JPH0197461A - 殺菌方法 - Google Patents
殺菌方法Info
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- JPH0197461A JPH0197461A JP62254604A JP25460487A JPH0197461A JP H0197461 A JPH0197461 A JP H0197461A JP 62254604 A JP62254604 A JP 62254604A JP 25460487 A JP25460487 A JP 25460487A JP H0197461 A JPH0197461 A JP H0197461A
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- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は気相中に浮遊する菌をオゾンにより接触的に酸
化分解し無菌化する殺菌方法に関する。
化分解し無菌化する殺菌方法に関する。
〈従来技術とその問題点〉
従来から、室内に浮遊する菌を殺菌する方法として、(
1)薬液法、(2)紫外線法、(3)ガス法が上げられ
るが、薬液法においては、薬液の散布により、室内や諸
設備への液滴の付着などの問題があり、又紫外線法にお
いては、紫外線の透過力が弱いので、陰になる箇所の殺
菌ができないという欠点を有する故にガスによる殺菌が
一般的に好ましい。
1)薬液法、(2)紫外線法、(3)ガス法が上げられ
るが、薬液法においては、薬液の散布により、室内や諸
設備への液滴の付着などの問題があり、又紫外線法にお
いては、紫外線の透過力が弱いので、陰になる箇所の殺
菌ができないという欠点を有する故にガスによる殺菌が
一般的に好ましい。
ガスによる殺菌方法では、各種のガスの使用が可能であ
るが、残留性の問題、発ガン性の問題、排気処理設備の
必要性などを考慮すると、オゾンガスを使用するのが最
も好ましい。
るが、残留性の問題、発ガン性の問題、排気処理設備の
必要性などを考慮すると、オゾンガスを使用するのが最
も好ましい。
オゾンが強力な殺菌力を有していることはよく知られて
いるが、気相で殺菌を実施する場合には、長時間オゾン
と菌を接触させることが必要であるという欠点を有する
。
いるが、気相で殺菌を実施する場合には、長時間オゾン
と菌を接触させることが必要であるという欠点を有する
。
〈発明の目的〉
本発明の目的は、オゾンを導入し、気相中に浮遊する菌
を殺菌するにあたり、長期にわたり安定した効率のよい
殺菌効果が得られ、かつ、未反応オゾンの排出を実質的
になくした殺菌方法を提供することにある。
を殺菌するにあたり、長期にわたり安定した効率のよい
殺菌効果が得られ、かつ、未反応オゾンの排出を実質的
になくした殺菌方法を提供することにある。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明者らは上記目的を達成するために、種々検討した
結果、本発明を完成するに至ったものである。すなわち
、本発明になる殺菌方法は、気相中の浮遊菌を触媒上に
捕捉し、触媒で活性化されたオゾンにより速やかに酸化
分解し、なおかつ未反応オゾンを触媒上で分解すること
を特徴とする。
結果、本発明を完成するに至ったものである。すなわち
、本発明になる殺菌方法は、気相中の浮遊菌を触媒上に
捕捉し、触媒で活性化されたオゾンにより速やかに酸化
分解し、なおかつ未反応オゾンを触媒上で分解すること
を特徴とする。
上記触媒としては、浮遊菌を効率よく吸着捕集する能力
と捕集された菌をオゾン導入により効率よく酸化分解す
る能力と、未反応オゾンを分解する能力を兼ね備えるこ
とが必要である。
と捕集された菌をオゾン導入により効率よく酸化分解す
る能力と、未反応オゾンを分解する能力を兼ね備えるこ
とが必要である。
本発明者らは、浮遊菌の捕捉能力を有し、かつ、捕捉さ
れた菌がオゾンにより効率よく分解し、なおかつ、未反
応オゾンを分解する好ましい触媒として、チタンおよび
ケイ素からなる二元系複合酸化物、チタンおよびジルコ
ニウムからなる二元系複合酸化物、またはチタン、ケイ
素およびジルコニウムからなる三元系複合酸化物が優れ
たオゾン殺菌用触媒であることを見い出し、さらに、上
記二元系複合酸化物または三元系複合酸化物にマンガン
(Mn ) 、鉄(Fe)、コバルト(CO)、ニッケ
ル(Ni)、亜鉛(Z n)、銀(Ag)、白金(Pt
)、パラジウム(Pd)およびロジウム(Rh)よりな
る群から選ばれた少なくとも一種の元素またはその化合
物を添加してなるものは、より優れたオゾン殺菌用触媒
であることを見い出した。
れた菌がオゾンにより効率よく分解し、なおかつ、未反
