JPH02169537A - フツ素置換ビフエニル誘導体 - Google Patents
フツ素置換ビフエニル誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は新規な液晶性化合物並びにこれらの液晶性化合
物の少なくとも1種を含有することを特徴とする液晶組
成物に関する。更に詳しく言えば本発明は強誘電性液晶
に関し、実用的な強誘電性液晶組成物作製の際、その組
成成分として有用で且つ化学的安定性に優れた新規な7
ツ素置換ビフ工ニル誘導体並びにこれらの新規なフッ素
置換ビフェニル誘導体の少なくとも1種を含有する液晶
組成物に関する。
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組成物に関する。
時計、電卓、パーソナルワープロ、ポケットテレビ用等
の表示素子として、液晶表示素子は広く朋いらている。
の表示素子として、液晶表示素子は広く朋いらている。
これは受光型で百が疲れない、消費電力が少ない、薄型
である等の優れた特徴を有しているためであるが、一方
においては応答速度が遅い、メモリー性がない等から応
用面において制限があった。応用面の拡大を図るため、
従来用いられていたツィステッドネマチック(TN)型
表示方式を改良したスーパーツィステッドネマチック(
STN)型表示方式等も見いだされている。しかし、こ
れらは大画面表示或いはグラフインク表示用としては充
分ではなく、これらに代わる液晶表示素子の研究も種々
行われている。
である等の優れた特徴を有しているためであるが、一方
においては応答速度が遅い、メモリー性がない等から応
用面において制限があった。応用面の拡大を図るため、
従来用いられていたツィステッドネマチック(TN)型
表示方式を改良したスーパーツィステッドネマチック(
STN)型表示方式等も見いだされている。しかし、こ
れらは大画面表示或いはグラフインク表示用としては充
分ではなく、これらに代わる液晶表示素子の研究も種々
行われている。
その1つに強誘電性液晶(R,B、 Meyerら;P
hysique、 36 L−69(1975))を利
用した表示方式%式% この方式は従来方式に比べて100倍もの高速応答であ
ること、及びメモリー性があること等の優れた特徴を有
しているため、液晶表示素子の用途拡大が期待されてい
る。強誘電性液晶は液晶分子長軸が層法線方向とある角
度を有する一連のスメクチック液晶を差すが、実用的に
はカイラルスメクチックC(S+0本)相が用いられる
。
hysique、 36 L−69(1975))を利
用した表示方式%式% この方式は従来方式に比べて100倍もの高速応答であ
ること、及びメモリー性があること等の優れた特徴を有
しているため、液晶表示素子の用途拡大が期待されてい
る。強誘電性液晶は液晶分子長軸が層法線方向とある角
度を有する一連のスメクチック液晶を差すが、実用的に
はカイラルスメクチックC(S+0本)相が用いられる
。
実際の表示素子用材料は、(1)種々の強誘電性液晶化
合物から成る液晶組成物として、又は(2)種々のスメ
クチックC(S+aC)相を有する化合物と光学活性化
合物とから成る液晶組成物として用いられる。最近では
(2)の液晶組成物として用いる方法が主流となってき
ているが、これは、実用面において要求される種々の特
性(動作温度範囲、応答速度、自発分極、ラセンピッチ
、化学的安定性等)を調整しやすいこと、安価であるこ
と等の理由から(2)が有利と考えられているためであ
る。しかしながら、未だ実用化に供し得る化合物は極め
て少なく、強誘電性液晶組成物作製の際、有用な成分と
なりうる種々の新規化合物の開発が望まれている。
合物から成る液晶組成物として、又は(2)種々のスメ
クチックC(S+aC)相を有する化合物と光学活性化
合物とから成る液晶組成物として用いられる。最近では
(2)の液晶組成物として用いる方法が主流となってき
ているが、これは、実用面において要求される種々の特
性(動作温度範囲、応答速度、自発分極、ラセンピッチ
、化学的安定性等)を調整しやすいこと、安価であるこ
と等の理由から(2)が有利と考えられているためであ
る。しかしながら、未だ実用化に供し得る化合物は極め
て少なく、強誘電性液晶組成物作製の際、有用な成分と
なりうる種々の新規化合物の開発が望まれている。
このような状況から、本発明者らは、強誘電性液晶組成
物作製の際に必要なSmC相を有する化合物に視点を置
、き、特にこれまで知られている化合物にはSmC相温
度領域が室温付近に存在するものが少なく、また、それ
が室温付近に存在するものであっても、その物質構造に
ベンゼン環が多く存在しt;す、又安息香酸エステル類
であったりしていることから、粘性が高く高速応答には
不利であるという観点から、種々の新規な構造を有する
化合物をデザインし、合成評価し、鋭意研究を重ねた結
果、化学的に安定で、室温付近におけるSmC相温度範
囲が広く、低粘性の点で、高速応答に有利であると考え
られる新規化合物を提供することに成功した。
物作製の際に必要なSmC相を有する化合物に視点を置
、き、特にこれまで知られている化合物にはSmC相温
度領域が室温付近に存在するものが少なく、また、それ
が室温付近に存在するものであっても、その物質構造に
ベンゼン環が多く存在しt;す、又安息香酸エステル類
であったりしていることから、粘性が高く高速応答には
不利であるという観点から、種々の新規な構造を有する
化合物をデザインし、合成評価し、鋭意研究を重ねた結
果、化学的に安定で、室温付近におけるSmC相温度範
囲が広く、低粘性の点で、高速応答に有利であると考え
られる新規化合物を提供することに成功した。
本発明は、−数式、
