JPS6195071A - 安定化された高分子材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特定のホルムアミジン化合物を含有する高分
子材料組成物、詳しくは、分子内に２゜２．６．６−チ
トラメチルピペリジン基を有するホルムアミジンカルボ
ン酸エステルを含をするこ　　　。

とにより、特に耐光性の著しく改善された高分子材料組
成物に関する。

〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、スチレン系樹脂等の（分
子材料は光の作用により劣化し、変色或いは機械的強度
の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知
られている。

そこで、高分子材料の劣化を防止するために、従来種々
の安定剤が用いられており、分子中に２゜２．６．６−
チトラメチルピペリジン基を有するカルボン酸エステル
はその効果が比較的大きく各種の合成樹脂用の光安定剤
として提案されている。

例えば、特公昭４６−４２６１８号公報及び特公昭４６
−４３３０２号公報には２，２，６．６−テトラメチル
ビペリジン−４−オールのカルボン酸エステルが記載さ
れ、特開昭４８−６５１８０号公報には１−置換−２，
２，６，６−チトラメチルピベリジンー４−オールのカ
ルボン酸エステルが記載され、特開昭４９−６４６３５
号公報には２．２．６．６−テトラメチルピペリジン−
４−オンのトリメチロールアルカンケタールのカルボン
酸エステルが記載され、特開昭５６−５５４３８号公報
には２．２．６．６−テトラメチルビペリジン−４−オ
ンのジペンタエリスリトールケタールのカルボン酸エス
テルが記載されている。

しかしながら、これらの公報に記載の化合物の光安定化
効果は未だ不充分であり、更に効果の大きい化合物が求
められている。

また、置換ホルムアミジン類も高分子材料の光安定剤と
して特開昭５０−１４８３２３号公報に提案されている
が、その効果は不充分であり、実用上満足し得るもので
はない。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、高分子材料に対する光安定化効果に優れ
た化合物を得るべく鋭意検討を重ねた結果、次の一般式
（Ｎで表される化合物が光安定化効果に優れ、高分子材
料に添加した場合、光安定性の著しく改善された高分子
材料組成物が得られることを見い出し、本発明に到達し
た。

即ち、本発明は、次の一般式（，１）で表される化合物
を含有してなる、安定化された高分子材料組成物を提供
するものである。

（式中、ｎは１又は２を示し、Ｒは、ｎ＝＝１の時；を
示し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、水酸基又はアル
コキシ基を示し、階はフルキル基又はアリール基を示し
、Ｒ３は水素原子、ハロゲン原子又はアルコキシ基を示
し、へは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アル
キル基又は−〇〇ＯＲ’を示し、Ｒ５は水素原子、オキ
シル、アルキル基又はアシル基を示し、Ｒ６はアルキレ
ン基を示し、Ｒ。

幼はアルキル基を示す、） 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述する。

本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される化合物
において、Ｒ１，Ｒ３又は亀で表されるハロゲン原子と
しては、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素があげられ、Ｒ
１，Ｒ３又は〜で表されるアルコキシ基−とじては、メ
トキシ、エトキシ、ブトキシ、オクトキシ、２−エチル
へキシロキシ等があげられ、Ｒ２で表されるアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、第２ブチル、イソブチル、７ミル、ヘキシル、
オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル
、デソル等があげられ、Ｒ２で表されるアリール基とし
ては、フェニル、メチルフェニル、エチルフェニル、ブ
チルフェニル、ヒドロキシフェニル、メトキシフェニル
、りａロフェニル等があげられ、へで表されるアルキル
基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、第３ブチル、アミル等があげられ、Ｒ５で表
されるアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、オクチル、インオクチル、ベンジル
、２−ヒドロキシエチル、２，３−エポキシプロビル等
があげられ、Ｒ５で表されるアシル基としては、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチロイル、アクリロイ
ル、メタクリロイル、ベンゾイル等があげられ、〜で表
されるアルキレン基としては、エチレン、１．２−プロ
ピレン、１．２−ブチレン、フェニルエチレン等があげ
られ、Ｒ’で表されるアルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第２ブチル、
ヘキシル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシ
ル等があげられ、階で表されるアルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル等があげられる。