応オゾンを分解する好ましい触媒として、チタンおよび
ケイ素からなる二元系複合酸化物、チタンおよびジルコ
ニウムからなる二元系複合酸化物、またはチタン、ケイ
素およびジルコニウムからなる三元系複合酸化物が優れ
たオゾン殺菌用触媒であることを見い出し、さらに、上
記二元系複合酸化物または三元系複合酸化物にマンガン
(Mn ) 、鉄(Fe)、コバルト(CO)、ニッケ
ル(Ni)、亜鉛(Z n)、銀(Ag)、白金(Pt
)、パラジウム(Pd)およびロジウム(Rh)よりな
る群から選ばれた少なくとも一種の元素またはその化合
物を添加してなるものは、より優れたオゾン殺菌用触媒
であることを見い出した。
すなわち、本発明は菌の浮遊する気相中にオゾンを導入
し、菌を分解殺菌する方法において、該ガス流路に触媒
を設置し、オゾンを導入することを特徴とする殺菌方法
であり、また実施の態様として好ましい触媒がチタンお
よびケイ素からなる二元系複合酸化物、チタンおよびジ
ルコニウムからなる二元系複合酸化物および/またはチ
タン、ケイ素およびジルコニウムからなる三元系複合酸
化物をA成分とし、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コ
バルト(Co)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Z n)、
銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)および
ロジウム(Rh )よりなる群から選ばれた少なくとも
一種の元素を8成分としてなるものであって、かつ該触
媒の組成がA成分が酸化物の重量%で40〜100重量
%、B成分はMnXFe、Co、Ni 1ZnおよびA
gにツイテは酸化物としての重量%で0〜60重量%、
Pt1pd 、 Rhについては金属元素として0〜1
0重量%の範囲よりなることを特徴とするものである。
し、菌を分解殺菌する方法において、該ガス流路に触媒
を設置し、オゾンを導入することを特徴とする殺菌方法
であり、また実施の態様として好ましい触媒がチタンお
よびケイ素からなる二元系複合酸化物、チタンおよびジ
ルコニウムからなる二元系複合酸化物および/またはチ
タン、ケイ素およびジルコニウムからなる三元系複合酸
化物をA成分とし、マンガン(Mn)、鉄(Fe)、コ
バルト(Co)、ニッケル(Ni)、亜鉛(Z n)、
銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)および
ロジウム(Rh )よりなる群から選ばれた少なくとも
一種の元素を8成分としてなるものであって、かつ該触
媒の組成がA成分が酸化物の重量%で40〜100重量
%、B成分はMnXFe、Co、Ni 1ZnおよびA
gにツイテは酸化物としての重量%で0〜60重量%、
Pt1pd 、 Rhについては金属元素として0〜1
0重量%の範囲よりなることを特徴とするものである。
〈作 用〉
本発明にかかる前記の好適な触媒の特徴はチタンおよび
ケイ素からなる二元系複合酸化物(以下、TiO2−8
iO2とする)、チタンおよびジルコニウムからなる二
元系複合酸化物(以下、T i 02−Zr 02とす
る)、チタン、ケイ素およびジルコニウムからなる三元
系複合酸化物(以下、T 1o2−81o2−ZrO2
とする)を触媒成分として用いている点にある。
ケイ素からなる二元系複合酸化物(以下、TiO2−8
iO2とする)、チタンおよびジルコニウムからなる二
元系複合酸化物(以下、T i 02−Zr 02とす
る)、チタン、ケイ素およびジルコニウムからなる三元
系複合酸化物(以下、T 1o2−81o2−ZrO2
とする)を触媒成分として用いている点にある。
一般に、チタンおよびケイ素からなる二元系複合酸化物
は例えば田部浩三(触媒、第17巻、ぬ3.72頁(1
975年))によっても周知のように、固体酸として知
られ、構成するおのおの単独の酸化物には見られない顕
著な酸性を示し、また高表面積を有する。
は例えば田部浩三(触媒、第17巻、ぬ3.72頁(1
975年))によっても周知のように、固体酸として知
られ、構成するおのおの単独の酸化物には見られない顕
著な酸性を示し、また高表面積を有する。
すなわち、TiO2−8iO2は酸化チタンおよび酸化
ケイ素を単に混合したものではなく、チタンおよびケイ
素がいわゆる二元系複合酸化物を形成することによりそ
の特異な物性が発現するものと認めることのできるもの
である。また、チタン、ジルコニウムからなる二元系複
合酸化物およびチタン、ジルコニウムおよびケイ素から
なる三元系複合酸化物もTiO2−8+02と同じよう
な性質を有する複合酸化物として特定される。
ケイ素を単に混合したものではなく、チタンおよびケイ
素がいわゆる二元系複合酸化物を形成することによりそ
