JPH0196259A - 耐光性の改善された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〕 本発明は、耐光性の改善された高分子材料組成物に関し
、詳しくは、光安定剤の結合されたポリシロキサン化合
物を添加することによって、長期間に渡って耐光性の改
善された高分子材料組成物に関する。

〔従来の技術及びその問題点〕

ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ
塩化ビニル等の高分子材料は、光の作用により劣化し、
変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こし、長間の
使用に耐えないことが知られている。

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来から
種々の光安定剤が用いられている。これらの光安定剤と
しては、ヒンダードアミン系の光安定剤、ヘンシフエノ
ン系またはベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が主と
して用いられているが、これらの光安定剤の多くは低分
子量の化合物であり、高分子材料の加工中あるいは高温
下での使用時に揮散したり、あるいは水、有機溶媒に抽
出され易い欠点を有しており、実用上不満足なものであ
った。

このため、光安定剤を高分子量化することも提案されて
おり、ある程度の改善が得られている。

例えば、特開昭５２−１４１８８３号公報には、ポリア
ルキルピペリジル基を有するグリコールのポリシリルエ
ステル化合物等の官能基を２個有する光安定剤から誘導
される高分子量の光安定剤が開示されている。しかしな
がら、該公報記載の化合物は、２個の官能基を有するポ
リアルキルピペリジン化合物から誘導されるものに限定
され、他の種類の高分子量の光安定剤は記載されていな
い。

また、高分子量の光安定剤として、光安定剤基を有する
ビニル化合物、例えば不飽和カルボン酸のエステル、ビ
ニルまたはアリルエーテル、アリルアミン化合物、スチ
レン系化合物等の重合体も提案されているが、これらの
不飽和化合物の重合体は分子量の調節が難しく、幅広い
分子量分布を有する混合物として得られ、低分子量の化
合物を必然的に含有するため、前記の低分子量の光安定
剤の欠点を完全に解消することは困難であった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、新規なタイプの高分子量の光安定剤を得
るためにｔＪｔ意検討を重ねた結果、下記−最大（Ｉ）
で表される繰り返し単位を有するポリシロキサン化合物
の水素原子が活性であり、ビニルあるいはアリル化合物
を容易に付加することが可能であり、ビニルあるいはア
リル化合物として下記−最大（ｔｒ）で表される光安定
剤基を有する化合物を用いることにより、下記−最大（
［［［）で表される繰り返し単位を有する高分子量の光
安定剤を容易に得ることができ、しかも該光安定剤は分
子量の調節が容易であり低分子量化合物を含有しないの
で、前記の低分子量光安定剤に付随する欠点を解消でき
ることを知見した。

本発明は、上記知見に基づきなされたもので、高分子材
料１００重量部に対して、下記−最大（Ｉ）で表される
操り返し単位を５〜５０有するポリシロキサン化合物と
、下記−最大（Ｉりで表される化合物の少なくとも一種
、または下記−最大（ＩＩ）で表される化合物の少なく
とも一種及び他のα−オレフィン化合物の混合物との付
加反応生成物であって、分子中に下記−最大（Ｉ［［）
で表される繰り返し単位を少なくとも一個有するポリシ
ロキサン化合物０．００１〜５重量部を添加してなる、
耐光性の改善された高分子材料組成物を提供するもので
ある。

Ｒ２ ■ 一３ｉ−０−（Ｉ）　　　　　ＣＨｚ＝ＣＩｌ（ＣＨｚ
）、ｌＸ　　（ＩＩ）■ ＋１ Ｒ＋ 一３ｉ−０−（ｍ　） ＧＨｚＧＨｚ　（Ｃ１ｌ□）。Ｘ 〔上記各式中、Ｒ８はアルキル基を示し、ｎは０または
ｌを示し、Ｘは次の一船式（ＩＶ）、（Ｖ）または（Ｖ
ｌ）の何れかの基を示す。

（Ｒ１は、水素原子、アルキル基またはアシル基を示し
、Ｙは酸素原子または−Ｎ（Ｉ１５）−を示し、Ｒ２は
水素原子またはアルキル基を示す。Ｒ３及びＲ９は各々
水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｚは
直接結合手または酸素原子を示す、）〕以下、本発明の
高分子材料組成物について詳述する。

