-15 | Commissariat Energie Atomique | Couche d'alignement de cristaux liquides deposee et frottee avant realisation des microstructures |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5660481A (en) * | 1979-10-04 | 1981-05-25 | Tektronix Inc | Liquid crystal display panel |
| JPS56122012A (en) * | 1980-03-03 | 1981-09-25 | Keiji Iimura | Tn-type liquid crystal cell |
| JPS5781234A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of liquid crystal display element |
-
1986
- 1986-08-18 JP JP61193401A patent/JPH0827457B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6348525A (ja) | 1988-03-01 |
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