の特異な物性が発現するものと認めることのできるもの
である。また、チタン、ジルコニウムからなる二元系複
合酸化物およびチタン、ジルコニウムおよびケイ素から
なる三元系複合酸化物もTiO2−8+02と同じよう
な性質を有する複合酸化物として特定される。
さらに、上記複合酸化物はX線回折による分析の結果、
非晶質もしくはほぼ非晶質に近い微細構造を有している
。
非晶質もしくはほぼ非晶質に近い微細構造を有している
。
本発明になる殺菌方法において、前記触媒の特異な性能
、すなわち、菌をオゾンによって分解除去する機構につ
いては確かではないが、上記複合酸化物の諸性質が菌の
吸着及び吸着された物質とオゾンとの酸化反応に対して
好ましい影響を与えるものと考えられ、さらに、上記複
合酸化物にマンガン、鉄、ニッケル、コバルト、亜鉛、
銀、白金、パラジウム、ロジウム等の元素またはその化
合物の添加が、より一層効果的に作用しオゾン殺菌反応
を速める役割を果していると考えられる。
、すなわち、菌をオゾンによって分解除去する機構につ
いては確かではないが、上記複合酸化物の諸性質が菌の
吸着及び吸着された物質とオゾンとの酸化反応に対して
好ましい影響を与えるものと考えられ、さらに、上記複
合酸化物にマンガン、鉄、ニッケル、コバルト、亜鉛、
銀、白金、パラジウム、ロジウム等の元素またはその化
合物の添加が、より一層効果的に作用しオゾン殺菌反応
を速める役割を果していると考えられる。
触mAtt分テアルT i 02−8 i 02 、T
iO2−ZrO2およびT i 02−8 i 02−
ZrO2はいずれもその表面積が307yL27g以上
であることが好ましい。
iO2−ZrO2およびT i 02−8 i 02−
ZrO2はいずれもその表面積が307yL27g以上
であることが好ましい。
触mA成分の組成は酸化物に換算してTiO2が20〜
95モル%、5iOzもしくはZJ’02またはS i
02とZrO2の和が5〜80モル%(いずれもTi
O2+ZrO2+S 1o2=100モル%に対して)
の範囲にあることが好ましい結果を与える。
95モル%、5iOzもしくはZJ’02またはS i
02とZrO2の和が5〜80モル%(いずれもTi
O2+ZrO2+S 1o2=100モル%に対して)
の範囲にあることが好ましい結果を与える。
本発明にかかる触媒の組成は酸化物としての重量百分率
でA成分が40〜100%、B成分はマンガン(Mn)
、銀(A!I+)、鉄(Fe )、コバルト(Go)、
亜鉛(Zn )およびニッケル(Ni )については酸
化物としての重量百分率で0〜60%、白金(Pt)、
パラジウム(Pd )およびロジウム(Rh )につい
ては金属元素として0〜10重量%の範囲よりなること
が好ましい。
でA成分が40〜100%、B成分はマンガン(Mn)
、銀(A!I+)、鉄(Fe )、コバルト(Go)、
亜鉛(Zn )およびニッケル(Ni )については酸
化物としての重量百分率で0〜60%、白金(Pt)、
パラジウム(Pd )およびロジウム(Rh )につい
ては金属元素として0〜10重量%の範囲よりなること
が好ましい。
B成分が上記範囲外ではオゾンによる殺菌能力が不十分
であり、また、白金、パラジウムおよびロジウムの場合
、原料コストが高くなり十分な効果が発揮できない。
であり、また、白金、パラジウムおよびロジウムの場合
、原料コストが高くなり十分な効果が発揮できない。
本発明において用いられるTiO2−8iO+を調製す
るには、まずチタン源として塩化チタン類、硫酸チタン
などの無機性チタン化合物および修酸チタン、テトライ
ソプロピルチタネートなどの有機性チタン化合物などか
ら選ぶことができ、またケイ素源としてはコロイド状シ
リカ、水ガラス、四塩化ケイ素など無機性のケイ素化合
物およびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素化合物
などから選ぶことができる。そしてこれら原料中には、
微量の不純物、混入物のあるものがあるが、えられるT
iO2−3iO2の物性に大きく影響を与えるものでな
い限り問題とならない。
るには、まずチタン源として塩化チタン類、硫酸チタン
などの無機性チタン化合物および修酸チタン、テトライ
ソプロピルチタネートなどの有機性チタン化合物などか
ら選ぶことができ、またケイ素源としてはコロイド状シ
リカ、水ガラス、四塩化ケイ素など無機性のケイ素化合
物およびテトラエチルシリケートなど有機ケイ素化合物
などから選ぶことができる。そしてこれら原料中には、
微量の不純物、混入物のあるものがあるが、えられるT
iO2−3iO2の物性に大きく影響を与えるものでな
い限り問題とならない。
好ましいTiO+−8iO2の調製法としては、以下の
方法が挙げられる。
方法が挙げられる。
