JPH0215413A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH0215413A
JPH0215413A JP16258988A JP16258988A JPH0215413A JP H0215413 A JPH0215413 A JP H0215413A JP 16258988 A JP16258988 A JP 16258988A JP 16258988 A JP16258988 A JP 16258988A JP H0215413 A JPH0215413 A JP H0215413A
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magnetic
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reinforcing layer
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Norimichi Tokuda
徳田 典道
Naoyuki Nagashima
直行 永島
Toshiaki Ide
井出 敏秋
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気記録媒体に関し、特に、樹脂を主成分とす
る接着補強層を介して基体と磁性層の接着強度を向上さ
せるに当たり、接着補強層と磁性層間の接着強度を向上
させた磁気記録媒体に関する。
(従来技術とその問題点) 従来、ポリエステル等の基体に、樹脂バインダー中に強
磁性粉末を分散した磁性塗料を塗布した型の磁気記録媒
体において、磁性層と基体の間の接着強度は磁気記録媒
体の機械的強度、電気的特性のいずれの面にも重大な影
響があり、接着強度の向上に種々の方策が種々検討され
ている。
これらの方策の一つとして、従来接着補強層として樹脂
膜を基体上に塗布し基体と磁性層の間に介在させて接着
強度を向上させることはよく知られている。
(従来技術の問題点) しかし、磁性塗料は一般に有機溶剤を大量に含有してお
り、このため補強接着層を塗布した後、引き続いて磁性
塗料をその上に塗布すると、補強接着層の樹脂は硬化出
来ていないため、樹脂は有機溶剤により膨潤しあるいは
部分溶解し、磁性塗料の層の塗布性が阻害され均一な塗
布厚さの磁性層が得られない欠点を有していた。この問
題は接着補強層の樹脂を充分に硬化した後、磁性塗料を
塗布することにより解決されるが、その場合接着補強層
の接着作用が低下する傾向にあるだけでなく、硬化に時
間を要し作業性を阻害する。
(発明の目的) 本発明の目的は、磁性塗料の接着補強層への上記の塗布
性を阻害することなく、磁性層の基体に対する接着強度
を上げることを目的とする。
(発明の概要) 本発明者は、磁性塗料の接着補強層への塗布性を阻害す
ることなく、磁性層の基体に対する接着強度を上げる方
策を種々検討した結果、接着補強層を放射線硬化樹脂を
主成分として構成し、各層間をイソシアネート化合物に
よる架橋反応によって化学的に結合させることで2層間
の接着強度を飛躍的に向上させることに成功した。
放射線硬化性樹脂は硬化速度が早いため、接着補強層は
電子線等の放射線による照射により迅速に硬化する。こ
のためその上に直ちに磁性層を塗布しても従来のような
接着補強層の膨潤や部分的な溶解といった問題は完全に
防止される。しかも本発明の接着補強層の樹脂成分には
イソシアネートと反応して硬化し得る熱硬化型の基も含
有されているから、熱硬化により磁性層との間に強力な
結合を形成することができる。
(発明の詳細な説明) 本発明において基体はポリエステル樹脂、その他従来か
ら使用されているプラスチックフィルム、ディスク等で
ある。
本発明において使用される中間層すなわち接着補強層は
、従来から知られている放射線硬化型樹脂にイソシアネ
ートと反応して結合し得る基を導入したものを主成分と
している。放射線硬化性樹脂は、放射線特に電子照射に
よりラジカルを発生し、架橋あるいは重合することによ
り硬化するような、分子鎖中に不飽和二重結合を有する
樹脂である。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、それ
らのエステル等のアクリル系二重結合、マレイン酸、マ
レイン酸誘導体等の不飽和二重結合、アリル系2型結合
を有する樹脂である。イソシアネートと反応し得る基は
水酸基、酸基、エポキシ基、アミノ基等の活性な水素基
を有するものなどである。イソシアネートとの反応性か
ら、水酸基、アミン基が特に望ましい。なお中間層に必
要に応じて、カーボン等の無機顔料を添加しても良い。
次に示す樹脂は接着補強層のほかに所望により磁性層に
も使用できる。
(1)塩化ビニル・酢酸ビニル系 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−
ビニルアルコール−プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−末端OH側鎖アルキル基共重合体
