JPH02236832A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
情報記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH02236832A JPH02236832A JP1058926A JP5892689A JPH02236832A JP H02236832 A JPH02236832 A JP H02236832A JP 1058926 A JP1058926 A JP 1058926A JP 5892689 A JP5892689 A JP 5892689A JP H02236832 A JPH02236832 A JP H02236832A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- dye
- recording layer
- hole
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 125
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 90
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 90
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 17
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 86
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 7
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 7
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 7
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 5
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000000434 metal complex dye Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001013 indophenol dye Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 3h-imidazo[4,5-f]quinoxaline Chemical group N1=CC=NC2=C(NC=N3)C3=CC=C21 YELMWJNXDALKFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001756 Polyvinyl chloride acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 101150109831 SIN4 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 241001365914 Taira Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000005539 carbonized material Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N cyclohepta[b]pyrrole Chemical group C1=CC=CC2=NC=CC2=C1 LMBQFLQKKMVTMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005613 synthetic organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000008634 thiazolopyrimidines Chemical group 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、情報記録媒体に関するものである。
さらに詳しくは本発明は、円盤状樹脂基板に円盤状樹脂
フィルムが接合された情報記録媒体に関するものである
。
フィルムが接合された情報記録媒体に関するものである
。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザービーム等の高エネルギー密度の
ビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されて
いる。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静
止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されつるものである。
ビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されて
いる。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静
止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されつるものである。
光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたBi.Sn
、In,Te等の金属または半金属;またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたBi.Sn
、In,Te等の金属または半金属;またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。
そして、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取り
は通常下記の方法により行なわわる。
は通常下記の方法により行なわわる。
情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化(たとえば、ビットの生成)が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化(たとえば、ビットの生成)が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。
また、記録層は、外界の影習を受け易いため、外界から
保護する必要があった。このような記録層の保護機能が
優れた光ディスクとしては従来よりエアーサンドイッチ
構造の光ディスクが知られている。しかしながらエアー
サンドイッチ構造の光ディスクは、コスト高である、工
程が多く複雑である等の製造工程上の不利が大きい。こ
のため、近年では、基板の記録層が備えられた側に円盤
状の保護用の樹脂フィルムを接合する技術が、特開昭5
9−36339号公報、実開昭62−175427号公
報等に開示されている。
保護する必要があった。このような記録層の保護機能が
優れた光ディスクとしては従来よりエアーサンドイッチ
構造の光ディスクが知られている。しかしながらエアー
サンドイッチ構造の光ディスクは、コスト高である、工
程が多く複雑である等の製造工程上の不利が大きい。こ
のため、近年では、基板の記録層が備えられた側に円盤
状の保護用の樹脂フィルムを接合する技術が、特開昭5
9−36339号公報、実開昭62−175427号公
報等に開示されている。
このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど情報記録媒体自体の特性において長所を
有する他に5記録層を塗布法により簡単に形成すること
ができるという製造上の大きな利点を有している。しか
しながら、色素記録層を有する基板に上記保護フィルム
を接合した場合、次のような問題点が有る。
して上記のように金属類や色素等が知られている。色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど情報記録媒体自体の特性において長所を
有する他に5記録層を塗布法により簡単に形成すること
ができるという製造上の大きな利点を有している。しか
しながら、色素記録層を有する基板に上記保護フィルム
を接合した場合、次のような問題点が有る。
色素からなる記録層を形成する方法は、一般に上記のよ
うに塗布乾燥することにより行なわれる。塗布方法は、
円盤状樹脂基板上に均一な薄膜を形成する必要から、一
般にスピンコーターを用いて塗布される。色素層を形成
するための色素層形成用塗布液を上記基板上に塗布した
場合、通常基板表面のほぼ全面に塗布される。スピンコ
ーターは、その特性上基板の内周側の塗布開始位置は、
ある程度限定した位置から塗布できるが、外周側の塗布
範囲を制御することはできない。しかも、内周側の塗布
開始位置も、その位置より内側゛に塗布されないとはい
えず、色素層形成用塗布液は基板上にほぼ全面に塗布さ
れた状態になる。
うに塗布乾燥することにより行なわれる。塗布方法は、
円盤状樹脂基板上に均一な薄膜を形成する必要から、一
般にスピンコーターを用いて塗布される。色素層を形成
するための色素層形成用塗布液を上記基板上に塗布した
場合、通常基板表面のほぼ全面に塗布される。スピンコ
ーターは、その特性上基板の内周側の塗布開始位置は、
ある程度限定した位置から塗布できるが、外周側の塗布