■ 四塩化チタンをシリカゾルと共に混合し、アンモニ
アを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を洗浄、乾燥
後300〜650℃で焼成せしめる方法。
アを添加して沈殿を生成せしめ、この沈殿を洗浄、乾燥
後300〜650℃で焼成せしめる方法。
■ 四塩化チタンにケイ酸ナトリウム水溶液を添加し、
反応せしめて沈殿を生成させ、これを洗浄、乾燥後30
0〜650℃で焼成せしめる方法。
反応せしめて沈殿を生成させ、これを洗浄、乾燥後30
0〜650℃で焼成せしめる方法。
■ 四塩化チタンの水−アルコール溶液にエチルシリケ
ート((Cz)−1sO>48i)を添加し加水分解反
応せしめ沈殿を形成させ、これを洗浄、乾燥後300〜
650℃で焼成せしめる方法。
ート((Cz)−1sO>48i)を添加し加水分解反
応せしめ沈殿を形成させ、これを洗浄、乾燥後300〜
650℃で焼成せしめる方法。
■ 酸化塩化チタン(T i 0CJ2 )とエチルシ
リケートの水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈
殿を形成せしめ、これを洗浄、乾燥後300〜650℃
で焼成せしめる方法。
リケートの水−アルコール溶液にアンモニアを加えて沈
殿を形成せしめ、これを洗浄、乾燥後300〜650℃
で焼成せしめる方法。
以上の好ましい方法のうちでもとくに■の方法が好まし
く、この方法は具体的には以下のごと〈実施される。す
なわち、上記チタン源およびケイ素源の化合物をTiO
2とSiO2のモル比が所定量になるようにとり、酸性
の水溶液状態またはゾル状態でチタンおよびケイ素を酸
化物換算して1〜1 ooo /1の濃度として10〜
100℃に保つ。その中へ撹拌上中和剤としてアンモニ
ア水を滴下し、10分間ないし3時間pt−12〜10
にてチタンおよびケイ素よりなる共沈化合物を生成せし
め、濾別しよく洗浄したのち80〜140℃で1〜10
時間乾燥し、300〜650℃で1〜10時間焼成して
TiO2−8iO+をえることができる。
く、この方法は具体的には以下のごと〈実施される。す
なわち、上記チタン源およびケイ素源の化合物をTiO
2とSiO2のモル比が所定量になるようにとり、酸性
の水溶液状態またはゾル状態でチタンおよびケイ素を酸
化物換算して1〜1 ooo /1の濃度として10〜
100℃に保つ。その中へ撹拌上中和剤としてアンモニ
ア水を滴下し、10分間ないし3時間pt−12〜10
にてチタンおよびケイ素よりなる共沈化合物を生成せし
め、濾別しよく洗浄したのち80〜140℃で1〜10
時間乾燥し、300〜650℃で1〜10時間焼成して
TiO2−8iO+をえることができる。
また、TiO2−8iO2−Zr02にツいテは、Ti
O2−8iO2同様の方法で調製されるものであり、ジ
ルコニウム源として、塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニ
ウムなどの無機性ジルコニウム化合物および修酸ジルコ
ニウムなど有機性ジルコニウム化合物のなかから選ぶこ
とができる。
O2−8iO2同様の方法で調製されるものであり、ジ
ルコニウム源として、塩化ジルコニウム、硫酸ジルコニ
ウムなどの無機性ジルコニウム化合物および修酸ジルコ
ニウムなど有機性ジルコニウム化合物のなかから選ぶこ
とができる。
すなわち、ジルコニウム化合物をチタン化合物と共に上
述の方法と同様に扱うことによりTiO2−8i 02
−Z r02は容易に調製しうるものである。そして、
このジルコニウムの存在量は、TiO2+S i02+
ZrO2の合計量に対しZrO2に換算して30重量%
までの範囲内にあるのが好ましい。TiO2−ZrO2
の調製法も同様にして行なうことができる。
述の方法と同様に扱うことによりTiO2−8i 02
−Z r02は容易に調製しうるものである。そして、
このジルコニウムの存在量は、TiO2+S i02+
ZrO2の合計量に対しZrO2に換算して30重量%
までの範囲内にあるのが好ましい。TiO2−ZrO2
の調製法も同様にして行なうことができる。
上記の方法で調製されたTiO2−8i02、T i
02−Z ro2およびTiO2−81o2−7rO2
を用いて、以下に示す方法により完成触媒がえられる。
02−Z ro2およびTiO2−81o2−7rO2
を用いて、以下に示す方法により完成触媒がえられる。
−例を示せばTiO+−8iO2粉体を成型助剤と共に
加え、適量の水を添加しつつ混合、混練し、押し出し成
型機でペレット状またはハニカム状等に成型する。
加え、適量の水を添加しつつ混合、混練し、押し出し成
型機でペレット状またはハニカム状等に成型する。
成型物を50〜120℃で乾燥後300〜800℃、好
