JPH0717846B2 - 高分子材料用安定剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高分子材料用安定剤、詳しくは、2,2,6,6−
テトラアルキルピペリジル基を有する特定の不飽和カル
ボン酸エステルの共重合体からなる高分子材料用安定剤
に関する。

〔従来技術及びその問題点〕

ポリエチレン、ポリプロピレン、ABS樹脂、ポリ塩化ビ
ニル等の重合体は一般に光の効果に対して敏感であり、
その作用により劣化し、変色或いは機械的強度の低下等
を引き起こし、長期の使用に耐えないことが知られてい
る。

そこで、この光による重合体の劣化を防止するために、
従来から種々の安定剤が用いられてきたが、従来用いら
れてきた光安定剤はその安定化効果が不充分であり、ま
た安定剤自体が熱或いは酸化に対して不安定であった
り、水等の溶剤によって重合体から抽出され易いものが
多く、更に重合体に着色を与えるものが多い等の欠点を
持っており、重合体を長期にわたって安定化することが
できなかった。

これら従来用いられてきた光安定剤の中でもヒンダード
ピペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であり、ま
た安定化効果も比較的大きく、近年特に注目されてい
る。

しかしながら、従来知られているピペリジン系の化合物
は光安定化能が未だ不充分であり、また揮発性が大きか
ったり、水によって重合体から容易に抽出されてしまっ
たり、或いは重合体との相溶性に劣りブルーム等の原因
となる等の欠点もあった。

これらの欠点を解消するために、最近、高分子量のヒン
ダードピペリジン化合物を用いることが提案されてい
る。

例えば、特開昭52-141883号公報には、ヒンダードピペ
リジン基を有するポリエステル等の重合体が提案され、
特開昭54-21489号公報及び特開昭54-71185号公報には、
ヒンダードピペリジン基を有する（メタ）アクリレート
重合体が提案され、特開昭55-157612号公報には、ヒン
ダードピペリジン基を有するマレイン酸エステル−オレ
フィン共重合体が開示され、また特開昭57-177053号公
報には、イタコン酸エステル（共）重合体が開示されて
いる。

しかしながら、これらの重合体を用いる場合は、安定剤
の揮発性は低減されるもののその安定化効果は充分では
なく、また安定化される高分子物質との相溶性に劣り、
ブルーム等の原因となる欠点があり、更に改良すること
が必要であった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を重ねた結
果、ポリアルキルピペリジル基を有する特定の不飽和カ
ルボン酸エステル共重合体を用いることにより、上記の
欠点が全て解消し得ることを見出し本発明に到達した。

即ち、本発明は、次の式（Ｉ）及び式（II）で表される
繰り返し単位を有し、これらと重合可能な二重結合を少
なくとも一つ有するコモノマーを含有し得る、分子量80
0〜100,000のコポリマー化合物からなる高分子材料用安
定剤を提供するものである。

（式中、Ｒは を示し、R₁は水素原子、アルキル基、オキシル（−Ｏ
・）又はアシル基を示し、R₂は低級アルキル基を示
す。） 以下、本発明の高分子材料用安定剤について詳述する。

本発明の高分子材料用安定剤の構成成分である、前記の
式（Ｉ）及び（II）で表される繰り返し単位を有するコ
ポリマー化合物において、R₁で表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、オク
タデシル、ベンジル、フェニルエチル、２−‐ヒドロキ
シエチル、２−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシブ
チル、2,3−エポキシプロピル等があげられ、アシル基
としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイ
ル、アクリロイル、メタクリロイル、オクタノイル、ベ
ンゾイル等があげられる。

また、R₂で表される低級アルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、イソブチルがあげられる。

本発明の安定剤は、２−メチルマレイン酸（メサコン
酸）及びイタコン酸とピペリジル基含有アルコールとの
２種のエステル及び必要に応じて該エステルと重合可能
な二重結合を少なくとも一つ有するコモノマーの共重合
体であり、上記ピペリジル基含有アルコールとしては、
例えば、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノー
ル、1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジノール、
１−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ノール、１−（2,3−エポキシプロピル）−2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジノール、2,2,6,6−テトラメ
チル−１−オキシル−４−ピペリジノール、１−アセチ
ル−2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジノール、９
−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−３−エチル−1,5−
ジオキサスピロ〔5.5〕−３−ウンデシルメタノール、
９−アザ−8,8,9,10,10−ペンタメチル−３−エチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕−３−ウンデシルメタノー
ル、９−アザ−９−アセチル−8,8,10,10−テトラメチ
ル−３−エチル−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕−３−ウ
ンデシルメタノール等があげられる。