範囲を制御することはできない。しかも、内周側の塗布
開始位置も、その位置より内側゛に塗布されないとはい
えず、色素層形成用塗布液は基板上にほぼ全面に塗布さ
れた状態になる。
上記保護用の樹脂フィルムは、該色素記録層上に、該基
板の内周側および外周側にて接合される。接合は、一般
に接着剤、熱融着あるいは超音波融着等により行なわれ
る。本発明者等の検討によると、上記のように記録層の
材料が金属でなく色素の場合には、上記樹脂フィルムが
接合される基板の内周側および外周側の接合部分には色
素が付着しており、このため上記接合により得られる接
着強度が実用強度に至らないとの問題があることが明ら
かとなった。
板の内周側および外周側にて接合される。接合は、一般
に接着剤、熱融着あるいは超音波融着等により行なわれ
る。本発明者等の検討によると、上記のように記録層の
材料が金属でなく色素の場合には、上記樹脂フィルムが
接合される基板の内周側および外周側の接合部分には色
素が付着しており、このため上記接合により得られる接
着強度が実用強度に至らないとの問題があることが明ら
かとなった。
従って、基板上に、色素記録層そしてこの上に樹脂フィ
ルムが接合された情報記録媒体は充分に優れた耐久性を
有するとは言えない。
ルムが接合された情報記録媒体は充分に優れた耐久性を
有するとは言えない。
[発明の目的]
本発明は、長期使用あるいは長期保存した場合でも、初
期の記録再生特性の低下のない耐久性に優れた情報記録
媒体を提供することを目的とする。
期の記録再生特性の低下のない耐久性に優れた情報記録
媒体を提供することを目的とする。
詳しくは、本発明は、保護用の樹脂フィルムが接合され
た情報記録媒体であって、その接着強度が実用性に充分
な強度を有する情報記録媒体を提供することを目的とす
る。
た情報記録媒体であって、その接着強度が実用性に充分
な強度を有する情報記録媒体を提供することを目的とす
る。
[発明の要旨]
本発明は、中央に孔部を備え、色素からなる記録層を該
孔部の周縁の外側および外周縁部の内側にそれぞれ設定
した内周側の非記録領域および外周側の非記録領域以外
の領域に設けてなる円盤状の樹脂基板の記録層側の表面
に、中央に孔部を備えた柔軟性の円盤状の樹脂フィルム
が、上記樹脂基板の内周側および外周側の非記録領域の
基板表面において直接接合することにより覆わわている
ことからなる情報記録媒体、および; 上記情報記録媒体を製造するために有利に利用すること
ができる下記の二つの製造方法、中央に孔部を備えた円
盤状樹脂基板上に、レーザーにより情報の読み取りおよ
び/または書き込みが可能な色素からなる記録層を塗布
により設ける工程、 該孔部の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある
該色素記録層を除去することにより、該孔部の周縁部の
外側および該外周縁部の内側にそれぞれ基板表面が露出
した内周側非記録領域および外周側非記録領域を設ける
工程、および該記録層側の基板上に、中央に孔部を備え
た柔軟性の円盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内
周側および外周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工
程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法、およ
び 中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上の該孔部の周縁部
の外側に設定した内周側非記録領域より外側から外周側
に、レーザーにより情報の読み取りおよび/または書き
込みが可能な色素からなる記録層を塗布により設ける工
程、 該基板の外周縁部近傍にある該色素記録層を除去するこ
とにより、該外周縁部の内側に基板表面が露出した外周
側非記録領域を設ける工程、および 該記録層側の基板上に、中央に孔部を備えた柔軟性の円
盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内周側および外
周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法にある
。
孔部の周縁の外側および外周縁部の内側にそれぞれ設定
した内周側の非記録領域および外周側の非記録領域以外
の領域に設けてなる円盤状の樹脂基板の記録層側の表面
に、中央に孔部を備えた柔軟性の円盤状の樹脂フィルム
が、上記樹脂基板の内周側および外周側の非記録領域の
基板表面において直接接合することにより覆わわている
ことからなる情報記録媒体、および; 上記情報記録媒体を製造するために有利に利用すること
ができる下記の二つの製造方法、中央に孔部を備えた円
盤状樹脂基板上に、レーザーにより情報の読み取りおよ
び/または書き込みが可能な色素からなる記録層を塗布
により設ける工程、 該孔部の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある
該色素記録層を除去することにより、該孔部の周縁部の
外側および該外周縁部の内側にそれぞれ基板表面が露出
した内周側非記録領域および外周側非記録領域を設ける
工程、および該記録層側の基板上に、中央に孔部を備え
た柔軟性の円盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内
周側および外周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工
程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法、およ
び 中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上の該孔部の周縁部
の外側に設定した内周側非記録領域より外側から外周側
に、レーザーにより情報の読み取りおよび/または書き
込みが可能な色素からなる記録層を塗布により設ける工
程、 該基板の外周縁部近傍にある該色素記録層を除去するこ
とにより、該外周縁部の内側に基板表面が露出した外周
側非記録領域を設ける工程、および 該記録層側の基板上に、中央に孔部を備えた柔軟性の円
盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内周側および外
周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法にある
。
上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は下記の通り
である。
である。
1)上記樹詣フィルムの厚さが、0.01〜0.3mm
の範囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。
の範囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。
2)上記樹脂フィルムが、アクリル系樹脂、塩化ビニル
系樹脂、エボキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモル
ファスポリオレフィンおよびポリエステルの群から選ば
れる少なくとも一種の樹脂フィルムであることを特徴と
する上記情報記録媒体。
系樹脂、エボキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモル
ファスポリオレフィンおよびポリエステルの群から選ば
れる少なくとも一種の樹脂フィルムであることを特徴と
する上記情報記録媒体。
3)上記樹脂フイルムの少なくとも一方の表面が、微小
な凹凸を有することを特徴とする上記情報記録媒体。
な凹凸を有することを特徴とする上記情報記録媒体。
4)上記接合部分が、不連続なリング状に形成されてい
ることを特徴とする上記情報記録媒体。
ることを特徴とする上記情報記録媒体。
5)上記樹脂基板が、ポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ポリメチルメタクリレート、およびエポキシ樹脂の
群から選ばれる少なくとも一種の樹脂であることを特徴
とする上記情報記録媒体。
ン、ポリメチルメタクリレート、およびエポキシ樹脂の
群から選ばれる少なくとも一種の樹脂であることを特徴
とする上記情報記録媒体。
上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下のとおりである。
以下のとおりである。
1)上記塗布が、スピンコーターを用いて行なねれるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
2)上記接合が、熱融着または超音波融着により行なわ
れることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
れることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
[発明の効果]
本発明の色素記録層上を覆フている樹脂フィルムは、円
盤状基板の内周側および外周側にて、色素などの付着の
ない基板と直接接合されている。
盤状基板の内周側および外周側にて、色素などの付着の
ない基板と直接接合されている。
このため、樹脂フィルムと円盤状基板との接合部分にお
ける接着強度が極めて高く、長期使用あるいは長期保存
した場合でも、剥離することがほとんどない。
ける接着強度が極めて高く、長期使用あるいは長期保存
した場合でも、剥離することがほとんどない。