従って、本発明で用いられる前記一般式（＋）で表され
る化合物としては、例えば次の表−１に示すものがあげ
られる。

表−１ 隘ｌ 嵐２ 磁５ 隘６ 磁７ １ｍＢ 隘１２ Ｃ２Ｒ５ 磁１９ ？＆Ｌ２０ １ｈ２１ Ｃ２題 隘２２ 隠２３ これらの化合物は、例えば、式Ｒ＋ｏＨ）１１（式中、
Ｒは前記一般式（Ｉ）の場合と同じ〕で表される、２，
２，６．６−チトラメチルビペリジン基を有するアルコ
ールと、式 Ａは低級アルキル基を示し、Ｒ１，々、　Ｒ１及びへは
前記一般式口）の場合と同じ〕で表される化合物をエス
テル交換反応させることによって容易に製造することが
できる。

次に、本発明で用いられる前記一般式（Ｉ）で表される
化合物の具体的な合成例をあげるが、本発明は下記の合
成例に制限を受けるものではない。

合成例１　（表−１のＮｌｌ化合物の合成）Ｎ−（ｐ−
エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ。

−エチル−Ｎ’−フェニルホルムアミジン８．９ｇ。

２．２．６．６−テトラメチルビペリジン−４−オール
５．６５ｇ、ミネラルスピリット３０１及びテトライソ
プロピルチタネート０．１５　ｇをとり、生成するエタ
ノールを溜去しなから１００℃で６時間攪拌した０次い
で、これを水洗、乾燥後脱溶媒し、粘稠液体を得た。こ
の液体にｎ−ヘキサンを加えることにより結晶化し、融
点６８〜７Ｑ’Ｃの白色結晶の生成物を得た。この生成
物は、高速液体クロマトグラフィーによる分析の結果ｌ
ビークであり、また、元素分析の結果が下記の如くであ
り、計算値と良く一致した。

元ｌ立丘　　　　　　ＣＨＮ 実測値（％）　　　７３．８８　　　８．０２　　　９
．８６計算値（％）　　　７３．７１　　　８．１１　
　１０．３２合成例２（表−１の階２３化合物の合成）
ビス（９−アザ−３−ヒドロキシメチル−８゜８．１０
．１０−テトラメチル−１，５−ジオキサスピロ（５，
５）−３−ウンデシルメチル）エーテル５．３ｇ、Ｎ−
（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）−Ｎ’−エチル−
Ｎｏ−フェニルホルムアミジン６．５ｇ及びリチウムア
ミド０．１ｇをとり、生成するエタノールを溜去しなが
ら１６０℃で１０時間攪拌した。これにトルエン１００
ｍ１を加え、水洗、乾燥後トルエンを溜去し、軟化点５
６〜６０℃の淡黄褐色固体の生成物を得た。この生成物
は、高速液体クロマトグラフィーによる分析の結果ｌピ
ークであり、また、元素分析の結果が下記の如くであり
、計算値と良く一致した。

ｘＩ分五　　　　　　〇　　　　　ＨＮ実測値（％’）
　　　７０．１４　　　７．８５　　　７．９７計算値
（％）　　　６９．９０　　　７．９６　　　８．１６
（＋ 本発明は、前記一般式（りで表される化合物を高分子材
料に添加してその安定性、特に耐光性を改善するもので
あり、その添加量は、通常、高分子材料１００重量部に
対し０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜３重
量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
テン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ボリフ７化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッ化ビニルデン、臭素化ポリエ
チレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化ビニ
ル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三
元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジェン共重合体、塩化ビニ
ル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロピレ
ン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル
三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合
体、塩化とニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビ
ニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化とニル−ア
クリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等
の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ
スチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリ
ロニトリル、スチレンと他の単量体（例えば無水マレイ
ン酸、ブタジェン、アクリロニトリル等）との共重合体
、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、
アクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体、
メタクリル酸エステル−ブタジェン−スチレン共重合体
、ポリメチルメタクリレート等のメタクリレート樹脂、
ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビ
ニルブチラール、直鎖ポリエステル、ポリ　　　“フェ
ニレンオキシド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリ
アセタール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフェ
ノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂
、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン４射脂等をあげ
ることができる。更に、イソプレンゴム、ブタジェンゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジェン共重合ゴム、スチレ
ン−ブタジェン共重合ゴム等のゴム類やこれらの樹脂の
ブレンド品であってもよい。