また、本発明において使用できる上記コモノマーとして
は、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン−１、イソ
ブチレン、ヘキセン、オクテン、デセン、ドデセン、テ
トラデセン、ヘキサデセン、オクタデセン、エイコセ
ン、スチレン、α−メチル−スチレン、シクロヘキセ
ン、ブタジエン、塩化ビニル、アクリロニトリル、メチ
ルビニルケトン、メチルビニルエーテル、ブチルビニル
エーテル、オルチルビニルエーテル、ドデシルビニルエ
ーテル、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、無水
マイレン酸、アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メ
タクリル酸メチル、2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル−ビニルエーテル、1,2,2,6,6−ペンタメチル−
４−ピペリジル−ビニルエーテル、2,2,6,6−テトラメ
チル−４−ピペリジル−アリルエーテル、1,2,2,6,6−
ペンタメチル−４−ピペリジル−アリルエーテル、2,2,
6,6−テトラメチル−４−ピペリジルアクリレート等が
あげられる。

本発明の安定剤の構成成分である前記コポリマー化合物
（不飽和カルボン酸エステルの共重合体）は、前記特定
の不飽和カルボン酸エステル〔及び必要に応じて他の不
飽和モノマー（前記コモノマー）〕を有機過酸化物或い
はアゾニトリル化合物等の通常の重合開始剤を用いて重
合させるか、或いは2,2,6,6−テトラメチルアルキルピ
ペリジル基を有さない不飽和カルボン酸エステル（及び
必要に応じて他の不飽和モノマー）を重合させた後、ピ
ペリジン化合物を用いエステル交換反応することにより
容易に製造できる。

前記コポリマー化合物において、前記の２−メチルマレ
イン酸エステルとイタコン酸エステルとのモル比は、好
ましくは10:1〜1:10の範囲から適宜選択され、また、前
記コモノマーの含有割合は、上記２種の不飽和カルボン
酸エステルの合計量に対し、通常100倍モル以下、好ま
しくは50倍モル以下とすると良い。

また、前記コポリマー化合物としては、分子量が800〜1
00,000、好ましくは1,000〜50,000の範囲のものが使用
できる。

以下、具体的な合成例によって本発明を更に詳しく説明
する。

合成例１ ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）イ
タコネート／ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）メサコネート/2−エチルヘキシル−ビニルエ
ーテル共重合体の合成 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）イ
タコネート8.7g（0.02モル）、ビス（1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）メサコネート4.4g（0.01モ
ル）、２−エチルヘキシル−ビニルエーテル12.5g（0.0
8モル）及び反応開始剤としてアゾビスイソブチロニト
リル0.64g（2.5重量％）をとり、窒素気流下70〜75℃で
６時間攪拌した。然る後、減圧下に未反応の２−エチル
ヘキシル−ビニルエーテルを留去し、窒素含率（Ｎ％）
4.86％，平均分子量3,000の淡黄色ガラス状固体の生成
物（安定剤No.1）17.3gを得た。生成物中のイタコネー
ト／メサコネート／ビニルエーテルのモル比は2/1/2.7
であった。

合成例２ ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）イ
タコネート／ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）メサコネート／イソブチル−ビニルエーテル
共重合体の合成 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチル−４−ピペリジル）イ
タコネート13.1g（0.03モル）、ビス（1,2,2,6,6−ペン
タメチル−４−ピペリジル）メサコネート8.7g（0.02モ
ル）、イソブチル−ビニルエーテル10.0g（0.1モル）及
びアゾビスイソブチロニトリル0.32g（１重量％）をキ
シレン10gに溶解し、70〜75℃で６時間攪拌した。然る
後、減圧下に溶媒及び未反応イソブチルビニルエーテル
を留去し、Ｎ％＝5.34％，平均分子量2,000の淡黄色ガ
ラス状固体の生成物（安定剤No.2）26.2gを得た。生成
物中のイタコネート／メサコネート／ビニルエーテルの
モル比は3/2/4.4であった。

