JPH0518355B2 - - Google Patents
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- JPH0518355B2 JPH0518355B2 JP60191279A JP19127985A JPH0518355B2 JP H0518355 B2 JPH0518355 B2 JP H0518355B2 JP 60191279 A JP60191279 A JP 60191279A JP 19127985 A JP19127985 A JP 19127985A JP H0518355 B2 JPH0518355 B2 JP H0518355B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/02—Polyamines
- C08G73/0273—Polyamines containing heterocyclic moieties in the main chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/0622—Polycondensates containing six-membered rings, not condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C08G73/0638—Polycondensates containing six-membered rings, not condensed with other rings, with nitrogen atoms as the only ring hetero atoms with at least three nitrogen atoms in the ring
- C08G73/0644—Poly(1,3,5)triazines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特に耐光性の改善された高分子材料
組成物、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル基を有するシアヌレート誘導体を含
有させてなる特に耐光性の改善された高分子材料
組成物に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂は一般に光の効果に対して敏感で
あり、その作用により劣化し、変色或いは機械的
強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えな
いことが知られている。 そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止す
るために、従来種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果がまだ不十分であり、また安定剤自体が熱或い
は酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤に
よつて樹脂から抽出され易いものが多く、さらに
樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持つて
おり、長期にわたつて合成樹脂を安定化すること
ができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピ
ペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であ
り、近年特に注目されている。 しかしながら、従来知られているピペリジン系
の化合物は光安定化能が不十分であり、また、水
によつて樹脂から容易に抽出されてしまうという
欠点もあつた。 また、これらのピペリジン系の化合物は化合物
自体の耐熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で
加工する際などに、分解或いは揮散し、その効果
を失う場合も多かつた。 これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジ
ン環を含有する化合物は比較的化合物自体の耐熱
性が良好であり、また、原料として安価な塩化シ
アヌルを用いることができ、反応も容易である等
の利点を有している。 トリアジン環を含有するピペリジン化合物とし
ては特開昭49−21389号、特開昭52−71486号、特
開昭52−73886号、特開昭53−9782号、特開昭53
−67749号、特開昭54−106483号、特開昭54−
126249号、特開昭55−98180号、特開昭55−
102637号、特開昭55−104279号、特開昭56−4639
号、特開昭56−30974号及び特開昭59−126439号
の各公報に種々の化合物が提案されている。 これら公報記載の化合物において、特開昭52−
71486号公報に記載された化合物に代表される、
ジアミン又はグリコールで２個以上のトリアジン
環を縮合させた化合物が耐熱性、耐抽出性等が比
較的優れている。 しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱
性、耐抽出性及び光安定化能は未だ満足し得るも
のではなく、さらに優れた光安定剤の開発が要望
されていた。 また、特開昭59−126439号公報には、スピロジ
アセタール環を有するジアミンを結合手とした、
ピペリジン置換基を有するトリアジン化合物が記
載されているが、該化合物でもその耐熱性は不充
分であり、高分子物質を長期に渡つて安定化する
ことはできなかつた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を
重ねた結果、スピロジアセタール構造を有するピ
ペリジルジアミン化合物を結合手として用いた下
記一般式（）で表されるオリゴマー化合物が耐
熱性、耐抽出性及び光安定化能に著しく優れ、高
分子材料用の光安定剤として極めて有用であるこ
とを知見した。 一般式（） 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル
基を示す。R1及びR2は各々水素原子又はアルキ
ル基を示し、またR1とR2は互いに結合してオキ
サジアルキレン基を示してもよい。ｎは２〜15を
示す。〕 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、
高分子材料100重量部に、上記一般式（）で表
される化合物0.001〜５重量部を添加してなる、
安定化された高分子材料組成物を提供するもので
ある。 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述
する。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物において、Ｒで表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デ
シル、ドデシル、オクタデシル、ベンジル、フエ
ニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、２−ヒドロキシブチル、２，３−
エポキシプロピル等があげられ、アシル基として
は、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイ
ル、アクリロイル、メタクリロイル、オクタノイ
ル、ベンゾイル等があげられる。 R1及びR2で表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、ヘキシ
ル、シクロヘキシル、オクチル、イソオクチル、
２−エチルヘキシル、第３オクチル、デシル、ド
デシル、テトラデシル、オクタデシル、２−ヒド
ロキシエチル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、ジメチルアミノプロピル等があげられる。 また、R1及びR2が互いに結合して表すオキサ
ジアルキレン基としては、オキサジエチレン等が
あげられる。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物の代表例を次の表−１に示す。尚、表
中、
組成物、詳しくは、２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジル基を有するシアヌレート誘導体を含
