JPH02138434U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02138434U JPH02138434U JP4807489U JP4807489U JPH02138434U JP H02138434 U JPH02138434 U JP H02138434U JP 4807489 U JP4807489 U JP 4807489U JP 4807489 U JP4807489 U JP 4807489U JP H02138434 U JPH02138434 U JP H02138434U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- reflectance pattern
- alignment mark
- directions
- center point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第１図は本考案に係る位置合せマーク第１実施
例を示す拡大平面図、第２図は同第２実施例を示
す拡大平面図、第３図は同第３実施例を示す拡大
平面図、第４図は同第４実施例を示す拡大平面図
、第５図は同第５実施例を示す拡大平面図、第６
図は同第６実施例を示す拡大平面図、第７図はビ
デオモニターのターゲツトエリアを示す説明図、
第８図はウエハの平面図、第９図は従来例の拡大
図である。 ４……チツプ、５……ＳｉＯ２膜、６……位置
合せマーク、６ａ，６ｆ，６ｈ，６ｊ，６ｌ……
高反射率パターン、６ｂ，６ｄ，６ｅ，６ｇ，６
ｉ，６ｋ……低反射率パターン、６ｃ……高反射
率枠パターン。
例を示す拡大平面図、第２図は同第２実施例を示
す拡大平面図、第３図は同第３実施例を示す拡大
平面図、第４図は同第４実施例を示す拡大平面図
、第５図は同第５実施例を示す拡大平面図、第６
図は同第６実施例を示す拡大平面図、第７図はビ
デオモニターのターゲツトエリアを示す説明図、
第８図はウエハの平面図、第９図は従来例の拡大
図である。 ４……チツプ、５……ＳｉＯ２膜、６……位置
合せマーク、６ａ，６ｆ，６ｈ，６ｊ，６ｌ……
高反射率パターン、６ｂ，６ｄ，６ｅ，６ｇ，６
ｉ，６ｋ……低反射率パターン、６ｃ……高反射
率枠パターン。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 金属配線による高反射率パターンと絶縁膜
による低反射率パターンの組合わせにより形成そ
れた半導体装置の位置合せマークにおいて、 前記高反射率パターンは中心点からＸ，Ｙ方向
に延びる直線パターン部を有し、前記低反射率パ
ターンは前記中心点からＸ，Ｙ方向に延びる直線
パターン部を有することを特徴とする位置合せマ
ーク。 (2) 金属配線による高反射率パターンと絶縁膜
による低反射率パターンの組合わせにより形成そ
れた半導体装置の位置合せマークにおいて、 中心点からＸ，Ｙ方向に延びる直線パターンを
有する高反射率パターンと、 前記中心点からＸ，Ｙ方向に延びる直線パター
ンを有する低反射率パターンと、 前記高反射率パターンと低反射率パターンとを
囲繞する枠パターンを備えたことを特徴とする位
置合せマーク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4807489U JPH02138434U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4807489U JPH02138434U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138434U true JPH02138434U (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=31564566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4807489U Pending JPH02138434U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02138434U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6081040A (en) * | 1997-03-17 | 2000-06-27 | Denso Corporation | Semiconductor device having alignment mark |
| JP2016103618A (ja) * | 2014-11-29 | 2016-06-02 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP4807489U patent/JPH02138434U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6081040A (en) * | 1997-03-17 | 2000-06-27 | Denso Corporation | Semiconductor device having alignment mark |
| JP2016103618A (ja) * | 2014-11-29 | 2016-06-02 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |