JPH02143426A - 半導体ウエハ保持具 - Google Patents

半導体ウエハ保持具

Info

Publication number
JPH02143426A
JPH02143426A JP29651988A JP29651988A JPH02143426A JP H02143426 A JPH02143426 A JP H02143426A JP 29651988 A JP29651988 A JP 29651988A JP 29651988 A JP29651988 A JP 29651988A JP H02143426 A JPH02143426 A JP H02143426A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
flanges
flange
holder
close contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29651988A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimitoshi Sato
公敏 佐藤
Kiyoshi Ishibashi
清志 石橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP29651988A priority Critical patent/JPH02143426A/ja
Publication of JPH02143426A publication Critical patent/JPH02143426A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Siダイヤフラム型圧力センサを製造する際
にダイヤフラムエツチングを施すために使用される半導
体ウェハ用保持具に関する。
〔従来の技術〕
従来のSiダイヤフラム型圧力センサは、半導体チップ
の表面に圧力検出用回路が形成され、裏面の一部をエツ
チングによって除去することによってダイヤフラムが形
成されている。このダイヤフラムを形成するダイヤフラ
ムエツチング工程では、半導体ウェハは第3図に示すよ
うな半導体ウェハの裏面と対向する部分にエツチング液
供給用開口部が形成された保持具に装着されてエツチン
グ液中に浸されていた。
第3図は従来のこの種の半導体ウェハ保持具を示す断面
図で、同図においてIは半導体ウェハ、2はこの半導体
ウェハ1の表面を保護するためのプレートで、このプレ
ート2は円板状に形成されている。前記半導体ウェハ1
は回路形成面にワックス3が塗布され、このワックス3
を介してプレ−ト2に固定されている。4は前記プレー
ト2を支持する第一のフランジで、この第一のフランジ
4は前記プレート2の外径より大きな内径を有する有底
円筒状に形成されており、外周部には後述す、る第二の
フランジが螺着されるねじ部4aが形成され、かつ内側
底面には前記プレート2の背面2aに全周にわたり密接
される0リング5が装着されている。6は前記第一のフ
ランジ4とで前記半導体ウェハ1およびプレート2を挟
持するための第二のフランジで、この第二のフランジ6
は前記第一のフランジ4と同様にして有底円筒状に形成
されており、外周部には前記第一のフランジ4のねじ部
4aと螺合するねじ部6aが形成され、底部における半
導体ウェハ1の裏側エンチング面と対向する部位にはエ
ツチング液供給用開口部6bが形成されかつ内側底面に
は前記半導体ウェハ1の裏面に全周にわたり密接される
0リング7が装着されている。
このように構成された従来の半導体ウェハ保持具に半導
体ウェハ1を装着させるには、先ず、プレート2の上面
側に半導体ウェハlの回路形成面を対向させ、半導体ウ
ェハIをワックス3を介してこのプレート2上に貼り付
けて固定させる。次いで、プレート2を第一のフランジ
4上に載せ、この第一のフランジ4に第二のフランジ6
を螺合させる。そして、前記0リング5がプレート2に
確実に密接され、かつ0リング7が半導体ウェハ1に確
実に密接されるまでこの第二のフランジ6を締め付ける
ことによって、半導体ウェハ1が保持具に装着されるこ
とになる。
このようにして半導体ウェハ1が装着された保持具をエ
ツチング液中に浸すと、エツチング液は第二のフランジ
6の開口部6bから半導体ウェハ1の裏面に供給される
ことになる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、このように構成された従来の半導体ウェハ保
持具においては、第二のフランジ6を第一のフランジ4
に螺着させる構造であり、第二のフランジ6を締め付け
る際には、0リング7が第二のフランジ6あるいは半導
体ウェハ1に対して摺接されることになるために摩耗さ
れ易い。この0リング7が摩耗されると、半導体ウェハ
1の裏側エツチング面と非エツチング部分とを確実に隔
絶することができなくなり、エツチング液が半導体ウェ
ハ1の非エツチング部分側に洩れてしまうという問題が
あった。また、第一のフランジ4と第二のフランジ6と
の螺合部分からもエツチング液が侵入し易い。さらにま
た、従来の半導体ウェハ保持具においては半導体ウェハ
1を一枚しか処理することができないために効率が悪か
った。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る半導体ウェハ保持具は、半導体ウェハの表
面に表面保護用ワックスを介して密着される保護板と、
前記半導体ウェハと保護板が密着された状態でこれらを
両面側から挟持する第一および第二のフランジからなる
保持具本体と、前記保持具本体の外周部を半径方向へ押
圧する環状挾圧部材とからなり、保持具本体の両フラン
ジ間に両フランジの全周にわたり密接される第一のシー
ル部材を介装し、半導体ウェハ裏面と対向するフランジ
に半導体ウェハの裏面と対応するエツチング液供給用開
口部を形成すると共に半導体ウェハ裏面の周縁部に全周
にわたり密接される第二のシール部材を配設し、かつ両
フランジの外周部に前記環状挾圧部材と対接され両フラ
ンジを緊縛させる摺接面を形成したものである。
〔作 用〕
環状挾圧部材で第一および第二のフランジを締め付ける
ことによって両フランジは互いに近接する方向へ押圧さ
れることになり、各シール部材においては両フランジお
よび半導体ウェハに全周にわたり均等な力をもって圧接
され、第一のシール部材が両フランジの外周部からのエ
ツチング液の洩れを阻止し、また、第二のシール部材が
半導体ウェハの裏面側からのエツチング液の洩れを阻止
することになる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図および第2図によって
詳細に説明する。
第1図は本発明に係る半導体ウェハ保持具を示す断面図
、第2図は環状挾圧部材を示す平面図である。これらの
図において前記第3図で説明したものと同一もしくは同
等部材については同一符号を付し、ここにおいて詳細な
説明は省略する。これらの図において、11は保持具本
体で、この保持具本体11は、半導体ウェハ1がワック
ス3によってそれぞれ密着された二枚のプレート2をそ
の背面どうしを互いに対接させた状態で挟持する第一の
フランジ12および第二のフランジ13とから構成され
ている。前記第一および第二のフランジ12゜13はそ