(R1及びR2は炭素原子数1〜18の直鎖状又は分枝
鎖状のアルキル基を表わし、Zは単結合、0、C00又
はOCOを表わし、xI及びx2のうちのいずれか一方
は、フッ素原子を表わし、他方は水素原子を表わす)で
表わされる非光学活性フッ素置換ビフェニル誘導体並び
にそれらの少なくとも1種を含有することを特徴とする
液晶組成物を提供するものである。
鎖状のアルキル基を表わし、Zは単結合、0、C00又
はOCOを表わし、xI及びx2のうちのいずれか一方
は、フッ素原子を表わし、他方は水素原子を表わす)で
表わされる非光学活性フッ素置換ビフェニル誘導体並び
にそれらの少なくとも1種を含有することを特徴とする
液晶組成物を提供するものである。
本発明に係る新規な液晶化合物は、それ自身単独で室温
付近に広い温度範囲でSmC相を有する化合物であり、
又それらを適当な割合で混合すれば、更に広い温度範囲
でSmC相を有する混合物が調製することができ、フッ
素置換ビフェニル系であることから低粘性を期待でき、
従って実用的な強誘電性液晶組成物作成時の組成成分と
して有用な化合物である。
付近に広い温度範囲でSmC相を有する化合物であり、
又それらを適当な割合で混合すれば、更に広い温度範囲
でSmC相を有する混合物が調製することができ、フッ
素置換ビフェニル系であることから低粘性を期待でき、
従って実用的な強誘電性液晶組成物作成時の組成成分と
して有用な化合物である。
以下に合成経路、実施例等により、本発明を、更に詳し
く説明する。
く説明する。
以下の合成経路は一つの例であり、これを以て本発明に
係る化合物の合成は制約されない。
係る化合物の合成は制約されない。
/′
合成経路図(1)
合成経路図(2)
3−フルオロビフェニル誘導体(合成経路図1)の場合
2−フルオロフェノールを出発原料として、これをアル
キルブロマイドでエーテル化した後、臭素にて臭素化し
て得られる2−フルオロ−4−ブロムアルコキシベンゼ
ンとマグネシウムとからグリニヤール試薬を調製し、こ
れをブロムベンゼンとクロスカップリング反応させるこ
とにより、3−フルオロ−4−アルコキシビフェニルヲ
得ル。この3−フルオロ−4−アルコキシビフェニルを
7リーデルクラフト及応によりアセチル化して得られる
3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−アセチルビフェ
ニルをバイヤービリガー酸化し次いで加水分解すること
により3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−ヒドロキ
シビフェニルが、又ハロホルム反応を行うことにより、
3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−ビフェニルカル
ボン酸がそれぞれ得られる。3−フルオロ−4−アルコ
キシ−4′−ヒドロキシビフェニルをアルキルブロマイ
ドでエーテル化し、あるいはアルキルカル、ボン酸クロ
ライドでエステル化し、又、3−フルオロ−4−アルコ
キシ−4′−ビフェニルカルボン酸をアルコールでエス
テル化することにより本発明に係る各種の3−フルオロ
ビフェニル誘導体を得ることができる。
キルブロマイドでエーテル化した後、臭素にて臭素化し
て得られる2−フルオロ−4−ブロムアルコキシベンゼ
ンとマグネシウムとからグリニヤール試薬を調製し、こ
れをブロムベンゼンとクロスカップリング反応させるこ
とにより、3−フルオロ−4−アルコキシビフェニルヲ
得ル。この3−フルオロ−4−アルコキシビフェニルを
7リーデルクラフト及応によりアセチル化して得られる
3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−アセチルビフェ
ニルをバイヤービリガー酸化し次いで加水分解すること
により3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−ヒドロキ
シビフェニルが、又ハロホルム反応を行うことにより、
3−フルオロ−4−アルコキシ−4′−ビフェニルカル
ボン酸がそれぞれ得られる。3−フルオロ−4−アルコ
キシ−4′−ヒドロキシビフェニルをアルキルブロマイ
ドでエーテル化し、あるいはアルキルカル、ボン酸クロ
ライドでエステル化し、又、3−フルオロ−4−アルコ
キシ−4′−ビフェニルカルボン酸をアルコールでエス
テル化することにより本発明に係る各種の3−フルオロ
ビフェニル誘導体を得ることができる。
2−フルオロビフェニル誘導体(合成経路図2)の場合
2−フルオロ−4−ブロムビフェニルを出発原料として
、これをフリーデルタラット反応によりアセチル化し、
これをバイヤービリガー酸化し次いで加水分解すること
により得られる2−フルオロ−4−/ロムー4′−ヒド
ロキシビフ工二ルをアルキルブロマイドでエーテル化し
、2−フルオロ−4−ブロム−4′−アルコキシビフェ
ニルを得る。この2−フルオロ−4−ブロム−4′−ア
ルコキシビフェニルをマグネシウムと反応させてグリニ
ヤール試薬を調製し、これを硼酸トリブチルエステルと
反応させ、次いで酸分解反応に付することにより2−フ
ルオロー4−ヒドロキシ−4′−アルコキシビアエニル
が、又、シアン化第−銅でシアン化し、これを加水分解
することにより2−フルオロ−4′−アルコキシ−4−
ビフェニルカルボン酸がそれぞれ得られる。2−フルオ
ロ−4−ヒドロキシ−4′−アルコキシビフエニルをア
ルキルブロマイドでエーテル化し、あるいは、アルキル
カルボン酸クロライドでエステル化し、又、2−フルオ
ロ−4′−アルコキシ−4−t’フェニルカルボン酸を
アルコールでエステル化することにより、本発明に係る
各種の2−フルオロビフェニル誘導体を得ることができ
る。
、これをフリーデルタラット反応によりアセチル化し、
これをバイヤービリガー酸化し次いで加水分解すること
により得られる2−フルオロ−4−/ロムー4′−ヒド
ロキシビフ工二ルをアルキルブロマイドでエーテル化し
、2−フルオロ−4−ブロム−4′−アルコキシビフェ
ニルを得る。この2−フルオロ−4−ブロム−4′−ア
ルコキシビフェニルをマグネシウムと反応させてグリニ
ヤール試薬を調製し、これを硼酸トリブチルエステルと
反応させ、次いで酸分解反応に付することにより2−フ
ルオロー4−ヒドロキシ−4′−アルコキシビアエニル
が、又、シアン化第−銅でシアン化し、これを加水分解
することにより2−フルオロ−4′−アルコキシ−4−
ビフェニルカルボン酸がそれぞれ得られる。2−フルオ
ロ−4−ヒドロキシ−4′−アルコキシビフエニルをア
ルキルブロマイドでエーテル化し、あるいは、アルキル
カルボン酸クロライドでエステル化し、又、2−フルオ
ロ−4′−アルコキシ−4−t’フェニルカルボン酸を
アルコールでエステル化することにより、本発明に係る
各種の2−フルオロビフェニル誘導体を得ることができ
る。
実施例に使用されている略記号は、下記の意味を有する
。
。
GLC
PLC
R
ass
m、p
b、p
ガスクロマトグラフィー
高速液体クロマトグラフィー
赤外線吸収スペクトル
質量分析
融点
沸点
結晶
同定出来なかったスメクチック相
スメクチックB相
スメクチックC相
カイラルスメクチックC相
スメクチックA相
コレステリック相
等方性液体
温度不明
実施例 1
反応器に2−フルオロフェノール159% オクチルブ
ロマイド25.99、炭酸カリウム46.29並びにシ
クロへキサノン150肩aを仕込み、120〜130℃
で12時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼ
ン抽出、水洗芒硝で脱水後溶媒を留去した。残留分並び
にクロロホルム100m(Eヲ別(7)反応器に仕込み
、室温撹拌下臭素449を滴下し、さらに同温度で6時
間撹拌した後希苛性ソーダ水溶液に注加し撹拌した。ク
ロロホルム層を水洗、芒硝で脱水し、溶媒を留去した残
留分を減圧蒸留して、3−フルオロ−4−オクチルオキ
シブロムベンゼン32g(78,8%)ヲ得り。
ロマイド25.99、炭酸カリウム46.29並びにシ
クロへキサノン150肩aを仕込み、120〜130℃
で12時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼ
ン抽出、水洗芒硝で脱水後溶媒を留去した。残留分並び
にクロロホルム100m(Eヲ別(7)反応器に仕込み
、室温撹拌下臭素449を滴下し、さらに同温度で6時
間撹拌した後希苛性ソーダ水溶液に注加し撹拌した。ク
ロロホルム層を水洗、芒硝で脱水し、溶媒を留去した残
留分を減圧蒸留して、3−フルオロ−4−オクチルオキ
シブロムベンゼン32g(78,8%)ヲ得り。
b、p 122〜130°O/ 0.3 ramHg
窒素気流下、反応器にマグネシウム229、ヨウ素少量
、テトラヒドロフラン(THF) 50m12ヲ仕込み
、これにブロムベンゼン144gのTHF 150m2
溶液を適当量注加し加温した。反応開始後残りのTHF
溶液を還流撹拌下に滴下し、滴下後2時間撹拌還流して
グリニヤール試薬を作成した。
窒素気流下、反応器にマグネシウム229、ヨウ素少量
、テトラヒドロフラン(THF) 50m12ヲ仕込み
、これにブロムベンゼン144gのTHF 150m2
溶液を適当量注加し加温した。反応開始後残りのTHF
溶液を還流撹拌下に滴下し、滴下後2時間撹拌還流して
グリニヤール試薬を作成した。
別の容器i: Cl2zPd(PPhs)z 3.69
及びHTF 100mff1を仕込み、窒素気流下に(
iso−C4H1)tA(2H/ヘキサンの1モル溶液
26mQを加え、さらに(a)で得られた3−フルオロ
−4−オクチルオキシブロムベンゼン177.3gのT
HF 150mg溶液ヲ加、t f=。
及びHTF 100mff1を仕込み、窒素気流下に(
iso−C4H1)tA(2H/ヘキサンの1モル溶液
26mQを加え、さらに(a)で得られた3−フルオロ
−4−オクチルオキシブロムベンゼン177.3gのT
HF 150mg溶液ヲ加、t f=。
これを加温し50〜60℃で先に作成したグリニヤール
試薬を滴下し、同温度で2時間熟成した。
試薬を滴下し、同温度で2時間熟成した。
反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗後、
芒硝で脱水し、溶媒を留去した。残留分t−クロロホル
ム/ヘキチン混合溶媒で再結晶し、さらにシリカゲルク
ロマトグラフィー(溶離液ヘキサン)にて精製し、3−
フルオロ−4−オクチルオキシビフェニルを得た。
芒硝で脱水し、溶媒を留去した。残留分t−クロロホル
ム/ヘキチン混合溶媒で再結晶し、さらにシリカゲルク
ロマトグラフィー(溶離液ヘキサン)にて精製し、3−
フルオロ−4−オクチルオキシビフェニルを得た。
収量 137.59(78,3%)GLC98%以上反
応器に(b)で得られた3−フルオロ−4−オクチルオ
キシビフェニル141g並びに塩化メチレン400mα
を仕込み、撹拌下、0℃以下で無水塩化アルミニウム9
4gを少しずつ加え、さらにアセチルクロライド569
を滴下した。滴下後、徐々に昇温しながら6時間撹拌し
た。反応液を希塩酸に注加し、有機層を水洗し、芒硝で
脱水後、溶媒を留去し、残留分をクロロホルムで再結晶
して3−フルオロ−4−才クチルオキシ−4′−アセチ
ルビフェニルヲ74な。
応器に(b)で得られた3−フルオロ−4−オクチルオ
キシビフェニル141g並びに塩化メチレン400mα
