JPH02135283A - フッ素化炭化水素系共沸様混合物 - Google Patents
フッ素化炭化水素系共沸様混合物Info
- Publication number
- JPH02135283A JPH02135283A JP63288781A JP28878188A JPH02135283A JP H02135283 A JPH02135283 A JP H02135283A JP 63288781 A JP63288781 A JP 63288781A JP 28878188 A JP28878188 A JP 28878188A JP H02135283 A JPH02135283 A JP H02135283A
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- Japan
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- methanol
- cyclohexane
- acetone
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸様混合物に関するものである。
として優れた特性を有する新規なフッ素化炭化水素系共
沸様混合物に関するものである。
［従来の技術］
フッ素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として１，１．２− トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われ
ている。
、毒性が少なく不燃で化学的に安定なものが多く、標準
沸点の異なる各種フロンが入手できることから、これら
の特性を生かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは
冷媒等として種々のフロンが使われている。例えば、溶
剤として１，１．２− トリクロロ−１，２，２−トリ
フルオロエタン（Ｒ１１３）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒ１１）が、プロペラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（Ｒ１２）が使われ
ている。
［発明が解決しようとする課題］
化学的に特に安定なＲ１１，Ｒ１２，Ｒ１１３は対流圏
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽
光線により分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、こ
れら従来のフロンの使用を規制する動きがある。このた
め、これらの従来のフロンに替わり、オゾン層を破壊し
にくい代替フロンの探索が活発に行なわれている。
本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン混合物を提供することを目
的とするものである。
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン混合物を提供することを目
的とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は１，１．２−）−リクロロフルオロエタン（Ｒ
１１３）及びメタノール、アセトン及びシクロヘキサン
の３成分共沸混合物からなるフッ素化炭化水素系共沸様
混合物に関するものである６本発明の混合物は不燃又は
難燃性であるとともに、特に洗浄溶剤として従来のＲ１
１３単体よりも洗浄力が高いため、Ｒ１１３の代替とし
て極めて有用なものである。
１１３）及びメタノール、アセトン及びシクロヘキサン
の３成分共沸混合物からなるフッ素化炭化水素系共沸様
混合物に関するものである６本発明の混合物は不燃又は
難燃性であるとともに、特に洗浄溶剤として従来のＲ１
１３単体よりも洗浄力が高いため、Ｒ１１３の代替とし
て極めて有用なものである。
更にリサイクルしても組成の変動が少ないこと、又従来
の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な変
更を要しないこと等の利点があることから、本発明の混
合物としてはＲ１１３が９５〜２０重量％及びメタノー
ル、アセトン及びシクロヘキサンの３成分共沸混合物が
５〜８０重量％、好ましくはＲ１１３が８０〜４０重量
％及びメタノール、アセトン及びシクロヘキサンの３成
分共沸混合物が２０〜６０重量％であり、さらに好まし
くはＲ１１３が約５０重量％とメタノール、アセトン及
びシクロヘキサンの３成分共沸混合物の約５０重量％か
らなる共沸様混合物である。本発明の混合物には、用途
に応じてその他の成分をさらに添加混合することができ
る。例えば、溶剤としての用途においては、ペンタン、
イソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イ
ソへブタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチル
アミン、イソブチルアミン、等のアミン類、エタノール
、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、
ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール等のアルコール類、メ
チルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１．４−ジオキ
サン等のエーテル類、メチルエチルケトン、メチルブチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル等のエステル類等から選ばれる１種又は２種以
上を添加混合することができる。
の単一フロンと同じ使い方ができ、従来技術の大幅な変
更を要しないこと等の利点があることから、本発明の混
合物としてはＲ１１３が９５〜２０重量％及びメタノー
ル、アセトン及びシクロヘキサンの３成分共沸混合物が
５〜８０重量％、好ましくはＲ１１３が８０〜４０重量
％及びメタノール、アセトン及びシクロヘキサンの３成
分共沸混合物が２０〜６０重量％であり、さらに好まし
くはＲ１１３が約５０重量％とメタノール、アセトン及
びシクロヘキサンの３成分共沸混合物の約５０重量％か
らなる共沸様混合物である。本発明の混合物には、用途
に応じてその他の成分をさらに添加混合することができ
る。例えば、溶剤としての用途においては、ペンタン、
イソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イ
ソへブタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチル
アミン、イソブチルアミン、等のアミン類、エタノール
、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、
ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール等のアルコール類、メ
チルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１．４−ジオキ
サン等のエーテル類、メチルエチルケトン、メチルブチ
ルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル等のエステル類等から選ばれる１種又は２種以
上を添加混合することができる。
本発明の共沸様混合物は、従来のフロンと同様、熱媒体
、ドライクリーニング等の各種用途に使用でき、特に溶
剤として用いた場合、従来のＲ１１３に比べ溶解力が高
いため好適である。溶剤の具体的な用途としては、フラ
ックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、
塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、ガラス、セラミック
ス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部
品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切
り剤等を挙げることができる。洗浄方法としては、手拭
き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を
採用すればよい。
、ドライクリーニング等の各種用途に使用でき、特に溶
剤として用いた場合、従来のＲ１１３に比べ溶解力が高
いため好適である。溶剤の具体的な用途としては、フラ
ックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、
塗料用溶剤、抽出剤、シミ抜き剤、ガラス、セラミック
ス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部
品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切
り剤等を挙げることができる。洗浄方法としては、手拭
き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を
採用すればよい。
［実施例］
実施例１
本発明の混合物（Ｒ−１１３／メタノール／アセトン／
シクロヘキサン＝＝ ５０．０／８．０／２１．８／２
０．２重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。
シクロヘキサン＝＝ ５０．０／８．０／２１．８／２
０．２重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。
プリント基板全面にフラックスを塗布し、２００℃の電
気炉で２分間焼成後、本発明の前記混合物に１分間浸漬
した。比較例としてＲ１１３についても同様の試験を行
なった。フラックスの除去の度合いを第１表に示す。
気炉で２分間焼成後、本発明の前記混合物に１分間浸漬
した。比較例としてＲ１１３についても同様の試験を行
なった。フラックスの除去の度合いを第１表に示す。
第１表
０：良好に除去できる ○：はぼ良好Δ：微量残存
Ｘ：かなり残存実施例２ 本発明の混合物（Ｒ−１１３／メタノール／アセト：／
／シク０ ヘキサン＝ ５０．０／８．０／２１．８／
２０．２ｆｆｌ量％）を用いて機械油の洗浄試験を行な
った。
Ｘ：かなり残存実施例２ 本発明の混合物（Ｒ−１１３／メタノール／アセト：／
／シク０ ヘキサン＝ ５０．０／８．０／２１．８／
２０．２ｆｆｌ量％）を用いて機械油の洗浄試験を行な
った。
５Ｏ３−３０４のテストピース（２５ｍｍＸ ３０ｍｍ
Ｘ ２ ｍｍ厚）を機械油中に浸漬した後、本発明の前
記混合物に５分間浸漬した。比較例としてＲ１１３につ
いても同様の試験を行なった。機械油の除去の度合いを
第２表に示す。
Ｘ ２ ｍｍ厚）を機械油中に浸漬した後、本発明の前
記混合物に５分間浸漬した。比較例としてＲ１１３につ
いても同様の試験を行なった。機械油の除去の度合いを
第２表に示す。
第２表
れるためＲ１１３に替わる洗浄溶剤として好適であ０：
良好に除去できる Ｏ：はぼ良好△；微量残存
×：かなり残存［発明の効果］
良好に除去できる Ｏ：はぼ良好△；微量残存
×：かなり残存［発明の効果］
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン及びメ
タノール、アセトン及びシクロヘキサンの３成分共沸混
合物とからなるフッ素化炭化水素系共沸様混合物。 ２、１，１，２−トリクロロトリフルオロエタン９５〜
２０重量％及びメタノール、アセトン及びシクロヘキサ
ンの３成分共沸混合物５〜８０重量％からなる請求項１
記載の混合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63288781A JPH02135283A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | フッ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63288781A JPH02135283A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | フッ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02135283A true JPH02135283A (ja) | 1990-05-24 |
Family
ID=17734636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63288781A Pending JPH02135283A (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | フッ素化炭化水素系共沸様混合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02135283A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0626615A1 (en) * | 1993-05-27 | 1994-11-30 | Eastman Kodak Company | Method of preparing antistatic layers for photographic elements |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP63288781A patent/JPH02135283A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0626615A1 (en) * | 1993-05-27 | 1994-11-30 | Eastman Kodak Company | Method of preparing antistatic layers for photographic elements |
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