従゛って、本発明の情報記録媒体は、記録層を塵埃等か
ら守る保護機能を長期に亙り維持することができること
から、耐久性の向上した情報記録媒体であるということ
ができる。
ら守る保護機能を長期に亙り維持することができること
から、耐久性の向上した情報記録媒体であるということ
ができる。
[発明の詳細な記述]
本発明の情報記録媒体は基本的には上記のように、円盤
上樹脂基板とその上に設けられた色素からなる記録層、
そして該記録層を保護するために基板の内外周側にて接
合された樹脂フィルムから構成されている。
上樹脂基板とその上に設けられた色素からなる記録層、
そして該記録層を保護するために基板の内外周側にて接
合された樹脂フィルムから構成されている。
従来は、ボf述のように保護用の樹脂フィルムを該色素
記録層上に、該基板の内外周側にて接合した場合接着強
度が充分でないとの問題があった。
記録層上に、該基板の内外周側にて接合した場合接着強
度が充分でないとの問題があった。
この問題について、本発明者等の検討したところによる
と、上記のように記録層の材料が金属でなく色素の場合
には、上記樹脂フィルムが接合される基板の内周側およ
び外周側の接合部分には色素が付着しており、これによ
り上記接合により得られる接着強度が実用強度に至らな
いことが判明した。
と、上記のように記録層の材料が金属でなく色素の場合
には、上記樹脂フィルムが接合される基板の内周側およ
び外周側の接合部分には色素が付着しており、これによ
り上記接合により得られる接着強度が実用強度に至らな
いことが判明した。
すなわち、色素記録層の塗布方法は、円盤状樹脂基板上
に均一な薄膜を形成する必要から、一般にスピンコータ
ーを用いて塗布される。スピンコーターによる塗布は、
上述したようにその特性上通常基板表面のほぼ全面に行
われる。従って、色素記録層が基板上ほぼ全面に設けら
れた状態になる。
に均一な薄膜を形成する必要から、一般にスピンコータ
ーを用いて塗布される。スピンコーターによる塗布は、
上述したようにその特性上通常基板表面のほぼ全面に行
われる。従って、色素記録層が基板上ほぼ全面に設けら
れた状態になる。
この色素記録層を保護するため樹脂フィルムは、円盤上
樹脂基板の内周側(孔部周縁部の外側)および外周側(
該外周縁部の内側)にて接合される。しかしながら、基
板の内周側および外周側には色素(場合によっては塵埃
なども)が付着しており、この色素を介してあるいは含
有した状態で基板と樹脂フィルムとの接合が行われるこ
とになる。このような接合では、基板と樹脂フイルムと
が直接接着されているとは言い難く、その接着面積は充
分であるとはいえない。従って、このような接合状態で
はその接着強度が実用強度に達していないことが判明し
た。
樹脂基板の内周側(孔部周縁部の外側)および外周側(
該外周縁部の内側)にて接合される。しかしながら、基
板の内周側および外周側には色素(場合によっては塵埃
なども)が付着しており、この色素を介してあるいは含
有した状態で基板と樹脂フィルムとの接合が行われるこ
とになる。このような接合では、基板と樹脂フイルムと
が直接接着されているとは言い難く、その接着面積は充
分であるとはいえない。従って、このような接合状態で
はその接着強度が実用強度に達していないことが判明し
た。
そこで、本発明の情報記録媒体は、上記欠点を解消した
もので、上記樹詣フイルムが、樹詣基板の内周側および
外周側の基板表面で直接接合されている。すなわち、中
央に孔部を備え、色素からなる記録層を設定した内周側
の非記録領域および外周側の非記録領域以外の領域に色
素からなる記録層を設けられ、そして該円盤状樹脂基板
の記録層側の表面に、中央に孔部を備えた柔軟性の円盤
状の樹mフィルムが、上記樹脂基板の内周側および外周
側の非記録領域の基板表面において直接接合されている
ことを特徴としている。
もので、上記樹詣フイルムが、樹詣基板の内周側および
外周側の基板表面で直接接合されている。すなわち、中
央に孔部を備え、色素からなる記録層を設定した内周側
の非記録領域および外周側の非記録領域以外の領域に色
素からなる記録層を設けられ、そして該円盤状樹脂基板
の記録層側の表面に、中央に孔部を備えた柔軟性の円盤
状の樹mフィルムが、上記樹脂基板の内周側および外周
側の非記録領域の基板表面において直接接合されている
ことを特徴としている。
これにより、樹脂フィルムと円盤状基板との接合部分に
おける接着強度が極めて高く、長期使用あるいは長期保
存した場合でも、剥離することがほとんどない。
おける接着強度が極めて高く、長期使用あるいは長期保
存した場合でも、剥離することがほとんどない。
従って、本発明の情報記録媒体は、記録層を塵埃等から
守る保護機能を長期に亙り維持することができることか
ら、耐久性の向上した情報記録媒体を得ることができる
。
守る保護機能を長期に亙り維持することができることか
ら、耐久性の向上した情報記録媒体を得ることができる
。
本発明を、添付した図面を参照しながら詳しく説明する
。
。
第1図および第2図は、本発明の情報記録媒体の代表的
な態様を示している。本発明の情報記録媒体10は、円
盤状の樹脂基板1lに円盤状の樹脂フィルム12が接合
されてなるものである。
な態様を示している。本発明の情報記録媒体10は、円
盤状の樹脂基板1lに円盤状の樹脂フィルム12が接合
されてなるものである。
第1図は、本発明の情報記録媒体10を樹詣フィルム1
2が接合された側から見た平面図である。
2が接合された側から見た平面図である。
樹脂フィルム12は、中央に孔部13を備え、樹脂基板
11の非記録領域に対応する領域に内周側の接合領域1
4および外周側の接合領域15を形成して接合されてい
る。内周側の接合領域l4の接合は、略同一の間隔をも
って、多数形成さわている略同一の間隔をもって細長い
島状接合部16によりなされている。
11の非記録領域に対応する領域に内周側の接合領域1
4および外周側の接合領域15を形成して接合されてい
る。内周側の接合領域l4の接合は、略同一の間隔をも
って、多数形成さわている略同一の間隔をもって細長い
島状接合部16によりなされている。
上記接合領域は、上記のように少なくともいずれかが上
記内周側の接合領域にように不連続なリング状に形成さ
れていることが好ましい。これにより外気圧の変化があ
った場合でも、樹脂フィルムが膨張するようなことがな
い。また、本発明の接合領域15では、記録層の材料で
ある色素等が存在せず、樹脂基板1lと樹詣フィルム1
2とが直接接合されている。
記内周側の接合領域にように不連続なリング状に形成さ
れていることが好ましい。これにより外気圧の変化があ
った場合でも、樹脂フィルムが膨張するようなことがな
い。また、本発明の接合領域15では、記録層の材料で
ある色素等が存在せず、樹脂基板1lと樹詣フィルム1
2とが直接接合されている。
第2図は、第1図のI−1線に沿った、本発明の情報記
録媒体10の拡大した断面図である。
録媒体10の拡大した断面図である。
円盤状の樹脂基板11は、中央に孔部17を備え、孔部
17の周縁の外側および外周縁部の内側にそれぞれ内周
側の非記録領域18および外周側の非記録領域19が設
定されており、内周側および外周側の非記録領域の間に
は、色素からなる記録層20が形成されている。
17の周縁の外側および外周縁部の内側にそれぞれ内周
側の非記録領域18および外周側の非記録領域19が設
定されており、内周側および外周側の非記録領域の間に
は、色素からなる記録層20が形成されている。
円盤状の樹脂フィルム12は、樹脂基板11の内周側の
非記録領域18において接合領域14を形成して接合さ
れ、また、樹脂基板11の外周側の非記録領域19にお
いて接合領域15を形成して接合されている。そして樹
脂フィルムが表面に適度な凹凸を有しているので、記録
層の上部の基板と樹詣フィルムの間には空間部22が形
成さている。このように樹脂フィルムは、エンボス加工
等により少なくとも一方の表面に適度な凹凸を有してい
ることが、空間部22が形成される易くなるので好まし
い。これはビット等の形成の際に必要な気化ガスの拡散
等を行なうために有効である。
非記録領域18において接合領域14を形成して接合さ
れ、また、樹脂基板11の外周側の非記録領域19にお
いて接合領域15を形成して接合されている。そして樹
脂フィルムが表面に適度な凹凸を有しているので、記録
層の上部の基板と樹詣フィルムの間には空間部22が形
成さている。このように樹脂フィルムは、エンボス加工
等により少なくとも一方の表面に適度な凹凸を有してい
ることが、空間部22が形成される易くなるので好まし
い。これはビット等の形成の際に必要な気化ガスの拡散
等を行なうために有効である。
本発明の情報記録媒体は、上記のように樹脂基板と樹脂
フィルムとを接合したものであり、接合方法としては、
超音波融着法、熱融着法、接着剤による方法等を挙げる
ことができる。
フィルムとを接合したものであり、接合方法としては、
超音波融着法、熱融着法、接着剤による方法等を挙げる
ことができる。
本発明の情報記録媒体は基本的には上記のような構成を
有しており、以下のように製造することができる。
有しており、以下のように製造することができる。
すなわち、本発明の情報記録媒体の製造方法は、例えば
以下のように行なわれる。添付第3図、第4図および第
2図を参照しながら詳しく説明する。
以下のように行なわれる。添付第3図、第4図および第
2図を参照しながら詳しく説明する。
第3図は、中央に孔部37を備えた円盤状樹脂基板31
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層3