を仕込み、撹拌下、0℃以下で無水塩化アルミニウム9
4gを少しずつ加え、さらにアセチルクロライド569
を滴下した。滴下後、徐々に昇温しながら6時間撹拌し
た。反応液を希塩酸に注加し、有機層を水洗し、芒硝で
脱水後、溶媒を留去し、残留分をクロロホルムで再結晶
して3−フルオロ−4−才クチルオキシ−4′−アセチ
ルビフェニルヲ74な。
収量 154.4g(95,8%) GLC99%以
上溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結晶して、3−
フルオロ−4−オクチルオキシ−4−ヒドロキシビフェ
ニルヲ得り。
上溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結晶して、3−
フルオロ−4−オクチルオキシ−4−ヒドロキシビフェ
ニルヲ得り。
収量 5.949(70,5%) GLC99%以上
(e) F 反応器に(C)で得られた3−フルオロ−4−オクチル
オキシ−4′−アセチルビフェニル9.15ζ、88%
ギa36g並びに塩化メチレン90mffを仕込み、室
温撹拌下に無水酢a16g、浸硫a1.Q+ff次いで
35%過酸化水素水30m12を順次滴下した。滴下後
、TLC(Kiesalgel 60F254、展開液
ベンゼン)でぶ料が消失するまで撹拌還流した。反応液
を水に注加し、1時間撹拌後、洗液が中性になるまで有
機層を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分に
メタノール7(h(l及び40%苛性ソーダ水溶液を加
え、撹拌下に70℃で3時間反応させた。反応液を水に
注加し、塩酸酸性とした後、エーテルで抽出し、水洗し
、芒硝で脱水後、反応器に(d)で得られた3−フルオ
ロ−4−才クチルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニル
2−00g、オクチルブロマイド1−229、炭酸カリ
ウム1.8g及びシクロへキサノン15+aMを仕込み
、110〜130℃で5時間反応させた。反応液を濾過
し、得られる固形物をベンゼンで洗浄し、洗液と濾液を
合わせ、これを水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、
残留分をアセトンで再結晶して3−フルオロ−4,4′
−ジオクチルオキシビア工二ルを得た。
(e) F 反応器に(C)で得られた3−フルオロ−4−オクチル
オキシ−4′−アセチルビフェニル9.15ζ、88%
ギa36g並びに塩化メチレン90mffを仕込み、室
温撹拌下に無水酢a16g、浸硫a1.Q+ff次いで
35%過酸化水素水30m12を順次滴下した。滴下後
、TLC(Kiesalgel 60F254、展開液
ベンゼン)でぶ料が消失するまで撹拌還流した。反応液
を水に注加し、1時間撹拌後、洗液が中性になるまで有
機層を水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分に
メタノール7(h(l及び40%苛性ソーダ水溶液を加
え、撹拌下に70℃で3時間反応させた。反応液を水に
注加し、塩酸酸性とした後、エーテルで抽出し、水洗し
、芒硝で脱水後、反応器に(d)で得られた3−フルオ
ロ−4−才クチルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニル
2−00g、オクチルブロマイド1−229、炭酸カリ
ウム1.8g及びシクロへキサノン15+aMを仕込み
、110〜130℃で5時間反応させた。反応液を濾過
し、得られる固形物をベンゼンで洗浄し、洗液と濾液を
合わせ、これを水洗し、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、
残留分をアセトンで再結晶して3−フルオロ−4,4′
−ジオクチルオキシビア工二ルを得た。
収量 2.49g(91,9%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析428に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析428に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
実施例 2
実施例1(e)におけるオクチルブロマイド1.229
に替えて、ノニルブロマイド1.319を用い、他は実
施例1 (e)と同様に操作することにより3〜フルオ
ロ−4−オクチルオキシ−4′−ノニルオキシビフェニ
ルヲ得た。
に替えて、ノニルブロマイド1.319を用い、他は実
施例1 (e)と同様に操作することにより3〜フルオ
ロ−4−オクチルオキシ−4′−ノニルオキシビフェニ
ルヲ得た。
収量 2.43g(86,9%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析442に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析442に分子イオンピークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
実施例 3
実施例1(e)におけるオクチルブロマイド1.229
に替えて、デシルブロマイド1.49を用い、他は実施
例1 (a)と同様に操作することにより3−フルオロ
−4−オクチルオキシ−4′−デシルオキシビフェニル
ヲ得り。
に替えて、デシルブロマイド1.49を用い、他は実施
例1 (a)と同様に操作することにより3−フルオロ
−4−オクチルオキシ−4′−デシルオキシビフェニル
ヲ得り。