ましくは350〜600℃で1〜10時間、好ましくは
2〜6時間空気流通下で焼成して触媒を得ることができ
る。
ましくは350〜600℃で1〜10時間、好ましくは
2〜6時間空気流通下で焼成して触媒を得ることができ
る。
また、TiO2−8iO2にマンガン、鉄、ニッケル、
コバルト、亜鉛、銀、白金、パラジウム、ロジウムを添
加して触媒化する場合、上記金属塩の水溶液をTiO2
−8iO2成型体に含浸させて担持した後、乾燥、焼成
することにより触媒とすることができる。
コバルト、亜鉛、銀、白金、パラジウム、ロジウムを添
加して触媒化する場合、上記金属塩の水溶液をTiO2
−8iO2成型体に含浸させて担持した後、乾燥、焼成
することにより触媒とすることができる。
一方、別法としてTiO2−8iO2粉体に上記金属塩
の水溶液を成型助剤と共に加え、混練成型する方法も採
用できる。
の水溶液を成型助剤と共に加え、混練成型する方法も採
用できる。
形状としては上記のペレット状およびハニカム状にとど
まらず円柱状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイ
プ状、ドーナツ状、格子状、その他一体化成型されたも
のが適宜選ばれる。
まらず円柱状、円筒状、板状、リボン状、波板状、パイ
プ状、ドーナツ状、格子状、その他一体化成型されたも
のが適宜選ばれる。
次に、触媒にA成分と共に用いられているB成分の出発
原料としては、酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩
など、特にアンモニウム塩、修酸塩、硝ms、硫M塩ま
たはハロゲン化物などから適宜選ばれる。
原料としては、酸化物、水酸化物、無機酸塩、有機酸塩
など、特にアンモニウム塩、修酸塩、硝ms、硫M塩ま
たはハロゲン化物などから適宜選ばれる。
本発明の方法において、気相中に浮遊する菌を処理する
際、反応条件を適宜選択することにより、実質的に菌の
浮遊しない気相をえることができる。
際、反応条件を適宜選択することにより、実質的に菌の
浮遊しない気相をえることができる。
本発明の殺菌方法は、反応温度−10°〜160℃、空
間速度1000〜100,000Hr−1、オゾン濃度
0.011)Ellll 〜10.0001)l)II
Iという条件で実施されるのが好ましい。
間速度1000〜100,000Hr−1、オゾン濃度
0.011)Ellll 〜10.0001)l)II
Iという条件で実施されるのが好ましい。
本発明による殺菌方法は、対象として広汎に使用できる
が、例えば食品工場、製薬工場、給食センター、調理室
、病院等の空気中の浮遊菌の処理に使用できるとともに
、一般家庭、ビルディングのあらゆる空間の空気清浄に
有効である。
が、例えば食品工場、製薬工場、給食センター、調理室
、病院等の空気中の浮遊菌の処理に使用できるとともに
、一般家庭、ビルディングのあらゆる空間の空気清浄に
有効である。
本発明方法を用いれば空気中に浮遊する菌であればいず
れも殺菌することができる。具体的に示せば、シュード
モナス属(Pseudomonas)、クサントモナス
属(Xanthomonas)、アセトバクター属(^
CetObaCter)等のダラム陰性好気性桿菌また
は球菌;エシェリキア属(Escherichia)
、サルモネラ属(SallOnella) 、ビブリオ
属(Vibrio)等のダラム陰性通性嫌気性桿菌:ミ
クロコツカス属(肛旺虹並図貝、スタヒロコツカス属(
5taphyl。
れも殺菌することができる。具体的に示せば、シュード
モナス属(Pseudomonas)、クサントモナス
属(Xanthomonas)、アセトバクター属(^
CetObaCter)等のダラム陰性好気性桿菌また
は球菌;エシェリキア属(Escherichia)
、サルモネラ属(SallOnella) 、ビブリオ
属(Vibrio)等のダラム陰性通性嫌気性桿菌:ミ
クロコツカス属(肛旺虹並図貝、スタヒロコツカス属(
5taphyl。
coccus) 、ストレプトコツカス属(5trep
t。
t。
occus)等のグラム陽性球菌;バチルス属(Bac
illus) 、クロストリブラム属(Cl08tri
虹す)等の内生胞子形成桿菌:ラクトバチルス属(La
ctobac i I 1us)等のダラム陽性内生胞
子非形成桿菌:アクチノマイセスjI(ACtinol
yCeS)、ストレプトマイセス属(Streptom
yces)等の放線菌:カンディダ属(Candida
)、アスペルジルス属(Aspergillus)、ベ
ニシリウス属(Penicillius)等の真菌;ア
デノウィルス属(^denovirus) 、ロタウィ
ルス属(ROtaV+rU3)、インフルエンザウィル
スilj (Influenzavirus) 、レト