前記各式中、Ｒ＋、Ｒｚ、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５で表され
るアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、第ニブチル、第三ブチル
、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オ
クチル等があげられ、Ｒｚで表されるアシル基としては
、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチロ
イル、ベンゾイル等があげられ、Ｒ１及びＲ６で表され
るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子
、弗素原子があげられる。

前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリ
シロキサン化合物は公知の化合物であり、各種の重合度
の化合物が市販されており、これをそのまま使用するこ
とができる。

また、前記−管式（ＩＶ）、（Ｖ）または（Ｖｌ）の何
れかの基を有するビニルまたはアリル化合物である前記
−管式（ＩＩ）で表される化合物は公知の化合物であり
、その代表例としては、例えば、２．２，６．６−テト
ラメチル−４−アリロキシピペリジン、１．２，２，６
．６−ベンタメチルー４−アリロキシピペリジン、２，
２．６．６−テトラメチル−４−ビニロキシピペリジン
、■。

２．２，６．Ｇ−ペンタメチル−４−ビニロキシピペリ
ジン、１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチル−
４−アリロキシピペリジン、２，２゜６．６−チトラメ
チルー４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリジ
ン、１，２，２．６．６−ペンタメチルー４−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリジン、２−ヒドロキシ
−４−ビニロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４
−アリロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−
３−アリル−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
、２−　（２−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−
５−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
　（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−メチルフェニル
）−５−１０ロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロ
キシ−４−アリロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等
があげられる。

また、必要に応じて、前記−管式（ＩＩ）で表される化
合物と共に用いることのできる他のα−オレフィン化合
物としては、エチレン、プロピレン、ブテン、オクテン
、デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オ
クタデセン、ビニルメチルエーテル、ビニルブチルエー
テル、アリルブチ′ルエーテル、トリフルオロプロピレ
ン等があげられる。

本発明において安定剤として用いられる、前記−管式（
Ｉ［［）で表される繰り返し単位を有する化合物は、前
記−管式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有するポリシ
ロキサン化合物と前記−管式（ｎ）で表される化合物（
及び必要に応じて他のα−オレフィン化合物）とを、塩
化白金酸あるいはシロキサン系の触媒の存在下に、必要
に応じて、イソプロパツール、第二ブタノール、テトラ
ヒドロフラン等の反応に不活性な溶媒中でまたは無溶媒
で反応させることにより容易に合成することができる。

反応は、室温〜約２００℃の範囲で行い得るが、好まし
くは、約り０℃〜約１００℃で行われる。

次に、本発明で用いられる前記−儀式（Ｉ［Ｉ）で表さ
れる繰り返し単位を有する化合物の具体的な合成例をあ
げるが、本発明は下記の合成例によって制限を受けるも
のではない。

合成例−１ 重合度約３０（分子置駒１８００）のポリメチルシロキ
サン（ダウコーニング社製ＤＣＩＩＯ７）１ｇ及び１．
２．２．６．６−ベンタメチルー４−ビニロキシピペリ
ジン３ｇを２０−のイソプロパツールに溶解し、塩化白
金酸５０■を加えた。５０〜６０℃で１時間攪拌した後
、イソプロパツールを留去した。トルエンを加え、水洗
、乾燥後活性炭で処理した。

分取型液体クロマトグラフィーで分取し、平均分子置駒
４５００の飛灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、２８５ｏ、１３７
０．１３８０．１０２０〜１１６０ｃｍ−’に吸収が有
り、また、生成物の窒素含有率が４．２％であることか
ら、５ｉ−Ｈの約４４％に１，２゜２．６．６−ベンタ
メチルー４−ビニロキシピペリジンが付加した生成物（
目的物）であることを確認した。

合成例−２ 重合度約３０（分子ｍ約１８００）のポリメチルシロキ
サン１２．８ｇ、１，２，２，６．６−ベンタメチルー
４−ビニロキシピペリジン５０ｇ及びダウコーニング社
製シロキサン触媒１５０■をとり、６０〜７０℃で６時
間ＩＳ’２拌した。

キシレンを加え、水洗、乾燥後１％の活性炭で処理し、
ろ過後ｍ溶媒して、平均分子置駒７０００の飛灰黄色粘
稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、２８５０．１３７
０．１３８０．１０２０〜１１６０ｃｍ−’に吸収が有
り、ま″た、生成物の窒素含有率が５．３％であること
から、５ｉ−Ｈの約９０％に１．２゜２．６．６−ベン
タメチルー４−ビニロキシピペリジンが付加した生成物
（目的物）であることを確認した。

