JPH0216556U - - Google Patents

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JPH0216556U
JPH0216556U JP9412288U JP9412288U JPH0216556U JP H0216556 U JPH0216556 U JP H0216556U JP 9412288 U JP9412288 U JP 9412288U JP 9412288 U JP9412288 U JP 9412288U JP H0216556 U JPH0216556 U JP H0216556U
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disk
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electrons
primary
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン処
理装置の中性化制御回路の回路図である。第2図
は、この考案の背景となるイオン処理装置の一例
を示す要部構成図である。第3図は、第2図中の
中性化制御回路の先行例の回路図である。 2……イオンビーム、4……デイスク、6……
ウエハ、10……ニユートラルカツプ、14……
フイラメント、16……フイラメント電源、24
……デイスク電流計測抵抗、34……設定回路、
36……演算回路、37……積分回路、38……
制御回路、40……中性化制御回路、42……微
分・反転回路。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空容器内で回転および並進させられるデイス
    クに装着されたウエハにイオンビームを照射して
    当該ウエハを処理する装置であつて、一次電子を
    放出する一次電子放出源と、この一次電子を受け
    て二次電子を放出する二次電子放出源とを備え、
    この二次電子をイオンビーム照射領域におけるウ
    エハに供給するようにしたものにおいて、前記デ
    イスクに流れるデイスク電流を計測するデイスク
    電流計測回路と、所望のデイスク電流を設定する
    設定回路と、デイスク電流計測回路によつて計測
    されたデイスク電流と設定回路によつて設定され
    たデイスク電流との差を求める演算回路と、この
    差を積分する積分回路と、この積分回路に並列に
    接続されていて前記差を微分すると共にその前ま
    たは後で極性反転させる微分・反転回路と、積分
    回路からの出力と微分・反転回路からの出力の和
    に応じて前記一次電子放出源を制御してそこから
    放出する一次電子の量を制御する制御回路とを備
    えることを特徴とするイオン処理装置。
JP9412288U 1988-07-16 1988-07-16 Pending JPH0216556U (ja)

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JPH0216556U true JPH0216556U (ja) 1990-02-02

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