ロウィルス科(Retrovirus)等のウィルスが
挙げられる。
illus) 、クロストリブラム属(Cl08tri
虹す)等の内生胞子形成桿菌:ラクトバチルス属(La
ctobac i I 1us)等のダラム陽性内生胞
子非形成桿菌:アクチノマイセスjI(ACtinol
yCeS)、ストレプトマイセス属(Streptom
yces)等の放線菌:カンディダ属(Candida
)、アスペルジルス属(Aspergillus)、ベ
ニシリウス属(Penicillius)等の真菌;ア
デノウィルス属(^denovirus) 、ロタウィ
ルス属(ROtaV+rU3)、インフルエンザウィル
スilj (Influenzavirus) 、レト
ロウィルス科(Retrovirus)等のウィルスが
挙げられる。
〈実 施 例〉
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではな
い。
、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではな
い。
実施例 1
チタンおよびケイ素からなる複合酸化物を以下に述べる
方法で調製した。チタン源として以下の組成を有する硫
酸チタニルの硫酸水溶液を用いた。
方法で調製した。チタン源として以下の組成を有する硫
酸チタニルの硫酸水溶液を用いた。
T t 0804 (TiO2換算) 250u/
j!全H2SO41100o/j! 別に水40Jにアンモニア水<NHs 、25%)28
j!を添加し、これにスノーテックス−NC8−30(
1産化学製シリカゾル、5i02として約30重量%含
有>2.4Kgを加えた。得られた溶液中に、上記硫酸
チタニルの硫酸水溶液15.3j!を水301に添加し
て稀釈したチタン含硫酸水溶液を撹拌下体々に滴下し、
共沈ゲルを生成した。
j!全H2SO41100o/j! 別に水40Jにアンモニア水<NHs 、25%)28
j!を添加し、これにスノーテックス−NC8−30(
1産化学製シリカゾル、5i02として約30重量%含
有>2.4Kgを加えた。得られた溶液中に、上記硫酸
チタニルの硫酸水溶液15.3j!を水301に添加し
て稀釈したチタン含硫酸水溶液を撹拌下体々に滴下し、
共沈ゲルを生成した。
さらにそのまま15時間放置して静置した。かくして得
られたTiO2−8iO2ゲルを濾過、水洗後200℃
で10時間乾燥した。
られたTiO2−8iO2ゲルを濾過、水洗後200℃
で10時間乾燥した。
次いで550℃で6時間空気雰囲気下で焼成した。得ら
れた粉体の組成はTiO2:S 1o2=4=1(モル
比)で、BET表面積は185TrL2/gであった。
れた粉体の組成はTiO2:S 1o2=4=1(モル
比)で、BET表面積は185TrL2/gであった。
ここで得られた粉体を以降TS−1と呼び、この粉体を
用いて以下に述べる方法で触媒を調製した。
用いて以下に述べる方法で触媒を調製した。
上記TS−1粉体1.OKsに微結晶性セルロース(旭
化成工業■製、商品名:アビセル)20gを適当量の水
と共に加え、ニーダ−でよく混合、混練した後、押し出
し成型機で直径3.0 ttm 1長さ3、01111
のベレットに成型し、100℃で10時間乾燥後500
℃で6時間空気雰囲気下で焼成し、TiO2−8iO2
からなる触媒を得た。
化成工業■製、商品名:アビセル)20gを適当量の水
と共に加え、ニーダ−でよく混合、混練した後、押し出
し成型機で直径3.0 ttm 1長さ3、01111
のベレットに成型し、100℃で10時間乾燥後500
℃で6時間空気雰囲気下で焼成し、TiO2−8iO2
からなる触媒を得た。
実施例 2
T i 02−ZrO2を以下に述べる方法で調製した
。
。
水100j!にオキシ塩化ジルコニウム(ZrOCJ1
2 ・8H20)1.93Kyを溶解させ、実施例1で
用いたのと同じ組成の硫酸チタニルの硫酸水溶液7.8
j!を添加しつつよく混合する。これを温度的30℃に
維持しつつよく撹拌しながらアンモニア水を徐々に滴下
し、pHが7になるまで加え、さらにそのまま放置して
15時間静置した。
2 ・8H20)1.93Kyを溶解させ、実施例1で
用いたのと同じ組成の硫酸チタニルの硫酸水溶液7.8
j!を添加しつつよく混合する。これを温度的30℃に
維持しつつよく撹拌しながらアンモニア水を徐々に滴下
し、pHが7になるまで加え、さらにそのまま放置して
15時間静置した。
かくして得られたT i 02−Z ro2グルを濾過
し水洗後200℃で10時間乾燥した。次いで空気雰囲
気下で550℃で6時間焼成した。得られた粉体の組成
はTiO2:Zr02=4:1(モル比)であり、BE
T表面積は140m /gであった。ここで得られた
粉体を以降TZ−1と呼ぶ。
し水洗後200℃で10時間乾燥した。次いで空気雰囲