また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた架橋
ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発泡さ
せた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含される。

本発明の組成物に更に周知のフェノール系の抗酸化剤を
添加することによってその酸化安定性を一層改善するこ
とができる。このフェノール系抗酸化剤としては例えば
、２．６−ジー第３ブチル−ｐ−クレゾール、２．６−
ジフェニル−４−オクトキシフェノール、ステアリル−
（３，５−ジ−メチル−４−ヒドロキシベンジル）チオ
グリコレート、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３
゜５−ジー第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジス
テアリル−３，５−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシヘ
ンシルホスホネート、２．４．６−）リス（３°、５°
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシヘンシルチオ）１，
３．５．−）リアジン、ジステアリル（４−ヒドロキシ
−３−メチル−５−筈３ブチル）ペンジルマロネー）、
２．２’−メチレンビス（４−メチル−６−第３ブチル
フエノール）、４．４’−メチレンビス（２，６−ジー
第３ブチルフエノール）、２．２°−メチレンビス［６
−（Ｉ−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビ
ス〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチルフ
エニル）ブチリックアシドコグリコールエステル、４．
　４’−プチルデンビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾ
ール）、２．２°−エチリデンビス（４，６−ジー第３
ブチルフエノール）、２．２’−エチリデンビス〈４−
第２ブチル−６−第３ブチルフエノール）、１，１．　
　　　　　　　　　　　　へ１３−トリス（２−メチル
−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）ブタン、
ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロ
キシ−３−第３ブチル−５−メチルベンジル）フェニル
〕テレフタレート、１，３．５−）リス（２，６−シメ
チルー３−ヒドロキシ−４−第３ブチル）ベンジルイソ
シアヌレート、１，３．５−）リス（３゜５−ジー第３
ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリ
メチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（３，５
−ジー第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネートコメタン、１．３．５−トリス（３，５−ジー第
３ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
、１゜３．５−トリス（（３，５−ジー第３ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、２−オクチルチオ−４゜６−ジ　（４
−ヒドロキシ−３，５−ジー第３ブチル）フェノキシ−
１，３，５−トリアジン、４゜４°−チオビス（６−第
３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフェノール類及び４，
４゛−ブチリデン１　　ビス（２−第３　フチルー５−
メチルフェノール）の炭酸オリゴエステル（例えば重合
度２．３．４゜５．６．７，８．９．ｔｏ等）の多価フ
ェノール炭酸オリゴエステル類があげられる。

本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加えてその酸
化安定性の改善をはかることもできる。

この硫黄系抗酸化剤層しては、例えば、ジラウリル−、
シミリスチル−、ジステアリル−等のジアルキルチオジ
プロピオネート及びブチル−、オクチル−、ラウリル−
、ステアリル−等のアルキルチオてロビオン酸の多価ア
ルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエタン、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリ
スヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエステル（例
えばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロピオ
ネート）があげられる。

本発明の組成物に、更にホスファイト等の含リン化合物
を添加することによってその耐光性及び耐熱性を一層改
善することができる。この含リン化合物としては、例え
ば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファ
イト、トリデシルホスファイト、オクチルー−ジフェニ
ルホスファイト、トリス（２，４−ジー第３ブチルフエ
ニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリ
ス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、ジステアリンペンタエリスリト
ールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，
３−トリス　（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）ブタンジホスファイト、テトラ（＋、
＋ｚ〜１５混合アルキル）−４，４゛−イソプロピリデ
ンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−
４，４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチ
ルフエノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジー
第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、
トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、
水素化−４，４゛−イソプロピリデンジフェノールポリ
ホスファイト、ビス（オクチルフェニル）・ビス〔４，
４°−ブチリデンビス（３−メチル−６−第３ブチルフ
エノール）〕　・１゜６−ヘキサンジオールジホスファ
イト、フェニル・４．４°−イソプロピリデンジフェノ
ール・ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２
゜４−ジー第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，６−ジー第３ブチル−４−
メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト
、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−第３
ブチルフエノール）〕ホスファイト、フェニル・ジイソ
デシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト、トリス（Ｉ，３−ジ−ステ
アロイルオキシイソプロピル）ホスファイト、４．４°
−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフエノール）
・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、９．１０−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−１０−フォスノアフェナンスレ
ン−１０−オキサイド、テトラキス（２，４−ジー第３
ブチルフエニル）−４，４°−ビフェニレンジホスホナ
イト等があげられる。