有させてなる特に耐光性の改善された高分子材料
組成物に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル等の合成樹脂は一般に光の効果に対して敏感で
あり、その作用により劣化し、変色或いは機械的
強度の低下等を引き起こし、長期の使用に耐えな
いことが知られている。 そこで、この光による合成樹脂の劣化を防止す
るために、従来種々の安定剤が用いられてきた
が、従来用いられてきた光安定剤はその安定化効
果がまだ不十分であり、また安定剤自体が熱或い
は酸化に対して不安定であつたり、水等の溶剤に
よつて樹脂から抽出され易いものが多く、さらに
樹脂に着色を与えるものが多い等の欠点を持つて
おり、長期にわたつて合成樹脂を安定化すること
ができなかつた。 これら従来用いられてきた光安定剤の中でもピ
ペリジン系の化合物はそれ自体が非着色性であ
り、近年特に注目されている。 しかしながら、従来知られているピペリジン系
の化合物は光安定化能が不十分であり、また、水
によつて樹脂から容易に抽出されてしまうという
欠点もあつた。 また、これらのピペリジン系の化合物は化合物
自体の耐熱性が不十分であり、合成樹脂を高温で
加工する際などに、分解或いは揮散し、その効果
を失う場合も多かつた。 これらのピペリジン系化合物のうち、トリアジ
ン環を含有する化合物は比較的化合物自体の耐熱
性が良好であり、また、原料として安価な塩化シ
アヌルを用いることができ、反応も容易である等
の利点を有している。 トリアジン環を含有するピペリジン化合物とし
ては特開昭49−21389号、特開昭52−71486号、特
開昭52−73886号、特開昭53−9782号、特開昭53
−67749号、特開昭54−106483号、特開昭54−
126249号、特開昭55−98180号、特開昭55−
102637号、特開昭55−104279号、特開昭56−4639
号、特開昭56−30974号及び特開昭59−126439号
の各公報に種々の化合物が提案されている。 これら公報記載の化合物において、特開昭52−
71486号公報に記載された化合物に代表される、
ジアミン又はグリコールで２個以上のトリアジン
環を縮合させた化合物が耐熱性、耐抽出性等が比
較的優れている。 しかしながら、これらの化合物でも、その耐熱
性、耐抽出性及び光安定化能は未だ満足し得るも
のではなく、さらに優れた光安定剤の開発が要望
されていた。 また、特開昭59−126439号公報には、スピロジ
アセタール環を有するジアミンを結合手とした、
ピペリジン置換基を有するトリアジン化合物が記
載されているが、該化合物でもその耐熱性は不充
分であり、高分子物質を長期に渡つて安定化する
ことはできなかつた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者等は、かかる現状に鑑み、鋭意検討を
重ねた結果、スピロジアセタール構造を有するピ
ペリジルジアミン化合物を結合手として用いた下
記一般式（）で表されるオリゴマー化合物が耐
熱性、耐抽出性及び光安定化能に著しく優れ、高
分子材料用の光安定剤として極めて有用であるこ
とを知見した。 一般式（） 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル
基を示す。R1及びR2は各々水素原子又はアルキ
ル基を示し、またR1とR2は互いに結合してオキ
サジアルキレン基を示してもよい。ｎは２〜15を
示す。〕 本発明は、上記知見に基づきなされたもので、
高分子材料100重量部に、上記一般式（）で表
される化合物0.001〜５重量部を添加してなる、
安定化された高分子材料組成物を提供するもので
ある。 以下、本発明の高分子材料組成物について詳述
する。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物において、Ｒで表されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチ
ル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デ
シル、ドデシル、オクタデシル、ベンジル、フエ
ニルエチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロ
キシプロピル、２−ヒドロキシブチル、２，３−
エポキシプロピル等があげられ、アシル基として
は、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチロイ
ル、アクリロイル、メタクリロイル、オクタノイ
ル、ベンゾイル等があげられる。 R1及びR2で表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第２ブチル、ヘキシ
ル、シクロヘキシル、オクチル、イソオクチル、
２−エチルヘキシル、第３オクチル、デシル、ド
デシル、テトラデシル、オクタデシル、２−ヒド
ロキシエチル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、ジメチルアミノプロピル等があげられる。 また、R1及びR2が互いに結合して表すオキサ
ジアルキレン基としては、オキサジエチレン等が
あげられる。 本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物の代表例を次の表−１に示す。尚、表
中、
【式】は
【式】を示し、−
ATU−は
【式】を
示す。
本発明で用いられる前記一般式（）で表され
る化合物は、例えば、塩化シアヌルと で表される化合物を反応させた後、
る化合物は、例えば、塩化シアヌルと で表される化合物を反応させた後、
【式】で
表されるアミンを反応させ、その後必要に応じ
て、アルキル化、アシル化等することによつて容
易に製造し得る。 以下に、本発明で用いられる前記一般式（）
で表される化合物の合成例を示し、本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明は以下の合成例によ
つて制限を受けるものではない。 合成例１ （表−１のNo.１化合物の合成） 塩化シアヌル3.69ｇ（0.02モル）及びトルエン
100mlをとり、これに、３，９−ビス〔３−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ア
ミノ〕プロピル−２，４，８，10−テトラオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン14.68ｇ（0.027モル）を
室温下にゆつくりと加えた。室温下に１時間撹拌
後、粉末状の水酸化ナトリウム1.76ｇ（0.044モ
ル）を加え窒素気流下生成水を除去しながら80℃
で６時間撹拌した。 次いで、冷却後、モルホリン2.61ｇ（0.03モ
ル）及び水酸化ナトリウム0.88ｇ（0.022モル）
を加え、窒素気流下生成水を除去しながら110℃
で20時間撹拌した。 次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、
キヨーワード700（協和化学製吸着剤）で処理し
た。吸着剤を濾別後、減圧下に溶媒を溜去し、軟
化点155〜160℃の白色ガラス状固体の生成物を得
た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果、平均分子量約3000であつた。 合成例２ （表−１のNo.３化合物の合成） 塩化シアヌル3.69ｇ（0.02モル）及びトルエン
100mlをとり、これに、３，９−ビス〔３−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ア
ミノ〕プロピル−２，４，８，10−テトラオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン12.14ｇ（0.022モル）を
室温下にゆつくりと加えた。室温下に１時間撹拌
後、粉末状の水酸化ナトリウム1.76ｇ（0.044モ
ル）を加え窒素気流下生成水を除去しながら80℃
で６時間撹拌した。 次いで、冷却後、ジブチルアミン3.87ｇ（0.03
モル）及び水酸化ナトリウム0.8ｇ（0.02モル）
を加え、窒素気流下生成水を除去しながら110℃
で20時間撹拌した。 次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、
キヨーワード700（協和化学製吸着剤）で処理し
た。吸着剤を濾別後、減圧下に溶媒を溜去し、軟