気下で550℃で6時間焼成した。得られた粉体の組成
はTiO2:Zr02=4:1(モル比)であり、BE
T表面積は140m /gであった。ここで得られた
粉体を以降TZ−1と呼ぶ。
TZ−1を用いて実施例1の記載の方法に準じてT i
02−Z ro2からなる触媒を調製した。
02−Z ro2からなる触媒を調製した。
実施例 3
実施例1及び2の方法に準じてTiO2−8i02−Z
r02を調製した。得られた粉体の組成はTiO2:5
i02:Zr02=80:16:4(モル比)で、BE
T表面積は180m /(+であった。これで得られ
た粉体を以降TSZ−1と呼ぶ。
r02を調製した。得られた粉体の組成はTiO2:5
i02:Zr02=80:16:4(モル比)で、BE
T表面積は180m /(+であった。これで得られ
た粉体を以降TSZ−1と呼ぶ。
TSZ−1を用いて実施例1の記載の方法に準じrT
i 02−8 i 02−Z ro2からなる触媒を調
製した。
i 02−8 i 02−Z ro2からなる触媒を調
製した。
実施例 4
実施例1で用いたのと同じTS−1粉体1.OKgに硝
硫マンガンMn (NO3)2−68200、366
K9を含む水溶液を加え、ニーダ−で適当量の水を添加
しつつよく混合、混練した後、実施例1と同様にしてペ
レット状に成型し、乾燥、焼成して、酸化物としての重
量比でTS−1:Mn02=90:10の組成を有する
触媒を得た。
硫マンガンMn (NO3)2−68200、366
K9を含む水溶液を加え、ニーダ−で適当量の水を添加
しつつよく混合、混練した後、実施例1と同様にしてペ
レット状に成型し、乾燥、焼成して、酸化物としての重
量比でTS−1:Mn02=90:10の組成を有する
触媒を得た。
実施例 5
実施例1で得られたTiO2−8iOs+からなる触媒
(3sφX3sL)500zにパラジウム(Pd )と
して3.5gを含む硝酸パラジウム水溶液140a:を
蒸発皿にとり充分混合して含浸させ湯浴上で濃縮乾固し
120℃で5時間乾燥した。
(3sφX3sL)500zにパラジウム(Pd )と
して3.5gを含む硝酸パラジウム水溶液140a:を
蒸発皿にとり充分混合して含浸させ湯浴上で濃縮乾固し
120℃で5時間乾燥した。
次いで空気雰囲気下で400℃、3時間電気炉で焼成し
た。
た。
得られた触媒の組成はTS−1:pd =99 :1、
O(重量比)であった。
O(重量比)であった。
実施例 6
実施例1〜5で得られた各触媒について次のような方法
で殺菌率を求めた。
で殺菌率を求めた。
内径20履の反応管に直径3.0 am、長さ3.0M
のベレット状触媒10.5 a:を充填し、大腸菌を3
620個/j!含有する空気を0.10105N/Hr
の流速(空間速度10.000Hr−1)で触媒層に導
入した。触媒層入口側にオゾンを30 ppm導入し、
反応温度25℃での殺菌率を求めた。
のベレット状触媒10.5 a:を充填し、大腸菌を3
620個/j!含有する空気を0.10105N/Hr
の流速(空間速度10.000Hr−1)で触媒層に導
入した。触媒層入口側にオゾンを30 ppm導入し、
反応温度25℃での殺菌率を求めた。
殺菌率は次式により求めた。
殺菌率(X)=
但し生菌数の測定はコロニー形成数で行った。
得られた結果を表−1に示す。
表 −1
19一
実施例 7
実施例6において大腸菌を含有する空気の代わりに、ア
スベルジルス・ニガーの胞子を3500個/1含有する
空気を用いた以外は実施例6におけると同様にして殺菌
率を求めた。得られた結果を表−2に示す。
スベルジルス・ニガーの胞子を3500個/1含有する
空気を用いた以外は実施例6におけると同様にして殺菌
率を求めた。得られた結果を表−2に示す。
表 −2
Claims (1)
- (1)菌の浮遊する気相中にオゾンを導入し、菌を分解
殺菌する方法において、該ガス流路に触媒を設置し、オ
ゾンを導入すること を特徴とする殺菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62254604A JPH0197461A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 殺菌方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62254604A JPH0197461A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 殺菌方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0197461A true JPH0197461A (ja) | 1989-04-14 |