本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること　　　　
　　　　　　　　５によってその耐光性を一層改善する
ことができる。

この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−〇−オ
クトキシベンゾフェノン、２．２゜−ジ−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン、２．４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン等のヒドロキンベンゾフェノン類、２−（
２°−ヒドロキシ−３’　−ｔ−ブチル−５°−メチル
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２
’−ヒドロキシ−３°、５゛−ジ−ｔ−ブチルフェニル
）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２゜−ヒド
ロキシ−５°−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２”−ヒドロキシ−３”　５゜−ジーｔニアミル
フェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール
類、フェニルサリシレー）、ｐ−ｔ−プチルフェニルサ
リシレート、２゜４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５
−ジ−ｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキ
サテンルー３．５−ジーｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート等のベンゾエート類、２．２°−チオビス（
４−ｔ−オクチルフェノール）Ｎｉ塩、〔２，２°−チ
オビス（４−ｔ−オクチルフェノラート））−ｎ−ブチ
ルアミンＮｉ、　　（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルＮｉ
塩等のニッケル化合物類、α−シアノ−β−メチル−β
−（ｐ−メトキシフェニル）アクリル類メチル等の置換
アクリロニトリルｎ及びＮ−２−エチルフェニル−Ｎ’
−２−エトキシ−５−第３ブチルフエニルシユウ酸ジア
ミド、Ｎ−２−エチルフェニル−Ｎｏ−２−エトキシフ
ェニルシュウ酸ジアミド等のシュウ酸ジアニリド類があ
げられる。

その他必要に応じて、本発明の組成物には重金属不活性
化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エ
ポキシ化合物、顔料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難
燃剤、ｆｋ剤、加工助剤等を包含させることができる。

本発明によって安定化された高分子材料は極めて多様な
形で、例えばフィルム、繊維、テープ、シート、各種成
型品として使用でき、また、塗料、ラッカー用結合剤、
接着剤、パテ及び写真材料における基材としても用いる
ことができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。

しかしながら、本発明はこれらの実施例によって限定さ
れるものではない。

実施例１ く配　合〉 ポリプロピレン　　　　　１００　　重量部ステアリン
酸カルシウム　　　０．２ エニルプロピオネート） 安定剤（表−２参照）０．２ 上記配合にて厚さ０．３−曽のプレスシートを作成し、
このシートについて高圧水銀ランプを用いての耐光性試
験を行った。また、１００時間光照射後８０℃の熱水に
２４時間浸漬後のシートについても耐光性試験を行った
。その結果を表−２に示す。

表−２ ｕ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　’率１＋Ａ
は、２．２．６．６−チトラメチル−４−ピペリジルベ
ンゾエートを示す。

＊２：Ｂは、Ｎ−（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）
−Ｎ’−エチル−Ｎｏ−フェニルホルムアミジンを示す
。

（以下の各表においても、Ａ及びＢで示す安定剤は上記
と同じ） 実施例２ 〈配　合〉 ポリエチレン　　　　　　　　１００　　！置部Ｃａ−
ステアレート　　　　　　　　１．０ビオネート〕メタ
ン ジステアリルチオジプロピオネート０．３安定剤（表−
３参照）０．２ 上記配合物を混練後プレスして厚さ０．５ｍｍのシート
を作成した。このシートを用いてウエザオフ−ター中で
耐光性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その
結果を表−３に示す。

