JPH0212155A - 感光体ドラム等の浸漬塗布法及び塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は電子写真感光体ドラム等の円筒状の基体の外周
面に塗布膜を形成する方法に関し、特に基体を塗布液中
に浸漬し、塗布ムラがなくかつ均一物性の塗布を可能と
する方法およびその装置に関する。

（従来技術） 従来、電子写真複写機の感光体ドラムの製造方法の一つ
に感光性物質を含有する塗布液に円筒状基体を浸漬する
ことにより感光性物質を基体外周面に塗布し、電子写真
感光体ドラムを製造する方法は浸漬塗布法として知られ
ている（特開昭４９−１３０７３６号公報等参照）。

浸漬塗布法は塗布液の溜まりに基体を浸漬するもので、
感光体ドラムを製造する際に用いられる塗布液には、テ
トラヒドロフラン等の揮発性の有機溶剤が使用されてお
り、怒光性物質をこの有機溶剤に分散又は溶解せしめて
得られるものである。

そして該溶剤は塗布液から絶えず蒸発しているから、塗
布液を収納する塗布液槽の液面に溶剤の蒸発による皮膜
が生じ、これが基体の周面に付着し、塗布液乾燥後、塗
布ムラとなってあられれると言う問題がある。

また、塗布液が減少するに従って、基体の塗布液槽への
浸漬に伴う塗布液面の上昇高さが変化するため、そのこ
とに応じて基体の浸漬深さも調整しなければならないと
いう煩わしい問題があった。

そこで、前記欠点を解消することを目的とするために、
浸漬の都度、または感光体ドラム製造工程において、常
に塗布液を塗布液槽の上端面よりオーバーフローさせる
浸漬塗布法が提案されている。

（発明が解決しようとする問題点） −船釣な浸漬塗布法の場合には、塗布液面上をカバーに
より覆うことにより少なくとも基体を浸漬させる時の溶
剤蒸発を防止できるものが知られている。けれども前記
のオーバーフローさせる浸漬塗布法の場合、塗布液槽内
の塗布液面上のみをカバーしたとしても装置を停止した
時（ポンプ停止時）に、塗布液槽上端面にオーバーフロ
ーにより付着した塗布液が乾燥し、塗布液槽上端面の高
さが不均一となる。その結果浸漬時の基体外周面での塗
布膜高さに影響を及ぼしてしまう。

更に、オーバーフローした塗布液を装置内で循環させる
場合に、塗布液槽上端面において乾燥した塗布液が不純
物となり塗布膜の表面均一物性に影響を及ぼす。

そこで本発明の目的は、塗布液面上と塗布液が収容され
る塗布液槽上端面を常にカバーによって覆うことにより
、塗布液槽上端面での塗布液の乾燥を防止すると共に、
塗布液面上からの溶剤蒸発を防止する。その結果、塗布
ムラがなく基体外周面に均一な厚さとなる塗布膜を得る
ことができる感光体ドラムの浸漬塗布法および塗布方法
を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本考案によれば、感光体ドラム用基体の周面に感光体層
を形成するために、塗布液の液面上昇によって、その最
終段階においてオーバーフローを生じさせて液面高さを
一定に保ち、該塗布液中に前記基体を浸漬し所定深さに
達した後に前記基体を引き上げ、前記基体の周面に感光
体層を形成する浸漬塗布法において、前記塗布液面上お
よび塗布液槽の上端面をカバーにより覆い、前記塗布液
がオーバーフローをした時に塗布液の液面上昇によって
前記カバーが上方に押し上げられることを特徴とし、そ
のことにより上記目的が達成される。

また、上記塗布法を実施する塗布装置は、基体の周面に
塗布するための塗布液が収容される塗布液槽と、該塗布
液槽の上端面より流出した前記塗布液を回収するため前
記塗布液槽の外周に設けられた回収槽と、該回収槽の上
端開口部及び前記塗布液面上を略全体的に覆い、且つ前
記基体が貫通し得る開口部が形成されているカバーと、
を具備し、該カバーが前記塗布液槽の上端面により支持
され、且つ上下方向に前記回収槽の内周面に案内される
よう構成され、そのことにより上記目的が達成される。

（実施例） 以下、本発明の好適実施例を添付図面に基づいて説明す
る。

第１図は基体を塗布液に挿入する前の状態を示す概略断
面図、第２図は基体を塗布液に浸漬させた状態を示す概
略断面図である。

本発明の感光体ドラムの浸漬塗布法は、第１図に示すよ
うに揮発性の塗布液４が収容された塗布液槽ｌと、該塗
布液槽１の外周に設けられる回収槽２と、前記塗布液槽
１の上端面１１に支持され回収槽２の内側に配置される
カバー３とを用いて実施される。

