JPH0210833B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な2,3―エポキシ―2,6―ジ
メチル―5―ペプテン誘導体に関する。
メチル―5―ペプテン誘導体に関する。
本発明の2,3―エポキシ―2,6―ジメチル
―5―ペプテン誘導体は文献未載の新規化合物で
あり、下記一般式(1)及び(2)で表わされる。
―5―ペプテン誘導体は文献未載の新規化合物で
あり、下記一般式(1)及び(2)で表わされる。
及び
〔式中Rは水酸基、アリールスルホニルオキシ基
又はヨード原子を示す。〕 従来性フエロモン活性化合物は、多数の昆虫か
ら抽出され、構造決定が行なわれている。クワコ
ナカイガラムシフエロモンについても同じくその
構造が明らかにされ、下記に示す式(3)の化合物で
あることが判明したが、未だ該化合物の合成方法
については知られていない。
又はヨード原子を示す。〕 従来性フエロモン活性化合物は、多数の昆虫か
ら抽出され、構造決定が行なわれている。クワコ
ナカイガラムシフエロモンについても同じくその
構造が明らかにされ、下記に示す式(3)の化合物で
あることが判明したが、未だ該化合物の合成方法
については知られていない。
また化合物(3)とは鏡像異性体の関係にある式(4)
の化合物についても未だ合成されていない。
の化合物についても未だ合成されていない。
上記一般式(1)及び(2)で表わされる本発明の化合
物は、化合物(3)及び(4)を合成するための中間体と
して有用な化合物である。
物は、化合物(3)及び(4)を合成するための中間体と
して有用な化合物である。
本明細書においてRで示されるアリールスルホ
ニルオキシ基としては例えばベンゼンスルホニル
オキシ、p―トルホンスルホニルオキシ、p―メ
トキシベンゼンスルホニルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
ニルオキシ基としては例えばベンゼンスルホニル
オキシ、p―トルホンスルホニルオキシ、p―メ
トキシベンゼンスルホニルオキシ基等を挙げるこ
とができる。
本発明の代表的な化合物としては、例えば以下
のものを挙げることができる。
のものを挙げることができる。
Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
ベンゼンスルホネイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
p―トシレイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
p―メトキシベンゼルスルホネイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―ヨーダ
イド Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール ベ
ンゼンスルホネイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール p
―トシレイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール p
―メトキシベンゼンスルホネイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―ヨーダイド 本発明の化合物は種々の方法により製造される
が、例えば以下に示す方法により製造される。
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
ベンゼンスルホネイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
p―トシレイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
p―メトキシベンゼルスルホネイト Γ(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―ヨーダ
イド Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール ベ
ンゼンスルホネイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール p
―トシレイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール p
―メトキシベンゼンスルホネイト Γ(2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―ヨーダイド 本発明の化合物は種々の方法により製造される
が、例えば以下に示す方法により製造される。
〔式中R1はアリールスルホニルオキシ基を示
す。〕 一般式(1)で表わされる化合物のうちRが水酸基
を示す化合物(式(1a)の化合物)は公知の化
合物(5)をエポキシ化することにより製造され、ま
たRがアリールスルホニルオキシ基を示す化合物
(一般式(1b)の化合物)は式(1a)の化合物を
アリールスルホニル化することにより製造され、
さらにRがヨード原子を示す化合物(式(1c)の
化合物)は一般式(1b)の化合物を沃素化する
ことにより製造される。
す。〕 一般式(1)で表わされる化合物のうちRが水酸基
を示す化合物(式(1a)の化合物)は公知の化
合物(5)をエポキシ化することにより製造され、ま
たRがアリールスルホニルオキシ基を示す化合物
(一般式(1b)の化合物)は式(1a)の化合物を
アリールスルホニル化することにより製造され、
さらにRがヨード原子を示す化合物(式(1c)の
化合物)は一般式(1b)の化合物を沃素化する
ことにより製造される。
化合物(5)のエポキシ化は通常の酸化反応を適用
することができる。例えば金属アルコキシ化合物
及びD―(−)―酒石酸ジエステルの共存下適当
な溶媒中酸化剤を用いて化合物(5)を酸化すればよ
い。溶媒としては通常の不活性溶媒であればいず
れも使用でき、例えばモノクロルメタン、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエ
タン等のハロゲン化炭化水素類があげられる。酸
化剤としてはt―ブチルヒドロキシペルオキシ
ド、クメンヒドロペルオキシド等の過酸化物を例
示でき、その使用量は化合物(5)に対して通常1〜
5倍モル量程度、好ましくは2〜2.2倍モル量程
度である。金属アルコキシ化合物としてはチタニ
ウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテト
ライソプロポキシド、ハフニウムテトライソプロ
ポキシドを例示でき、その使用量は化合物(5)に対
し通常0.1〜1.5倍モル量程度、好ましくは1〜1.1
倍モル量程度である。さらにD―(−)―酒石酸
ジエステルとしてはD―(−)―酒石酸ジメチ
ル、D―(−)―酒石酸ジエチル等のD―(−)
―酒石酸ジアルキルエステルを例示でき、その使
用量は化合物(5)に対して通常0.1〜2倍モル量程
度、好ましくは1〜1.1倍モル量程度である。該
反応は通常−50〜0℃程度、好ましくは−30〜−
10℃にて行なわれ、一般に12〜24時間程度で反応
は終了する。
することができる。例えば金属アルコキシ化合物
及びD―(−)―酒石酸ジエステルの共存下適当
な溶媒中酸化剤を用いて化合物(5)を酸化すればよ