| JPH0556984B2 JPH0556984B2 (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=17267341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62254604A Granted JPH0197461A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 殺菌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0197461A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2485546A (en) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | Steritrox Ltd | Catalyst for use in a sterilisation and/or decontamination process |
| US8867258B2 (en) | 2010-03-22 | 2014-10-21 | Qualcomm Incorporated | Memory cell that includes multiple non-volatile memories |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6001112A (en) | 1998-04-10 | 1999-12-14 | Endicor Medical, Inc. | Rotational atherectomy device |
| US6666874B2 (en) | 1998-04-10 | 2003-12-23 | Endicor Medical, Inc. | Rotational atherectomy system with serrated cutting tip |
| US6482217B1 (en) | 1998-04-10 | 2002-11-19 | Endicor Medical, Inc. | Neuro thrombectomy catheter |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56113327A (en) * | 1980-02-14 | 1981-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | Odorous gas treatment apparatus |
| JPS56130209A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Malodor removing method |
| JPS60155503A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-15 | Shinryo Air Conditioning Co Ltd | オゾンの分解方法 |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP62254604A patent/JPH0197461A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56113327A (en) * | 1980-02-14 | 1981-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | Odorous gas treatment apparatus |
| JPS56130209A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-13 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Malodor removing method |
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| GB2485546A (en) * | 2010-11-17 | 2012-05-23 | Steritrox Ltd | Catalyst for use in a sterilisation and/or decontamination process |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0556984B2 (ja) | 1993-08-20 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |