JPH021493A - 新規セフェム化合物およびその製造法 - Google Patents

新規セフェム化合物およびその製造法

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JPH021493A
JPH021493A JP1030884A JP3088489A JPH021493A JP H021493 A JPH021493 A JP H021493A JP 1030884 A JP1030884 A JP 1030884A JP 3088489 A JP3088489 A JP 3088489A JP H021493 A JPH021493 A JP H021493A
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JP
Japan
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formula
compound
salt
group
amino
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Pending
Application number
JP1030884A
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English (en)
Inventor
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Nobusachi Yasuda
修祥 安田
Shintaro Nishimura
伸太郎 西村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規セフェム化合物および医薬として許容さ
れるその塩類に関する。さらに詳細には、この発明は抗
菌作用を有する新規セフェム化合物および医薬として許
容されるその塩類、ならびにその製造法に関する。
すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して有効な新規セフェム化合物および医薬として許容さ
れるその塩類を提供することである。
この発明のもう一つの目的は、新規セフェム化合物およ
びその塩類の製造法を提供することである。
目的とする新セフェム化合物は新規であり、下記−軟式
で示すことができる。
(式中、R1はアミン基または保護されたアミノ基、 R2は低級アルキル基、 R3はヒドロキシ基またはオキソ基を意味する)。
この発明に従って新規セフェム化合物(I>は下記反応
式で説明きれる製造法により製造することができる。
またはその塩 (り し、アンチ異性体とは式: またはその塩 (式中、R、RおよびR3はそれぞれ前と同し意味であ
り、 Qは適当な脱離する基を意味する)。
この発明においては目的化合物(1)および原料化合物
(n)については、それらの化合物にはすべてシン異性
体、アンチ異性体およびそれらの混合物が含まれるもの
とする。そのシン異性体とは下記式: (式中、R1およびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示
される基を有する一つの幾何異性体を意味(式中、Rお
よびR2はそれぞれ前と同じ意味)で示される基を有す
る別の幾何異性体を意味する。
目的化合物(1)の好適な医薬として許容される塩類は
常用の無毒性塩類であり、例えばギ酸塩、酢酸塩、トリ
フルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸
塩等の有機カルボン酸塩または有機スルホン酸塩のよう
な有機塩;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸
塩等の無機酸塩;例えばアスパラギン酸、グルタミン酸
等の酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。
この明細書の以上および以下の記故においてこの発明の
範囲内に包含きれる種々の定義の適当な例および説明を
以下詳細に述べる。
「低級、とは、特に指示がなければ、炭素原子1個ない
し6個を有する基を意味するものとする。
好適な「保護されたアミン基」はセファロスボノンの分
野で常用きれるものであり、アシルアミノ基、ならびに
例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリフェニルメチル
等のアル(低級)アルキル基、例えばベンジリデン等の
アル(低級)アルキリデン基例えば1−エトキシカルボ
ニル−2−プロピリデン、ジメチルアミンエチレン等の
、低級アルコキシカルボニル基またはジ(低級)アルキ
ルアミノ基でe換された低級アルキリデン基等のような
アシル基以外の常用の保護基で置換されたアミン基が挙
げられる。
「アシルアミノ基」の好適なアシル部分としては、カル
バモイル基、脂肪族アシル基および芳香環または複素環
を含むアシル基が挙げられる。前記アシル基の好適な例
としては、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、インブチリル、バレリル、インバレリル、オ
キサリル、スクシニル、ピバロイル等の低級アルカノイ
ル基、好ましくは炭素原子1個ないし4個を有するもの
、さらに好ましくは炭素原子1個ないし2個を有するも
の:例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル クロプロピルエトキシカルボニル、インプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキンカルボニ
ル、ペンチルオキシカルボニル、第三級ペンチルオキシ
カルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等の炭素原子2
個ないし7個を有する低級アルコキシカルボニル基、好
ましくは炭素原子3個ないし6個を有するもの;例えば
メシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソ
プロパンスルホニル、ブタンスルホニル等の低級アルカ
ンスルホニル基;例えばベンゼンスルホニル、トシル等
のアレーンスルホニル基;例えばベンゾイル、トルオイ
ル、ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニル等の
アロイル基;例えばフェニルアセチル、フェニルプロピ
オニル等のアル(低級)アルカノイル基;例えばシクロ
ヘキシルアセチル、シクロペンチルアセチル等のシクロ
(低級)アルキル(低級)アルカノイル基;例えばベン
ジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等
のアル(低級)アルコキシカルボニル基等が挙げられる
好適な「低級アルキル基,としては、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二級
ブチル、第三級ブチル、ペンチル、第三級ペンチル、ヘ
キシル等のような炭素原′1′1個ないし6個を有する
直鎖または分枝鎖アルキル基、好ましくは炭素原子1個
ないし4個を有するものが挙げられる。
好適な脱離する基としては、式: (&中、R3は前と同じ意味)で示される基によって置
換されうる基、好ましくは例えばフッ素、塩素、臭素、
沃素等のハロゲン、例えばアセトキシ等のアシルオキシ
基等が挙げられる。
目的化合物(I)ならびに原料化合物(II)および(
III)の好ましい実施態様は下記のとおりである。
R1はアミノ基、 R は(C1−C,)アルキル基、さらに好ましくはメ