合成例−３ 重合度約１０（分子置駒６００）のポリメチルシロキサ
ン３２ｇ、１，２，２．６．６−ベンタメチルー４−了
りロキシピペリジン１１６ｇ及びダウコーニング社製シ
ロキサン触媒３６０ｎｖをとり、６０〜７０℃で６時間
攪拌した。

キシレンを加え、水洗、乾燥後１％の活性炭で処理し、
ろ過後脱溶媒して、平均分子置駒２６００の飛灰黄色粘
稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、２８５０．１３７
０．１３８０．１０３０〜１１４０ｃｍ−’に吸収が有
り、また、生成物の窒素含有率が５．１％であることか
ら、５ｉ−Ｈの約９０％に１．２゜２．６．６−ベンタ
メチルー４−アリロキシピペリジンが付加した生成物（
目的物）であることを確認した。

合成例−４ 重合度約３０（分子置駒１８００）のポリメチルシロキ
サン１ｇ及びｌ、２，２，６．６−ベンタメチルー４−
アリロキシピペリジン３ｇを２０−のイソプロパツール
に溶解し、塩化白金酸５０■を加えた。５０〜６０℃で
１時間ｆｆｌ拌した後、イソプロパツールを留去した。

トルエンを加え、水洗、乾燥後活性炭で処理した。

分取型液体クロマトグラフィーで分取し、分子量約４５
００の飛灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、２８５０、ｌ３７
０．１３８０．１０３０〜ｌ　ｌ　４０ｃｍ−’に吸収
が有り、また、生成物の窒素含有率が４．０％であるこ
とから、５ｉ−Ｈの約４３％に１．２゜２．６．Ｇ−ペ
ンタメチル−４−アリロキシピペリジンが付加した生成
物（目的物）であることを確認した。

合成例−５ 重合度約３０（分子置駒１８００）のポリメチルシロキ
サン１．３ｇ及び１．　２．　２．　６．　６−ベンタ
メチルー４−アリロキシピペリジン１．３ｇを２０２の
イソプロパツールに溶解し、塩化白金酸２０ｍ＋ｒを加
えた。６０°Ｃで１５分間攪拌した後、この一部をとり
、合成例−３と同様に処理したところ、５ｉ−Ｈの約２
２％に１．２，２．６゜６−ベンタメチルー４−ビニロ
キシピペリジンが付加した反応物を得た。

赤外分光分析により２２５０ｃｎ＋−’のＳｉ　　Ｈに
基づく吸収が残っていることを確認した後、この反応物
に１−ドデセン１ｇを加え、６０°Ｃで３０分間攪１１
シした。イソプロパツールを留去した後、トルエンで抽
出した。水洗、乾燥後ナトリウムボロハイドライドで処
理し、再度水洗後説溶媒することによって分子置駒３７
００の飛灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、２８５０．１３７
０．１３８０．１０２０〜１１６０ｃｍ−’に吸収が有
り、また、生成物の窒素含有率が２．５％であることか
ら、目的物であることを確認した。

合成例−６ ピペリジ−４付力珪　（″″′′−リ漱６入Ｉ′Ｉコ重
合度約１８（分子量約１１００）のポリエチレン［１キ
サンＩｇ及び２，２．６．６−チトラメチルー４−（Ｎ
−ブチル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリジン１ｇを１５−
のイソプロパツールに熔解し、塩化白金酸７０■を加え
た。６０〜８０℃で５時間撹拌し、イソプロパツールを
留去した後、ベンゼンを加えて水洗、乾燥後脱溶媒する
ことによって分子置駒３４００の飛灰黄色粘稠液体の生
成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、３３００．１３７
０〜１３８０．１０２０〜Ｉ　Ｏ５０ｃｍ−’に吸収が
有り、また、生成物の窒素含有率が７．５％であること
から、Ｓｉ　−Ｈの約５１％に２，２゜６．６−チトラ
メチルー４−（Ｎ−ブチル−Ｎ−アリルアミノ）ピペリ
ジンが付加した生成物（目的物）であることを確認した
。