0および該孔部の周縁部近傍に部分的に塗布されない領
域33からなる断面図である。円盤状樹脂基板31上に
、色素記録層形成用塗布液をスピンコーターを用いて塗
布し、色素からなる記録層30を形成する。塗布されな
い領域33は、塗布時の条件によりその面積が異なる。
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層3
0および該孔部の周縁部近傍に部分的に塗布されない領
域33からなる断面図である。円盤状樹脂基板31上に
、色素記録層形成用塗布液をスピンコーターを用いて塗
布し、色素からなる記録層30を形成する。塗布されな
い領域33は、塗布時の条件によりその面積が異なる。
一般に、記録再生時に、回転駆動用モーターのクランブ
に固定するために使用される基板の最内側のクランブエ
リアには色素が付着しないように塗布される。塗布方法
をスピンコーター以外のロールコーターやディッピング
などで行なった場合は、この塗布されない領域33は通
常存在しない。
に固定するために使用される基板の最内側のクランブエ
リアには色素が付着しないように塗布される。塗布方法
をスピンコーター以外のロールコーターやディッピング
などで行なった場合は、この塗布されない領域33は通
常存在しない。
第4図は、中央に孔部47を備えた円盤状樹脂基板41
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層4
0、該孔部20の周縁部に設けられた内周側非記録領域
4Bおよび該外周縁部の内側に設けられた内周側非記録
領域49からなる断面図である。第3図の該孔部の周縁
部近傍および該基板の外周縁部近傍にある該色素塗布層
30を除去することにより基板表面を露出させ、第4図
の孔部40の周縁部の外側および該外周縁部の内側にそ
れぞれ表面が基板の内周側非記録領域48および外周側
非記録領域49を設ける。上記色素塗布層の除去方法は
、色素塗布層乾燥前に拭き取る方法、乾燥後に溶剤で拭
き取る方法、乾燥前又は後に溶剤を直線状に噴射するこ
とにより、あるいは色素塗布層乾燥後レーザーにより燃
焼させて除去する方法を挙げることができる。
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層4
0、該孔部20の周縁部に設けられた内周側非記録領域
4Bおよび該外周縁部の内側に設けられた内周側非記録
領域49からなる断面図である。第3図の該孔部の周縁
部近傍および該基板の外周縁部近傍にある該色素塗布層
30を除去することにより基板表面を露出させ、第4図
の孔部40の周縁部の外側および該外周縁部の内側にそ
れぞれ表面が基板の内周側非記録領域48および外周側
非記録領域49を設ける。上記色素塗布層の除去方法は
、色素塗布層乾燥前に拭き取る方法、乾燥後に溶剤で拭
き取る方法、乾燥前又は後に溶剤を直線状に噴射するこ
とにより、あるいは色素塗布層乾燥後レーザーにより燃
焼させて除去する方法を挙げることができる。
また、第4図の孔部40の周縁部の外側および該外周縁
部の内側にそれぞれ表面が基板の内周側非記録領域48
および外周側非記録領域49を設ける別の方法として、
下記の方法を用いることができる。色素記録層形成用塗
布液を基板上に塗布する際、基板の内周側非記録領域4
8を確保して、これより外側(これ以外の傾城)にスビ
ンコート法等により塗布を行う。従って、これにより基
板の内周側非記録領域48が得られるので、色素記録層
の除去は外周側非記録領域49のみ行なえば良い。基板
の内周側非記録領域48を確保するため、すなわちこの
領域に色素を付着させないために、スビンコートで塗布
する際、その吐出量を5g/秒以下、回転数を30Or
pm以上で行うなどの塗布条件を満たす必要がある。こ
のように、色素の塗布条件を制御することにより、色素
の除去を外周側のみに省略することができる。
部の内側にそれぞれ表面が基板の内周側非記録領域48
および外周側非記録領域49を設ける別の方法として、
下記の方法を用いることができる。色素記録層形成用塗
布液を基板上に塗布する際、基板の内周側非記録領域4
8を確保して、これより外側(これ以外の傾城)にスビ
ンコート法等により塗布を行う。従って、これにより基
板の内周側非記録領域48が得られるので、色素記録層
の除去は外周側非記録領域49のみ行なえば良い。基板
の内周側非記録領域48を確保するため、すなわちこの
領域に色素を付着させないために、スビンコートで塗布
する際、その吐出量を5g/秒以下、回転数を30Or
pm以上で行うなどの塗布条件を満たす必要がある。こ
のように、色素の塗布条件を制御することにより、色素
の除去を外周側のみに省略することができる。
次の第2図は、前記の第2図と同じものであるが、樹脂
フィルムの接合工程を説明するため再度参照する。第2
図において、中央に孔部17を備えた円盤状樹脂基板1
1、孔部17の周縁の外側および外周縁部の内側にそれ
ぞれ内周側の非記録領域l8および外周側の非記録領域
19が設定されており、内周側および外周側の非記録領
域の間には、色素からなる記12層20が形成されてい
る。また、円盤状の樹脂フィルム12は、樹脂基板11
の内周側の非記録領域18において接合領域14を形成
して接合され、また、樹脂基板11の外周側の非記録領
域19において接合領域15を形成して接合されている
。
フィルムの接合工程を説明するため再度参照する。第2
図において、中央に孔部17を備えた円盤状樹脂基板1
1、孔部17の周縁の外側および外周縁部の内側にそれ
ぞれ内周側の非記録領域l8および外周側の非記録領域
19が設定されており、内周側および外周側の非記録領
域の間には、色素からなる記12層20が形成されてい
る。また、円盤状の樹脂フィルム12は、樹脂基板11
の内周側の非記録領域18において接合領域14を形成
して接合され、また、樹脂基板11の外周側の非記録領
域19において接合領域15を形成して接合されている
。
第3図の色素塗布層30を除去することにより基板表面
が露出した、第4図の基板の内周側非記録領域44およ
び外周側非記録領域45に、樹脂フィルム12が接合さ
れる。接合方法としては、超音波融着法、熱融着法、接
着剤による方法等を挙げることができる。好ましくは、
超音波融着法または熱融着法である。さらに、内周側を
超音波融着そして外周側を熱融着により接合することが
好ましい。上記接合部分を、不連続なリング状に形成さ
せるためには、リング状凸部を有するヒーターブロック
を備えた熱融着機、またはリング状凸部を有する印加ホ
ーンを備えた超音波融着機を利用することが好ましい。
が露出した、第4図の基板の内周側非記録領域44およ
び外周側非記録領域45に、樹脂フィルム12が接合さ
れる。接合方法としては、超音波融着法、熱融着法、接
着剤による方法等を挙げることができる。好ましくは、
超音波融着法または熱融着法である。さらに、内周側を
超音波融着そして外周側を熱融着により接合することが
好ましい。上記接合部分を、不連続なリング状に形成さ
せるためには、リング状凸部を有するヒーターブロック
を備えた熱融着機、またはリング状凸部を有する印加ホ
ーンを備えた超音波融着機を利用することが好ましい。
例えば、上記のようにして本発明の耐久性に優ねた情報
記録媒体を製造することができる。
記録媒体を製造することができる。
本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述べる
ような材料を用いて行なうことができる。
ような材料を用いて行なうことができる。
本発明において使用するプラスチック基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としては、セルキャストポリ
メチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレ
ート等のアクリル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共
重合体等の塩化ビニル系樹脂;エボキシ樹脂;ボリカー
ボネート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリ
エステルを挙げることができる。好ましくは、ポリカー
ボネート、ポリオレフインおよびセルキャストボリメチ
ルメタクリレートを挙げることができる。
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としては、セルキャストポリ
メチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレ
ート等のアクリル樹脂:ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共
重合体等の塩化ビニル系樹脂;エボキシ樹脂;ボリカー
ボネート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリ
エステルを挙げることができる。好ましくは、ポリカー
ボネート、ポリオレフインおよびセルキャストボリメチ
ルメタクリレートを挙げることができる。
本発明で使用される樹脂フィルムとしては、ポリメチル
メタクリレート等のアクリル系樹詣;ボリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹l8:エボキシ
樹脂:ボリカーポネート樹詣、アモルファスポリオレフ
ィンおよびポリエステルを挙げることができる。
メタクリレート等のアクリル系樹詣;ボリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹l8:エボキシ