収量 2.66g(92,2%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。まf−
IR及びMass分析で456に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。
IR及びMass分析で456に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた
物質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に示
す。
実施例 4
反応器に実施例1 (d)で得られる3−フルオロ−4
−オクチルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニル2.0
09、ピリジン20mUを仕込み、室温撹拌下にオクタ
ノイルクロライド1.549をO〜−5℃で滴下し、滴
下後10時間撹拌した。反応液を水に注加し、ベンゼン
で抽出、希塩酸で洗浄、水洗、希アンモニア水処理、水
洗、芒硝脱水後、ベンゼンを留去し、残留分をアセトン
/メタノール混合溶媒で再結晶して、3−フルオロ−4
−才クチルオキシ−4′−オクタノイルオキシビアエニ
ルを得た。
−オクチルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニル2.0
09、ピリジン20mUを仕込み、室温撹拌下にオクタ
ノイルクロライド1.549をO〜−5℃で滴下し、滴
下後10時間撹拌した。反応液を水に注加し、ベンゼン
で抽出、希塩酸で洗浄、水洗、希アンモニア水処理、水
洗、芒硝脱水後、ベンゼンを留去し、残留分をアセトン
/メタノール混合溶媒で再結晶して、3−フルオロ−4
−才クチルオキシ−4′−オクタノイルオキシビアエニ
ルを得た。
収量 1.409 (50,3%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析442に分子イオンビークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析442に分子イオンビークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光II微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に
示す。
偏光II微鏡下で相変を観察した。その結果を表−1に
示す。
実施例 5
実施例4におけるオクタノイルクロライド1.54gに
替えて、デカノイルクロライド1.819を用い、他は
実施例4と同様に操作して3−フルオロ−4−オクチル
オキシ−4′−デカメイルオキシビフェニルを得た。
替えて、デカノイルクロライド1.819を用い、他は
実施例4と同様に操作して3−フルオロ−4−オクチル
オキシ−4′−デカメイルオキシビフェニルを得た。
収量 2.40g(81,1%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。また!
[及びMass分析470に分子イオンビークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
[及びMass分析470に分子イオンビークが認めら
れたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光Illll下鏡下変を観察した。その結果を表−1
に示す。
偏光Illll下鏡下変を観察した。その結果を表−1
に示す。
実施例 6
反応器に無水塩化アルミニウム1139及び塩化メチレ
ン600+Qを仕込み0℃以下で撹拌下にアセチルクロ
ライド1139を滴下し、次いで2−フルオロ−4−ブ
ロムビフェニルloogの塩化メチレン400mα溶液
を滴下後、徐々に室温に戻しながら7時間撹拌反応した
。反応液を氷と希塩酸中に注加し、塩化メチレン層を水
洗、炭酸水素ナトリウム水溶液洗浄、水洗し、芒硝で脱
水後溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結晶して2−
フルオロ−4−ブロム−4′−アセチルビ7エ二ルを得
た。
ン600+Qを仕込み0℃以下で撹拌下にアセチルクロ
ライド1139を滴下し、次いで2−フルオロ−4−ブ
ロムビフェニルloogの塩化メチレン400mα溶液
を滴下後、徐々に室温に戻しながら7時間撹拌反応した
。反応液を氷と希塩酸中に注加し、塩化メチレン層を水
洗、炭酸水素ナトリウム水溶液洗浄、水洗し、芒硝で脱
水後溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結晶して2−
フルオロ−4−ブロム−4′−アセチルビ7エ二ルを得
た。
収量 969(82,2%) GLC100%レン3
00mffを仕込み、10℃で撹拌下に88%ギ酸50
0rxQ、無水酢酸480raQを滴下し、さらに濃硫
酸t、Stαを加えた後、35%過酸化水素水150m
12を3時間を要して滴下し、滴下後徐々に昇温しで4
5〜50℃で30時間撹拌反応した。反応液を氷水に注
加し、ベンゼンで抽出、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄、水洗、芒硝脱水を行い、溶媒を留去し、残留分を得
た。この残留分とエチルアルコール2a、を別の反応器
に仕込み、これに25%苛性カリ水溶液を加え、8時間
還流撹拌した。
00mffを仕込み、10℃で撹拌下に88%ギ酸50
0rxQ、無水酢酸480raQを滴下し、さらに濃硫
酸t、Stαを加えた後、35%過酸化水素水150m
12を3時間を要して滴下し、滴下後徐々に昇温しで4
5〜50℃で30時間撹拌反応した。反応液を氷水に注