合成例−７ ポリメチルシロキサン／２−ヒドロキシ−４−アリロキ
シヘンシフエノン・加　（−剤階７）の皿 重合度約１８　（分子置駒１１００）のポリメチルシロ
キサン０．３ｇ及び２−ヒドロキシ−４−アリロキシベ
ンゾフェノン０，３ｇを１０−のイソプロパツールに溶
解し、塩化白金酸１５■を加えた。４０〜５０°Ｃで１
時間攪拌し、イソプロパツールを留去した後、ヘキサン
を加えて水洗、乾燥後脱溶媒することによって分子置駒
３５００の飛灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、１６４０、Ｌ　Ｏ
２（Ｉ〜Ｌ　１６０ｃｍ−’に吸収が有り、５ｉ−Ｈの
約５２％に２−ヒドロキシ−４−アリロキシベンゾフェ
ノンが付加した生成物（目的物）であることを確認した
。

合成例−８ 重合度約３０（分子置駒１８００）のポリメチルシロキ
サン１ｇ及び２−（２−ヒドロキシ−３−アリル−５−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール３ｇを２０−のイ
ソプロパツールに溶解し、。

塩化白金酸５０ｆｆｇを加えた。５０〜６０℃で１時間
攪拌し、イソプロパツールを留去した後、トルエンを加
えて水洗、乾燥後脱溶媒することによって分子量約３０
００の飛灰黄色粘稠液体の生成物を得た。

この生成物は、赤外分光分析の結果、１５４０．７５０
ｃｍ−’に吸収が有り、また、生成物の窒素含有率が６
．３％であることから、５ｉ−ＴＩの約１５％に２−（
２−ヒドロキシ−３−了りルー５−メチルフェニル）ベ
ンゾトリアゾールが付加した生成物（目的物）であるこ
とを確認した。

本発明は、前記特定の光安定剤基を有するポリシロキサ
ン化合物を高分子材料用の安定剤として用いるものであ
り、その添加量は、高分子材料１００重■部に対し通常
０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜３重油部
である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニルデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピ
レン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビ
ニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸
三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリ
ル共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化ビ
ニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピ
レン共重合体、塩゛化ビニルー塩化ビニリデンー酢酸ビ
ニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共
重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩
化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニ
ル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレ
ン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば
無水マレイン酸、Ｎ−フェニルマレイミド、ブタジェン
、アクリロニトリル等）との共重合体、アクリロニトリ
ル−ブタジェン−スチレン共重合体、アクリル酸エステ
ル−ブタジェン−スチレン共重合体、メタクリル酸エス
テル−ブタジェン−スチレン共ＩＲ合体、ポリメチルメ
タクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール
、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリアセクール、ポリウレタ
ン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹脂
、メラミン樹脂、工７ドキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジェンゴム、アクリロニトリル−
ブタジェン共重合ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴ
ム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよ
い。また、過酸化物或いは放射線等によって架も１させ
た架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって
発泡させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含され
る。

本発明の組成物には、前記−管式（Ｉ［Ｉ）で表される
繰り返し単位を有するポリシロキサン化合物と共に、他
の汎用の抗酸化剤、安定剤等の添加剤を併用することも
できる。

これらの他の添加剤として特に好ましいものとしては、
フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の抗酸化剤、
他の光安定剤があげられる。

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、２．６−
ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２゜６−ジフェニル
−４−オクトキシフェノール、ステアリル−（３，５−
ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレー
ト、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジー
第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジステアリル−
３，５”　　ｍ３ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホネート、２，４．６−）リス（３°、５゛−ジー第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジルチオ）１゜３．５．−
）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ−３−メチ
ル−５−第３ブチル）ペンジルマロネ−１・、２．２゛
−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）、４，４°−メチレンビス（２，６−ジー第３ブチ
ルフエノール）、２，２°−メチレンビス（６−（Ｉ−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス〔３゜
５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフエニル）
ブチリックアシドコグリコールエステル、４．４”−ブ
チリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、２
．２″−エチリデンビス（４゜６−ジー第３ブチルフエ
ノール）、２，２”−エチリデンビス（４−第２ブチル
−６−第３ブチルフエノール）、１，１．３−トリス（
２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル
）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６−（
２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチルベンジル
）フェニルコテレフクレート、１．３゜５−トリス　（
２，６−シメチルー３−ヒドロキシ−４−第３ブチル）
ベンジルイソシアヌレート、１．３．５−トリス　（３
，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２
，４，６−）リスチルベンゼン、テトラキス〔メチレン
−３−（３゜５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオ第一ト〕メタン、１，３．５−１−リス
（３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、１．３．５−）リス（（３，’５−
ジー第３ブチルー４−ヒドロ；トリフェニル）プロピオ
ニルオキシエチル〕イソシアヌレート、２−オクチルチ
オ−４，６−ジ　（４−ヒドロキシ−３，５−ジー第３
ブチル）フェノキシ−１，３，５−トリアジン、４，４
°−チオビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、２
．２’−メチレンビス（６−第３ブチル−４−メチルフ
ェノール）モノアクリレート、トリエチレングリコール
ビス（３−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル）プロピオネート〕、３．９−ビス（Ｉ、
１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）２，４，８．１
０〜テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンビス（３
−（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）プロピオネート〕等があげられる。