表−３ 実施例３ く配　合〉 ポリ塩化ビニル　　　　　　　　１００重量部ジオクチ
ルフタレート　　　　　　４日エポキシ化大豆油　　　
　　　　　　２トリスノニルフ・エニルホスファイト　
０．２Ｃａ−ステアレート　　　　　　　　　　１．０
Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　　　０．１安定剤
（表−４参照）０．２ 上記配合物を混練ロール上で混練し、厚さ１ｍｌ１１の
シートを作成した。このシートを用いウエザオフ−ター
中での耐光性試験を行った。その結果を表−４に示す。

表−４ 実施例４ 〈配　合さ ＡＢＳ樹脂　　　　　　　　　１００　　重量部上記配
合物をロール練り後プレスして厚さ３ＩＩＩＩＩ＋のシ
ートを作成した。このシートを用いウエザオメーターで
８００時間照射後の抗張力残率を測定した。その結果を
表−５に示す。

表−５ 実施例５ く配　合〉 Ｂａ−ステアレート０．７ Ｚｎ−ステアレート　　　　　　　　０．３２．６−外
箱３ブチルーｐ−タレゾールｏ、　を安定剤（表−６参
照）０．５ 上記配合物を７０℃で５分間ロール上で混練し、１２０
℃で５分間プレスして厚さ０．５ｎｕａのシートを作成
した。このシートを用いフェードメーターにて５０時間
照射後の伸び残率を測定した。その結果を表−６に示す
。

表−６ 実施例６ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用である
０本実施例においては金属顔料を含有するベースコート
及び透明なトップコートからなる二層金属光沢塗料につ
いてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル１００ｇ、アクリル１％ｌｎ　−ブ
チル６６ｇ１メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル３０
ｇ、メタクリル酸４ｇ１キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノ
ール２０ｇをとり、１１０℃に加熱攪拌しながらアゾビ
スイソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメルカプタン０．
５ｇ、キシレン８０ｇ及びｎ−ブタノール２０ｇからな
る溶液を３時間で滴下した。その後同温度で２時間攪拌
し、樹脂固形分５０％のアクリル樹脂溶液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液１２重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミン（三井東圧社製；ニーパン２０５Ｅ６０；樹
脂固形分６０％）２，５重量部、セルロースアセテート
ブチレート樹脂（２０％酢酸ブチル／８液）５０重量部
、アルミニウム顔料（東洋アルミニウム社製；アルペー
スト１１２３Ｎ１５．５重量部、キシ１７１０Ｍ量部、
酢酸ブチル２０重量部及び銅フタロシアニンブルー０．
２重量部をとりベースコート塗料とした。

ｂ））ツブコート塗料 上記アクリル樹脂溶液４８重量部、ブトキシ化メチロー
ルメラミンＩＯ重量部、キシレン１０重量部、ブチルグ
リコールアセテート４重量部及び安定剤（表−７参照）
０．１５ｆｆｉ量部（固形分に対し０．５％）をとり、
トップコート塗料とした。

ブライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が２０μになるようにスプレーし、１０分間放直後トッ
プコート塗料を乾燥膜厚が３０μになるようにスプレー
した。１５分間放置ｌ＆１４０℃で３０分間焼付し試片
とした。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を表−７に示す。

表−７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 次の一般式（ I ）で表される化合物を含有してなる、
   安定化された高分子材料組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ｎは１又は２を示し、Ｒは、ｎ＝１の時；▲数
   式、化学式、表等があります▼を示し、ｎ＝２の時； ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼ を示し、Ｒ＿１は水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は
   アルコキシ基を示し、Ｒ＿２はアルキル基又はアリール
   基を示し、Ｒ＿３は水素原子、ハロゲン原子又はアルコ
   キシ基を示し、Ｒ＿４は水素原子、ハロゲン原子、アル
   コキシ基、アルキル基又は−ＣＯＯＲ′を示し、Ｒ＿５
   は水素原子、オキシル、アルキル基又はアシル基を示し
   、Ｒ＿６はアルキレン基を示し、Ｒ′はアルキル基又は
   ▲数式、化学式、表等があります▼を示し、Ｘは ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
   、表等があります▼を示し、 Ｒ＿７はアルキル基を示す。）