JPH02119945A - 窒素酸化物除去用触媒 - Google Patents
窒素酸化物除去用触媒Info
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- JPH02119945A JPH02119945A JP63274162A JP27416288A JPH02119945A JP H02119945 A JPH02119945 A JP H02119945A JP 63274162 A JP63274162 A JP 63274162A JP 27416288 A JP27416288 A JP 27416288A JP H02119945 A JPH02119945 A JP H02119945A
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ボイラー等から排出される燃焼後の排ガス中
に含まれる窒素酸化物を、アンモニアを還元剤として接
触還元法により除去する際に使用する触媒に間する。よ
り詳しく述べれば、250〜400℃の排ガス温度にお
いて、排ガスに含まれる窒素酸化物を高い除去率で除去
するための触媒に関する。
に含まれる窒素酸化物を、アンモニアを還元剤として接
触還元法により除去する際に使用する触媒に間する。よ
り詳しく述べれば、250〜400℃の排ガス温度にお
いて、排ガスに含まれる窒素酸化物を高い除去率で除去
するための触媒に関する。
〈従来の技術〉
大気汚染防止を目的として行われる、ボイラー等から排
出される燃焼後の排ガス中に含まれる窒素酸化物の除去
については、触媒の存在下、アンモニアを還元剤として
用いる接触還元法が、現在、工業的方法として最も普及
している。
出される燃焼後の排ガス中に含まれる窒素酸化物の除去
については、触媒の存在下、アンモニアを還元剤として
用いる接触還元法が、現在、工業的方法として最も普及
している。
上記接触還元法は、排ガス中の窒素酸化物とアンモニア
とを触媒の存在のもとに反応させて、水と窒素ガス(N
2)に還元処理する方法である。
とを触媒の存在のもとに反応させて、水と窒素ガス(N
2)に還元処理する方法である。
上記方法において用いる還元触媒としては、比表面積の
大きな活性酸化チタンを担体とし、該担体に活性成分と
しての酸化タングステン、酸化バナジウム、酸化鉄、酸
化モリブデン、酸化スズなどを担持させたものが知られ
ている。
大きな活性酸化チタンを担体とし、該担体に活性成分と
しての酸化タングステン、酸化バナジウム、酸化鉄、酸
化モリブデン、酸化スズなどを担持させたものが知られ
ている。
また、大きな比表面積を有する酸化アルミニウムを担体
とし、この担体に酸化タングステン、酸化バナジウムな
どの金属酸化物を担持させた触媒も知られている。
とし、この担体に酸化タングステン、酸化バナジウムな
どの金属酸化物を担持させた触媒も知られている。
ところで、重油又は石炭の燃焼ガスのように硫黄酸化物
を含有する排ガス中に含まれる窒素酸化物を除去するた
めの触媒の担体として用いられる金属酸化物としては、
硫黄酸化物に対する耐被毒性の点て、酸化チタンが最も
好適であると言われている。
を含有する排ガス中に含まれる窒素酸化物を除去するた
めの触媒の担体として用いられる金属酸化物としては、
硫黄酸化物に対する耐被毒性の点て、酸化チタンが最も
好適であると言われている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、近年ますます触媒性能向上の要求が厳し
くなってきており、上記の従来の触媒は、酸化チタンを
担体とするものも含め必ずしも満足の行くものではなく
なった。
くなってきており、上記の従来の触媒は、酸化チタンを
担体とするものも含め必ずしも満足の行くものではなく
なった。
本発明は以上の事情に鑑みなされたものであって、より
一層高い窒素酸化物除去率を可能ならしめる触媒を提供
することにある。
一層高い窒素酸化物除去率を可能ならしめる触媒を提供
することにある。
く課題を解決するための手段〉
上記目的を達成するための本発明に係る窒素酸化物除去
用触媒は、下記組成式で表される酸型モルデナイトを担
体とし、生成エンタルピー−△I−1、°が80(Kc
al/酸素グラム原子)以下である金属酸化物を活性成
分とするものである。
用触媒は、下記組成式で表される酸型モルデナイトを担
体とし、生成エンタルピー−△I−1、°が80(Kc
al/酸素グラム原子)以下である金属酸化物を活性成
分とするものである。
組成式:
%式%)
ここて、z/x (モル比)は0.4以下、y/X(モ
ル比)は5以上である。
ル比)は5以上である。
Z/Xが0.4以下のものに特定したのは、置換された
H+によって形成される酸型モルデナイトの酸点へのア
ンモニアの吸着を有効に行わしめ、アンモニアとNoの
効率的な反応が行われるからである。
H+によって形成される酸型モルデナイトの酸点へのア
