JPH02128151U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02128151U JPH02128151U JP3780089U JP3780089U JPH02128151U JP H02128151 U JPH02128151 U JP H02128151U JP 3780089 U JP3780089 U JP 3780089U JP 3780089 U JP3780089 U JP 3780089U JP H02128151 U JPH02128151 U JP H02128151U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transferred
- pattern area
- mask
- pattern
- mask substrate
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
Description
第１図乃至第１６図は、この考案の第１乃至第
１６の実施例によるホトマスクをそれぞれ示す上
面図、第１７図は、第１図乃至第１６図のマスク
パターンの転写例を示すウエハ上面図、第１８図
は、被露光パターン領域の平面図形の一例を示す
図、第１９図乃至第２１図は、被露光パターン領
域内におけるチツプ内パターン領域の異なる配置
例をそれぞれ示す平面図、第２２図は、第１８図
の図形の組合せ配置を示す平面図、第２３図、第
２５図、第２７図、第２９図、第３１図及び第３
３図は、被露光パターン領域の平面図形の他の例
をそれぞれ示す図、第２４図、第２６図、第２８
図、第３０図、第３２図及び第３４図は、それぞ
れ第２３図、第２５図、第２７図、第２９図、第
３１図及び第３３図の図形の組合せ配置を示す平
面図、第３５図は、従来のホトマスクの一例を示
す上面図、第３６図は、第３５図のＳ−Ｓ′線に
沿う断面図、第３７図は、投影露光系の一例を示
す図、第３８図は、第３５図のマスクパターンの
転写例を示すウエハ上面図である。 １０……ホトマスク、１０Ａ……マスク基板、
１２……被露光パターン領域、ＡＭ１〜ＡＭ４…
…アライメントマーク、ＣＰ１，ＣＰ２……アラ
イメントずれチエツクマーク、Ａ〜Ｌ，Ｂ１〜Ｂ
３……チツプ内パターン領域。
１６の実施例によるホトマスクをそれぞれ示す上
面図、第１７図は、第１図乃至第１６図のマスク
パターンの転写例を示すウエハ上面図、第１８図
は、被露光パターン領域の平面図形の一例を示す
図、第１９図乃至第２１図は、被露光パターン領
域内におけるチツプ内パターン領域の異なる配置
例をそれぞれ示す平面図、第２２図は、第１８図
の図形の組合せ配置を示す平面図、第２３図、第
２５図、第２７図、第２９図、第３１図及び第３
３図は、被露光パターン領域の平面図形の他の例
をそれぞれ示す図、第２４図、第２６図、第２８
図、第３０図、第３２図及び第３４図は、それぞ
れ第２３図、第２５図、第２７図、第２９図、第
３１図及び第３３図の図形の組合せ配置を示す平
面図、第３５図は、従来のホトマスクの一例を示
す上面図、第３６図は、第３５図のＳ−Ｓ′線に
沿う断面図、第３７図は、投影露光系の一例を示
す図、第３８図は、第３５図のマスクパターンの
転写例を示すウエハ上面図である。 １０……ホトマスク、１０Ａ……マスク基板、
１２……被露光パターン領域、ＡＭ１〜ＡＭ４…
…アライメントマーク、ＣＰ１，ＣＰ２……アラ
イメントずれチエツクマーク、Ａ〜Ｌ，Ｂ１〜Ｂ
３……チツプ内パターン領域。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ 方形状のマスク基板と、このマスク基板上に
形成された被転写パターン領域と、前記マスク基
板上で前記被転写パターン領域外に形成された複
数の位置合せ用マークとをそなえたパターン転写
装置用マスクにおいて、 前記複数の位置合せ用マークを前記マスク基板
の複数の角部の近傍にそれぞれ配置したことを特
徴とするパターン転写装置用マスク。 ２ 前記被転写パターン領域は、各々方形状でほ
ぼ同一サイズの多数のチツプ内パターン領域を直
交行列的に配置して成り、この直交行列的な配置
の輪郭に対応する前記被転写パターン領域の平面
図形は、行方向及び列方向について各方向毎に２
等分可能であり且つ各２等分線毎にその両側の部
分図形が該２等分線に関して対称である１２角形
以上の多角形をなしていることを特徴とする請求
項１記載のパターン転写装置用マスク。 ３ 前記被転写パターン領域は、行方向及び列方
向がそれぞれ前記マスク基板の２つの対角線に平
行となるように配置されていることを特徴とする
請求項２記載のパターン転写装置用マスク。 ４ 前記マスク基板において前記被転写パターン
領域が形成された一方の表面には該被転写パター
ン領域を前記位置合せマークより内方で取囲むよ
うに８角以上の多角ループ状又は円環状のフレー
ムを設けると共に、このフレームには前記被転写
パターン領域をおおうように薄膜を設けたことを
特徴とする請求項２又は３記載のパターン転写装
置用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3780089U JPH02128151U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3780089U JPH02128151U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02128151U true JPH02128151U (ja) | 1990-10-23 |
Family
ID=31545238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3780089U Pending JPH02128151U (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02128151U (ja) |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP3780089U patent/JPH02128151U/ja active Pending
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