い。溶媒としては通常の不活性溶媒であればいず
れも使用でき、例えばモノクロルメタン、塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエ
タン等のハロゲン化炭化水素類があげられる。酸
化剤としてはt―ブチルヒドロキシペルオキシ
ド、クメンヒドロペルオキシド等の過酸化物を例
示でき、その使用量は化合物(5)に対して通常1〜
5倍モル量程度、好ましくは2〜2.2倍モル量程
度である。金属アルコキシ化合物としてはチタニ
ウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテト
ライソプロポキシド、ハフニウムテトライソプロ
ポキシドを例示でき、その使用量は化合物(5)に対
し通常0.1〜1.5倍モル量程度、好ましくは1〜1.1
倍モル量程度である。さらにD―(−)―酒石酸
ジエステルとしてはD―(−)―酒石酸ジメチ
ル、D―(−)―酒石酸ジエチル等のD―(−)
―酒石酸ジアルキルエステルを例示でき、その使
用量は化合物(5)に対して通常0.1〜2倍モル量程
度、好ましくは1〜1.1倍モル量程度である。該
反応は通常−50〜0℃程度、好ましくは−30〜−
10℃にて行なわれ、一般に12〜24時間程度で反応
は終了する。
式(1a)の化合物のアリールスルホニル化は、
例えば塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて式
(1a)の化合物にアリールスルホニルハライドを
反応させることにより行なわれる。式(1a)の
化合物とアリールスルホニルハライドとの使用割
合としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜2倍
モル量程度とするのがよい。アリールスルホニル
ハライドとしては公知のものを広く使用でき、例
えばベンゼンスルホニルクロライド、ベンゼンス
ルホニルブロマイド、p―トルエンスルホニルク
ロライド、p―トルエンスルホニルブロマイド、
p―メトキシベンゼンスルホニルクロライド、p
―メトキシベンゼンスルホニルクロライド等を挙
げることができる。用いられる塩基性化合物とし
ては具体的にはピリジン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、4―ジメチルアミノピリジン、1,
5―ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン―
5(DBU)等の第3級アミン類、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
塩基性化合物等を例示できる。また溶媒としては
通常の不活性溶媒をいずれも使用でき、例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、モノクロロメタン、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、グライム、ジグライム等のエーテル
類、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級アミ
ン類等を挙げることできる。該反応は通常−30〜
50℃程度、好ましくは0℃〜室温程度にて行なわ
れ、一般に5〜20時間程度にて反応は終了する。
例えば塩基性化合物の存在下適当な溶媒中にて式
(1a)の化合物にアリールスルホニルハライドを
反応させることにより行なわれる。式(1a)の
化合物とアリールスルホニルハライドとの使用割
合としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜2倍
モル量程度とするのがよい。アリールスルホニル
ハライドとしては公知のものを広く使用でき、例
えばベンゼンスルホニルクロライド、ベンゼンス
ルホニルブロマイド、p―トルエンスルホニルク
ロライド、p―トルエンスルホニルブロマイド、
p―メトキシベンゼンスルホニルクロライド、p
―メトキシベンゼンスルホニルクロライド等を挙
げることができる。用いられる塩基性化合物とし
ては具体的にはピリジン、ジメチルアミン、ジエ
チルアミン、4―ジメチルアミノピリジン、1,
5―ジアザビシクロ〔5,4,0〕ウンデセン―
5(DBU)等の第3級アミン類、炭酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機
塩基性化合物等を例示できる。また溶媒としては
通常の不活性溶媒をいずれも使用でき、例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、モノクロロメタン、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、グライム、ジグライム等のエーテル
類、トリエチルアミン、ピリジン等の第3級アミ
ン類等を挙げることできる。該反応は通常−30〜
50℃程度、好ましくは0℃〜室温程度にて行なわ
れ、一般に5〜20時間程度にて反応は終了する。
一般式(1b)の化合物の沃素化は、例えば適
当な溶媒中一般式(1b)の化合物にアルカリ金
属沃化物を反応させることにより製造される。ア
ルカリ金属沃化物としては公知のものを広く使用
でき、例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃
化リチウム等を挙げることができる。一般式
(1b)の化合物とアルカリ金属沃化物との使用割
合としては特に制限されず広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜1.5
倍モル量程度とするのがよい。溶媒としては通常
の不活性溶媒をいずれも使用でき、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケ
トン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げ
ることができる。該反応は通常20〜90℃程度、好
ましくは30〜70℃程度にて行なわれ、一般に1〜
60時間程度で反応は完結する。
当な溶媒中一般式(1b)の化合物にアルカリ金
属沃化物を反応させることにより製造される。ア
ルカリ金属沃化物としては公知のものを広く使用
でき、例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃
化リチウム等を挙げることができる。一般式
(1b)の化合物とアルカリ金属沃化物との使用割
合としては特に制限されず広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは等モル〜1.5
倍モル量程度とするのがよい。溶媒としては通常
の不活性溶媒をいずれも使用でき、例えばアセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケ
トン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を挙げ
ることができる。該反応は通常20〜90℃程度、好
ましくは30〜70℃程度にて行なわれ、一般に1〜
60時間程度で反応は完結する。
〔式中R1はアリールスルホニルオキシ基を示
す。〕 一般式(2)で表わされる化合物のうちRが水素基
を示す化合物(式(2a)の化合物)は公知の化
合物(5)をエポキシ化することにより製造され、ま
たRがアリールスルホニルオキシ基を示す化合物
(一般式(2b)の化合物)は式(2a)の化合物を
アリールスルホニル化することにより製造され、
さらにRがヨード原子を示す化合物(式(2c)の
化合物)は一般式(2b)の化合物を沃素化する
ことにより製造される。
す。〕 一般式(2)で表わされる化合物のうちRが水素基
を示す化合物(式(2a)の化合物)は公知の化
合物(5)をエポキシ化することにより製造され、ま
たRがアリールスルホニルオキシ基を示す化合物
(一般式(2b)の化合物)は式(2a)の化合物を
アリールスルホニル化することにより製造され、
さらにRがヨード原子を示す化合物(式(2c)の
化合物)は一般式(2b)の化合物を沃素化する
ことにより製造される。
化合物(5)をエポキシ化して式(2a)の化合物
を得るには、D―(−)―酒石酸ジエステルの代
りにL―(+)―酒石酸ジエステルを用いる以外
は上記した方法に従えばよい。L―(+)―酒石
酸ジエステルとしてはL―(+)―酒石酸ジメチ
ル、L―(+)―酒石酸ジエチル等のL―(+)
―酒石酸ジアルキルエステルを例示できる。
を得るには、D―(−)―酒石酸ジエステルの代
りにL―(+)―酒石酸ジエステルを用いる以外
は上記した方法に従えばよい。L―(+)―酒石
酸ジエステルとしてはL―(+)―酒石酸ジメチ
ル、L―(+)―酒石酸ジエチル等のL―(+)
―酒石酸ジアルキルエステルを例示できる。
式(2a)の化合物のアリールスルホニル化及
び一般式(2b)の化合物の沃素化はそれぞれ式
(1a)の化合物のアリールスルホニル化、一般式
(1b)の化合物の沃素化と同様の反応条件下に行
なうことができる。
び一般式(2b)の化合物の沃素化はそれぞれ式
(1a)の化合物のアリールスルホニル化、一般式
(1b)の化合物の沃素化と同様の反応条件下に行
なうことができる。
斯くして得られる一般式(1)及び(2)で表わされる
本発明の化合物は慣用の分離手段、例えば過、
濃縮、溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグラフ
イー等により反応混合物から容易に単離精製され
る。
本発明の化合物は慣用の分離手段、例えば過、
濃縮、溶媒抽出、再結晶、カラムクロマトグラフ
イー等により反応混合物から容易に単離精製され
る。
一般式(1)及び(2)で表わされる本発明の化合物よ
り式(3)及び(4)の化合物を製造する方法を以下に述
べる。
り式(3)及び(4)の化合物を製造する方法を以下に述
べる。
式(1c)の化合物の開環及び脱ハロゲン化は、
酸及び脱ハロゲン化剤の存在下にて行われる。酸
としては具体的には酢酸、モノクロル酢酸、プロ
ピオン酸等の低級脂肪酸類、過塩素酸等を挙げる
ことができ、また脱ハロゲン化剤としては具体的
には亜鉛粉末、スズ末、鉄等を挙げることができ
る。ハロゲン化剤の使用量は式(1c)の化合物に
対し0.5〜10モル量程度好ましくは3〜5倍モル
量程度である。また溶媒としては通常の不活性溶
媒であればいずれも使用可能であるが、具体的に
は前記低級脂肪酸類を挙げることができる。反応
温度は通常−30℃〜50℃程度、好ましくは0℃〜
室温程度であり、一般に20〜5時間程度で反応は
終了する。
酸及び脱ハロゲン化剤の存在下にて行われる。酸
としては具体的には酢酸、モノクロル酢酸、プロ
ピオン酸等の低級脂肪酸類、過塩素酸等を挙げる
ことができ、また脱ハロゲン化剤としては具体的
には亜鉛粉末、スズ末、鉄等を挙げることができ
る。ハロゲン化剤の使用量は式(1c)の化合物に
対し0.5〜10モル量程度好ましくは3〜5倍モル
量程度である。また溶媒としては通常の不活性溶
媒であればいずれも使用可能であるが、具体的に
は前記低級脂肪酸類を挙げることができる。反応
温度は通常−30℃〜50℃程度、好ましくは0℃〜
室温程度であり、一般に20〜5時間程度で反応は
終了する。
式(2c)の化合物の開環及び脱ハロゲン化は、
上記式(1c)の化合物の開環及び脱ハロゲン化と
同様の条件下に行なわれる。
上記式(1c)の化合物の開環及び脱ハロゲン化と
同様の条件下に行なわれる。
化合物(6)のアセチル化反応には通常のアセチル
化反応の条件を適用でき、例えば無溶媒もしくは
適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下にて
行われる。アセチル化剤としては例えばアセチル
ハライド、無水酢酸等の酸無水物又は酸ハライド
を使用でき、その使用量としては化合物(6)に対し
て通常少なくとも等モル量程度、好ましくは1〜
2倍モル量程度とするのがよい。塩基性化合物と
しては上記式(1a)の化合物のアリールスルホ
ニル化において用いられる塩基性化合物をいずれ
も使用できる。また溶媒としては具体的にはトリ
メチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の
第3級アミン類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類等を例示でき
る。該反応は通常−30〜50℃程度、好ましくは0
℃〜室温程度にて行なわれ、一般に5〜20時間程
度で反応は完結する。
化反応の条件を適用でき、例えば無溶媒もしくは
適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下にて
行われる。アセチル化剤としては例えばアセチル
ハライド、無水酢酸等の酸無水物又は酸ハライド
を使用でき、その使用量としては化合物(6)に対し
て通常少なくとも等モル量程度、好ましくは1〜
2倍モル量程度とするのがよい。塩基性化合物と
しては上記式(1a)の化合物のアリールスルホ
ニル化において用いられる塩基性化合物をいずれ
も使用できる。また溶媒としては具体的にはトリ
メチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の
第3級アミン類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジクロルメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類等を例示でき
る。該反応は通常−30〜50℃程度、好ましくは0
℃〜室温程度にて行なわれ、一般に5〜20時間程
度で反応は完結する。
化合物(7)のアセチル化は、上記化合物(6)のアセ
チル化と同様の条件下に行なわれる。
チル化と同様の条件下に行なわれる。
以下に参考例及び実施例を挙げる。
参考例 1
β―メタリル 2―ピリジル スルフイドの合
成 金属ナトリウム(3.1g)と無水エタノール
(100ml)とから作つたナトリウムエトキシド溶液
に2―ピリジン―チオール(15.0g)をとかし、
室温で30分間かきまぜる。氷冷し、β―メタリル
クロライド(14g)を加え、3時間かきまぜる。
成 金属ナトリウム(3.1g)と無水エタノール
(100ml)とから作つたナトリウムエトキシド溶液
に2―ピリジン―チオール(15.0g)をとかし、
室温で30分間かきまぜる。氷冷し、β―メタリル
クロライド(14g)を加え、3時間かきまぜる。
エタノールを減圧下留去し、水を加えてうす
め、エーテルで抽出する。エーテル層を5%水酸
化ナトリウム溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、
硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮して蒸留する
と21.0gのβ―メタリル 2―ピリジル スルフ
イドを得る。
め、エーテルで抽出する。エーテル層を5%水酸
化ナトリウム溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、
硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮して蒸留する
と21.0gのβ―メタリル 2―ピリジル スルフ
イドを得る。
沸点90〜92℃/1mmHg
NMRデータ
δ(60MHz,CDCl3,ppm)、1.80(3H,s)、
3.80(2H,s)、4.80(1H,s)、4.96(1H,
s)、6.70〜7.55(3H,m)、8.25〜8.45(1H,
m) 参考例 2 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルフイドの合成 アルゴン気流下−50℃で撹拌しているβ―メタ
リル 2―ピリジル スルフイド14.0gを無水テ
トラヒドロフラン150mlに溶解した溶液に1.5Nn
―ブチルリチウムのヘキサン溶液60mlを−50〜−
30℃に反応液を保ちながら滴下する。液は深赤色
となる。次に−60〜−70℃で撹拌しながら無水テ
トラヒドロフラン50mlに13.5gのイソプレニルブ
ロマイドを溶解した溶液を滴下する。カルバニオ
ンの赤色が消える。−70〜−50℃で1時間かきま
ぜ、次に反応温度を1時間を要して室温にあげ
る。塩化アンモニウム水溶液を加えた後有機層を
分取し、水層をエーテルで抽出する。有機層を合
し、炭酸カリウムで乾燥後濃縮蒸留し、1―イソ
プロペニル―4―メチル―3―ペンテニル 2―
ピリジル スルフイド16.8gを得る。
3.80(2H,s)、4.80(1H,s)、4.96(1H,
s)、6.70〜7.55(3H,m)、8.25〜8.45(1H,
m) 参考例 2 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルフイドの合成 アルゴン気流下−50℃で撹拌しているβ―メタ
リル 2―ピリジル スルフイド14.0gを無水テ
トラヒドロフラン150mlに溶解した溶液に1.5Nn
―ブチルリチウムのヘキサン溶液60mlを−50〜−
30℃に反応液を保ちながら滴下する。液は深赤色
となる。次に−60〜−70℃で撹拌しながら無水テ
トラヒドロフラン50mlに13.5gのイソプレニルブ
ロマイドを溶解した溶液を滴下する。カルバニオ
ンの赤色が消える。−70〜−50℃で1時間かきま
ぜ、次に反応温度を1時間を要して室温にあげ
る。塩化アンモニウム水溶液を加えた後有機層を
分取し、水層をエーテルで抽出する。有機層を合
し、炭酸カリウムで乾燥後濃縮蒸留し、1―イソ
プロペニル―4―メチル―3―ペンテニル 2―
ピリジル スルフイド16.8gを得る。
沸点115〜120℃/1mmHg
δ(60MHz,CDCl3,ppm) 1.62(6H,br.
s)、1.80(3H,s)、2.50(2H,t,J=7
Hz)、4.40(1H,t,J=7Hz)、4.81(1H,
t,J=2Hz)、4.98(1H,s)、5.15(1H,
t,J=6Hz)、6.75〜7.60(3H,m)、8.30
〜8.50(1H,m) 参考例 3 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルフオキシドの合成 アルゴン気流下−30℃に冷却して撹拌している
1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテニ
ル 2―ピリジン スルフイド17.2gを塩化メチ
レン200mlに溶解させた溶液にm―クロル―過安
息香酸(85%)15.7gを塩化メチレン250mlに溶
解した溶液を1時間かけて−30〜−20℃にて滴下
する。滴下開始後30分程でm―クロル安息香酸が
晶出する。2時間を要して反応温度を10℃まで上
げ、炭酸ナトリウム水溶液で反応液を洗浄する。
有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去し、1―イソプロペニル―4―メチル―3
―ペンテニル 2―ピリジル スルホキシド19.0
gを得る。
s)、1.80(3H,s)、2.50(2H,t,J=7
Hz)、4.40(1H,t,J=7Hz)、4.81(1H,
t,J=2Hz)、4.98(1H,s)、5.15(1H,
t,J=6Hz)、6.75〜7.60(3H,m)、8.30
〜8.50(1H,m) 参考例 3 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルフオキシドの合成 アルゴン気流下−30℃に冷却して撹拌している
1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテニ
ル 2―ピリジン スルフイド17.2gを塩化メチ
レン200mlに溶解させた溶液にm―クロル―過安
息香酸(85%)15.7gを塩化メチレン250mlに溶
解した溶液を1時間かけて−30〜−20℃にて滴下
する。滴下開始後30分程でm―クロル安息香酸が
晶出する。2時間を要して反応温度を10℃まで上
げ、炭酸ナトリウム水溶液で反応液を洗浄する。
有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧
下留去し、1―イソプロペニル―4―メチル―3
―ペンテニル 2―ピリジル スルホキシド19.0
gを得る。
性状 油状
NMRデータ
δ(60MHz,CDCl3,ppm) 1.2〜1.9(9H,
m,1.40,1.50,1.68,1.86)、2.0〜2.8(2H,
m)、3.3〜3.7(1H,m)、4.4〜5.2(3H,m)、
7.2〜7.5(1H,m)、7.8〜8.1(2H,m)、8.5
〜8.7(1H,m) 参考例 4 (E)―2,6―ジメチル―2,5―ヘプタジエン
―1―オールの合成 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルホキシド19.0gをメタ
ノール80mlに溶解し、ジエチルアミン80mlを加
え、室温にて一夜撹拌する。メタノール―ジエチ
ルアミンを減圧下留去し、水で希釈後エーテルで
抽出する。エーテル層は希塩酸で洗浄し、炭酸水
素ナトリウム溶液、食塩水で洗浄し、炭酸カリウ
ムで乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルクロマト
グラフイーにて精製する。(メルク社製、キーゼ
ルゲル60)目的物を濃縮後蒸留を行ない(E)―2,
6―ジメチル―2,5―ヘプタジエン―1―オー
ル6.31gを得る。
m,1.40,1.50,1.68,1.86)、2.0〜2.8(2H,
m)、3.3〜3.7(1H,m)、4.4〜5.2(3H,m)、
7.2〜7.5(1H,m)、7.8〜8.1(2H,m)、8.5
〜8.7(1H,m) 参考例 4 (E)―2,6―ジメチル―2,5―ヘプタジエン
―1―オールの合成 1―イソプロペニル―4―メチル―3―ペンテ
ニル 2―ピリジル スルホキシド19.0gをメタ
ノール80mlに溶解し、ジエチルアミン80mlを加
え、室温にて一夜撹拌する。メタノール―ジエチ
ルアミンを減圧下留去し、水で希釈後エーテルで
抽出する。エーテル層は希塩酸で洗浄し、炭酸水
素ナトリウム溶液、食塩水で洗浄し、炭酸カリウ
ムで乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルクロマト
グラフイーにて精製する。(メルク社製、キーゼ
ルゲル60)目的物を濃縮後蒸留を行ない(E)―2,
6―ジメチル―2,5―ヘプタジエン―1―オー
ル6.31gを得る。
沸点97〜99℃/9mmHg
NMRデータ
δ(100MHz,CCl4,ppm) 1.63(6H,s)、
1.67(3H,s)、2.68(2H,t,J=7Hz)、
3.17(1H,br.s)、3.86(2H、s)、5.05(1H,
t,J=7Hz)、5.29(1H,t,J=7Hz) 実施例 1 (2R,3R)−(+)−2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オールの合
成 200mlのナスフラスコにテフロンバーを入れ、
セラムキヤツプをつける。アルゴン置換の後、無
水塩化メチレン72mlを入れ−23℃の四塩化炭素―
ドライアイスバスで冷却する。撹拌しながらチタ
ニウムテトライソプロポキシド2.12ml、D―
(−)―酒石酸ジエチル1.22mlを順次加える。5
分後(E)―2,6―ジメチル―2,5―ヘプタジエ
ン―1―オール1.00gおよび3.64Mのt―ブチル
ヒドロペルオキシドの1,2―ジクロルエタン溶
液3.92mlを加える。その後−20℃の冷凍室にて17
〜18時間保存する。再び−23℃の四塩化炭素―ド
ライアイスバスで氷冷撹拌下、10%酒石酸18mlを
加える。30分後バスをはずし、1時間を要して室
温にもどす。有機層を分取後、水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後エーテル50mlで希釈
し、0℃まで冷却し、10%水酸化ナトリウム溶液
20mlを加える。0℃前後に保ちながら30分間撹拌
する。エーテル層を分取し、食塩水で洗浄後、硫
酸マグネシウムで乾燥する。濃縮して得られた粗
オイル状物1.32gをシリカゲルクロマトグラフイ
ー(メルク社製、キーゼルゲル60)により精製後
蒸留し、(2R,3R)―(+)―2,3―エポキ
シ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オー
ル0.66gを得る。
1.67(3H,s)、2.68(2H,t,J=7Hz)、
3.17(1H,br.s)、3.86(2H、s)、5.05(1H,
t,J=7Hz)、5.29(1H,t,J=7Hz) 実施例 1 (2R,3R)−(+)−2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オールの合
成 200mlのナスフラスコにテフロンバーを入れ、
セラムキヤツプをつける。アルゴン置換の後、無
水塩化メチレン72mlを入れ−23℃の四塩化炭素―
ドライアイスバスで冷却する。撹拌しながらチタ
ニウムテトライソプロポキシド2.12ml、D―
(−)―酒石酸ジエチル1.22mlを順次加える。5
分後(E)―2,6―ジメチル―2,5―ヘプタジエ
ン―1―オール1.00gおよび3.64Mのt―ブチル
ヒドロペルオキシドの1,2―ジクロルエタン溶
液3.92mlを加える。その後−20℃の冷凍室にて17
〜18時間保存する。再び−23℃の四塩化炭素―ド
ライアイスバスで氷冷撹拌下、10%酒石酸18mlを
加える。30分後バスをはずし、1時間を要して室
温にもどす。有機層を分取後、水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後エーテル50mlで希釈
し、0℃まで冷却し、10%水酸化ナトリウム溶液
20mlを加える。0℃前後に保ちながら30分間撹拌
する。エーテル層を分取し、食塩水で洗浄後、硫
酸マグネシウムで乾燥する。濃縮して得られた粗
オイル状物1.32gをシリカゲルクロマトグラフイ
ー(メルク社製、キーゼルゲル60)により精製後
蒸留し、(2R,3R)―(+)―2,3―エポキ
シ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オー
ル0.66gを得る。
沸点83〜84℃/0.7mmHg
NMRデータ δ(CCl4,ppm)
1.22(3H,s)、1.60(3H,s)、1.68(3H,
s)、1.95〜2.35(2H,m)、2.82(1H,t,
J=7Hz)、3.21(1H,br.s)、3.19〜3.58
(2H,m)、5.05(1H,t,J=7Hz) 〔α〕22.5 D:+12.6゜(C=2.13、クロロホルム) 実施例 2 (2S,3S)−(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オールの合
成 実施例1においてD―(−)―酒石酸ジエチル
の代りにL―(+)―酒石酸ジエチル2.44mlを用
い、他はすべて2倍のスケールで同様の操作を行
い粗オイル状物2.32gを得、シリカゲルクロマト
グラフイーにより精製し、蒸留により(2S,3S)
―(−)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチル
―5―ヘプテン―1―オール1.42gを得る。
s)、1.95〜2.35(2H,m)、2.82(1H,t,
J=7Hz)、3.21(1H,br.s)、3.19〜3.58
(2H,m)、5.05(1H,t,J=7Hz) 〔α〕22.5 D:+12.6゜(C=2.13、クロロホルム) 実施例 2 (2S,3S)−(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オールの合
成 実施例1においてD―(−)―酒石酸ジエチル
の代りにL―(+)―酒石酸ジエチル2.44mlを用
い、他はすべて2倍のスケールで同様の操作を行
い粗オイル状物2.32gを得、シリカゲルクロマト
グラフイーにより精製し、蒸留により(2S,3S)
―(−)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチル
―5―ヘプテン―1―オール1.42gを得る。
沸点91〜93℃/1.0mmHg
NMRデータは実施例1のそれと同様であつ
た。
た。
〔α〕22.5 D:−12.2゜(C=1.56、クロロホルム)
実施例 3
(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
トシレイトの合成 (2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
1.00gの無水ピリジン11ml溶液に、氷冷撹拌下ト
シルクロライド1.44gを少量づつ加える。さらに
一晩同温度下に撹拌後、氷水に注ぎ込む。エーテ
ルで抽出後水、硫酸銅溶液、炭酸水素ナトリウム
溶液、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。濃縮して、(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オール トシレイト1.83gを得る。
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
トシレイトの合成 (2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール
1.00gの無水ピリジン11ml溶液に、氷冷撹拌下ト
シルクロライド1.44gを少量づつ加える。さらに
一晩同温度下に撹拌後、氷水に注ぎ込む。エーテ
ルで抽出後水、硫酸銅溶液、炭酸水素ナトリウム
溶液、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。濃縮して、(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オール トシレイト1.83gを得る。
NMRデータ δ(CCl4,ppm)
1.23(3H,s)、1.59(3H,s)、1.67(3H,
s)、1.92〜2.32(2H,m)、2.39(3H,s)、
2.63(1H,t,J=7Hz)、3.80(2H,s)、
5.03(1H,t,J=7Hz)、7.24(2H,d,J
=8Hz)、7.66(2H,d,J=8Hz) 実施例 4 (2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール ト
シレイトの合成 実施例3において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オールの代りに(2S,3S)―(−)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オールを1.10g用い、ピリジン12ml、トシ
ルクロライド1.61g用いて同様の操作を行い
(2S,3S)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチ
ル―5―ヘプテン―1―オール トシレイト2.01
gを得る。
s)、1.92〜2.32(2H,m)、2.39(3H,s)、
2.63(1H,t,J=7Hz)、3.80(2H,s)、
5.03(1H,t,J=7Hz)、7.24(2H,d,J
=8Hz)、7.66(2H,d,J=8Hz) 実施例 4 (2S,3S)―(−)―2,3―エポキシ―2,
6―ジメチル―5―ヘプテン―1―オール ト
シレイトの合成 実施例3において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オールの代りに(2S,3S)―(−)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オールを1.10g用い、ピリジン12ml、トシ
ルクロライド1.61g用いて同様の操作を行い
(2S,3S)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチ
ル―5―ヘプテン―1―オール トシレイト2.01
gを得る。
NMRデータは実施例3のそれと同様であつ
た。
た。
実施例 5
(2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイ
ドの合成 アセトン30mlに(2R,3R)―(+)―2,3
―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン―
1―オール トシレイト1.82gを溶解した溶液に
ヨウ化ナトリウム3.23gを加え、1.5時間還流下
撹拌を行なう。アセトンを留去後エーテル抽出を
行ない、水、チオ硫酸ナトリウム溶液、炭酸水素
ナトリウム溶液、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後シリカゲルクロマト
グラフイーで精製し(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテニ
ル ヨーダイド1.39gを得る。
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイ
ドの合成 アセトン30mlに(2R,3R)―(+)―2,3
―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン―
1―オール トシレイト1.82gを溶解した溶液に
ヨウ化ナトリウム3.23gを加え、1.5時間還流下
撹拌を行なう。アセトンを留去後エーテル抽出を
行ない、水、チオ硫酸ナトリウム溶液、炭酸水素
ナトリウム溶液、食塩水で順次洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後シリカゲルクロマト
グラフイーで精製し(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテニ
ル ヨーダイド1.39gを得る。
NMRデータδ(CCl4,ppm)1.40(3H,s)、
1.62(3H,s)、1.71(3H,s)、1.92〜2.33
(2H,m)、2.69(1H,t,J=7Hz)、2.91
(1H,d,J=10Hz)、3.16(1H,d=10
Hz)、5.06(1H,t,J=7Hz) 実施例 6 (2R,3R)―(−)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイ
ドの合成 実施例5において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オール トシレイトの代りに(2S,3S)
―(−)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチル
―5―ヘプテン―1―オール トシレイト1.96g
を用い、アセトン30ml、ヨウ化ナトリウム3.50g
を用い同様の操作を行い、(2S,3S)―(−)―
2,3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプ
テニル ヨーダイド1.54gを得る。
1.62(3H,s)、1.71(3H,s)、1.92〜2.33
(2H,m)、2.69(1H,t,J=7Hz)、2.91
(1H,d,J=10Hz)、3.16(1H,d=10
Hz)、5.06(1H,t,J=7Hz) 実施例 6 (2R,3R)―(−)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイ
ドの合成 実施例5において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテン
―1―オール トシレイトの代りに(2S,3S)
―(−)―2,3―エポキシ―2,6―ジメチル
―5―ヘプテン―1―オール トシレイト1.96g
を用い、アセトン30ml、ヨウ化ナトリウム3.50g
を用い同様の操作を行い、(2S,3S)―(−)―
2,3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプ
テニル ヨーダイド1.54gを得る。
NMRデータは実施例5のそれと同様であつ
た。
た。
以下に実施例5,6で得た化合物からのクワコ
ナカイガラムシフエロモン(天然型及び非天然
型)の合成法を示す。
ナカイガラムシフエロモン(天然型及び非天然
型)の合成法を示す。
参考例 5
(R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オールの合成 (2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイド
1.21gを酢酸7mlに溶解した溶液に氷冷撹拌下、