ンモニアの吸着を有効に行わしめ、アンモニアとNoの
効率的な反応が行われるからである。
また、y/xが5以上のものに特定したのは、y/xが
大きくなるにつれて酸型モルデナイトの耐熱性及び耐酸
性が向上し、5以上の場合に安定な担体を提供出来るか
らである。
大きくなるにつれて酸型モルデナイトの耐熱性及び耐酸
性が向上し、5以上の場合に安定な担体を提供出来るか
らである。
なお、5≦y/X<15のものが好ましい。
y/xが15以上の場合、酸型モルデナイトの酸強度が
低下してしまい、好適に機能する触媒を得ることが困難
になるからである。
低下してしまい、好適に機能する触媒を得ることが困難
になるからである。
Z/Xが0.4以下の酸型モルデナイトとしては、例え
ばTSZ−620HOA (商品名、束ソー社製)を挙
げることができろ。この酸型モルデナイトの合成は、通
常、市販のN型モルデナイト(8!1成式:NaX’
[(A102)X’ (Si02)yコ・mH20)を
、0.IN(規定)の1(CI又は1〜3NのNH4C
lなどに必要回数くりかえし浸ン責することにより、 Na の所定量を11+又はNH4+などで置換し+ た後、300〜800℃で焼成することにより行われる
。
ばTSZ−620HOA (商品名、束ソー社製)を挙
げることができろ。この酸型モルデナイトの合成は、通
常、市販のN型モルデナイト(8!1成式:NaX’
[(A102)X’ (Si02)yコ・mH20)を
、0.IN(規定)の1(CI又は1〜3NのNH4C
lなどに必要回数くりかえし浸ン責することにより、 Na の所定量を11+又はNH4+などで置換し+ た後、300〜800℃で焼成することにより行われる
。
y/xが上記範囲にある酸型モルデナイトとしては、前
記市販(7,ITsZ−620HOAなどが挙げられる
が、y/xが上記箱面にあるN型モルデナイトを前記と
同様の方法によりNa+をH+て置換することによって
作製してもよい。
記市販(7,ITsZ−620HOAなどが挙げられる
が、y/xが上記箱面にあるN型モルデナイトを前記と
同様の方法によりNa+をH+て置換することによって
作製してもよい。
N型モルデナイトの市販品としては、y/xが5.1で
あるTSZ−60ONAASy/xが7.5であるTS
Z−62ONAA、y/xが9.5であるTSZ−64
ONAA (以上、いずれも商品名、東ソー社製)が例
示される。
あるTSZ−60ONAASy/xが7.5であるTS
Z−62ONAA、y/xが9.5であるTSZ−64
ONAA (以上、いずれも商品名、東ソー社製)が例
示される。
また、市販のN型モルデナイトを前述した方法によって
■]+て置換した後、さらに2NのHC1溶液を用いて
、d漬処理を必要回数くりかえずことにより、所望のy
/xモル比を有する酸型モルデナイトを一種のN型モル
デナイトから調製することができる。
■]+て置換した後、さらに2NのHC1溶液を用いて
、d漬処理を必要回数くりかえずことにより、所望のy
/xモル比を有する酸型モルデナイトを一種のN型モル
デナイトから調製することができる。
なお、市販のN型モルデナイトとしては、上記TSZ−
60ONAAの他にもNM−100P(商品名、日本化
学社製)などがある。
60ONAAの他にもNM−100P(商品名、日本化
学社製)などがある。
本fa明に係る窒素酸化物除去用触媒は、上記担体に、
生成エンタルピー−△Hf°が80(Kcal/酸素グ
ラム原子)以下である金属酸化物を活性成分を担持させ
たものである。
生成エンタルピー−△Hf°が80(Kcal/酸素グ
ラム原子)以下である金属酸化物を活性成分を担持させ
たものである。
−ΔHどが80(Kcal/酸素グラム原子)以下であ
る金属酸化物としては、■、0□、■n203、Fe2
O3、NiO,RuO2及びCUOなどが例示される。
る金属酸化物としては、■、0□、■n203、Fe2
O3、NiO,RuO2及びCUOなどが例示される。
一△H,。が80以下のものに特定したのは、この場合
に、金属酸化物により形成された活性点のN113に対
する酸化力が適切に制御され、N2が生成し易くなり、
触媒反応が良好に進行するからである。
に、金属酸化物により形成された活性点のN113に対
する酸化力が適切に制御され、N2が生成し易くなり、
触媒反応が良好に進行するからである。
上記金属酸化物は、通常、担体100重量部に対して0
.1−10i量部使用する。これは、0.1重量部未満
の場合、触媒の効果が充分には奏されないからであり、
また10重型部を越える場合、増徴に相応した効果を期
待し得ないからである。
.1−10i量部使用する。これは、0.1重量部未満
の場合、触媒の効果が充分には奏されないからであり、
また10重型部を越える場合、増徴に相応した効果を期
待し得ないからである。
上記担体と上記活性成分とを含有する触媒の製造法は、
公知の製造法を適宜選択して用いればよ賦形性等を高め