化点155〜160℃の白色ガラス状固体の生成物を得
た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果、平均分子量約8000であつた。 本発明は、前記一般式（）で表される化合物
を高分子材料に添加して特にその耐光性を改善す
るものであり、その添加量は、通常、高分子材料
100重量部に対し0.001〜５重量部、好ましくは
0.01〜３重量部である。 本発明における安定性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン等
のα−オレフイン重合体又はエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等の
ポリオレフイン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニルデン、臭素
化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、
塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−
スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共
重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重
合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩
素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−
アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレ
イン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリ
ル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニ
トリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の
含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレンと他の単量体（例えば無水マレイン酸、
ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレー
ト等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、直鎖ポリエステル、ポリフエニレンオキシ
ド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタ
ール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフエ
ノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂等をあげることができる。更に、イソプレンゴ
ム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であつ
てもよい。また、過酸化物或いは放射線等によつ
て架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及
び発泡剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等
の発泡重合体も包含される。 本発明の組成物に更にフエノール系の抗酸化剤
を添加することによつてその酸化安定性を一層改
善することができる。このフエノール系抗酸化剤
としては、例えば、２，６−ジ−第３ブチル−ｐ
−クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オクト
キシフエノール、ステアリル−（３，５−ジ−メ
チル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレー
ト、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジ
ステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、２，４，６−トリ
ス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルチオ）１，３，５−トリアジン、ジステア
リル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブ
チル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレンビ
ス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアジン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフエノ
ール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブ
チル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10等）等の多価フエノール炭酸オリゴエ
ステル類があげられる。 本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加え
てその酸化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−、ジミリスチル−、ジステアリル−等のジア
ルキルチオジプロピオネート及びブチル−、オク
チル−、ラウリル−、ステアリル−等のアルキル
チオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリ
セリン、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロ
キシエチルイソシアヌレート）のエステル（例え
ばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。 本発明の組成物に更にホスフアイト等の含リン
化合物を添加することによつてその耐光性及び耐
熱性を一層改善することができる。この含リン化
合物としては、例えば、トリオクチルホスフアイ
ト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホス
フアイト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、
トリス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）ホス
フアイト、トリフエニルホスフアイト、トリス
（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノニ
ルフエニル）ホスフアイト、ジステアリルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリデ
シル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジ
ホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）−
４，4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフア
イト、テトラ（トリデシル）−４，4′−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化−４，4′−イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・１，６−
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスフアイト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル
−４−メチルフエニル）ペンタエリスリトールジ
ホスフアイト、トリス〔４，4′−イソプロピリデ
ンビス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフア
イト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオ
キシイソプロピル）ホスフアイト、４，4′−イソ
プロピリデンビス（２−第３ブチルフエノー
ル）・ジ（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，
10−ジ−ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフア
フエナンスレン−10−オキサイド、テトラキス
（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）−４，4′−ビ
フエニレンジホスホナイト等があげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性を更に改善することができ
る。この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２，
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′5′−ジ−ｔ−アミルフエ
ニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾー
ル類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフ
エニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
エニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベン
ゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−オクチ
ルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス（４−
ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチルアミン
Ni、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルNi塩
等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−メチル
−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリル類メチ
ル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エチ
ルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第３ブチ
ルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフ
エニル−N′−２−エトキシフエニルシユウ酸ジ
アミド等のシユウ酸ジアニリド類があげられる。 その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。 本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えば、フイルム、繊維、テー
プ、シート、各種成型品として使用でき、また、
塗料、ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真
材料における基材としても用いることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ＜配合＞ ポリプロピレン 100 重量部 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４
−ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.2 安定剤（表−２参照） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、このシートについて高圧水銀ランプを用いて
耐光性試験を行つた。また、80℃の熱水に24時間
浸漬後のシートについても耐光性試験を行つた。
その結果を表−２に示す。
て、アルキル化、アシル化等することによつて容
易に製造し得る。 以下に、本発明で用いられる前記一般式（）
で表される化合物の合成例を示し、本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明は以下の合成例によ
つて制限を受けるものではない。 合成例１ （表−１のNo.１化合物の合成） 塩化シアヌル3.69ｇ（0.02モル）及びトルエン
100mlをとり、これに、３，９−ビス〔３−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ア
ミノ〕プロピル−２，４，８，10−テトラオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン14.68ｇ（0.027モル）を
室温下にゆつくりと加えた。室温下に１時間撹拌
後、粉末状の水酸化ナトリウム1.76ｇ（0.044モ
ル）を加え窒素気流下生成水を除去しながら80℃
で６時間撹拌した。 次いで、冷却後、モルホリン2.61ｇ（0.03モ
ル）及び水酸化ナトリウム0.88ｇ（0.022モル）
を加え、窒素気流下生成水を除去しながら110℃
で20時間撹拌した。 次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、
キヨーワード700（協和化学製吸着剤）で処理し
た。吸着剤を濾別後、減圧下に溶媒を溜去し、軟
化点155〜160℃の白色ガラス状固体の生成物を得
た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果、平均分子量約3000であつた。 合成例２ （表−１のNo.３化合物の合成） 塩化シアヌル3.69ｇ（0.02モル）及びトルエン
100mlをとり、これに、３，９−ビス〔３−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ア
ミノ〕プロピル−２，４，８，10−テトラオキサ
スピロ〔5.5〕ウンデカン12.14ｇ（0.022モル）を
室温下にゆつくりと加えた。室温下に１時間撹拌
後、粉末状の水酸化ナトリウム1.76ｇ（0.044モ
ル）を加え窒素気流下生成水を除去しながら80℃
で６時間撹拌した。 次いで、冷却後、ジブチルアミン3.87ｇ（0.03
モル）及び水酸化ナトリウム0.8ｇ（0.02モル）
を加え、窒素気流下生成水を除去しながら110℃
で20時間撹拌した。 次いで、冷却後、不溶物を濾別後水洗乾燥し、
キヨーワード700（協和化学製吸着剤）で処理し
た。吸着剤を濾別後、減圧下に溶媒を溜去し、軟
化点155〜160℃の白色ガラス状固体の生成物を得
た。 この生成物は、高速液体クロマトグラフイーに
よる分析の結果、平均分子量約8000であつた。 本発明は、前記一般式（）で表される化合物
を高分子材料に添加して特にその耐光性を改善す
るものであり、その添加量は、通常、高分子材料
100重量部に対し0.001〜５重量部、好ましくは
0.01〜３重量部である。 本発明における安定性改善の対象となる高分子
材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリブテン、ポリ−３−メチルブテン等
のα−オレフイン重合体又はエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等の
ポリオレフイン及びこれらの共重合体、ポリ塩化
ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフツ化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン、ポリフツソ化ビニルデン、臭素
化ポリエチレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、
塩化ビニル−プロピレン共重合体、塩化ビニル−
スチレン共重合体、塩化ビニル−イソブチレン共
重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−スチレン−無水マレイン酸三元共重
合体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル
共重合体、塩化ビニル−ブタジエン共重合体、塩
化ビニル−イソプレン共重合体、塩化ビニル−塩