チル基、 R3はヒドロキシ基またはオキソ基、 Qはハロゲン、さらに好ましくは塩素である。
目的化合物(I)の製造法を以下詳細に説明する。
目的化合物(I)またはその塩は、化合物(If)また
はその塩を化合物(III)またはその塩と反応させる
ことにより製造することができる。
化合物(II)の好適な塩としては化合物<I)につい
て例示したものを参照すればよく、さらにまた無機塩、
その例として、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩および例えばカルシウム塩、マグネシウム
塩等のアルカリ土金属塩のような金属塩、アンモニウム
塩等; 有機塩、その例として、例えばトリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、プロヵイン塩、ピッリ
ン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’ −ジベン
ジルエチレンジアミン塩、N−メチルグルカミン塩、ジ
ェタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、トリス
(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩、フェニルエチル
ベンジルアミン塩、ジベンジルエチレンジアミン塩等の
有機アミン塩等;および 例えばアルギニン、リジン等の塩基性アミノ酸との塩等
が挙げられる。
化合物(I[)の好適な塩については化合物(I)につ
いて例示したものを参照すればよい。
反応は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、
クロロホルム、四塩化次素、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような常
用の溶媒中で行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる有機溶媒中でも反応を行う
ことができる。
反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
この発明の目的化合物(!)および医薬として許容され
るその塩類は新規化合物であり、強い抗菌作用を発揮し
てダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む仏法な病原菌
の生育を阻止し、とりわけシュードモナス(Pseud
omonas )に対する抗菌薬として有用である。
この発明による化合物は治療のために、経口投恨、非経
口投与または外用投与に適した有機もしくは無機の固体
状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容される相
体と混合して、前記化合物と有効成分として含有する常
用の医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤は
カプセル、錠剤、糖衣錠、軟膏または坐剤のような固体
状であってもよく、また溶液、懸濁液またはエマルジョ
ンのような液状であってもよい。所望に応じて−h記製
剤中に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およ
び、乳糖、フマル酸、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸
、マレイン酸、コハク酸、ノンゴ酸、ステアリン酸マグ
ネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タルク、ゼ
ラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカ
オ脂、エチレングリコール等のようなその他の通常使用
される添加剤が含まれていてもよい。
化合物の投与量は患者の年齢および条件によって変化す
るが、この発明の化合物は平均1回設学量約10mg、
50mg、100mg、250mg、 500mgおよ
び1000mgを投与すれば病原菌感染症治療に有効で
あることが分った。一般的には1日当り1mg/個体と
約6000mg/個体との間の量もしくはそれ以上の量
を投与すればよい。
こ〜に、目的化合物(I)の有用性を示すためにこの発
明の代表的化合物についての試験管内抗菌活性試験結果
を以下に示す。
K象久介舊 7−[2−(5−アミノ−1,2,’4−チアジアゾー
ルー3−イル)−2−メトキシイミノアセトアミドコ−
3−(1−アザ−4−才キソー1−アダマンタニオ)メ
チル−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
試験法 試験管内抗菌活性を下記寒天板倍数希釈法により測定し
た。
各試験菌株をトリブチケース・ソイ・プロス中夜培養し
てその1白金耳(生菌数108個/ld)を、各濃度段
階の試験化合物を含むハート・インフュージョン寒天(
HI寒天)に接種し、37℃、20時間インキュベート
後、最小発育阻止濃度(MIC)を肩/峰で表わした。
試験結果 MIC(、g/ml 以下製造例および実施例に従ってこの発明を説明する。
製造例1 1)ジクロロメタン(10100O)とテトラヒドロフ
ラン(zoomQ)との混合溶媒に2−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
メトキシイミノコアセチルクロリド(シン異性体)(6
4g)と7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル・塩酸塩(1
00g)とを−15℃で加え、混合物を一15℃で1時
間攪拌する0反応混合物を氷冷水中に注ぎ、炭酸水素ナ
トリウムで中和する。有機層を分取して硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプ
ロピルエーテルで粉砕して、7−[2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)=2−メトキ
シイミノアセトアミドコ−3−クロロメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(シン異
性体) (130,5g )を得る。
NMR(DMSO−da、S ) ’ 3.2−3.8
 (2)1−m)、3.93(3H,s)、 4.43
 (2H,s)、 5.27 (LH,d、J=5Hz
>。
5.97 (IH,dd、J=5Hz、  8Hz)、
  7.00 (IH,s)。
7.20−7.70 (10H,m)、  8.17 
(2H,s)、  9.70(IH,d、J=8H2) 2)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアンアゾ
ール−3−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(シン異性体)(3g)をジクロ
ロメタン(amQ)およびアニソール(3mQ)の混合
溶媒に溶解した溶液に、トリフルオロ酢酸(full)
を0℃で滴下する。混合物を0℃で2時間攪拌する。得
られる混合物をジイソプロピルエーテルとヘキサンとの
冷却した混合溶媒(1:1、v/v )中に注ぐ。沈殿
を濾取し、′fj、rE乾燥シテ、7−[2−(5−7
ミノー1.2.4−チアジアゾール−3−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミドコ−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩(シ
ン異性体) (2,50g )を得る。
IR(スジシール)  ;  1770. 1630.