合成例３〜10 合成例１又は合成例２と同様の操作により、次の表に示
す安定剤No.3〜10をそれぞれ合成した。

尚、表中、 を示し、モル比はイタコン酸エステル：メサコン酸エス
テル：コモノマーのモル比を示す。

本発明は、前記特定の不飽和カルボン酸エステル共重合
体を高分子材料用の安定剤として用いるものであり、そ
の添加量は、高分子材料100重量部に対し通常0.001〜５
重量部、好ましくは0.01〜３重量部である。

本発明における安定性改善の対象となる高分子材料とし
ては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブ
デン、ポリ−３−メチルブテン等のα−オレフィン重合
体又はエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロ
ピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合
体、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフッ化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフッソ化ビニリデン、臭素化ポリ
エチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−スチレン共重合体、塩化
ビニル−イソブチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、塩化ビニル−スチレン−無水マレイン
酸三元共重合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニト
リル共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩化
ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩素化プロ
ピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビ
ニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共
重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩
化ビニル−メタクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル
−アクリロニトリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニ
ル等の含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クロマン樹脂、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレ
ン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば
無水マレイン酸、Ｎ−フェニルマレイミド、ブタジエ
ン、アクリロニトリル等）との共重合体、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル酸エス
テル−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリメチルメ
タクリレート等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアル
コール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキシド、ポリ
アミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリウレ
タン、繊維素系樹脂、或いはフェノール樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル
樹脂、シリコーン樹脂等をあげることができる。更に、
イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であってもよ
い。また、過酸化物或いは放射線等によって架橋させた
架橋ポリエチレン等の架橋重合体及び発泡剤によって発
泡させた発泡ポリスチレン等の発泡重合体も包含され
る。

本発明の安定剤は、単独でも使用できるが、他の汎用の
抗酸化剤、安定剤等の添加剤と併用することもできる。

これらの他の添加剤として特に好ましいものとしては、
フェノール系，硫黄系，ホスファイト系等の抗酸化剤、
紫外線吸収剤等の他の光安定剤があげられる。

上記フェノール系抗酸化剤としては、例えば、2,6−ジ
−第３ブチル−ｐ−クレゾール、2,6−ジフェニル−４
−オクトキシフェノール、ステアリル−（3,5−ジ−メ
チル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレート、ス
テアリル−β−（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３ブチ
ルフェニル）プロピオネート、ジステアリル−3,5−ジ
−第３ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、
2,4,6−トリス（３′,5′−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルチオ）1,3,5,−トリアジン、ジステアリ
ル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブチル）ベ
ンジルマロネート、2,2′−メチレンビス（４−メチル
−６−第３ブチルフェノール）、4,4′−メチレンビス
（2,6−ジ−第３ブチルフェノール）、2,2′−メチレン
ビス〔６−（１−メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾー
ル〕、ビス〔3,5−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブ
チルフェニル）ブチリックアシド〕グリコールエステ
ル、4,4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル−ｍ−ク
レゾール）、2,2′−エチリデンビス（4,6−ジ−第３ブ
チルフェノール）、2,2′−エチリデンビス（４−第２
ブチル−６−第３ブチルフェノール）、1,1,3−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフェニ
ル）ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６−
（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチルベンジ
ル）フェニル〕テレフタレート、1,3,5−トリス（2,6−
ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第３ブチル）ベンジル
イソシアヌレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−2,4,6−トリメチルベ
ンゼン、テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メ
タン、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、1,3,5−トリス
〔（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、２−オ
クチルチオ−4,6−ジ（４−ヒドロキシ−3,5−ジ−第３
ブチル）フェノキシ−1,3,5−トリアジン、4,4′−チオ
ビス（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）、2,2′−メ
チレンビス（６−第３ブチル−４−メチルフェノール）
モノアクリレート、トリエチレングリコールビス〔３−
（３−第３ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオネート〕、3,9−ビス（1,1−ジメチル−２
−ヒドロキシエチル）2,4,8,10−テトラオキサスピロ
〔5.5〕ウンデカンビス〔３−（３−第３ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等
があげられる。