素化プロピレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−
アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレ
イン酸エステル共重合体、塩化ビニル−メタクリ
ル酸エステル共重合体、塩化ビニル−アクリロニ
トリル共重合体、内部可塑化ポリ塩化ビニル等の
含ハロゲン合成樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、
ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、
スチレンと他の単量体（例えば無水マレイン酸、
ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共
重合体、アクリル酸エステル−ブタジエン−スチ
レン共重合体、メタクリル酸エステル−ブタジエ
ン−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレー
ト等のメタクリレート樹脂、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、直鎖ポリエステル、ポリフエニレンオキシ
ド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリアセタ
ール、ポリウレタン、繊維素系樹脂、或いはフエ
ノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキ
シ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹
脂等をあげることができる。更に、イソプレンゴ
ム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴ
ム等のゴム類やこれらの樹脂のブレンド品であつ
てもよい。また、過酸化物或いは放射線等によつ
て架橋させた架橋ポリエチレン等の架橋重合体及
び発泡剤によつて発泡させた発泡ポリスチレン等
の発泡重合体も包含される。 本発明の組成物に更にフエノール系の抗酸化剤
を添加することによつてその酸化安定性を一層改
善することができる。このフエノール系抗酸化剤
としては、例えば、２，６−ジ−第３ブチル−ｐ
−クレゾール、２，６−ジフエニル−４−オクト
キシフエノール、ステアリル−（３，５−ジ−メ
チル−４−ヒドロキシベンジル）チオグリコレー
ト、ステアリル−β−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジ−第３ブチルフエニル）プロピオネート、ジ
ステアリル−３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒド
ロキシベンジルホスホネート、２，４，６−トリ
ス（3′，5′−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルチオ）１，３，５−トリアジン、ジステア
リル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−第３ブ
チル）ベンジルマロネート、２，2′−メチレンビ
ス（４−メチル−６−第３ブチルフエノール）、
４，4′−メチレンビス（２，６−ジ−第３ブチル
フエノール）、２，2′−メチレンビス〔６−（１−
メチルシクロヘキシル）ｐ−クレゾール〕、ビス
〔３，５−ビス（４−ヒドロキシ−３−第３ブチ
ルフエニル）ブチリツクアシド〕グリコールエス
テル、４，4′−ブチリデンビス（６−第３ブチル
−ｍ−クレゾール）、２，2′−エチリデンビス
（４，６−ジ−第３ブチルフエノール）、２，2′−
エチリデンビス（４−第２ブチル−６−第３ブチ
ルフエノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第３ブチルフエニル）
ブタン、ビス〔２−第３ブチル−４−メチル−６
−（２−ヒドロキシ−３−第３ブチル−５−メチ
ルベンジル）フエニル〕テレフタレート、１，
３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロ
キシ−４−第３ブチル）ベンジルイソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第３ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−ト
リメチルベンゼン、テトラキス〔メチレン−３−
（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシフエ
ニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリ
ス〔（３，５−ジ−第３ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシア
ヌレート、２−オクチルチオ−４，６−ジ（４−
ヒドロキシ−３，５−ジ−第３ブチル）フエノキ
シ−１，３，５−トリアジン、４，4′−チオビス
（６−第３ブチル−ｍ−クレゾール）等のフエノ
ール類及び４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブ
チル−５−メチルフエノール）の炭酸オリゴエス
テル（例えば重合度２，３，４，５，６，７，
８，９，10等）等の多価フエノール炭酸オリゴエ
ステル類があげられる。 本発明の組成物に更に硫黄系の抗酸化剤を加え
てその酸化安定性の改善をはかることもできる。
この硫黄系抗酸化剤としては、例えば、ジラウリ
ル−、ジミリスチル−、ジステアリル−等のジア
ルキルチオジプロピオネート及びブチル−、オク
チル−、ラウリル−、ステアリル−等のアルキル
チオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグリ
セリン、トリメチロールエタン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロ
キシエチルイソシアヌレート）のエステル（例え
ばペンタエリスリトールテトララウリルチオプロ
ピオネート）があげられる。 本発明の組成物に更にホスフアイト等の含リン
化合物を添加することによつてその耐光性及び耐
熱性を一層改善することができる。この含リン化
合物としては、例えば、トリオクチルホスフアイ
ト、トリラウリルホスフアイト、トリデシルホス
フアイト、オクチル−ジフエニルホスフアイト、
トリス（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）ホス
フアイト、トリフエニルホスフアイト、トリス
（ブトキシエチル）ホスフアイト、トリス（ノニ
ルフエニル）ホスフアイト、ジステアリルペンタ
エリスリトールジホスフアイト、テトラ（トリデ
シル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−
第３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジ
ホスフアイト、テトラ（C12〜15混合アルキル）−
４，4′−イソプロピリデンジフエニルジホスフア
イト、テトラ（トリデシル）−４，4′−ブチリデ
ンビス（３−メチル−６−第３ブチルフエノー
ル）ジホスフアイト、トリス（３，５−ジ−第３
ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ホスフアイ
ト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフエニル）ホス
フアイト、水素化−４，4′−イソプロピリデンジ
フエノールポリホスフアイト、ビス（オクチルフ
エニル）・ビス〔４，4′−ブチリデンビス（３−
メチル−６−第３ブチルフエノール）〕・１，６−
ヘキサンジオールジホスフアイト、フエニル・
４，4′−イソプロピリデンジフエノール・ペンタ
エリスリトールジホスフアイト、ビス（２，４−
ジ−第３ブチルフエニル）ペンタエリスリトール
ジホスフアイト、ビス（２，６−ジ−第３ブチル
−４−メチルフエニル）ペンタエリスリトールジ
ホスフアイト、トリス〔４，4′−イソプロピリデ
ンビス（２−第３ブチルフエノール）〕ホスフア
イト、フエニル・ジイソデシルホスフアイト、ジ
（ノニルフエニル）ペンタエリスリトールジホス
フアイト、トリス（１，３−ジ−ステアロイルオ
キシイソプロピル）ホスフアイト、４，4′−イソ