るために、触媒調製段階において、成形助剤、無8M繊
維等の成形体補強剤、有機結着剤などを適宜配合しても
よい。
公知の製造法を適宜選択して用いればよ賦形性等を高め
るために、触媒調製段階において、成形助剤、無8M繊
維等の成形体補強剤、有機結着剤などを適宜配合しても
よい。
〈実施例〉
以下に実施例と共に比較例を挙げて本発明を説明するが
、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものでは
ない。
、本発明はこれら実施例により何ら限定されるものでは
ない。
(実施例り
Nax[(AlO2)x・(Si02)y]・mH2O
てあられされ、かつy/xが6.3のN型モルデナイト
の市販品、NM−100P(商品名、日本化学社製)5
00gを2Ng度のNH4Cl溶液3見に浸漬し、温度
70〜80℃で2時間撹拌した後、濾別した。この操作
を数回繰り返し行い、(Hx−2)・(Naz)・[(
A102)X ・ (SiO2) y] ・mHaOで
表される、Z/Xが0.01のケーキ状の酸型モルデナ
イトを得た。この酸型モルデナイトを、100℃で8時
間乾燥した後、さらに500℃で3時間焼成した。次い
て焼成物を冷却後、サンプルミルにて粉砕した。次いて
セラミックファイバー製基材をこれら酸型モルデナイト
を含有するスラリー中く濃度5oog/Q)に浸漬し、
過剰のスラリーを除去して乾燥した後、800℃で3時
間焼成し、酸型モルデナイトの担体を調製した。このと
き、セラミックファイバー基材に刻する酸型モルデナイ
トの重量は2倍であった。次にこの担体をCuCl2水
溶液中に浸漬し、活性成分としてのCuOを含浸させた
後、100℃で12時間乾燥した後、更に500℃で3
時間焼成し、窒素酸化物除去用触媒を得た。CuOの担
持量は、担体100重量部に対して0.1重量部であっ
た。
てあられされ、かつy/xが6.3のN型モルデナイト
の市販品、NM−100P(商品名、日本化学社製)5
00gを2Ng度のNH4Cl溶液3見に浸漬し、温度
70〜80℃で2時間撹拌した後、濾別した。この操作
を数回繰り返し行い、(Hx−2)・(Naz)・[(
A102)X ・ (SiO2) y] ・mHaOで
表される、Z/Xが0.01のケーキ状の酸型モルデナ
イトを得た。この酸型モルデナイトを、100℃で8時
間乾燥した後、さらに500℃で3時間焼成した。次い
て焼成物を冷却後、サンプルミルにて粉砕した。次いて
セラミックファイバー製基材をこれら酸型モルデナイト
を含有するスラリー中く濃度5oog/Q)に浸漬し、
過剰のスラリーを除去して乾燥した後、800℃で3時
間焼成し、酸型モルデナイトの担体を調製した。このと
き、セラミックファイバー基材に刻する酸型モルデナイ
トの重量は2倍であった。次にこの担体をCuCl2水
溶液中に浸漬し、活性成分としてのCuOを含浸させた
後、100℃で12時間乾燥した後、更に500℃で3
時間焼成し、窒素酸化物除去用触媒を得た。CuOの担
持量は、担体100重量部に対して0.1重量部であっ
た。
(実施例2)
実施例1において、CuOの担持量を担体100重量部
に対して2.0重量部としたこと以外は実施例1と全く
同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
に対して2.0重量部としたこと以外は実施例1と全く
同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(実施例3)
実施例1において、CuOの担持量を担体100重量部
に刻して5.0重量部としたこと以外は実施例1と全く
同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
に刻して5.0重量部としたこと以外は実施例1と全く
同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(実施例4)
実施例1において、CuOの担持量を担体100重量部
に刻して10,0重量部としたこと以外は、実施例1と
全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
に刻して10,0重量部としたこと以外は、実施例1と
全く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(実施例5)
実施例1において、最終的にZ/Xが0.05となるも
のをit、Cu Oの担持量を担体100重1部に刻し
て5.0重量部としたこと以外は、実施例1と全く同様
にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
のをit、Cu Oの担持量を担体100重1部に刻し
て5.0重量部としたこと以外は、実施例1と全く同様
にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(実施例6)
実施例1において、2N!度のNH4Cl溶液のかわり
に、INg度のN)14C1を用いて、常温にて処理し
、最終的にZ/Xが0.09のものを得、CuOの担持
量を担体100重量部に対して5.0重量部としたこと
以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触
媒を得た。
に、INg度のN)14C1を用いて、常温にて処理し
、最終的にZ/Xが0.09のものを得、CuOの担持
量を担体100重量部に対して5.0重量部としたこと
以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除去用触
媒を得た。
(実施例7)
実施例6において、最終的にZ/Xが0.37のものを
得たこと以外は、実施例6と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
得たこと以外は、実施例6と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(比較例1)
実施例6において、最終的にZ/Xが0.45のものを
得たこと以外は、実施例6と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
得たこと以外は、実施例6と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(実施例8)
実施例3において、含浸する活性成分をIn2O3にか
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(実施例9)
実施例3において、含浸する活性成分をFe2O3にか
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(実施例10)
実施例3において、含浸する活性成分をNiOにかえた
こと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得・た。
こと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得・た。
(実施例11)
実施例3において、含浸する活性成分な■20、にかえ
たこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
たこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
(実施例12)
実施例3において、含浸する活性成分なWO3にかえた
こと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
こと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除去
用触媒を得た。
(実施例13)
実施例3において、含浸する活性成分をN1003にか
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(比較例2)
実施例3において、含浸する活性成分なCeO2にかえ
たこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
たこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を得た。
(比較例3)
実施例3において、含浸する活性成分なLa2O3にか
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
えたこと以外は、実施例3と全く同様にして窒素酸化物
除去用触媒を得た。
(実施例14)
実施例1で得た酸型モルデナイト500gを、3Nm度
のHCl5Q中に浸漬し、還流器付ミロフラスコ中で、
90〜100℃で5時間酸処理をした後、濾別した。こ
の操作を数回繰り返し行い最終的にy/xが7.8のケ
ーキ状の酸型モルデナイトを13た。この酸型モルデナ
イトを100℃8時間乾燥した後、さらに500℃で3
時間焼成した。その後、実施例1と全く同様にして窒素
酸化物除去用触媒を得た。
のHCl5Q中に浸漬し、還流器付ミロフラスコ中で、
90〜100℃で5時間酸処理をした後、濾別した。こ
の操作を数回繰り返し行い最終的にy/xが7.8のケ
ーキ状の酸型モルデナイトを13た。この酸型モルデナ
イトを100℃8時間乾燥した後、さらに500℃で3
時間焼成した。その後、実施例1と全く同様にして窒素
酸化物除去用触媒を得た。
(実施例15)
実施例14において、y/xが11.6のものを得たこ
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を7)た。
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を7)た。