れぞれ底部にエツチング液供給用開口部12a、13a
を有する有底円筒状に形成されており、両フランジ12
.13の外周部には後述する環状挾圧部材に対接され両
フランジ12.13を緊縛させる摺接面12b、 13
bが形成され、かつ両フランジ12゜13の対接部分に
は、後述する第一のシール部材としての0リングが装着
される凹溝12cが第一のフランジ12に、この0リン
グに対接される押圧面13Cが第二のフランジ13にそ
れぞれ形成されている。
また、前記摺接面12b、13bは各フランジ12.1
3の外径が挟圧方向へ向かうにつれ次第に大きくなるよ
うに傾斜されて形成されており、前記凹溝12Cは第一
のフランジ12の外周部に周方向に沿って途切れること
なく形成されている。さらにまた、前記両フランジ12
.13の底部における半導体ウェハ1の裏面と対向する
部位には、後述する第二のシール部材としてのOリング
が装着される凹溝12d、13dが周方向に沿って途切
れることなく形成されている。14は両フランジ12.
13の外周部をシールするための第一のシール部材とし
ての0リングで、このOリング14は前記第一のフラン
ジ12に形成された凹溝12c内に装着されている。1
5は両フランジ12.13のエツチング液供給用開口部
12a。
13aから半導体ウェハ1の裏面側に供給されたエツチ
ング液が半導体ウェハ1の非エッチソゲ部分に侵入しな
いようにシールするための第二のシール部材としてのO
リングで、このOリング15は、各フランジ12.13
の凹溝12d、13d内に装着されている。すなわち、
両フランジ12.13によって二組の半導体ウェハ1.
プレート2を挟持させることによって、前記Oリング1
4が両フランジ12.13の外周部に密接されると共に
、前記Q IJソング5が半導体ウェハ1の裏面と両フ
ランジ12.13の底部に密接されることになり、半導
体ウェハlの裏側エツチング面と非エツチング部分とを
確実に隔絶することができる。16は両フランジ12.
13を緊縛するための環状挾圧部材としての■バンドカ
ップリングで、この■バンドカップリング16は平面視
略C字状に形成されており、両フランジ12.13の摺
接面12b、13bに対接される押圧面16aが形成さ
れた押圧部材16bと、この押圧部材16bを支持する
支持部材16cと、ポル)16dおよびナツト16eを
備え、前記支持部材16cの端部に固定された締め付は
部材16fとから構成されている。すなわち、前記押圧
部材16bの押圧面16aを両フランジ12、13の摺
接面12b、 13bに対接させてこのVバンドカップ
リング16を前記両フランジ12.13の外周部に取付
け、締め付は部材16fのナソ)16eを締め付けると
、押圧部材16bおよび支持部材16cが周方向へ引っ
張られると共に内径が小さくなり、このVバンドカップ
リング16によって両フランジ12、13が半径方向へ
押圧されることになる。この際、押圧部材16bが摺接
面12b、13bに沿って摺動され、この押圧部材16
bにより両フランジ12゜13が互いに近接する方向へ
押圧されることになる。
したがって、0リング14.15においては、両フラン
ジ12.13および半導体ウェハ1に全周にわたり均等
な力をもって圧接されることになり、Q IJソング4
が両フランジ12.13の外周部からのエツチング液の
洩れを阻止し、また、0リング15が半導体ウェハ1の
裏面側からのエツチング液の洩れを阻止することになる
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明に係る半導体ウェハ保持具は
、半導体ウェハの表面に表面保護用ワックスを介して密
着される保護板と、前記半導体ウェハと保護板が密着さ
れた状態でこれらを両面側から挟持する第一および第二
のフランジからなる保持具本体と、前記保持具本体の外
周部を半径方向へ押圧する環状挾圧部材とからなり、保
持具本体の両フランジ間に両フランジの全周にわたり密
接される第一のシール部材を介装し、半導体ウェハ裏面
と対向するフランジに半導体ウェハの裏面と対応するエ
ツチング液供給用開口部を形成すると共に半導体ウェハ
裏面の周縁部に全周にわたり密接される第二のシール部
材を配設し、かつ両フランジの外周部に前記環状挾圧部
材と対接され両フランジを緊縛させる摺接面を形成した
ため、環状挾圧部材で第一および第二のフランジを締め
付けることによって両フランジは互いに近接する方向へ
押圧されることになり、各シール部材においては両フラ
ンジおよび半導体ウェハに全周にわたり均等な力をもっ
て圧接され、第一のシール部材が両フランジの外周部か
らのエツチング液の洩れを阻止し、また、第二のシール
部材が半導体ウェハの裏面側からのエツチング液の洩れ
を阻止することになる。したがって、半導体ウェハの非
エツチング部分にエツチング液が洩れるのを確実に防止
することができ、しかも、半導体ウェハを二枚同時に処
理することができるから、半導体ウェハのエツチングを
能率よ<、確実に行なうことのできる半導体ウェハ保持
具を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体ウェハ保持具を示す断面図
、第2図は環状挾圧部材を示す平面図、。 第3図は従来のこの種の半導体ウェハ保持具を示す断面
図である。 1・・・・半導体ウェハ、2.・・・プレート、3・・
・・ワックス、11・・・・保持具本体、12.・・・
第一のフランジ、13・・・・第二のフランジ、12a
、13a、・・・開口部、12b、13b・・・・摺接
面、14.15・・・・0リング、16.・・・Vバン
ドカップリング。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体ウェハの表面に表面保護用ワックスを介して密着
    される保護板と、前記半導体ウェハと保護板が密着され
    た状態でこれらを両面側から挟持する第一および第二の
    フランジからなる保持具本体と、前記保持具本体の外周
    部を半径方向へ押圧する環状挾圧部材とからなり、保持
    具本体の両フランジ間に両フランジの全周にわたり密接
    される第一のシール部材を介装し、半導体ウェハ裏面と
    対向するフランジに半導体ウェハの裏面と対応するエッ
    チング液供給用開口部を形成すると共に半導体ウェハ裏
    面の周縁部に全周にわたり密接される第二のシール部材
    を配設し、かつ両フランジの外周部に前記環状挾圧部材
    と対接され両フランジを緊縛させる摺接面を形成したこ
    とを特徴とする半導体ウェハ保持具。
JP29651988A 1988-11-24 1988-11-24 半導体ウエハ保持具 Pending JPH02143426A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29651988A JPH02143426A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 半導体ウエハ保持具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29651988A JPH02143426A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 半導体ウエハ保持具