プロピリデンビス（２−第３ブチルフエノー
ル）・ジ（ノニルフエニル）ホスフアイト、９，
10−ジ−ハイドロ−９−オキサ−10−フオスフア
フエナンスレン−10−オキサイド、テトラキス
（２，４−ジ−第３ブチルフエニル）−４，4′−ビ
フエニレンジホスホナイト等があげられる。 本発明の組成物に他の光安定剤を添加すること
によつてその耐光性を更に改善することができ
る。この光安定剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフエノン、２−ヒドロ
キシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフエノン、２，
2′−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフエノ
ン、２，４−ジヒドロキシベンゾフエノン等のヒ
ドロキシベンゾフエノン類、２−（2′−ヒドロキ
シ−3′−ｔ−ブチル−5′−メチルフエニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロ
キシ−3′，5′−ジ−ｔ−ブチルフエニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（2′−ヒドロキ
シ−5′−メチルフエニル）ベンゾトリアゾール、
２−（2′−ヒドロキシ−3′5′−ジ−ｔ−アミルフエ
ニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾー
ル類、フエニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフ
エニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
エニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベン
ゾエート類、２，2′−チオビス（４−ｔ−オクチ
ルフエノール）Ni塩、〔２，2′−チオビス（４−
ｔ−オクチルフエノラート）〕−ｎ−ブチルアミン
Ni、（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ホスホン酸モノエチルエステルNi塩
等のニツケル化合物類、α−シアノ−β−メチル
−β−（ｐ−メトキシフエニル）アクリル類メチ
ル等の置換アクリロニトリル類及びＮ−２−エチ
ルフエニル−N′−２−エトキシ−５−第３ブチ
ルフエニルシユウ酸ジアミド、Ｎ−２−エチルフ
エニル−N′−２−エトキシフエニルシユウ酸ジ
アミド等のシユウ酸ジアニリド類があげられる。 その他必要に応じて、本発明の組成物には重金
属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合
物、可塑剤、エポキシ化合物、顔料、充填剤、発
泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を
包含させることができる。 本発明によつて安定化された高分子材料は極め
て多様な形で、例えば、フイルム、繊維、テー
プ、シート、各種成型品として使用でき、また、
塗料、ラツカー用結合剤、接着剤、パテ及び写真
材料における基材としても用いることができる。 次に本発明を実施例によつて具体的に説明す
る。しかしながら、本発明はこれらの実施例によ
つて限定されるものではない。 実施例 １ ＜配合＞ ポリプロピレン 100 重量部 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４
−ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.2 安定剤（表−２参照） 0.3 上記配合にて厚さ0.3mmのプレスシートを作成
し、このシートについて高圧水銀ランプを用いて
耐光性試験を行つた。また、80℃の熱水に24時間
浸漬後のシートについても耐光性試験を行つた。
その結果を表−２に示す。
【表】
【表】
実施例 ２
通常の安定剤は樹脂の高温加工時に揮発、分解
等によりその効果が著しく失われることが知られ
ている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行うこと
により高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパンドを作成し
た（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダイス
温度250℃、回転数20rpm）。押し出しを10回繰り
返し行つた後このコンパンドを用いて試験片を射
出成形機で作成した（シリンダー温度240℃、ノ
ズル温度250℃、射出圧475Kg／cm2）。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し１回及び５回の
ものについても同様に試験した。その結果を表−
３に示す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４
−ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３参照） 0.2
等によりその効果が著しく失われることが知られ
ている。 本実施例では押し出し加工を繰り返し行うこと
により高温加工による影響を確かめた。 次の配合により樹脂と添加剤をミキサーで５分
間混合した後、押し出し機でコンパンドを作成し
た（シリンダー温度230℃、240℃、ヘツドダイス
温度250℃、回転数20rpm）。押し出しを10回繰り
返し行つた後このコンパンドを用いて試験片を射
出成形機で作成した（シリンダー温度240℃、ノ
ズル温度250℃、射出圧475Kg／cm2）。 得られた試験片を用いて高圧水銀ランプで耐光
性試験を行つた。また、押し出し１回及び５回の
ものについても同様に試験した。その結果を表−
３に示す。 ＜配合＞ エチレン−プロピレン共重合樹脂 100 重量部 ステアリン酸カルシウム 0.2 ステアリル−β−３，５−ジ−第３ブチル−４
−ヒドロキシフエニルプロピオネート
0.1 ジラウリルチオジプロピオネート 0.2 安定剤（表−３参照） 0.2
【表】
実施例 ３
＜配合＞
ポリエチレン 100 重量部
Ca−ステアレート 1.0
テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ−第
３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−４に示す。
３ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオ
ネート〕メタン 0.1 ジステアリルチオジプロピオネート 0.3 安定剤（表−４参照） 0.2 上記配合物を混練後プレスして厚さ0.5mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中で耐光性を測定し、脆化するまでの時間
を測定した。その結果を表−４に示す。
【表】
【表】
実施例 ４
＜配合＞
ABS樹脂 100 重量部
４，4′−ブチリデンビス（２−第３ブチル−ｍ
−クレゾール） 0.1 安定剤（表−５参照） 0.2 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いてウエザ
オメーターで800時間照射後の抗張力残率を測定
した。その結果を表−５に示す。
−クレゾール） 0.1 安定剤（表−５参照） 0.2 上記配合物をロール練り後プレスして厚さ３mm
のシートを作成した。このシートを用いてウエザ
オメーターで800時間照射後の抗張力残率を測定
した。その結果を表−５に示す。
【表】
実施例 ５
＜配合＞
ポリ塩化ビニル 100重量部
ジオクチルフタレート 48
エポキシ化大豆油 ２
トリスノニルフエニルホスフアイト 0.2
Ca−ステアレート 1.0
Zn−ステアレート 0.1
安定剤（表−６参照） 0.2
上記配合物をロール上で混練し、厚さ１mmのシ
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中での耐光性試験を行つた。その結果を表
−６に示す。
ートを作成した。このシートを用いてウエザオメ
ーター中での耐光性試験を行つた。その結果を表
−６に示す。
【表】
実施例 ６
＜配合＞
ポリウレタン樹脂（旭電化製Ｕ−100）