(実施例16)
実施例14において、y/xが15.6のものを得たこ
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
(実施例17)
実施例14において、y/xが17.1のものを得たこ
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
と以外は実施例14と全く同様にして窒素酸化物除去用
触媒を得た。
(実施例1B)
実施例1において、y/xが5.1のN型モルデナイト
の別の市販品、TSZ−GOONAA (東ソー社製)
を用いたこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸
化物除去用触媒を得た。
の別の市販品、TSZ−GOONAA (東ソー社製)
を用いたこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸
化物除去用触媒を得た。
(実施例19)
実施例1において、y/xが7.5のN型モルデナイト
の更に別の市販品、TSZ−G2ONAA(東ソー社製
)を用いたこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素
酸化物除去用触媒を1′ffだ。
の更に別の市販品、TSZ−G2ONAA(東ソー社製
)を用いたこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素
酸化物除去用触媒を1′ffだ。
(実施例20)
実施例1において、y/xが9.5のN型モルデナイト
の更に別の市販品、T S Z −61L ON AA
(東ソー社製)を用いたこと以外は、実11%例1と全
く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
の更に別の市販品、T S Z −61L ON AA
(東ソー社製)を用いたこと以外は、実11%例1と全
く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(比較例4)
実施例1において、y/xが2.8の酸型ゼオライトの
市販品、TSZ−320HOA (東ソー社製)を用い
たこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を?aた。
市販品、TSZ−320HOA (東ソー社製)を用い
たこと以外は、実施例1と全く同様にして窒素酸化物除
去用触媒を?aた。
(比較例5)
実施例1において、y/xが3.1、z/xが0.01
の酸型ゼオライトの市販品′r S Z −330HU
A(東ソー社製)を用いることにより2N儂度のN I
−1、Clでの処理を省略したこと以外は実施例1と全
く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
の酸型ゼオライトの市販品′r S Z −330HU
A(東ソー社製)を用いることにより2N儂度のN I
−1、Clでの処理を省略したこと以外は実施例1と全
く同様にして窒素酸化物除去用触媒を得た。
(参考例)
硫酸法による酸化チタン製造工程から得られるメタチタ
ン酸を中和した後、ろ過水洗してケーキ状メタチタン酸
を得た。このメタチタン酸を乾燥した後、500℃で3
時間焼成し活性酸化チタンを得た。次いて焼成物を冷却
後、サンプルミルにて粉砕した。次いでセラミックファ
イバー製基材をこれら活性酸化チタンを含有するスラリ
ー中(4度500g/見)に浸漬し、過剰のスラリーを
除去して乾燥した後、500℃で3時間焼成し、二酸化
チタン担体とした。このときセラミックファイバー基材
に対する二酸化チタンの重量は2倍であった。次いて、
これらの担体を、適切に濃度調整したメタタングステン
酸アンモン及びメタバナジン酸アンモンの蓚酸水溶液混
液中に浸漬し、過剰の水を除去して一夜通風乾燥した後
450℃で3時間焼成して、窒素酸化物除去用触媒を得
た。
ン酸を中和した後、ろ過水洗してケーキ状メタチタン酸
を得た。このメタチタン酸を乾燥した後、500℃で3
時間焼成し活性酸化チタンを得た。次いて焼成物を冷却
後、サンプルミルにて粉砕した。次いでセラミックファ
イバー製基材をこれら活性酸化チタンを含有するスラリ
ー中(4度500g/見)に浸漬し、過剰のスラリーを
除去して乾燥した後、500℃で3時間焼成し、二酸化
チタン担体とした。このときセラミックファイバー基材
に対する二酸化チタンの重量は2倍であった。次いて、
これらの担体を、適切に濃度調整したメタタングステン
酸アンモン及びメタバナジン酸アンモンの蓚酸水溶液混
液中に浸漬し、過剰の水を除去して一夜通風乾燥した後
450℃で3時間焼成して、窒素酸化物除去用触媒を得
た。
このとき、担持された活性成分の組成比は以下の、に’
)でSった。T!02/WO3/V2O6=9115/
4 実施例1〜20及び比較例1〜5及び参考例で?ゴたそ