亜鉛粉末1.20gを少量づつ加える。加え終つた
後、室温で20分間撹拌を続ける。反応終了後エー
テルで希釈し、セライト過を行なう。エーテル
層を水、チオ硫酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム溶液、食塩水にて順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。濃縮後蒸留し、(R)―(+)―
2,6―ジメチル―1,5―ヘプタジエン―3―
オールを0.5g得る。
ヘプタジエン―3―オールの合成 (2R,3R)―(+)―2,3―エポキシ―
2,6―ジメチル―5―ヘプテニル ヨーダイド
1.21gを酢酸7mlに溶解した溶液に氷冷撹拌下、
亜鉛粉末1.20gを少量づつ加える。加え終つた
後、室温で20分間撹拌を続ける。反応終了後エー
テルで希釈し、セライト過を行なう。エーテル
層を水、チオ硫酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム溶液、食塩水にて順次洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。濃縮後蒸留し、(R)―(+)―
2,6―ジメチル―1,5―ヘプタジエン―3―
オールを0.5g得る。
沸点82〜83℃/15mmHg
NMRデータδ(CCl4,ppm)1.59(3H,s)、
1.66(6H,s)、2.14(2H,t,J=7Hz)、
2.48(1H,s)、3.87(1H,t,J=7Hz)、
4.67(1H,br.s)、4.80(1H,br.s)、5.00(1H,
t,J=7Hz) 〔α〕23 D:+26.4゜(C=5.11、n―ヘキサン) 参考例 6 (S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オールの合成 参考例5において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテニ
ル ヨーダイドの代りに(2S,3S)―(−)―
2,3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプ
テニル ヨーダイドを1.41g用い、酢酸9ml、亜
鉛粉末1.45gを用い、同様の操作にて(S)―
(−)―2,6―ジメチル―5―ヘプタジエン―
3―オールを0.54g得る。
1.66(6H,s)、2.14(2H,t,J=7Hz)、
2.48(1H,s)、3.87(1H,t,J=7Hz)、
4.67(1H,br.s)、4.80(1H,br.s)、5.00(1H,
t,J=7Hz) 〔α〕23 D:+26.4゜(C=5.11、n―ヘキサン) 参考例 6 (S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オールの合成 参考例5において(2R,3R)―(+)―2,
3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプテニ
ル ヨーダイドの代りに(2S,3S)―(−)―
2,3―エポキシ―2,6―ジメチル―5―ヘプ
テニル ヨーダイドを1.41g用い、酢酸9ml、亜
鉛粉末1.45gを用い、同様の操作にて(S)―
(−)―2,6―ジメチル―5―ヘプタジエン―
3―オールを0.54g得る。
沸点64〜65℃/5mmHg
NMRデータは参考例5のそれと同様であつ
た。
た。
〔α〕23 D:−26.5゜(C=6.11、n―ヘキサン)
参考例 7
(R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オール アセテートの合成 (R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オール0.40gの無水ピリジン
2ml溶液に無水酢酸1mlを加え、一晩室温で撹拌
する。氷水に注いだ後エーテル抽出し、希塩酸、
炭酸水素ナトリウム溶液、水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後蒸留
し、(R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5
―ヘプタジエン―3―オールアセテート0.41gを
得る。
ヘプタジエン―3―オール アセテートの合成 (R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オール0.40gの無水ピリジン
2ml溶液に無水酢酸1mlを加え、一晩室温で撹拌
する。氷水に注いだ後エーテル抽出し、希塩酸、
炭酸水素ナトリウム溶液、水、食塩水で順次洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。濃縮後蒸留
し、(R)―(+)―2,6―ジメチル―1,5
―ヘプタジエン―3―オールアセテート0.41gを
得る。
沸点65〜67℃/15mmHg
NMRデータ(100MHz,CCl4,ppm)1.61
(3H,s)、1.69(6H,s)、1.96(3H,s)、
2.26(2H,t,J=7Hz)、4.75〜5.17(4H,
m,4.83,4.90,5.01,5.08,5.15) 〔α〕22 D:+5.68゜(C=1.76、n―ヘキサン) 参考例 8 (S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オール アセテートの合成 参考例7において(R)―(+)―2,6―ジ
メチル―1,5―ヘプタジエン―3―オールの代
りに(S)―2,6―ジメチル―1,5―ヘプタ
ジエン―3―オール0.43gを用い、同様な操作を
行い(S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5
―ヘプタジエン―3―オール アセテート0.45g
を得る。
(3H,s)、1.69(6H,s)、1.96(3H,s)、
2.26(2H,t,J=7Hz)、4.75〜5.17(4H,
m,4.83,4.90,5.01,5.08,5.15) 〔α〕22 D:+5.68゜(C=1.76、n―ヘキサン) 参考例 8 (S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―
ヘプタジエン―3―オール アセテートの合成 参考例7において(R)―(+)―2,6―ジ
メチル―1,5―ヘプタジエン―3―オールの代
りに(S)―2,6―ジメチル―1,5―ヘプタ
ジエン―3―オール0.43gを用い、同様な操作を
行い(S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5
―ヘプタジエン―3―オール アセテート0.45g
を得る。
沸点66℃/15mmHg
NMRデータは参考例7のそれと同様であつ
た。
た。
〔α〕22 D:−5.72゜(C=1.96、n―ヘキサン)
参考例 9
MTPA((−)―α―メトキシ―α―トリフル
オロメチルフエニル酢酸クロライド)による光学
純度の決定 参考例5で得られたR(+)―2,6―ジメチ
ル―1,5―ヘプタジエン―3―オール53.9mg及
びDMAP(4―N,N―ジメチルアミノピリジ
ン)を無水塩化メチレン0.5mlに加え、撹拌しな
がら(S)―(−)MTPA・Cl102mgを滴下す
る。一晩室温で撹拌後ジエチルアミノプロピルア
ミン3滴を加え、過剰のMTPM・Clと反応させ