100 重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 安定剤（表−７参照） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いてフエードメーターに
て50時間及び100時間照射後の伸び残率を測定し
た。その結果を表−７に示す。
100 重量部 Ba−ステアレート 0.7 Zn−ステアレート 0.3 ２，６−ジ−第３ブチル−ｐ−クレゾール
0.1 安定剤（表−７参照） 0.3 上記配合物を70℃で５分間ロール上で混練し、
120℃で５分間プレスして厚さ0.5mmのシートを作
成した。このシートを用いてフエードメーターに
て50時間及び100時間照射後の伸び残率を測定し
た。その結果を表−７に示す。
【表】
【表】
実施例 ７
本発明の化合物は塗料用の光安定剤としても有
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 ａ ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−ブ
チル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル
30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−
ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱撹拌しなが
らアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメ
ルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−ブタノ
ール20ｇからなる溶液を３時間で滴下した。その
後同温度で２時間撹拌し、樹脂固形分50％のアク
リル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固形分60％）2.5重量部、セルロー
スアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチル溶
液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋アルミニ
ウム社製；アルペースト1123N）5.5重量部、キ
シレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フタ
ロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート
塗料とした。 ｂ トツプコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン10重量部、キシレン10重量部、
ブチルグリコールアセテート４重量部及び安定剤
（表−８参照）0.12重量部（固形分に対し0.4％）
をとり、トツプコート塗料とした。 プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を
乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10分間
放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μになる
ようにスプレーした。15分間放置後140℃で30分
間焼付し試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレ
の発生するまでの時間を測定した。その結果を表
−８に示す。
用である。本実施例においては金属顔料を含有す
るベースコート及び透明なトツプコートからなる
二層金属光沢塗料についてその効果をみた。 ａ ベースコート塗料 メタクリル酸メチル100ｇ、アクリル酸ｎ−ブ
チル66ｇ、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル
30ｇ、メタクリル酸４ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−
ブタノール20ｇをとり、110℃に加熱撹拌しなが
らアゾビスイソブチロニトリル２ｇ、ドデシルメ
ルカプタン0.5ｇ、キシレン80ｇ及びｎ−ブタノ
ール20ｇからなる溶液を３時間で滴下した。その
後同温度で２時間撹拌し、樹脂固形分50％のアク
リル樹脂溶液を調製した。 上記アクリル樹脂溶液12重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン（三井東圧社製；ユーバン
20SE60；樹脂固形分60％）2.5重量部、セルロー
スアセテートブチレート樹脂（20％酢酸ブチル溶
液）50重量部、アルミニウム顔料（東洋アルミニ
ウム社製；アルペースト1123N）5.5重量部、キ
シレン10重量部、酢酸ブチル20重量部及び銅フタ
ロシアニンブルー0.2重量部をとりベースコート
塗料とした。 ｂ トツプコート塗料 上記アクリル樹脂溶液48重量部、ブトキシ化メ
チロールメラミン10重量部、キシレン10重量部、
ブチルグリコールアセテート４重量部及び安定剤
（表−８参照）0.12重量部（固形分に対し0.4％）
をとり、トツプコート塗料とした。 プライマー処理した鋼板にベースコート塗料を
乾燥膜厚が20μになるようにスプレーし、10分間
放置後トツプコート塗料を乾燥膜厚が30μになる
ようにスプレーした。15分間放置後140℃で30分
間焼付し試片とした。 上記試片をウエザオメーターに入れ塗膜のワレ
の発生するまでの時間を測定した。その結果を表
−８に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高分子材料100重量部に、次の一般式（）
で表される化合物0.001〜５重量部を添加してな
る、安定化された高分子材料組成物。 一般式（） 〔式中、Ｒは水素原子、アルキル基又はアシル
基を示す。R1及びR2は各々水素原子又はアルキ
ル基を示し、またR1とR2は互いに結合してオキ
サジアルキレン基を示してもよい。ｎは２〜15を
示す。〕
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60191279A JPS6250342A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 安定化された高分子材料組成物 |
| EP86111999A EP0217149B1 (en) | 1985-08-30 | 1986-08-29 | Poly(2,2,6,6-tetramethylpiperidylaminospiroglycolether-1,3,5-triazines) |
| US06/902,380 US4743688A (en) | 1985-08-30 | 1986-09-02 | Poly-2,2,6,6-tetramethyl piperidyl amino spiro glycol ether-1,3,5-triazines |
| US07/138,750 US4885323A (en) | 1985-08-30 | 1987-12-28 | Poly-2,2,6,6-tetramethyl piperidyl amino spiro glycol ether-1,3,5-triazines |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60191279A JPS6250342A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 安定化された高分子材料組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6250342A JPS6250342A (ja) | 1987-03-05 |
| JPH0518355B2 true JPH0518355B2 (ja) | 1993-03-11 |
Family
ID=16271911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60191279A Granted JPS6250342A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | 安定化された高分子材料組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4743688A (ja) |