に後に述べる手法により、アクリル系二重結合、マレイ
ン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入することによ
り放射線硬化性に変性したもの。
(I I)飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸
、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、1,2プロピレングリコール、1,3ブタンジオール
、ジプロピレングリコール、1.4ブタンジオール、1
,6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビト
ール、グリセリン、ネオベンルグリコール、1.4シク
ロヘキサンジメタツールのような多価アルコールとの化
学量論量を外れた割合でエステル結合して得られる飽和
ポリエステル樹脂を放射線硬化性に変性したもの。
(III)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物。例えば第(II)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
放射線硬化性不飽和ポリエチル樹脂の製法は、多塩基酸
成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイン
酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在下180
〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の後、240〜280 ℃まで昇温し、0.5〜lmm
Hgの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得るこ
とができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造
時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%
で好ましくは10〜30モル%である。
(rv)ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体の水酸
基の一部を後に述べる手法により放射線感応化硬化性に
変性したもの。
(■)エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製(エピコート1
52.154.828.1001.1004.1007
)ダウケミカル製(DEN431、DER732、DE
R511、DER331)大日本インキ製(エビクロン
400、エビクロン800) 、更に上記エポキシの高
重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(PKHA
、PKHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエピ
クロルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業製
(エビクロン145.152.153.1120)等の
エポキシ基の一部を放射線硬化性に変性したもの。
(VI)繊維素誘導体 各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等
が好適である。
これらも、樹脂中の水酸基の一部を後に述べる手法によ
り放射線硬化性に変性される。
一方、磁性層にはイソシアネート化合物を含有する。こ
のものは硬化剤として知られる任意のものが使用できる
。さらに接着補強層には、放射線硬化性樹脂を含むが、
このものはイソシアネート化合物と反応性の基を含む。
接着補強層(及び場合により磁性層)は、放射線照射に
より硬化される。使用しつる活性エネルギー線としては
、放射線加速器を線源とした電子線、Co Boを線源
としたγ−線、5r96を線源としたβ−線、X線発生
器を線源としたX−線等が使用される。
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加速器
による電子線を使用する方法が有利である。
放射線特性としては、透過力の面から加速電圧100〜
750KV好ましくは150〜300KVの放射線加速
器を用い、吸収線量を0.5〜20メガラツトになる様
に照射するのが好都合である。特に、米国エナージーサ
イエンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加
速器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーテ
ィング加エラインの導入、加速器内部の2次X線の遮蔽
等に極めて有利である。
勿論、従来より電子線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。ま
た、バック層においては、塗布厚が薄いので紫外線によ
っても十分硬化反応が行われ、必要とする特性を得るこ