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02143426A true JPH02143426A (ja) 1990-06-01

Family

ID=17834586

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29651988A Pending JPH02143426A (ja) 1988-11-24 1988-11-24 半導体ウエハ保持具

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02143426A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW366517B (en) Heat processing device
JPH0543185B2 (ja)
JPH033096B2 (ja)
WO1998001695A1 (en) Synthetic resin hose connecting means
JPS5944185B2 (ja) ポリシング用セラミツク定盤の固定装置
JPH0262497A (ja) 管継手
JP3826321B2 (ja) バックアップリング付きoシール
JP4592879B2 (ja) シールワッシャーおよび該シールワッシャーを用いた継手
JPS6323334A (ja) 半導体素子処理方法
CN222767847U (zh) 一种锥孔加工快速夹具
JPH09229253A (ja) 異径管の接続構造
JPS61108428A (ja) 液圧成形方法
JPH0336799Y2 (ja)
US7591490B1 (en) Coupling device for the quick-release coupling of hose-like or tubular pipes to a connecting part
JPH0718515B2 (ja) 管継手
JPH0113372Y2 (ja)
JPH0451863Y2 (ja)
JPH04185973A (ja) 極低温槽における気密シール方法
JPH0322274Y2 (ja)
JPH0533823Y2 (ja)
JPH02256993A (ja) ホース接続装置
JP3904694B2 (ja) 管継手
JPS61271014A (ja) フイルタ固定装置
JPH08979Y2 (ja) 反応管の保持装置
JPS5936324Y2 (ja) チヤツク