樹脂:ボリカーポネート樹詣、アモルファスポリオレフ
ィンおよびポリエステルを挙げることができる。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ボリブロビレン、ボリカーボネ
ート等の高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(SiO2、AIL203等)
、無機フッ化物(MgF2)などの無′機物質を挙げる
ことができる。
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ボリブロビレン、ボリカーボネ
ート等の高分子物質;シランカップリング剤などの有機
物質;および無機酸化物(SiO2、AIL203等)
、無機フッ化物(MgF2)などの無′機物質を挙げる
ことができる。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスビンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範
囲である。
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスビンコ
ート、ディップコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に0.005〜20
μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範
囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグループ層および/またはプレビット層が設け
られてもよい。プレグループ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ノマー(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグループ層および/またはプレビット層が設け
られてもよい。プレグループ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ノマー(
またはオリゴマー)と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。
プレグループ層の形成は、まず粒密に作られた母型(ス
タンパー)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
タンパー)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
プ層の設けられた基板が得られる。プレグループ層の層
厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μmの範囲である。本発明のように、
基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレグループおよび/また
はプレビットが設けらわてもよい。
プ層の設けられた基板が得られる。プレグループ層の層
厚は一般に0.05〜100μmの範囲にあり、好まし
くは0.1〜50μmの範囲である。本発明のように、
基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレグループおよび/また
はプレビットが設けらわてもよい。
以下余白
基板(またはプレグループ層等)上には、色素からなる
記録層が設けられる。本発明に使用される色素は特に限
定されるものではなく、どのようなものでも良い。例え
ば、シアニン系色素、フタ口シアニン系色素、ビリリウ
ム系・チオビリリウム系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリリウム系色素、Ni,Crなとの金属錯塩系色素
、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェ
ノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメ
タン系色素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム系
・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げる
ことができる。
記録層が設けられる。本発明に使用される色素は特に限
定されるものではなく、どのようなものでも良い。例え
ば、シアニン系色素、フタ口シアニン系色素、ビリリウ
ム系・チオビリリウム系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリリウム系色素、Ni,Crなとの金属錯塩系色素
、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフェ
ノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメ
タン系色素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム系
・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げる
ことができる。
以下余白
これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。
その好ましい例としては、
i)シアニン系色素:
[1] ((:H3) 2N− (CIl・GH)s−
CH−”N(Cll3)2Cj2 04−N(CH3)
2 ”N((:113)2 [3] (:− C I1 − C I1 − C H − (
:(ただし、Rは水素原子またはN(C113)2であ
る) [4] Φゝ −L二平 (X埠−),7m(ただ
し、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキサゾー
ル環残基,セレナゾール環残基、イミダゾール環残基、
ビリジン環残基、チアゾロビリミジン環残基またはイミ
ダゾキノキサリン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリ力ルポシアニンまたはテト
ラカルポシアニンを形成するための連結基であり、Xa
″一はm価の陰イオンであり、mは1または2であり、
ざらにXa−はΦ、しまたは!上に置換して分子内塩を
形成しても良く、またΦとし、またはLと平とはさらに
連結して環を形成しても良い) 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のa》〜h)等が挙げられる。
CH−”N(Cll3)2Cj2 04−N(CH3)
2 ”N((:113)2 [3] (:− C I1 − C I1 − C H − (
:(ただし、Rは水素原子またはN(C113)2であ
る) [4] Φゝ −L二平 (X埠−),7m(ただ
し、Φおよび平はそれぞれ芳香族環が縮合していてもよ
いインドレニン環残基、チアゾール環残基、オキサゾー
ル環残基,セレナゾール環残基、イミダゾール環残基、
ビリジン環残基、チアゾロビリミジン環残基またはイミ
ダゾキノキサリン環残基であり、Lはモノカルボシアニ
ン、ジカルボシアニン、トリ力ルポシアニンまたはテト
ラカルポシアニンを形成するための連結基であり、Xa
″一はm価の陰イオンであり、mは1または2であり、
ざらにXa−はΦ、しまたは!上に置換して分子内塩を
形成しても良く、またΦとし、またはLと平とはさらに
連結して環を形成しても良い) 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のa》〜h)等が挙げられる。
CH3
Cll3
ctto4−
CILO.−
Cl04−
ii)スクワリリウム系色素:
C(CH:+)*
〇一
C(CI*)3
iii)アズレニウム系色素:
RI
(ただし、R1とR2 R2とR 3 R3とR
4 R 4とR% R!iとR6およびR6とR7
の組合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは
未置換の複素環または脂肪族環による環を形成し、該環
を形成しないときの}jl R2R 3 R4
RS R6およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子または一僅の有機残基であり、あるいはRlとR
2 R 3とR4 R4とR S R 5とR6
およびR6とR7の組合せのうち少なくとも一つの組合
せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、
Aは二重結合によって結合した二価の有機残基であり、
Z一はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成す
る少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えられ
てアザアズレン環となっていてもよい。》iv)インド
フェノール系色素: A−R’ Y 子である) (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R I B 2およびR3はそれぞわ水素原子
、C,−C2。の置換または未置換のアルキル基、アリ
ール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは一