また、上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−、シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキル
チオジプロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウ
リル−、ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の
多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール
、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステ
ル（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプ
ロピオネート）があげられる。

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、
トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト
、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホス
ファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエニル）
ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブ
トキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル
）ホスファイト、ジステアリルペンタエリス、リトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１゜３−
トリス　（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ＋□〜
、５混合アルキル”）　−４，４°−イソプロピリデン
ジフヱニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４
，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチル
フエノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー第
３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、ト
リス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水
素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホ
スファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス（４，４
’−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエ
ノール）〕　・１，６−ヘキサンジオールジホスファイ
ト、フェニル・４．４°−イソプロピリデンジフェノー
ル・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
４−ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトールジ
ホスファイト、ビス（２，６−ジー第３ブチル−４−メ
チルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、
トリス〔４，４°−イソプロピリデンビス（２−第３ブ
チルフエノール）〕ホスファイト、フェニル・ジイソデ
シルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、トリス（Ｉ，３−ジ−ステア
ロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、４．４°−
イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフエノール）・
ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９．１０−ジ−ハ
イドロ−９−オキサ−１０−フォスノアフェナンスレン
−１０−オキサイド、テトラキス（２゜４−ジー第３ブ
チルフエニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイ
ト等があげられる。

また、上記の他の光安定剤としては、例えば、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２゛−ジ−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２．４−ジ
ヒドロキシベンゾフエノン等のヒドロキシベンゾフェノ
ン類、２−（２′−ヒドロキシ−３゛−ｔ−ブチル−５
”−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ）　ＩＪアソ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３゛　、５°−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−５゛−メチルフェニル）ペン
ツトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３°　５′
−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベ
ンゾトリアゾール類、フェニルサリシレー）、ｐ−Ｌ−
プチルフェニルサリシレート、２．４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類、２．
２゛−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩
、〔２，２”−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノラー
ト））−’ｎ−ブチルアミンＮｉ、　　（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホン酸モノ
エチルエステルＮｉ塩等のニッケル化合物類、α−シア
ノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェニル）アクリ
ル類メチル等のＦｔＡアクリロニトリル類及びＮ−２−
エチルフェニル−Ｎ’−２−エトキシ−５−第３ブチル
フエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフェニル−
Ｎ’−２−エトキシフェニルシュウ酸ジアミド等のシュ
ウ酸ジアニリド類があげられる。

本発明の組成物には、その他必要に応じて、重゛　金属
不活性化剤、造核剤、金属石けん、打機ｔｇ化合物、可
塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防
止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を添加することができ
る。

本発明の高分子材料３，１１成物は、極めて多様な形で
、例えば、フィルム、繊維、テープ、シート、各種成型
品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤、接
着剤、パテ及び写真材料における基材としても用いるこ
とができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　重量部ロピオネート
〕メタン ステアリン酸カルシウム　　　０．０５安定剤（表−１
参照）０．２ 上記配合にて厚さ０．３１のプレスシートを作成し、こ
のシートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を
行った。また、８０℃の熱水に２４時間浸漬後のシート
についても耐光性試験を行った。その結果を下記表−１
に示す。

表−１ 註〕上記表−１中、比較化合物Ａ、Ｂ及びＣは下記の通
りである（下記表−２〜表−６においても同じ）。

＄１＝比較化合物Ａ ポリ　（Ｉ，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ビニ
ロキシピペリジン） 分子量：５，６００ 本２：比較化合物Ｂ ジメチルジクロロシラン／１−　（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ
ピペリジン重縮合物分子量：ｔ、４ｏ。