とが可能である。
以下、本発明の実施例を示すが、最初に放射硬化性樹脂
の合成例を呈示しておく。
1 ・     5の 以下の例で用いた樹脂は次の通りである。
(a)アクリル性二重結合および水酸基を有するポリエ
ステルポリウレタン樹脂 (M n = 20. OO0 両末端の水酸基とトリレンジイソシアネートの2−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート(2HHMA)を反応さ
せた樹脂 1分子内に平均5個の水酸基を有するセバシン酸、イソ
フタル酸、ブタンジオールを主成分とするポリエステル
ポリウレタン樹脂) (b、)樹脂(a)の水酸基を含まないポリエステルポ
リウレタン樹脂 (C)塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重
合体VAGHの2HEMAアダクト体(d)アジピン酸
−ブタンジオールを主成分とするボワエステル樹脂 M n = 3.000 2HEMAアダクト体 水酸基 平均2個/分子 (e)樹脂(d)の水酸基をアミノ基に変更したもの。
実1江工 A接着補強層塗料調整 導電性カーボン粉末 (コロンビアカーボン、コンタク
テックス301粒子径20  mμ)   40重量部
7’llJル性二重結合及び水酸基を有するポリエステ
ルボi功レタン 樹脂 (a)       60重量
部メチルエチルケトン     200重量部トルエン
          200重量部上記組成物を混合分
散する。
B磁性塗料調整 Co−γ酸化鉄系磁性粉(粒子径0.2μ、Hc740
0e)         100重量部A1□0.微粉
末(粒子径0.2μ)   10重量部導電性カーボン
粉末  (コロンビアカーボン、コンダクテックスSC
1粒子径 20mμ)   5重量部アクリル性二重結
合を有する ポリエステしボ1功レタン 樹脂(b)       
 1 0重量部アクリル性二重結合を有する 塩化 ビニル・ 酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合
体(c)          20重量部潤滑剤3重量
部    MEK200重量部トルエン       
   150重量部上記組成物を混合分散した後イソシ
アネート化合物(日本ポリウレタンコロネートL)5重
量部を塗布直前に混合した。
組成物Aを75μmPETフィルム上に0.3μm厚に
塗布し、4 Mradの電子線を照射して硬化した。
次に組成物Bを1μm厚に塗布し、5 Mradの電子
線を照射して硬化した。出来上がったシートを70℃で
24時間熱処理した。
K皿■孟 実施例1の樹脂 (a)を樹脂(d)に、変更した。
X嵐亘旦 実施例2の樹脂 (d)の水酸基をアミノ基に変更(樹
脂(e))シた。
匿佼亘ユ 接着補強層を設けないで、実施例2と同様にシートを作
成した。
匿畝旦ユ 実施例2と同様にシートを作成し、熱処理を行わなかっ
た。
比1肌且 接着補強層の電子線硬化を行わないこと以外は実施例2
と同様にシートを作成した。
匿致1− 磁性屡にインシアネート化合物を添加しないこと以外は
実施例2と同様にシートを作成した。
之較■二 実施例2の樹脂(d)の水酸基を除外した樹脂を使用し
たこと以外は実施例2と同様にシートを作成した。
得られたシートの特性を測定して法衣の結果を得た。
なお、表の緒特性は次の方法で測定した。
、付着性 基盤目試験;媒体の磁性膜を貫通し非磁性支持体は貫通
しない1mm間 隔のスリットを基盤目状に設 け、接着テープにて剥離試験 を行い、残った升目の数を表 示する。
表面光沢二60°入射光の反射率(60’)を比較例1
を基準として相対表 ホ。
再生用カニMF2HDドライブ(1,6M BMFD)
G::て2f再生出力(250kHz)を測定し、Re
f DISK  の値と比較する。
タップテスト :媒体上の同一箇所でヘッドのくロード
〉−<アンロード〉動作を繰 り返し、再生出力が初期の8o% 以下となる回数を測定する。
(作用効果) 以上から明らかなように、本発明は磁性層にイソシアネ
ート化合物を含み、接着補強層にイソシアネートと反応
性のある基を有する放射線硬化性樹脂を主成分として構
成したから、付着性、光沢、再生出力及び耐久性が改善
したすぐれた記録媒体が提供できた。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体上に磁性粉末と樹脂結合剤を含む磁性層を接
    着補強層を介して設けてなる磁気記録媒体に於いて、上
    記磁性層にイソシアネート化合物を含み、接着補強層を
    イソシアネートと反応性のある基を有する放射線硬化性
    樹脂を主成分として構成したことを特徴とする磁気記録
    媒体。
  2. (2)放射線硬化性樹脂が−OH、−NHより選ばれる
    基を有する、放射線硬化性ポリウレタン樹脂、放射線硬
    化性ポリエステル樹脂より成る群から選択される前記第
    1項記載の磁気記録媒体。
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