NHCO−または一〇〇N+1−である) ■》金属錯塩系色素: (ただし、Rl〜R4はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Mは二僅の遷移金属原(ただし、R1お
よびR2はそれぞれアルキル基またはハロゲン原子であ
り、Mは二僅の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル
基、ハロゲン原子またはR4 −N−R1′基(ここで、R4およびR5はそれぞれ置
換または未置換のアルキル基またはアリール基である)
であり、Mは遷移金属原子であり、nは0〜3の整数で
ある) (ただし、[CaL]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi,Cu、CO、Pdまた
はptであり、nは1または2である) (ただし、Xは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、nは1〜4の整数であり、Aは第四級ア
ンモニウム基である)(ただし、([:at]は錯塩を
中性ならしめるために必要な陽イオンであり、MはNi
,Cu、CO、Pdまたはptであり、nは1または2
である) (ただし、x1およびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、n1およびn2はそれぞれ
1〜3の整数であり、RlおよびR2はそれぞれアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセ
チルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルア
ミノ基を含む)であり、X′とX2,n+とn2および
R1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なってい
てもよく、MはCrまたはCo原子であり、Yは水素、
ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニ
ウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環族ア
ンモニウムである)vi)ナフトキノン系、アントラキ
ノン系色素:R H (ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である)R (ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である)(ただし、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ
基である)(ただし、Xはハロゲン原子である) ONII20 ON11。 S などを挙げることができる。
4 R 4とR% R!iとR6およびR6とR7
の組合せのうち少なくとも一つの組合せで置換もしくは
未置換の複素環または脂肪族環による環を形成し、該環
を形成しないときの}jl R2R 3 R4
RS R6およびR7はそれぞれ水素原子、ハロゲン
原子または一僅の有機残基であり、あるいはRlとR
2 R 3とR4 R4とR S R 5とR6
およびR6とR7の組合せのうち少なくとも一つの組合
せで置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、
Aは二重結合によって結合した二価の有機残基であり、
Z一はアニオン残基である。なお、アズレン環を構成す
る少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置き換えられ
てアザアズレン環となっていてもよい。》iv)インド
フェノール系色素: A−R’ Y 子である) (ただし、XおよびYはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、R I B 2およびR3はそれぞわ水素原子
、C,−C2。の置換または未置換のアルキル基、アリ
ール基、複素環またはシクロヘキシル基であり、Aは一
NHCO−または一〇〇N+1−である) ■》金属錯塩系色素: (ただし、Rl〜R4はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり、Mは二僅の遷移金属原(ただし、R1お
よびR2はそれぞれアルキル基またはハロゲン原子であ
り、Mは二僅の遷移金属原子である) (ただし、R1およびR2はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、R3はアルキル
基、ハロゲン原子またはR4 −N−R1′基(ここで、R4およびR5はそれぞれ置
換または未置換のアルキル基またはアリール基である)
であり、Mは遷移金属原子であり、nは0〜3の整数で
ある) (ただし、[CaL]は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、MはNi,Cu、CO、Pdまた
はptであり、nは1または2である) (ただし、Xは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、nは1〜4の整数であり、Aは第四級ア
ンモニウム基である)(ただし、([:at]は錯塩を
中性ならしめるために必要な陽イオンであり、MはNi
,Cu、CO、Pdまたはptであり、nは1または2
である) (ただし、x1およびx2はそれぞれニトロ基および/
またはハロゲン原子であり、n1およびn2はそれぞれ
1〜3の整数であり、RlおよびR2はそれぞれアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アセ
チルアミノ基、ベンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルア
ミノ基を含む)であり、X′とX2,n+とn2および
R1とR2はそれぞれ互いに同じであっても異なってい
てもよく、MはCrまたはCo原子であり、Yは水素、
ナトリウム、カリウム、アンモニウム、脂肪族アンモニ
ウム(置換脂肪族アンモニウムを含む)または脂環族ア
ンモニウムである)vi)ナフトキノン系、アントラキ
ノン系色素:R H (ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である)R (ただし、Rは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミノ基である)(ただし、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ
基である)(ただし、Xはハロゲン原子である) ONII20 ON11。 S などを挙げることができる。
なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いても
よい。
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いても
よい。
記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。
上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒド口フラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、n−プロバノール、イソブロパ
ノール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2、2、3、3、テトラフ口
口プロバノール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量
%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒド口フラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、n−プロバノール、イソブロパ
ノール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、2、2、3、3、テトラフ口
口プロバノール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容量
%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。
塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、
滑刑なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
滑刑なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質:およびポリエチレン、ボリブロピレン、ボリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エボキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮金物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質:およびポリエチレン、ボリブロピレン、ボリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エボキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮金物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。
塗布方法としては、スプレー法、スビンコート法、ディ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
対する色素の比率は一般に0.01〜99%(重量比)
の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(重量比)の
範囲にある。
記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に0
.Ol〜10μmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
1μmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。
.Ol〜10μmの範囲にあり、好ましくは0.02〜
1μmの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。
上記色素記録層の上には反射層を設けてもよい。反射層
を設けることにより、反射率の向上の効果の他、情報に
再生時におけるS/Nの向上および記録時における感度
の向上の効果が得られる。
を設けることにより、反射率の向上の効果の他、情報に
再生時におけるS/Nの向上および記録時における感度
の向上の効果が得られる。
反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、″その例としては、Mg,S
e%Y,Ti%Zr,Hf,V、Nb% Ta,Cr%
Mo,W,Mn,Re,Fe,Co,Ni,Ru,R
h,Pd% I r,Pt% Cu%Ag%Au,Zn
%Cd%AIL,Ga,In%Si,Ge,Te% P
b,Po、Sn,Biなどの金属および半金属を挙げる
ことができる。これらのうちで好ましいものはAu、A
g%Cu,Pt,AfL、CrおよびNiである。これ
らの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の
組合せでまたは合金として用いてもよい。
反射率が高い物質であり、″その例としては、Mg,S
e%Y,Ti%Zr,Hf,V、Nb% Ta,Cr%
Mo,W,Mn,Re,Fe,Co,Ni,Ru,R
h,Pd% I r,Pt% Cu%Ag%Au,Zn
%Cd%AIL,Ga,In%Si,Ge,Te% P
b,Po、Sn,Biなどの金属および半金属を挙げる
ことができる。これらのうちで好ましいものはAu、A
g%Cu,Pt,AfL、CrおよびNiである。これ
らの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の
組合せでまたは合金として用いてもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーテイングすることにより記録
層の上に形成することができる。
リングまたはイオンブレーテイングすることにより記録
層の上に形成することができる。
反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲にあ
る。
る。
そして該反射層の上には、記録層都よび情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層が設け
られてもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設
けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有
する。
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層が設け
られてもよい。また、この保護層は、基板の記録層が設
けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有
する。
保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、SiO、Si02、SIN4,MgF2、Sn02
等を挙げることができる。また、有機物質としては、熱
可塑性樹詣、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げる
ことができ、好ましくはυV硬化性樹脂である。
は、SiO、Si02、SIN4,MgF2、Sn02
等を挙げることができる。また、有機物質としては、熱
可塑性樹詣、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等を挙げる
ことができ、好ましくはυV硬化性樹脂である。
保護層の層厚は一般には0.1〜100μmの範囲にあ
る。
る。
上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。
あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。
り設けられてもよい。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。
し、これらの各例は本発明を制限するものではない。
[実施例1]
n−Gjl. Cl 04− n−C,Heお
よび上記色素に下記の色素: 0.01モル%添加したものIgを、2,2.3,3−
テトラフ口口プ口バノールに溶解して色素記録層塗布液
(濃度:2.75重量%)を調製した。
よび上記色素に下記の色素: 0.01モル%添加したものIgを、2,2.3,3−
テトラフ口口プ口バノールに溶解して色素記録層塗布液
(濃度:2.75重量%)を調製した。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板(外径:i30mm、内径:15mm%厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.6μm、グループの
深さ: 800X)上に、上記塗布液をスビンコート法
により吐出ffi7 g/秒、回転数7 0 0 rp
mの速度で塗布した後、該基板を2 0 0 0 rp
ttrにて1分間回転させて乾燥して膜厚が12001
の記録層を形成した。
ート基板(外径:i30mm、内径:15mm%厚さ:
1.2mm、トラックピッチ:1.6μm、グループの
深さ: 800X)上に、上記塗布液をスビンコート法
により吐出ffi7 g/秒、回転数7 0 0 rp
mの速度で塗布した後、該基板を2 0 0 0 rp
ttrにて1分間回転させて乾燥して膜厚が12001
の記録層を形成した。
上記色素記録層が設けられた該基板表面に2.2,3.
3−テトラフ口口プロバノールの溶剤を極めて細く噴射
して、基板の内周側および該外周側に設けられた色素を
除去し、第4図の該円盤状基板表面に設けられた内周側
非記録領域48および該外周縁部の内側に設けられた外
周側非記録領域49に当たる、基板の孔部の周縁より1
0mm外側の範囲および外周縁より1.5mm内側の範
囲の基板表面が露出した領域を形成した。
3−テトラフ口口プロバノールの溶剤を極めて細く噴射
して、基板の内周側および該外周側に設けられた色素を
除去し、第4図の該円盤状基板表面に設けられた内周側
非記録領域48および該外周縁部の内側に設けられた外
周側非記録領域49に当たる、基板の孔部の周縁より1
0mm外側の範囲および外周縁より1.5mm内側の範
囲の基板表面が露出した領域を形成した。
樹脂フィルムとして、両面に微小な凹凸(A面:最大凹
凸深さ7.2μm,Ra約1.6μm、B面二最大凹凸
深さ3.2μm,Ra約0.6μm)のあるポリカーボ
ネートフイルム(商品名:三菱瓦斯化学■、ユービロン
マットフィルム,FE−2000MO1、130μm)
を35mm,外形120mmに切断した。
凸深さ7.2μm,Ra約1.6μm、B面二最大凹凸
深さ3.2μm,Ra約0.6μm)のあるポリカーボ
ネートフイルム(商品名:三菱瓦斯化学■、ユービロン
マットフィルム,FE−2000MO1、130μm)
を35mm,外形120mmに切断した。
記録層表面に該マットフィルムのA面を向けて同心に重
ね、内周側を超音波融着そして外周側を熱融着により接
合した。
ね、内周側を超音波融着そして外周側を熱融着により接
合した。
このようにして、基板、色素記録層および樹脂フィルム
からなる情報記録媒体を製造した。
からなる情報記録媒体を製造した。
[実施例2]
実施例1において、上記色素記録層形成用塗布液をスピ
ンコート法により吐出量1g/秒、回転数1 0 0
0 rpmの速度で、基板の孔部の周縁より10mm外
側の位置から外周側に塗布して、同様に色素記録層を形
成し、上記色素記録層が設けられた該基板表面に2.2
,3.3−テトラフ口口プロバノールの溶剤を極めて細
く噴射して、基板の外周側に設けられた色素のみを除去
して、外周縁より1.5mm内側の範囲の基板表面が露
出した領域を形成した。このようにして基板の孔部の周
縁より10mm外側の範囲都よび外周縁より1.5mm
内側の範囲の基板表面が露出した領域を形成した。
ンコート法により吐出量1g/秒、回転数1 0 0
0 rpmの速度で、基板の孔部の周縁より10mm外
側の位置から外周側に塗布して、同様に色素記録層を形
成し、上記色素記録層が設けられた該基板表面に2.2
,3.3−テトラフ口口プロバノールの溶剤を極めて細
く噴射して、基板の外周側に設けられた色素のみを除去
して、外周縁より1.5mm内側の範囲の基板表面が露
出した領域を形成した。このようにして基板の孔部の周
縁より10mm外側の範囲都よび外周縁より1.5mm
内側の範囲の基板表面が露出した領域を形成した。
上記以外は実施例1と同様にして情報記録媒体を製造し
た。
た。
[比較例1]
実施例1において、基板の内周側および該外周側に設け
られた色素を除去しなかった以外は実施例1と同様にし
て情報記録媒体を製造した。
られた色素を除去しなかった以外は実施例1と同様にし
て情報記録媒体を製造した。
[情報記録媒体の評価]
1)上記で得られた十h報記録媒体の樹脂フィルムと基
板との接合状態を観察した。
板との接合状態を観察した。
3)上記で得られた情報記録媒体について、15日保存
後(60t、9o%RH)(7)樹JII7イルムと基
板との接合状態を観察した。
後(60t、9o%RH)(7)樹JII7イルムと基
板との接合状態を観察した。
得られた結果を第1表に示す。
第1表
初期接合状態 15日後接合状態
実施例1 剥離無し 剥S=t,実施例2
剥離無し 剥離無し比較例1 剥離無し ほとんど剥離 第1表が示すように、IM詣フィルムと基板との接合状
態は、接合した直後は実施例1、2および比較例1の全
ての情報記録媒体において剥離は見られない。しかしな
がら、経時的に比較例1では剥離が見られることが分か
る。
剥離無し 剥離無し比較例1 剥離無し ほとんど剥離 第1表が示すように、IM詣フィルムと基板との接合状
態は、接合した直後は実施例1、2および比較例1の全
ての情報記録媒体において剥離は見られない。しかしな
がら、経時的に比較例1では剥離が見られることが分か
る。
これは、初期の接合強度が,比較例のディスクは実施例
のディスクに比べて低く、実用強度に至ってなかったも
のと考えられる。
のディスクに比べて低く、実用強度に至ってなかったも
のと考えられる。
第1図は、本発明の代表的な情報記録媒体を、樹脂フィ
ルムが接合された側から見た平面図である。 第2図は、第1図のI−I線に沿った情報記録媒体の断
面図である. 第3図、第4図および第2図は、本発明の情報記録媒体
の製造方法を説明するための断面図である。 1 2 : 1 3、 1 4 : 1 5 : 1 8、 1 9、 20、 2 2 : 3 3 : 円盤状の樹脂フィルム 17、37、47:孔部 内周側の接合領域 外周側の接合領域 48:内周側の非記録領域 49:外周側の非記録領域 30、40:記録層 空間部 部分的に塗布されない領域
ルムが接合された側から見た平面図である。 第2図は、第1図のI−I線に沿った情報記録媒体の断
面図である. 第3図、第4図および第2図は、本発明の情報記録媒体
の製造方法を説明するための断面図である。 1 2 : 1 3、 1 4 : 1 5 : 1 8、 1 9、 20、 2 2 : 3 3 : 円盤状の樹脂フィルム 17、37、47:孔部 内周側の接合領域 外周側の接合領域 48:内周側の非記録領域 49:外周側の非記録領域 30、40:記録層 空間部 部分的に塗布されない領域
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1。中央に孔部を備え、色素からなる記録層を該孔部の
周縁の外側および外周縁部の内側にそれぞれ設定した内
周側の非記録領域および外周側の非記録領域以外の領域
に設けてなる円盤状の樹脂基板の記録層側の表面に、中
央に孔部を備えた柔軟性の円盤状の樹脂フィルムが、上
記樹脂基板の内周側および外周側の非記録領域の基板表
面において直接接合することにより覆われていることか
らなる情報記録媒体。 2。中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上に、レーザー
により情報の読み取りおよび/または書き込みが可能な
色素からなる記録層を塗布により設ける工程、 該孔部の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある
該色素記録層を除去することにより、該孔部の周縁部の
外側および該外周縁部の内側にそれぞれ基板表面が露出
した内周側非記録領域および外周側非記録領域を設ける
工程、および 該記録層側の基板上に、中央に孔部を備えた柔軟性の円
盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内周側および外
周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 3。中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上の該孔部の周
縁部の外側に設定した内周側非記録領域より外側から外
周側に、レーザーにより情報の読み取りおよび/または
書き込みが可能な色素からなる記録層を塗布により設け
る工程、 該基板の外周縁部近傍にある該色素記録層を除去するこ
とにより、該外周縁部の内側に基板表面が露出した外周
側非記録領域を設ける工程、および 該記録層側の基板上に、中央に孔部を備えた柔軟性の円
盤状の樹脂フィルムを、上記樹脂基板の内周側および外
周側の非記録領域にてそれぞれ接合する工程、 を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1058926A JPH02236832A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1058926A JPH02236832A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02236832A true JPH02236832A (ja) | 1990-09-19 |
Family
ID=13098435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1058926A Pending JPH02236832A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02236832A (ja) |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP1058926A patent/JPH02236832A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2657579B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPS63159090A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
| JPH01190494A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH048585A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2671141B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0363943A (ja) | 光情報記録方法および情報記録媒体 | |
| JP2663009B2 (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH02236832A (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0352142A (ja) | 光情報記録方法及び情報記録媒体 | |
| JPH02252148A (ja) | 情報記録媒体および光情報記録方法 | |
| JP3773627B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH02232832A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP2529131B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH04176033A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH0459286A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JP3365623B2 (ja) | 情報記録再生方法 | |
| JP2604273B2 (ja) | 光情報記録方法 | |
| JP2883618B2 (ja) | 情報記録媒体および光情報再生方法 | |
| JPH02246033A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH04335223A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH04129799A (ja) | 情報記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2000276787A (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH03219445A (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
| JPH07118094B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH113539A (ja) | 情報記録媒体 |