れぞれの触媒を反応器に充填し、窒素酸化物200pp
m、アンモニア200ppm、水蒸気10?¥量%、酸
素2容量%、二酸化炭素12容竜%、二酸化イオウ80
0ppm、残部窒素からなる混合ガスを温度400〜7
00℃、空間速度20500Hr−’の条件で接触させ
て上記混合ガスから窒素酸化物(NOx)を接触還元除
去した。
)でSった。T!02/WO3/V2O6=9115/
4 実施例1〜20及び比較例1〜5及び参考例で?ゴたそ
れぞれの触媒を反応器に充填し、窒素酸化物200pp
m、アンモニア200ppm、水蒸気10?¥量%、酸
素2容量%、二酸化炭素12容竜%、二酸化イオウ80
0ppm、残部窒素からなる混合ガスを温度400〜7
00℃、空間速度20500Hr−’の条件で接触させ
て上記混合ガスから窒素酸化物(NOx)を接触還元除
去した。
上記窒素酸化物除去率は次式にて定義される百分率であ
る。
る。
窒素酸化物除去率(%)
=(CI−co)×100/C■
C1:触媒層入口におけるNOx濃度、co =触媒層
出口におけるNoxlA度、第1表に実施例1〜20で
得た触媒についての試験結果を、また第2表に比較例1
〜5及び参考例で得た触媒についての試験結果を示す。
出口におけるNoxlA度、第1表に実施例1〜20で
得た触媒についての試験結果を、また第2表に比較例1
〜5及び参考例で得た触媒についての試験結果を示す。
(以下、余白)
上記第1表及び第2表から明らかなように、本発明に係
る窒素酸化物除去用触媒である実施例1〜20で得た触
媒は、いずれも比較例1〜5及び参考例で得た触媒に比
べて高い窒素酸化物除去率を示す。
る窒素酸化物除去用触媒である実施例1〜20で得た触
媒は、いずれも比較例1〜5及び参考例で得た触媒に比
べて高い窒素酸化物除去率を示す。
〈発明の効果〉
以上詳述したように、本発明に係る窒素酸化物除去用触
媒は、IJFガスの温度が高い場合でも、窒素酸化物の
除去率が高い等、本発明は優れた特有の効果を奏する。
媒は、IJFガスの温度が高い場合でも、窒素酸化物の
除去率が高い等、本発明は優れた特有の効果を奏する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、酸型モルデナイトを担体とし、金属酸化物を活性成
分とする窒素酸化物除去用触媒であって、 前記酸型モルデナイトが下記組成式で表される酸型モル
デナイトであり、前記金属酸化物の生成エンタルピー−
ΔH_f゜が80(Kcal/酸素グラム原子)以下で
あることを特徴とする窒素酸化物除去用触媒。 組成式: (Hx−z)・(Naz)・[(AlO_2)x・(S
iO_2)y]・mH_2O ここで、z/x(モル比)は0.40以下、y/z(モ
ル比)は5以上である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63274162A JPH02119945A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 窒素酸化物除去用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63274162A JPH02119945A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 窒素酸化物除去用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02119945A true JPH02119945A (ja) | 1990-05-08 |
Family
ID=17537901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63274162A Pending JPH02119945A (ja) | 1988-10-28 | 1988-10-28 | 窒素酸化物除去用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02119945A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS593210A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-09 | Fujitsu Ltd | 光フアイバジヤイロ |
-
1988
- 1988-10-28 JP JP63274162A patent/JPH02119945A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS593210A (ja) * | 1982-06-30 | 1984-01-09 | Fujitsu Ltd | 光フアイバジヤイロ |
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