また、上記硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−，ジミリスチル−，ジステアリル−等のジアルキル
チオジプロピオネート及びブチル−，オクチル−，ラウ
リル−，ステアリル−等のアルキルチオプロピオン酸の
多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ル、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート）のエス
テル（例えばペンタエリスリトールテトララウリルチオ
プロピオネート）があげられる。

また、上記ホスファイト系抗酸化剤としては、例えば、
トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイ
ト、トリデシルホスファイト、オクチル−ジフェニルホ
スファイト、トリス（2,4−ジ−第３ブチルフェニル）
ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブ
トキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスファイト、ジステアリルペンタセリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル）1,1,3−トリス
（２−メチル−５−第３ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）ブタンジホスファイト、テトラ（C₁₂〜₁₅混合アル
キル）−4,4′−イソプロピリデンジフェニルジホスフ
ァイト、テトラ（トリデシル）−4,4′−ブチルデンビ
ス（３−メチル−６−第３ブチルフェノール）ジホスフ
ァイト、トリス（3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニ
ルフェニル）ホスファイト、水素化−4,4′−イソプロ
ピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチ
ルフェニル）・ビス〔4,4′−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−第３ブチルフェノール）〕・1,6−ヘキサン
ジオールジホスファイト、フェニル・4,4′−イソプロ
ピリデンジフェノール・ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（2,4−ジ−第３ブチルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ビス（2,6−第３ブチ
ル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト、トリス〔4,4′−イソプロピリデンビス（２
−第３ブチルフェノール）〕ホスファイト、フェニル・
ジイソデシルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、トリス（1,3−ジ−
ステアロリルオキシイソプロピル）ホスファイト、4,
4′−イソプロピリデンビス（２−第３ブチルフェノー
ル）・ジ（ノニルフェニル）ホスファイト、9,10−ジ−
ハイドロ−９−オキサ−10−フォスファフェナンスレン
−10−オキサイド、テトラキス（2,4−ジ−第３ブチル
フェニル）−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト等が
あげられる。

また、上記の他の光安定剤としては、例えば、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、2,2′−ジ−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、2,4−ジヒド
ロキシベンゾフェノン等のヒドロキシベンゾフェノン
類、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′
−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、
２−（２′−ヒドロキシ−３′,5′−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′
−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２′−ヒドロキシ−３′５′−ジ−ｔ−ア
ミルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾ
ール類、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニ
ルサリシレート、2,4−ジ−ｔ−ブチルフェニル−3,5−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサ
デシル−3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
エート等のベンゾエート類、2,2′−チオビス（４−ｔ
−オクチルフェノール）Ni塩、〔2,2′−チオビス（４
−ｔ−オクチルフェノラート）〕−ｎ−ブチルアミンN
i、（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ホスホン酸モノエチルエステルNi塩等のニッケル化合物
類、α−シアノ−β−メチル−β−（ｐ−メトキシフェ
ニル）アクリル類メチル等の置換アクリロニトリル類及
びＮ−２−エチルフェニル−Ｎ′−２−エトキシ−５−
第３ブチルフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチル
フェニル−Ｎ′−２−エトキシフェニルシュウ酸ジアミ
ド等のシュウ酸ジアニリド類があげられる。

その他必要に応じて、重金属不活性化剤、造核剤、金属
石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物、顔
料、充填剤、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤，滑剤、加工
助剤等を併用することができる。

本発明の安定剤によって安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えば、フィルム、繊維、テープ、シー
ト、各種成型品として使用でき、また、塗料、ラッカー
用結合剤、接着剤、パテ及び写真材料における基材とし
ても用いることができる。

次に本発明を実施例によって具体的に説明する。しかし
ながら、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。

実施例１ 〈配合〉 ポリプロピレン 100重量部 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ第３ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン 0.1
ステアリン酸カルシウム 0.05 安定剤（表−１参照） 0.2 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成し、この
シートについて高圧水銀ランプを用いて耐光性試験を行
った。また、80℃の熱水に24時間浸漬後のシートについ
ても耐光性試験を行った。その結果を下記表−１に示
す。

実施例２ 通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解等により
その効果が著しく失われることが知られている。

本実施例では押し出し加工を繰り返し行うことにより高
温加工による影響を確かめた。

次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分間混合し
た後、押し出し機でコンパンドを作成した（シリンダー
温度230℃、240℃、ヘッドダイス温度250℃、回転数20r
pm）。押し出しを10回繰り返し行った後、このコンパン
ドを用いて試験片を射出成形機で作成した（シリンダー
温度240℃、ノズル温度250℃、射出圧475kg/cm²）。

得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光性試験を
行った。また、押し出し１回及び５回のものについても
同様に試験した。その結果を下記表−２に示す。

〈配合〉 エチレン−プロピレン共重合樹脂 100重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−3,5−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキ
シフェニルプロピオネート 0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−２参照） 0.2 実施例３ 〈配合〉 ポリエチレン 100重量部 Ca−ステアレート 1.0 テトラキス〔メチレン−３−（3,5−ジ−第３ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン 0.1
ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−３参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いてウベザオメーター中で耐光
性を測定し、脆化するまでの時間を測定した。その結果
を下記表−３に示す。

実施例４ 〈配合〉 ポリ塩化ビニル 100重量部 ジオクチルフタレート 48 エポキシ化大豆油 ２ トリスノニルフェニルホスファイト 0.2 Ca−ステアレート 1.0 Zn−ステアレート 0.1 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物をロール上で混練し、厚さ1mmのシートを作
成した。このシートを用いてウエザオメーター中での耐
光性試験を行った。その結果を下記表−４に示す。

実施例５ 〈配合〉 ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100） 100重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 2,6−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール 0.1 安定剤（表−５参照） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、120℃で
５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作成した。この
シートを用いてフェードメーターにて50時間及び100時
間照射後の伸び残率を測定した。その結果を下記表−５
に示す。

実施例６ 本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有用であ
る。本実施例においては金属顔料を含有するベースコー
ト及び透明なトップコートからなる二重金属光沢塗料に
ついてその効果をみた。

ａ）ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100g、アクリル酸ｎ−ブチル66g、
メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル30g、メタクリル
酸4g、キシレン80g及びｎ−ブタノール20gをとり、110
℃に加熱攪拌しながらアソビスイソブチロニトリル2g、
ドデシルメルカプタン0.5g、キシレン80g及びｎ−ブタ
ノール20gからなる溶液を３時間で滴下した。その後同
温度で２時間攪拌し、樹脂固形分50％のアクリル樹脂溶
液を調製した。

上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン（三井東圧社製；ユーバン20SE60;樹脂固形分6
0％）2.5重量部、セルロースアセテートブチレート樹脂
（20％酢酸ブチル溶液）50重量部、アルミニウム顔料
（東洋アルミニウム社製；アルペース1123N）5.5重量
部、キシレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フタ
ロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート塗料と
した。

ｂ）トップコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メチロール
メラミン10重量部、キシレン10重量部、ブチルグリコー
ルアセテート４重量部及び安定剤（表−６参照）0.12重
量部（固形分に対し0.4％）をとり、トップコート塗料
とした。

プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を乾燥膜厚
が20μになるようにスプレーし、10分間放置後トップコ
ート塗料を乾燥膜厚が30μになるようにスプレーした。
15分間放置後140℃で30分間焼付し試片とした。

上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレの発生す
るまでの時間を測定した。その結果を下記表−６に示
す。

〔発明の効果〕 本発明の高分子材料用安定剤は、優れた安定化能を有
し、また安定化される高分子材料との相容性に優れる等
の効果を併有する。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次の式（Ｉ）及び式（II）で表される繰り
   返し単位を有し、これらと重合可能な二重結合を少なく
   とも一つ有するコモノマーを含有し得る、分子量800〜1
   00,000のコポリマー化合物からなる高分子材料用安定
   剤。 （式中、Ｒは を示し、R₁は水素原子、アルキル基、オキシル（−Ｏ
   ・）又はアシル基を示し、R₂は低級アルキル基を示
   す。）