JPH02157175A - グレーズド基板の製造法 - Google Patents
グレーズド基板の製造法Info
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- JPH02157175A JPH02157175A JP30911388A JP30911388A JPH02157175A JP H02157175 A JPH02157175 A JP H02157175A JP 30911388 A JP30911388 A JP 30911388A JP 30911388 A JP30911388 A JP 30911388A JP H02157175 A JPH02157175 A JP H02157175A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 5
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N (S)-(-)-alpha-terpineol Chemical compound CC1=CC[C@@H](C(C)(C)O)CC1 WUOACPNHFRMFPN-SECBINFHSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 abstract description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N alpha-Terpineol Natural products CC(=C)C1(O)CCC(C)=CC1 OVKDFILSBMEKLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229940088601 alpha-terpineol Drugs 0.000 abstract description 2
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 abstract description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 abstract description 2
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910001597 celsian Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はグレーズド基板の製造法に関する。
(従来の技術)
従来グレーズド基板に凹部を形成する方法としてエツチ
ングにより形成する方法が一般に知られている。
ングにより形成する方法が一般に知られている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記の方法では、グレーズ層の形成、レジ
スト膜の形成、露光、エツチング、レジスト膜の剥離、
必要に応じて再焼成を行うため工程が複雑であり、コス
ト高となる欠点がある。
スト膜の形成、露光、エツチング、レジスト膜の剥離、
必要に応じて再焼成を行うため工程が複雑であり、コス
ト高となる欠点がある。
本発明は一ヒ記の欠点のないグレーズド基板の製造法を
提供することを目的とするものである。
提供することを目的とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は基板上に溝を形成しながら非晶質ガラスペース
トを印刷し、焼成して表面に該非晶質ガラスペーストよ
り溶融温度の高い結晶質のガラスを析出させた第2のグ
レーズ層を形成し、さらにその上面及び溝内に該非晶質
ガラスペーストを印刷し、焼成して凹部を有する第2の
グレーズ層を形成するグレーズド基板の製造法に関する
。
トを印刷し、焼成して表面に該非晶質ガラスペーストよ
り溶融温度の高い結晶質のガラスを析出させた第2のグ
レーズ層を形成し、さらにその上面及び溝内に該非晶質
ガラスペーストを印刷し、焼成して凹部を有する第2の
グレーズ層を形成するグレーズド基板の製造法に関する
。
本発明において、基板としてはアルミナ、ベリリア、ム
ライト、ジルコニア、SiC等のセラミック基板が用い
られ特に制限はない。なお実施例ではアルミナセラミッ
クス基板を用いた例で説明するが他のセラミック基板を
用いても同様の効果が得られる。
ライト、ジルコニア、SiC等のセラミック基板が用い
られ特に制限はない。なお実施例ではアルミナセラミッ
クス基板を用いた例で説明するが他のセラミック基板を
用いても同様の効果が得られる。
非晶質ガラスペーストとしては、軟化点が700〜96
0℃のガラスを用いることが好ましく、マた第1のグレ
ーズ層の厚さは25μm以下であれば下地のセラミック
基板と反応して表面が結晶化し易−ので好ましい。
0℃のガラスを用いることが好ましく、マた第1のグレ
ーズ層の厚さは25μm以下であれば下地のセラミック
基板と反応して表面が結晶化し易−ので好ましい。
(実施例)
以下本発明の詳細な説明する。
実施例l
5iOz 、 k1203. )3aO,Sr○、
Cab、ZnO及びB2O3の成分からなり、軟化点が
865℃のガラス粉末100重量部に、エチルセルロー
ス(和光紬薬製)3重量部及びα−テルピネオール(和
光紬薬製)10重量部を加えて混練して非晶質ガラスペ
ーストを得た。ついで第1図に示すようにアルミナセラ
ミックス基板1上に1mm幅の溝5を形成しながら上記
で得た非晶質ガラスペーストをスクリーン印刷し、12
50℃の温度で40分間焼成して厚さ15μmの第1の
グレーズ層2を形成した。形成された第1のグレーズ層
2をX線回折によりセルシアン(溶融温度1760℃)
の結晶ピークを確認(−だ。
Cab、ZnO及びB2O3の成分からなり、軟化点が
865℃のガラス粉末100重量部に、エチルセルロー
ス(和光紬薬製)3重量部及びα−テルピネオール(和
光紬薬製)10重量部を加えて混練して非晶質ガラスペ
ーストを得た。ついで第1図に示すようにアルミナセラ
ミックス基板1上に1mm幅の溝5を形成しながら上記
で得た非晶質ガラスペーストをスクリーン印刷し、12
50℃の温度で40分間焼成して厚さ15μmの第1の
グレーズ層2を形成した。形成された第1のグレーズ層
2をX線回折によりセルシアン(溶融温度1760℃)
の結晶ピークを確認(−だ。
次に第1のグレーズ層2の上面及び溝5内に上記で得た
非晶質ガラスペーストをスクリーン印刷し、1250℃
の温度で40分間焼成して幅が0.7mで、深さが12
zzmの凹部4を有し、かつ厚さが60μn〕の第2の
グレーズ層3を形成しまたグレーズド基板を得た。
非晶質ガラスペーストをスクリーン印刷し、1250℃
の温度で40分間焼成して幅が0.7mで、深さが12
zzmの凹部4を有し、かつ厚さが60μn〕の第2の
グレーズ層3を形成しまたグレーズド基板を得た。
(発明の効果)
本発明になるグレーズド基板は、簡単な作業で凹部を形
成することができるだめ、コスト低減が図れ、工業的に
極めて好適なグレーズド基板である。
成することができるだめ、コスト低減が図れ、工業的に
極めて好適なグレーズド基板である。
第1図は本発明の実施例になるグレーズド基板の部分断
面図である。 符号の説明 1・・・アルミナセラミック基板
面図である。 符号の説明 1・・・アルミナセラミック基板
Claims (1)
- 1、基板上に溝を形成しながら非晶質ガラスペーストを
印刷し、焼成して表面に該非晶質ガラスペーストより溶
融温度の高い結晶質のガラスを析出させた第1のグレー
ズ層を形成し、さらにその上面及び溝内に該非晶質ガラ
スペーストを印刷し、焼成して凹部を有する第2のグレ
ーズ層を形成することを特徴とするグレーズド基板の製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30911388A JPH02157175A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | グレーズド基板の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30911388A JPH02157175A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | グレーズド基板の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02157175A true JPH02157175A (ja) | 1990-06-15 |
Family
ID=17989047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30911388A Pending JPH02157175A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | グレーズド基板の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02157175A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105349990A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-02-24 | 深圳市麦捷微电子科技股份有限公司 | 一种合金电感器表面处理材料及方法 |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP30911388A patent/JPH02157175A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105349990A (zh) * | 2015-12-09 | 2016-02-24 | 深圳市麦捷微电子科技股份有限公司 | 一种合金电感器表面处理材料及方法 |
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