る。5分後エーテルで希釈の後希塩酸、炭酸水素
ナトリウム水、水および食塩で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後R―(+)―2,6
―ジメチル―1,5―ヘプタジエン―3―オール
(S)―(−)―MTPAエステルの粗油状物135
mgを得る。
オロメチルフエニル酢酸クロライド)による光学
純度の決定 参考例5で得られたR(+)―2,6―ジメチ
ル―1,5―ヘプタジエン―3―オール53.9mg及
びDMAP(4―N,N―ジメチルアミノピリジ
ン)を無水塩化メチレン0.5mlに加え、撹拌しな
がら(S)―(−)MTPA・Cl102mgを滴下す
る。一晩室温で撹拌後ジエチルアミノプロピルア
ミン3滴を加え、過剰のMTPM・Clと反応させ
る。5分後エーテルで希釈の後希塩酸、炭酸水素
ナトリウム水、水および食塩で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。濃縮後R―(+)―2,6
―ジメチル―1,5―ヘプタジエン―3―オール
(S)―(−)―MTPAエステルの粗油状物135
mgを得る。
NMRデータδ(CDCl3,100MHz,ppm)1.62
(3H,s)、1.63(3H,s)、1.69(3H,s)、
2.16〜2.62(2H,m)、3.53(3H,s)、4.88
(11H,br.s)、4.93(1H,br.s)、5.06(1H,
t,J=7Hz) 前記においてR(+)―2,6―ジメチル―
1,5―ヘプタジエン―3―オールの代りに参考
例6で得られたS(−)―2,6―ジメチル―1,
5―ヘプタジエン―3―オールを55.3mg用い、
DMAP105mg、無水塩化メチレン0.5ml、(−)
MTPA・Cl105mgを用い他は同様の操作にて、
(S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―ヘ
プタジエン―3―オール(S)―(−)―
MTPAエステルの粗油状物119mgを得る。
(3H,s)、1.63(3H,s)、1.69(3H,s)、
2.16〜2.62(2H,m)、3.53(3H,s)、4.88
(11H,br.s)、4.93(1H,br.s)、5.06(1H,
t,J=7Hz) 前記においてR(+)―2,6―ジメチル―
1,5―ヘプタジエン―3―オールの代りに参考
例6で得られたS(−)―2,6―ジメチル―1,
5―ヘプタジエン―3―オールを55.3mg用い、
DMAP105mg、無水塩化メチレン0.5ml、(−)
MTPA・Cl105mgを用い他は同様の操作にて、
(S)―(−)―2,6―ジメチル―1,5―ヘ
プタジエン―3―オール(S)―(−)―
MTPAエステルの粗油状物119mgを得る。
NMRデータδ(CDCl3,100MHz,ppm)1.55
(3H,s)、1.64(3H,S)、1.75(3H,s)、
2.18〜2.58(2H,m)、3.54(3H,s)、4.82〜
5.18(3H,m、但4.98(1H,br.s)および5.08
(1H,br.s)を含む)、5.45(1H,t,7Hz)、
7.26〜7.70(5H,m)
(3H,s)、1.64(3H,S)、1.75(3H,s)、
2.18〜2.58(2H,m)、3.54(3H,s)、4.82〜
5.18(3H,m、但4.98(1H,br.s)および5.08
(1H,br.s)を含む)、5.45(1H,t,7Hz)、
7.26〜7.70(5H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 及び 〔式中Rは水酸基、アリールスルホニルオキシ基
又はヨード原子を示す。〕 で表わされる2,3―エポキシ―2,6―ジメチ
ル―5―ヘプテン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4778381A JPS57163372A (en) | 1981-03-30 | 1981-03-30 | 2,3-epoxy-2,6-dimethyl-5-heptene derivative |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4778381A JPS57163372A (en) | 1981-03-30 | 1981-03-30 | 2,3-epoxy-2,6-dimethyl-5-heptene derivative |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57163372A JPS57163372A (en) | 1982-10-07 |
| JPH0210833B2 true JPH0210833B2 (ja) | 1990-03-09 |
Family
ID=12784966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4778381A Granted JPS57163372A (en) | 1981-03-30 | 1981-03-30 | 2,3-epoxy-2,6-dimethyl-5-heptene derivative |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57163372A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0593276U (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-21 | 株式会社湯目家具百貨店 | スキー板収納器具 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5034546A (en) * | 1986-11-28 | 1991-07-23 | Hoffmann-La Roche Inc. | Novel vitamin E intermediates and a process for their manufacture and conversion into vitamin E |
| WO2004094397A1 (ja) * | 2003-04-21 | 2004-11-04 | Kaneka Corporation | スルホン酸グリシジル誘導体の製造法 |
| JP6553553B2 (ja) * | 2016-07-29 | 2019-07-31 | 信越化学工業株式会社 | 2,6−ジメチル−1,5−ヘプタジエン−3−オール及び2,6−ジメチル−1,5−ヘプタジエン−3−イル=アセテートの製造方法 |
-
1981
- 1981-03-30 JP JP4778381A patent/JPS57163372A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0593276U (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-21 | 株式会社湯目家具百貨店 | スキー板収納器具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57163372A (en) | 1982-10-07 |
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