 1600  am−’NMR(DMSO−da、δ)
 : 3.63 (2H,m)、 3.93 (31゜
s)、  4.57  (2H,s)、  5.18 
(IH,d、J=5Hz)。
5.83  <1)1.dd、J=5Hz、  8Hz
>、  8.10  (28,ブロードs)、  9.
55 (LH,d、J=8Hz)実施例1 1)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアンアゾ
ール−3−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ψ
トリフルオロ酢酸塩(シン異性体)(Ig)のN、N−
ジメチルホルムアミド(20mQ )溶液に、1−アザ
−4−オキソアダマンタン(866mg)を水冷下に加
え、混合物を20分間攪拌する。反応混合物を酢酸エチ
ル(150mQ)中に注いで沈殿を生成せしめる。沈殿
を濾取し、五酸化燐で乾燥して水(1somQ)に溶解
する。溶液をIN塩酸でpH2に調整し、不溶物を濾去
する。
濾液を非イオン性吸着樹脂1ダイヤイオンHP−20゜
(商標、三菱化成工業社製) (ioma )を使用す
るクロマトグラフィーに付し、7%イソプロピルアルコ
ール水溶液で溶出する。所望の両分を集めて減圧濃縮す
る。残った溶液をアルミナのカラム(4mQ)を通過さ
せ、凍結乾燥して、7−[2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2−メトキシイミノ
アセトアミドコ−3−(1−アザ−4−才キソー1−ア
ダマンタンオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシ
レート(シン異性体) (701mg)を得る。
mp : 148℃(分解) IR(スジ1−ル)  :  1770−1760. 
1650. 1600゜1515 am−1 NMR(D20.δ> : 1.70−2.35 (7
H,m)、 3.20−4.15(9H,m>、  4
.09  (3H,s)、  4.66  (IH,d
J=13Hz)、 5.36 (18,d、J=5)1
z)、 5.87 (LH。
dJ=5Hz) 2)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)−2−メトキシイミノアセトアミドコ
−3−(1−アザ−4−オキソ−1−アダマンタニオ)
メチル−3−セフェム−4−カルポキシレート(シン異
性体) (283mg)の水(1,4mQ)溶液に、2
M硫酸(0,28mQ )を常温で加える。混合物を2
0分間放置する。沈殿する結晶を濾取して水およびアセ
トンで洗浄し、減圧下乾燥して、7−[2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−3−(1−アザ−4−才
キソー1−アダマンタニオ)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレート・硫酸塩(シン異性体)(234m
g)を無色結晶として得る。
mp : 170−175℃(分解) IR(スジタール)  :  1795. 1685.
 1650. 1625. 1590゜1550 cm
−1 NMR(D20.S ) ’ 1.70−2.35 (
7)11m)−3,20−4,15(9H,m)、 4
:09 (3H,s)、 4.66 (IH,d。
J=13Hz)、 5.36 (LH,d、J=5Hz
)、 5.87 (IH,d。
J=5H2) 実施例2 実施例1−1)と同様にして、7−[2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−クロロメチル−3−セ
フェム−4−カルリボン酸拳トリフルオロ酢酸塩(シン
異性体) (568mg)を1−アザ−4−ヒドロキシ
アダマンクン(500mg)と反応させて、?−[2−
(5−アミノ−1,2,4チアジアゾール−3−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(、,1−
アザ−4−ヒドロキシ−1−アダマンタニオ)メチル−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(
237mg)を得る。
mp : 175°C(分解) IR(スジ3−ル)  :  1765. 1660.
 1605  および1520 am’ NMR(D20.S ) ’ l 55−2.36 (
7H9m) 、3−10−4−20(10H,m)、 
4.06 (3H,s)、 4.60 (LH,d。
J=13Hz)、 5.35 (1)!、d、J=5H
z)、 5.86 (LH。
d、J=5Hz)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 R^2は低級アルキル基、 R^3はヒドロキシ基またはオキソ基を意味する)で示
    される化合物および医薬として許容されるその塩。 2)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 R^2は低級アルキル基、 Qは適当な脱離基を意味する)で示される化合物または
    その塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3はヒドロキシ基またはオキソ基を意味す
    る)で示される化合物またはその塩と反応させることを
    特徴とする、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
    じ意味)で示される化合物または医薬として許容される
    その塩の製造法。
JP1030884A 1988-02-29 1989-02-09 新規セフェム化合物およびその製造法 Pending JPH021493A (ja)

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