JPH02124538A - アクティブマトリクス型液晶表示装置 - Google Patents

アクティブマトリクス型液晶表示装置

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JPH02124538A
JPH02124538A JP63278193A JP27819388A JPH02124538A JP H02124538 A JPH02124538 A JP H02124538A JP 63278193 A JP63278193 A JP 63278193A JP 27819388 A JP27819388 A JP 27819388A JP H02124538 A JPH02124538 A JP H02124538A
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JP
Japan
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insulating film
picture element
write bus
liquid crystal
pixel electrode
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JP63278193A
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Seiji Tanuma
清治 田沼
Yoshiro Koike
善郎 小池
Tetsuya Kobayashi
哲也 小林
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 アクティブマトリクス型液晶表示装置に関し、エバーオ
フ点欠陥に起因する表示欠陥の拡大を防止することを目
的とし、 絶縁性基板上にマトリクス状に配列された複数個の画素
電極と、該画素電極に対応付けて配置された薄膜トラン
ジスタと、該薄膜トランジスタに選択信号を印加する走
査バスと、前記薄膜トランジスタを介して前記画素電極
に表示データを供給する書き込みバスを有する構成にお
いて、前記画素電極と書き込みバスとを、少なくとも一
方側から導出した接続部により一部オーバラップさせ、
且つこのオーバラップ部に絶縁膜を介在させた構成とす
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明はアクティブマトリクス型液晶表示装置に関する
〔従来の技術〕
第3図(a)、 (b)に、従来の薄膜l・ランジスタ
駆動液晶表示装置の構造を模式的に示す。同図(a)に
示すように、薄膜I・ランジスタ(以後TPTと略記す
る)3の制御電極は走査ハスSBに、被制御電極の一方
はデータバスとも呼ぶ書き込みバスWBに、他方は画素
電極已に接続されている。」二記′rFT3は走査パス
SBから選択信号を受けてオンとなり、この時の書き込
みバスWB上の表示データが画素電極に送られ、表示が
行われる。
−F記液晶表示装置の断面構造は、同図(a)のAA矢
視部の断面図である(b)に見られるように、lTO膜
のような透明導電膜からなる画素電極E書き込みハスW
B、配向膜4.および図示はされていないが走査バスS
B、TPT3等をガラス基板1上に形成したTFT基板
Pと、ITO膜等からなる対向電極E′とその上に配向
膜4゛をガラス基板1“−にに形成した対向基板P°間
に、液晶5を挟持する構成を有する。
かかる構成において、TFT3の断線欠陥等により、常
に書き込みバスWBから絶縁状態に保たれる画素(今後
エバーオフ点欠陥と呼ぶ)の画素電極Eの電位は、それ
を取り囲む周辺の走査ハスSB、書き込みハスWBの電
位で定まる。
〔発明が解決しようとする課題〕
このようなエバーオフ点欠陥が存在する場合、駆動時間
の経過につれて、このエバーオフ点欠陥の周辺部の光学
状態が変化し、表示欠陥が拡大する現象が生じ、表示品
質を著しく損なっていた。
本発明者らは」−記表示欠陥の原因を種々検討の結果、
表示欠陥部では外部からの印加電圧がない時であっても
画素電極Eと対向電極E°間に電位差が存在しており、
そのために外部から正負対称な電圧波形を印加しても液
晶5に加わる電圧は非対称なものになるため、正常な画
素に比べて異なる光学状態を示していることを見出した
。即ちエバーオフ点欠陥部の電荷が周辺の画素に回り込
む結果、周辺部の電位が変化するものと考えられる。
ここでエバーオフ点欠陥部が電荷を持つ理由は次のよう
に解される。エバーオフ点欠陥部の電位は周辺の走査バ
スSBと書き込みハスWBの影宮により定まる。このう
ち、書き込みバスWBには正負対称の電圧が印加されて
いるのに対し、走査バスSBの電位は時間平均しても0
にならない直流成分を持っている。従ってエバーオフ点
欠陥部の電位もまたある直流成分を持つごとになる結果
、液晶5中の電荷がエバーオフ点欠陥部に集まるものと
解される。
本発明はエバーオフ点欠陥に起因する表示欠陥の拡大を
防止することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、画素電極と書き込みバスとを、少なくとも一
方側から導出した接続部により一部オーバラップさせ、
且つこのオーバラップ部に絶縁膜を介在させたものであ
る。
〔作 用〕
上記画素電極または書き込みバスより導出された接続部
の対応部位に、例えばレーザビームを照射すると、該接
続部は絶縁膜とともに溶融するこ走により、L下の導電
層つまり画素電極と書き込みバスを電気的に導通状態に
変換できる。
従ってエバーオフ点欠陥画素を検出した場合には、上述
のようにしてその画素の画素電極を書き込みバスに電気
的に7接続することによって、エバーオフ点欠陥画素の
画素電極の電位を正負対称になるようにすることができ
、上記表示欠陥の拡大を防止することができる。
〔実 施 例〕
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図(a)は上記一実施例の一画素分を示す要部平面
図、同図(b)は上記(a)のB−B矢視部の断面図で
ある。
本実施例では同図(a)に示す如く、走査ハスSBから
選択信号を受けてTFT3がオンとなり、書き込みバス
WB上の表示データを画素電極Eに送り込む点は従来と
何ら変わりないが、書き込のハスWBの一部をその延長
方向と直交する方向に導出するとともに、この導出され
た延長部11を絶縁膜9により被覆し、かつ画素電極E
をこの絶縁膜9を介して積層形成した点が異なる。ごご
で延長部11の画素電極Eとオーバラップする部分を接
続部8とするる。
第1図(b)は上記接続部8の断面構造を示し、書き込
みバスWBの延長部11上に絶縁膜9(例えば約110
0nの厚さのSiN膜)を介して画素電極Eが積層され
ている。この接続部8の大きさは、本実施例では約20
μmX20 umとした。なお図示の4は配向膜である
書き込みバスWB即ち延長部11は、図示したように、
Cr(クロム)膜12とAffi膜13との積層した膜
を用いた。
以上述べたTFT3.画素電極E、走査ハスSB、書き
込みハスWB、接続部8等は、ガラス基板1−1−に形
成され、TPT基板Pを構成する。
TFT3の構造は特に図示はしていないが、動作半導体
層としてa−3i(アモルファスシリコン)層を、ゲー
ト絶縁膜としてSiN膜を用いて、ガラス基板1上に画
素電極Eに対応して、960×240画素分形成した。
このように形成したTPT基板Pと、前述の対向基板P
′との間に、液晶を充填して液晶表示装置を構成した。
本実施例では、上記液晶表示装置に全部で6点のエバー
オフ点欠陥が存在したが、このうち任意の3点につき、
画素電極Eと書き込みハスWBとの接続部8にレーザ光
(ビーム径約10μm)を照射して絶縁膜9を破壊し、
上下の画素電極Eと書き込みバスWBとを電気的に接続
した。このパネルをランニング試験にかけたところ、レ
ーザ照射しない3点のエバーオフ点欠陥の周辺には10
時間以内に上記表示欠陥が現れたのに対し、レーザ照射
により画素電極Eと書き込みバスWBとを電気的に接続
した3点には、200時間経過しても表示欠陥の発生は
見られなかった。
第2図は本発明の変形例を示す図であって、これは画素
電極Eを一部延長し、この延長部11を接続線を挾んで
書き込みバスWBと対向さセ接続部8とした例である。
本変形例においても、その効果は前述の一実施例と全く
同じである。
なお、上記一実施例および変形例の接続部8において、
画素電極Eと書き込みバスWBとの間に介在する絶縁膜
9として、デー1〜絶縁膜と同じ材質の絶縁膜、或いは
配向膜と同じ材質の絶縁膜を使用することが実用上望ま
しい。その理由は、これらの材料は、従来より実際の製
品に使用されている材質であるので、製造工程上および
特性上全く問題を生じるおそれがないことによる。
また、上記絶縁膜9としてゲート絶縁膜と同じ材質1例
えばSiN膜を用い、その膜厚をゲート絶縁膜等TPT
部では約3000人、絶縁膜9は約500人とすれば、
エバーオフ点欠陥画素では絶縁膜9に書き込みバスWB
と画素電極Eとの間の電圧約30Vが印加されるのに対
し、正常画素ではTFT3がオン状態では画素電極Eは
書き込みハスWBと同電位であるので、この電圧差を利
用して画素電極Eと書き込みバスWBとを電気的に接続
できる。
即ちSiN膜の絶縁耐圧は、膜厚約500人で凡そ20
V1約3000人で凡そ100■であるので、−[ユ述
したように、ゲート絶縁膜を含むTFT部の絶縁膜の膜
厚を約3000人、接続部8の絶縁膜9の膜厚を約50
0人としておき、すべてのゲート電極に電圧を印加して
TFT3を全部オンとし、すべての書き込みバスWBに
凡そ30Vの交流電圧を印加すれば、接続部8において
絶縁膜9にかかる電圧は、正常画素では上述したように
OVであるので何の変化も生じないが、エバーオフ点欠
陥画素では約30Vの電圧がかかるので、絶縁膜9の絶
縁が破壊され、画素電極Eと書き込みバスWBとが電気
的に接続される。
このように絶縁膜9の材質とその膜厚を選択することに
より、接続部8における画素電極Eと書き込みバスWB
とを、レーザビーム照射により接続する以外に、電気的
に接続することもできる。
〔発明の効果〕
以上説明した如く本発明によれば、薄膜トランジスタ駆
動液晶表示装置において、エバーオフ点欠陥が存在した
場合でも周辺画素に広がる表示欠陥の発生を防ぐことが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、 (b)は本発明一実施例の構成説明図
、第2図は本発明の詳細な説明図、 第3図(a)、 (b)は従来の問題点説明図である。 図において、■、1°はガラス基板、3はTPT(Fi
膜トランジスタL4,4”は配向膜、5は液晶、8は接
続部、9は絶縁膜、SBは走査ハス、WBは書き込みバ
ス、Eは画素電極を示す。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁性基板(1)上にマトリクス状に配列された
    複数個の画素電極(E)と、該画素電極に対応付けて配
    置された薄膜トランジスタ(3)と、該薄膜トランジス
    タに選択信号を印加する走査バス(SB)と、前記薄膜
    トランジスタを介して前記画素電極(E)に表示データ
    を供給する書き込みバス(WB)を有する構成において
    、  前記画素電極(E)と書き込みバス(WB)とを、少
    なくとも一方側から導出した接続部(8)により一部オ
    ーバラップさせ、且つこのオーバラップ部に絶縁膜(9
    )を介在させたことを特徴とするアクティブマトリクス
    型液晶表示装置。
  2. (2)前記絶縁膜(9)が、前記薄膜トランジスタ(3
    )のゲート絶縁膜(2)と同一材質の絶縁膜であること
    を特徴とする請求項1記載のアクティブマトリクス型液
    晶表示装置。
  3. (3)前記絶縁膜(9)が、配向膜(4)と同一材質の
    絶縁膜であることを特徴とする請求項1記載のアクティ
    ブマトリクス型液晶表示装置。
JP63278193A 1988-11-02 1988-11-02 アクティブマトリクス型液晶表示装置 Pending JPH02124538A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0416930A (ja) * 1990-05-11 1992-01-21 Sharp Corp アクティブマトリクス型表示装置
JPH0419618A (ja) * 1990-05-14 1992-01-23 Sharp Corp アクティブマトリクス型表示装置の製造方法
US5434686A (en) * 1991-05-08 1995-07-18 Sharp Kabushiki Kaisha Active matrix display device
WO1996007122A1 (en) * 1994-08-30 1996-03-07 Hitachi, Ltd. Method of production of active matrix type liquid crystal display device
JP2007256919A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Genta Kagi Kogyo Kofun Yugenkoshi 電子インク表示装置及びその修復方法

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