＊２：比較化合物Ｃ １，２，２，６，６−ベンタメチルー４−ビニロキシピ
ペリジン 実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を操り返し行うことにより高
温加工による影客を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンバンドを作成した（シリンダー
温度２３０℃、２４０℃、ヘッドダイス温度２５０℃、
回転数、２０ｒｐｒａ　）。押し出しを１０回繰り返し
行った後、このコンバンドを用いて試験片を射出成形機
で作成した（シリンダー温度２４０℃、ノズル温度２５
０℃、射出圧４７５Ｋｇ／ｃｊ）　。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回及び５回のものについても
同様に試験した。その結果を下記表−２に示す。

く配　合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂１００　　重量部ステ
アリン酸カルシウム　　　　　　０．２フエニルプロピ
オネート ジラウリルチオジプロピオネート　　０．３安定剤（表
−２参照）０．２ 表−２ 実施例３ く配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　重量部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３安定剤（表−
３参照）０．２ 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５　ｍｍのシー
トを作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中
で耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。そ
の結果を下記表−３に示す。

表−３ 実施例４ く配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重量部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　　４８エポキシ化大豆油　　
　　　　　　　２トリスノニルフエニルホスフアイト　
０．２Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　１．０
Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　０．１安定剤（
表−４参照）０．２ 上記配合物をロール上で混練し、厚さ１ｍｍのシートを
作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中での
耐光性試験を行った。その結果を下記表−４に示す。

表−４ 実施例５ く配　合〉 Ｂａ−ステアレート　　　　　　　　　０．７Ｚｎ−ス
テアレート　　　　　　　　　０，３２．６−ジー第３
ブチル−ｐ−クレゾール０．１安定剤（表−５参照）０
．３ 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５１のシートを作成した
。このシートを用いてフェードメーターにて５０時間及
び１００時間照射後の伸び残率を測定した。その結果を
下記表−５に示す。

表−５ 実施例６ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
。本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル６
６ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０ｇ１メ
タクリル酸４ｇ１キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２
０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビスイソ
ブチロニトリル２ｇ。

ドデシルメルカプタン０．５ｇ、キシレン８０　ｇ及び
ｎ−ブタノール２０ｇからなる溶液を３時間で滴下した
。その後同温度で２時間攪拌し、樹脂固形分５０％のア
クリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０３Ｅ６０；樹
脂固形分６０％）２．５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル溶液）５０重量部、
アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペース
ト１１２３Ｎ）５．５重量部、キシレン１０重量部、酢
酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０．２
重量部をとりベースコート塗料とした。

ｂ）　　トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン１０重量部、キシレン１０重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部及び安定剤（表−６参照）
０．１２重量部（固形分に対し０．４％）をとり、トッ
プコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放放置後ッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置後１４０℃で３０分間焼付し試片と
した。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を下記表−６に示す
。

表−６ 〔発明の効果〕 本発明の高分子材料組成物は、安定性、特に耐光性が長
期間に渡って優れているものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　高分子材料１００重量部に対して、下記一般式（ I
   ）で表される繰り返し単位を５〜５０有するポリシロキ
   サン化合物と、下記一般式（II）で表される化合物の少
   なくとも一種、または下記一般式（II）で表される化合
   物の少なくとも一種及び他のα−オレフィン化合物の混
   合物との付加反応生成物であって、分子中に下記一般式
   （III）で表される繰り返し単位を少なくとも一個有す
   るポリシロキサン化合物０．００１〜５重量部を添加し
   てなる、耐光性の改善された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔上記各式中、Ｒ＿１はアルキル基を示し、ｎは０また
   は１を示し、Ｘは次の一般式（IV）、（Ｖ）または（V
   I）の何れかの基を示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） Ｒ＿２は、水素原子、アルキル基またはアシル基を示し
   、Ｙは酸素原子または−Ｎ（Ｒ＿５）−を示し、Ｒ＿５
   は水素原子またはアルキル基を示す。Ｒ＿３及びＲ＿４
   は各々水素原子、アルキル基またはハロゲン原子を示し
   、Ｚは直接結合手または酸素原子を示す。）〕