| EP (1) | EP0217149B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6250342A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4799548A (en) * | 1987-01-23 | 1989-01-24 | Phillips Petroleum Company | Gelable compositions and use thereof in steam treatment of wells |
| IT1254689B (it) * | 1992-04-14 | 1995-09-28 | Cooligomeri piperidin-triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici. | |
| IT1263892B (it) * | 1993-02-11 | 1996-09-05 | Graziano Vignali | Composti piperidin-triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
| US6046304A (en) * | 1995-12-04 | 2000-04-04 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Block oligomers containing 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials |
| EP0782994B1 (en) * | 1995-12-04 | 2003-02-05 | Ciba SC Holding AG | Block oligomers containing 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl groups as stabilizers for organic materials |
| DE69719004T2 (de) | 1996-12-24 | 2003-07-24 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc., Basel | Triazinverbindungen die 2,2,6,6-Tetramethyl-4-piperidingruppen enthalten als Stabilisatoren für organische Materialen |
| IT1292040B1 (it) * | 1997-05-30 | 1999-01-25 | Ciba Spec Chem Spa | Processo per la preparazione di prodotti politriazinici contenenti gruppi 2,2,6,6-tetrametil-4-piperidile |
| US6269919B1 (en) * | 1998-09-14 | 2001-08-07 | Illinois Tool Works Inc. | Plastic strand damper |
| DE102005056005A1 (de) | 2005-11-24 | 2007-06-06 | Stabilus Gmbh | Verstellelement |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3640928A (en) * | 1968-06-12 | 1972-02-08 | Sankyo Co | Stabilization of synthetic polymers |
| GB1393551A (en) * | 1972-04-21 | 1975-05-07 | Ciba Geigy Ag | Piperidine derivatives |
| SU507037A1 (ru) * | 1975-02-04 | 1977-06-25 | Научно-Исследовательский Институт Онкологии Им.Профессора Ннпетрова Министерства Здравохранения Ссср | Производные 5-(2,4-диэтиленимино)-(симм. триазинил-6) амино-1,3 диоксана, про вл ющие противоопухолевую активность , и способ их получени |
| IT1052501B (it) * | 1975-12-04 | 1981-07-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti politriazinici utilizzabili per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| IT1060458B (it) * | 1975-12-18 | 1982-08-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| US4161592A (en) * | 1976-07-08 | 1979-07-17 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidinyl-s-triazines |
| DE2862264D1 (en) * | 1977-12-30 | 1983-07-07 | Ciba Geigy Ag | New polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines, their use in the stabilisation of plastics and plastics stabilized in this way |
| US4315859A (en) * | 1979-01-15 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | 1,3,5-Triazines containing at least one piperidine radical |
| US4288593A (en) * | 1979-02-06 | 1981-09-08 | Ciba-Geigy Corporation | Polyalkylpiperidine derivatives of s-triazines |
| JPS58194931A (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 合成樹脂組成物 |
| JPS59126439A (ja) * | 1983-01-10 | 1984-07-21 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化高分子材料組成物 |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP60191279A patent/JPS6250342A/ja active Granted
-
1986
- 1986-08-29 EP EP86111999A patent/EP0217149B1/en not_active Expired
- 1986-09-02 US US06/902,380 patent/US4743688A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-12-28 US US07/138,750 patent/US4885323A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4885323A (en) | 1989-12-05 |
| US4743688A (en) | 1988-05-10 |
| EP0217149B1 (en) | 1991-01-30 |
| EP0217149A2 (en) | 1987-04-08 |
| JPS6250342A (ja) | 1987-03-05 |
| EP0217149A3 (en) | 1988-06-08 |
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