加し、ベンゼンで抽出、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄、水洗、芒硝脱水を行い、溶媒を留去し、残留分を得
た。この残留分とエチルアルコール2a、を別の反応器
に仕込み、これに25%苛性カリ水溶液を加え、8時間
還流撹拌した。
反応液を氷と希塩酸中に注加しベンゼンで抽出、食塩水
で洗浄、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルクロマトグラフィー(溶離液ベンゼン)にて精製し
、2−フルオロ−4−ブロム−4′−ヒドロキシビフェ
ニルヲ得た。
で洗浄、芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルクロマトグラフィー(溶離液ベンゼン)にて精製し
、2−フルオロ−4−ブロム−4′−ヒドロキシビフェ
ニルヲ得た。
収量 28.19 (47,5%)
(c) F
反応器に(a)で得た2−フルオロ−4−ブロム−4′
−アセチルビフェニル65g及び塩化メチ反応器に(b
)で得た2−フルオロ−4−プロムー4′−ヒドロキシ
ビフェニル5g、オクチルブロマイド8.63g、炭酸
カリウム49及び2−ブタノン(MEK) 50mff
を仕込み、撹拌還流下に8時間反応後、反応液を希塩酸
に注加し、ベンゼンで抽出、水洗、芒硝で脱水後、溶媒
を留去し、残留分をアセトン/メタノール混合溶媒で再
結晶して、2−フルオロ−4−ブロム−4′−オクチル
オキシビフェニル6.45g(90,8%)を得た。
−アセチルビフェニル65g及び塩化メチ反応器に(b
)で得た2−フルオロ−4−プロムー4′−ヒドロキシ
ビフェニル5g、オクチルブロマイド8.63g、炭酸
カリウム49及び2−ブタノン(MEK) 50mff
を仕込み、撹拌還流下に8時間反応後、反応液を希塩酸
に注加し、ベンゼンで抽出、水洗、芒硝で脱水後、溶媒
を留去し、残留分をアセトン/メタノール混合溶媒で再
結晶して、2−フルオロ−4−ブロム−4′−オクチル
オキシビフェニル6.45g(90,8%)を得た。
収量 6.459(90,8%) TLCモノスポッ
ト反応器にマグネシウム8.6g及びヨウ素の少量を仕
込み、(C)で得た2−フルオロ−4−ブロム−4′−
オクチルオキシビフェニル135gのTHF200講α
溶液の少量を加えて加熱し、反応開始後残りのTHF溶
液を滴下した。滴下終了後3時間還流し、グリニヤール
試薬を作成した。別の反応器に硼酸トリブチルエステル
689を仕込み、これに先に作成したグリニヤール試薬
を撹拌下に40℃で滴下し、滴下後1時間同温度で撹拌
した。放冷後、撹拌下に10%硫酸水溶液を滴下し、反
応液にベンゼン500+12を加えて抽出した。別の反
応器にこのベンゼン抽出液を仕込み、40〜50℃で撹
拌下に20%過酸化水素水72mQを滴下し、さらに2
時間撹拌反応した。反応液を水に注加し、ベンゼン層を
亜硫酸水素ナトリウム水溶液で処理し、水洗し、芒硝で
脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶離液ヘキサン−ベンゼン)にて精製し、2
−フルオロ−4−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシビ
フェニルを得た。
ト反応器にマグネシウム8.6g及びヨウ素の少量を仕
込み、(C)で得た2−フルオロ−4−ブロム−4′−
オクチルオキシビフェニル135gのTHF200講α
溶液の少量を加えて加熱し、反応開始後残りのTHF溶
液を滴下した。滴下終了後3時間還流し、グリニヤール
試薬を作成した。別の反応器に硼酸トリブチルエステル
689を仕込み、これに先に作成したグリニヤール試薬
を撹拌下に40℃で滴下し、滴下後1時間同温度で撹拌
した。放冷後、撹拌下に10%硫酸水溶液を滴下し、反
応液にベンゼン500+12を加えて抽出した。別の反
応器にこのベンゼン抽出液を仕込み、40〜50℃で撹
拌下に20%過酸化水素水72mQを滴下し、さらに2
時間撹拌反応した。反応液を水に注加し、ベンゼン層を
亜硫酸水素ナトリウム水溶液で処理し、水洗し、芒硝で
脱水後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(溶離液ヘキサン−ベンゼン)にて精製し、2
−フルオロ−4−ヒドロキシ−4′−オクチルオキシビ
フェニルを得た。
収量 84.5g(75,5%)
反応器に(d)で得られた2−フルオロ−4−ヒドロキ
シ−4′−オクチルオキシビフェニル5−09、オクチ
ルブロマイド3.1g%炭酸カリウム4.4g及びシク
ロへキサノン35mQを仕込み、110〜130℃で5
時間反応させた。反応液を濾過し、得られる固形物をベ
ンゼンで洗浄し、洗液と濾液を合わせ、これを水洗し、
芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結
晶して2−フルオロ−4,4′−ジオクチルオキシビア
工二ルを得た。
シ−4′−オクチルオキシビフェニル5−09、オクチ
ルブロマイド3.1g%炭酸カリウム4.4g及びシク
ロへキサノン35mQを仕込み、110〜130℃で5
時間反応させた。反応液を濾過し、得られる固形物をベ
ンゼンで洗浄し、洗液と濾液を合わせ、これを水洗し、
芒硝で脱水後、溶媒を留去し、残留分をアセトンで再結
晶して2−フルオロ−4,4′−ジオクチルオキシビア
工二ルを得た。
収量 6.469 (95,5%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で428に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で428に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
実施例 7
実施例6(e)におけるオクチルブロマイド3.19に
替えて、デシルブロマイド3.5gを用い、他は実施例
6(e)と同様に操作することにより2−フルオロ−4
−デシルオキシ−4′−オクチルオキシビフェニルヲ得
を二。
替えて、デシルブロマイド3.5gを用い、他は実施例
6(e)と同様に操作することにより2−フルオロ−4
−デシルオキシ−4′−オクチルオキシビフェニルヲ得
を二。
収量 6.869 (95,2%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で456に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で456に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光Ii微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1
に示す。
偏光Ii微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1
に示す。
実施例 8
実施例6(e)におけるオクチルブロマイド3.19に
替えて、4−メチルヘキシルブロマイド2.89を用い
、他は実施例6(e)と同様に操作することにより2−
フルオロ−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−
才クチルオキシビフェニルを得た。
替えて、4−メチルヘキシルブロマイド2.89を用い
、他は実施例6(e)と同様に操作することにより2−
フルオロ−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−
才クチルオキシビフェニルを得た。
収量 5.40g(82,6%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で414に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で414に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光B微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
偏光B微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
実施例 9
反応器に実施例6(d)で得られる3−フルオロ−4−
ヒドロキシ−4′−オクチルオキシビフェニル7.0g
、ピリジン20mQを仕込み、0〜−5℃にて撹拌下に
オクタノイルクロライド4.39を滴下し、滴下後、同
温度で10時間撹拌した。反応液を水に注加し、ベンゼ
ンで抽出、希塩酸で洗浄、水洗、希アンモニア水処理、
水洗、芒硝脱水後、ベンゼンを留去し、残留分をメタノ
ール/アセトン混合溶媒で再結晶して、2−フルオロ−
4−オクタノイルオキシ−4′−オクチルオキシビフェ
ニルを得た。
ヒドロキシ−4′−オクチルオキシビフェニル7.0g
、ピリジン20mQを仕込み、0〜−5℃にて撹拌下に
オクタノイルクロライド4.39を滴下し、滴下後、同
温度で10時間撹拌した。反応液を水に注加し、ベンゼ
ンで抽出、希塩酸で洗浄、水洗、希アンモニア水処理、
水洗、芒硝脱水後、ベンゼンを留去し、残留分をメタノ
ール/アセトン混合溶媒で再結晶して、2−フルオロ−
4−オクタノイルオキシ−4′−オクチルオキシビフェ
ニルを得た。
収量 5.279 (54,2%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びM a、 s s分析で442に分子イオンピー
クが認められたこと、並びに用いた原料の関係から、得
られた物質が目的物であることを確認した。
R及びM a、 s s分析で442に分子イオンピー
クが認められたこと、並びに用いた原料の関係から、得
られた物質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
実施例 IO
実施例9におけるオクタノイルクロライド4.3gに替
えて、デカノイルクロライド5.0gを用い、他は実施
例10と同様に操作して2−フルオロ−4−デカノイル
オキシ−4′−オクチルオキシビフェニルを得た。
えて、デカノイルクロライド5.0gを用い、他は実施
例10と同様に操作して2−フルオロ−4−デカノイル
オキシ−4′−オクチルオキシビフェニルを得た。
収量 9.42g(91,1%)
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で470に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で470に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料の関係から、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表−1に
示す。
実施例 11
本発明で得られた下記の4種の化合物の等重量混合物を
作成し、これをメトラーホットステージFP−82には
さみ、偏光H微鏡下で相変化を観察した。
作成し、これをメトラーホットステージFP−82には
さみ、偏光H微鏡下で相変化を観察した。
(実施例6の化合物)
(91施例9の化合物)
(実施例ioの化合物)
その結果、昇温時9.4℃で結晶からSmC相、44.
