JPS62158449U - - Google Patents

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JPS62158449U
JPS62158449U JP1986047300U JP4730086U JPS62158449U JP S62158449 U JPS62158449 U JP S62158449U JP 1986047300 U JP1986047300 U JP 1986047300U JP 4730086 U JP4730086 U JP 4730086U JP S62158449 U JPS62158449 U JP S62158449U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図ないし第5図は本考案の一実施例を示す
図で、第1図aはレテイクルの平面図、同図bは
レテイクル支持台の平面図、第2図は縮小投影露
光装置の構成図、第3図および第4図はレテイク
ルの位置合せ角度と形成されるパターンとの関係
を示す平面図、第5図は形成可能なパターンを示
す平面図、第6図は本考案の他の実施例により形
成可能なパターンを示す平面図、第7図は本考案
の他の実施例を示すレテイクルおよびレテイクル
支持台の平面図、第8図および第9図は従来例を
示す平面図である。 1a,1b…レテイクル、3a,3b…レテイ
クル支持台、5…被転写基板、11…ガラス基板
、12…遮光性膜、13a〜13d,14a〜1
4d,15a〜15f…位置合せ用マーク、31
,32,34,35…マーク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 所定のパターンを有し、縮小投影露光法により
    上記パターンを被転写物に転写するためのレテイ
    クルにおいて、縮小投影露光装置のレテイクル支
    持台上に設けた1組のマークをそれぞれに対応す
    る位置合せ用マークを、上記パターンのまわりに
    相互に角度θ(θ〓〓 〓0°)だけ回転させて
    複数組配置したことを特徴とするレテイクル。
JP1986047300U 1986-03-31 1986-03-31 Expired JPH0132045Y2 (ja)

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JP1986047300U JPH0132045Y2 (ja) 1986-03-31 1986-03-31

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JP1986047300U JPH0132045Y2 (ja) 1986-03-31 1986-03-31

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Publication Number Publication Date
JPS62158449U true JPS62158449U (ja) 1987-10-08
JPH0132045Y2 JPH0132045Y2 (ja) 1989-10-02

Family

ID=30867775

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JP1986047300U Expired JPH0132045Y2 (ja) 1986-03-31 1986-03-31

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Publication number Publication date
JPH0132045Y2 (ja) 1989-10-02

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