回収槽２は塗布液槽１の上縁外周が環状に設けられて成
形され、この回収槽２の外壁の上端面が塗布液槽１の上
端面１１より高く位置するように設けられている。回収
槽２の底部はコック５を介して図示しない廃液タンクに
接続され、塗布液槽１の底部はコツクロを介して図示し
ない補給タンクに接続されている。従って補給タンクよ
りコツクロを介して塗布液４は塗布液槽１に注入され、
塗布液槽ｌよりオーバーフローされた塗布液４は一旦、
回収槽２に流出しコック５を介して廃液タンクへ回収さ
れる。

７は円筒状の感光体ドラム用の基体であり、前記塗布液
槽１の上方に配設された保持手段８により保持される。

保持手段８（第２図参照）は、塗布液４の上方に略垂直
に配設され上部は図外の昇降装置に連結されており、該
昇降装置により保持手段８は基体７の略鉛直状態を保持
しつつ昇降駆動される。尚、上記保持手段８としては、
例えば特開昭６に２５６６０号公報に開示されるもの等
が使用可能である。よって基体７は中空であっても内部
に塗布液４を侵入させることなく浸漬される。

塗布液槽ｌは形状が特に限定されないが例えば円筒状と
するのが好ましく円筒形の容器であって、基体７の外径
より大なる内径を有し、基体７の軸方向長さより大なる
深さを有している。

塗布液槽１内に収容される塗布液４としては、例えば電
子写真感光体ドラムを製造する場合には、感光性物質を
テトラヒドロフラン等の揮発性の有機溶剤に溶融させた
ものが使用される。

また前記基体７としては、例えばアルミニウム。

ニッケル、銅、亜鉛、パラジウム、銀、インジウム、錫
、白金、鉄、ステンレス鋼、真鍮等の金属が用いられる
。

尚、基体７の形状における円筒状とは、少なくとも胴体
部が円筒状であれば、その両端形状は特に限定されず、
例えばその両端又は一端に固着又は嵌合等の手段によっ
て他の形状の部材ないし部分が付加されていてもよい。

塗布液４面上および塗布液槽１の上端面１１を全体的に
覆うカバー３は塗布液４面上に浮上可能な軽量部材（例
えば、発泡スチロール等）によって環状に形成されるこ
とが好ましい。そしてカバー３は下面が塗布液槽１の上
端面１１に当接することにより支持されている。よって
塗布液４は塗布液槽１の上端面１１よりオーバーフロー
する際に、カバー３を僅かに上方に押し上げることによ
り、回収槽２へ流出する。

また該カバー３の開口部３１の径は基体７の外径より大
きいか、或いはあまり大きくすると塗布液４の蒸発の問
題が生じ好ましくない。逆に小さくすると基体７を下降
させる際にカバー３に当たる可能性があり、上昇させる
際に粘度の高い塗布液の場合に基体７とカバー３との間
隙中Ｄ（第２図参照）を通って基体７と共にカバ−３上
面に塗布？（！４が溢れてしまう。そのため間隙中りは
２〜３ｍｍ以下になるように、各々開口部３１の径及び
基体７の外径を決定すればよい。そして上記カバー３の
外径は回収槽２の内径よりわずかに小さく、具体的には
一方のカバー３の外周面３２と回収槽２の内周面２１と
の間隙（第１図参照）が間隙中りより小さく、好ましく
は間隙がないほうが良い。そしてカバー３の外周面３２
が回収槽２の内周面２１に対向していることにより、カ
バー３の上下方向の移動が内周面２１によって案内され
る。即ち内周面２１はカバー３のガイドとして機能する
。以上の構成とすることで回収槽２の上端開口部２２も
カバー３によって略全体的に覆われる。

以上の装置の構成において本発明方法は次のように実施
される。

まず第１図に示すようにコツクロを開いて塗布液槽１の
上端面１１より塗布液４が回収槽２側へオーバーフロー
するように塗布液４を塗布液槽１内に常時注入する。次
に保持手段８により保持された基体７を第２図に示すよ
うに塗布液槽１内に挿入し浸漬を行う。この時塗布液４
は基体７の体積に押し退けられて、塗布液４の注入に伴
うオーバーフロー量より更に多くの塗布液４が塗布液槽
１の上端面１１からオーバーフローし、回収槽２へ流出
する。カバー３はオーバーフローに伴い回収槽２の内周
面２１によりガイドされ上下方向に移動する。そして、
基体７を引き上げると塗布が完了し、次の基体７を浸漬
する。

基体７を引き上げると基体７により押し退けられてオー
バーフローした分と基体７に塗布された塗布液４が塗布
液槽１よりなくなるため、塗布液４の液面は下降する。

けれども基体７の引き上げ速度に伴う液面の下降量以上
の塗布液４をコツクロを介して図外の補給タンクより注
入するよう注入量を設定しておけば、基体７を引き上げ
ても常にオバーフローの状態を維持できる。

上記のように常にオーバーフローさせる場合は塗布液４
の供給速度がかなり速くなり、そのための塗布液４面上
での液面の波打ちによる乱れも大きくなる。けれどもカ
バー３が塗布液４の乱れを吸収してしまうので基体７外
周面での塗布膜の膜厚および塗布膜高さのバラツキが防
止される。

ここで装置を停止しオーバーフローしない状態とした場
合に、塗布液４の液面高さが上端面１１と等しければ、
上端面１１ではカバー３の当接に伴いカバ−３下面と上
端面１１との当接部において毛細管現象によりその隙間
に常に塗布液４が介在するので、この塗布液４はカバー
３により外気と接することがない。そのため上端面ｌｌ
上での塗布液４の乾燥は抑止される。

また、塗布液４の液面高さが塗布液槽ｌの上端面１１ま
でない時でも、カバ−３下面と上端面１１との当接部に
介在される塗布液４はカバー３が存在しない時よりも、
極端に塗布液４の乾燥が抑止される。

更にカバー３が回収槽２の上端開口部２２を全体的に覆
うため、内部空間は溶剤蒸気で飽和状態となり回収槽２
内部に付着した塗布液４および回収された塗布液４の溶
剤の蒸発も抑止される。よって塗布液槽１の上端面１１
に塗布液４の皮膜が付着し、その高さが不均一となるこ
ともなく、回収された塗布液４を装置内で循環させたと
しても塗布膜の均一物性が保たれる。

以上、本発明に従う浸漬塗布法を実施する上での装置の
具体例について説明したが、本発明はこれら具体例に限
定されるものではなく種々の変形乃至修正が可能である
。

例えば、前記カバー３の開口部３１には蒸発防止を更に
効果的にするために、基体７の浸漬前に蓋を設けておい
てもよい。またカバー３の開口部３１をシャッター構造
にして、基体７を浸漬する時に側面方向に開口して上記
と同様の開口部３１が形成されるようにしてもよいい。

尚、浸漬法としては基体７を固定しておいて、塗布液槽
１を上昇及び下降させて浸漬させることもできる。

（発明の効果） 本発明は以上のように、装置上端面開口部を塗布液槽上
端面により支持されるカバーにより略全体的に覆うこと
により溶剤の蒸発を抑止し、特にオーバーフローにより
塗布液が付着する塗布液槽の上、端面での塗布液の乾燥
を防止できる。その結果、塗布液の液面皮膜が残ること
がなく、それが基体の周面に付着する恐れがなくなり塗
布ムラがなく、且つ均一物性の塗布膜を得ることができ
る。

更に回収槽上にもカバーがされるため、回収槽よりの溶
剤の蒸発も抑止される。

尚、液面の波打ちによる乱れをカバーによって吸収し均
一な塗布膜を形成できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示し基体を塗布液に挿入す
る前の状態を示す塗布装置の概略断面図、第２図は基体
を塗布液に浸漬させた状態を示す塗布装置の概略断面図
である。 ・塗布液槽 ・回収槽 ・カバー ・塗布液 ・基体 実用新案登録出願人 三田工業株式会社 第 図 第 図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）感光体ドラム用基体の周面に感光体層を形成する
   ために、塗布液の液面上昇によって、その最終段階にお
   いてオーバーフローを生じさせて液面高さを一定に保ち
   、該塗布液中に前記基体を浸漬し所定深さに達した後に
   前記基体を引き上げ、前記基体の周面に感光体層を形成
   する浸漬塗布法において、 前記塗布液面上および塗布液槽の上端面をカバーにより
   覆い、前記塗布液がオーバーフローをした時に塗布液の
   液面上昇によって前記カバーが上方に押し上げられるこ
   とを特徴とする感光体ドラム等の浸漬塗布法。
2. （２）基体の周面に塗布するための塗布液が収容される
   塗布液槽と、 該塗布液槽の上端面より流出した前記塗布液を回収する
   ため前記塗布液槽の外周に設けられた回収槽と、 該回収槽の上端開口部及び前記塗布液面上を略全体的に
   覆い、且つ前記基体が貫通し得る開口部が形成されてい
   るカバーと、を具備し、 該カバーが前記塗布液槽の上端面により支持され、且つ
   上下方向に前記回収槽の内周面に案内されることを特徴
   とする感光体ドラム等の塗布装置。