3℃でSmC相からNe相、62 、0 ”OでNe相
から等方性液体へ変化した。
3℃でSmC相からNe相、62 、0 ”OでNe相
から等方性液体へ変化した。
このように本発明の化合物を混合することにより、室温
を含む広い温度範囲でSmC相を有する混合物が得られ
た。
を含む広い温度範囲でSmC相を有する混合物が得られ
た。
実施例 12
実施例11で作成しI;混合液晶90重量%に対し、下
記の公知強誘電性液晶を101量%添加して強誘電性液
晶組成物を作成した。
記の公知強誘電性液晶を101量%添加して強誘電性液
晶組成物を作成した。
(実施例7の化合物)
(公知液晶)
この液晶組成物の相転移温度は昇温時13℃で結晶から
S+uC本相、48℃でSmC本相からch相、67.
5℃でch相から等方性液体へ変化した。
S+uC本相、48℃でSmC本相からch相、67.
5℃でch相から等方性液体へ変化した。
表面にポリビニルアルコール(PVA) 全塗布し、そ
の表面をラビングして平行配向九理を施した透明電極を
備えたセル厚3μ肩の液晶セルを作製し、この液晶セル
に先に作製した強誘電性液晶組成物を封入し、等方性液
体からSmC本相まで徐冷して液晶素子を作製した。こ
の液晶素子を2枚の偏光板に挟み、電圧を印加し、透過
光強度の変化から応答時間を測定した。
の表面をラビングして平行配向九理を施した透明電極を
備えたセル厚3μ肩の液晶セルを作製し、この液晶セル
に先に作製した強誘電性液晶組成物を封入し、等方性液
体からSmC本相まで徐冷して液晶素子を作製した。こ
の液晶素子を2枚の偏光板に挟み、電圧を印加し、透過
光強度の変化から応答時間を測定した。
その結果、200 Hz、±25V矩形波印加、42.
5℃において応答時間はL−2m5ecであつた。
5℃において応答時間はL−2m5ecであつた。
このように、本発明のS++C化合物からなるSmC液
晶組成物は強誘電性液晶表示素子用材料として使用でき
る。
晶組成物は強誘電性液晶表示素子用材料として使用でき
る。
市稲荷1−7−1
関東化学株式会社中央研究
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1及びR^2は炭素原子数1〜18の直鎖状又は
分枝鎖状のアルキル基を表わし、Zは単結合、O、CO
O又はOCOを表わし、X_1及びX_2のうちの、い
ずれか一方は、フッ素原子を表わし、他方は水素原子を
表わす)で表わされる非光学活性フッ素置換ビフェニル
誘導体。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1及びR^2は炭素原子数1〜18の直鎖状又は
分枝鎖状のアルキル基を表わし、Zは単結合、O、CO
O又はOCOを表わし、X_1及びX_2のうちのいず
れか一方は、フッ素原子を表わし、他方は水素原子を表
わす)で表わされる非光学活性フッ素置換ビフェニル誘
導体の少なくとも1種を含有することを特徴とする液晶
組成 物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63323512A JPH0825946B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | フツ素置換ビフエニル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63323512A JPH0825946B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | フツ素置換ビフエニル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02169537A true JPH02169537A (ja) | 1990-06-29 |
| JPH0825946B2 JPH0825946B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=18155516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63323512A Expired - Lifetime JPH0825946B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | フツ素置換ビフエニル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0825946B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993025529A1 (de) * | 1992-06-09 | 1993-12-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | 3-fluorpyridine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in flüssigkristallmischungen |
| US5545747A (en) * | 1990-08-16 | 1996-08-13 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Cyclobutanecarboxylic acid derivatives and liquid crystalline compositions containing them |
| US5562859A (en) * | 1991-08-17 | 1996-10-08 | Hoechst Aktiengesellschaft | 2-fluoropyrazines process for their preparation, and their use in liquid-crystalline mixtures |
| US5630962A (en) * | 1990-12-19 | 1997-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | 2-Fluoropyridines, their preparation and their use in liquid crystal mixtures |
| CN116640041A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-08-25 | 南京先进生物材料与过程装备研究院有限公司 | 一种制备4-溴代联苯及其衍生物的方法及系统 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP63323512A patent/JPH0825946B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5545747A (en) * | 1990-08-16 | 1996-08-13 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Cyclobutanecarboxylic acid derivatives and liquid crystalline compositions containing them |
| US5630962A (en) * | 1990-12-19 | 1997-05-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | 2-Fluoropyridines, their preparation and their use in liquid crystal mixtures |
| US5562859A (en) * | 1991-08-17 | 1996-10-08 | Hoechst Aktiengesellschaft | 2-fluoropyrazines process for their preparation, and their use in liquid-crystalline mixtures |
| WO1993025529A1 (de) * | 1992-06-09 | 1993-12-23 | Hoechst Aktiengesellschaft | 3-fluorpyridine, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in flüssigkristallmischungen |
| US5445763A (en) * | 1992-06-09 | 1995-08-29 | Hoechst Aktiengesellschaft | 3-fluoropyridines, process for their preparation, and their use in liquid-crystal mixtures |
| CN116640041A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-08-25 | 南京先进生物材料与过程装备研究院有限公司 | 一种制备4-溴代联苯及其衍生物的方法及系统 |
| CN116640041B (zh) * | 2023-05-30 | 2023-10-31 | 南京先进生物材料与过程装备研究院有限公司 | 一种制备4-溴代联苯及其衍生物的方法及系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0825946B2 (ja) | 1996-03-13 |
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