JPH02222831A - Si被毒防止用酸素センサ - Google Patents
Si被毒防止用酸素センサInfo
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- JPH02222831A JPH02222831A JP1252025A JP25202589A JPH02222831A JP H02222831 A JPH02222831 A JP H02222831A JP 1252025 A JP1252025 A JP 1252025A JP 25202589 A JP25202589 A JP 25202589A JP H02222831 A JPH02222831 A JP H02222831A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は酸素センサ、特に自動車等の排気ガス浄化シス
テムの三元触媒と組合せて利用される空燃比制御用酸素
センサに関する。
テムの三元触媒と組合せて利用される空燃比制御用酸素
センサに関する。
[従来技術及び課題]
酸素センサを取り巻く環境はかなりきびしい。
排気ガス規制が強化される中で特に0.4g/s+11
゜NOXの規制が既にカリフォルニアにて実施されてい
る。その為センサにとって初期での制御A/Pのバラツ
キをおさえることと耐久後でのA/F変動をおさえる事
は重要な必要条件となる。
゜NOXの規制が既にカリフォルニアにて実施されてい
る。その為センサにとって初期での制御A/Pのバラツ
キをおさえることと耐久後でのA/F変動をおさえる事
は重要な必要条件となる。
更に近年は、エンジン部品にシリコンを用いたものが多
く、このシリコンによる影響も無視できない状況である
。
く、このシリコンによる影響も無視できない状況である
。
従って9本発明は初期での制御A/Pバラツキを防止す
ると共に、耐久後のA/P変動を小さくシ。
ると共に、耐久後のA/P変動を小さくシ。
かつSi被毒によるリーンシフト、立下り応答性の劣化
を防止することにある。
を防止することにある。
[課題を解決するための手段]
初期での制御A/Fバラツキ、そして耐久後での変動を
抑える為には酸素センサの排ガス側保護層に貴金属を含
有させセンサ電極にガスが到着する迄に、完全に未燃成
分の燃焼反応を進めてしまうという対策が各種付なわれ
ている。その中で我々も非化学量論的化合物からなる保
護層(第2保護層)を設ける事により耐久後も非常に効
果の強い触媒を保持できることを見出した(特願昭82
−211278)。これは非化学量論的化合物例えばT
iO2−1(x≦0.4)からなる粒子は電子ホール等
を有したものでリッチ・リーン雰囲気での過剰なcOl
及びo2が電極等に吸着する事を防ぐ上、貴金属とのな
じみも良い事がら初期、耐久での制御A/Fをλ′、1
近傍に集中させる事ができる様になった。この層での貴
金属は非化学量論的化合物に対して2■of%以下が好
ましくこれよりも多くなると次第にエミッションがリッ
チ側になりCO等が排出される様になってしまう。この
様な素子によりセンサの制御A/Fは初期のみならず耐
久後もバラツキ変動が少ないものとなる。しかし、Si
成分が排ガス中に含まれた場合には従来の酸素センサ素
子に比べ効果が見られるが、かなりリーン側にシフトし
てしまった。
抑える為には酸素センサの排ガス側保護層に貴金属を含
有させセンサ電極にガスが到着する迄に、完全に未燃成
分の燃焼反応を進めてしまうという対策が各種付なわれ
ている。その中で我々も非化学量論的化合物からなる保
護層(第2保護層)を設ける事により耐久後も非常に効
果の強い触媒を保持できることを見出した(特願昭82
−211278)。これは非化学量論的化合物例えばT
iO2−1(x≦0.4)からなる粒子は電子ホール等
を有したものでリッチ・リーン雰囲気での過剰なcOl
及びo2が電極等に吸着する事を防ぐ上、貴金属とのな
じみも良い事がら初期、耐久での制御A/Fをλ′、1
近傍に集中させる事ができる様になった。この層での貴
金属は非化学量論的化合物に対して2■of%以下が好
ましくこれよりも多くなると次第にエミッションがリッ
チ側になりCO等が排出される様になってしまう。この
様な素子によりセンサの制御A/Fは初期のみならず耐
久後もバラツキ変動が少ないものとなる。しかし、Si
成分が排ガス中に含まれた場合には従来の酸素センサ素
子に比べ効果が見られるが、かなりリーン側にシフトし
てしまった。
その為1本発明にあっては、この保護層(貴金属を担持
したものも含む)中に周期率表IIa族元素からなる成
分(以下+ r n a族成分」という)を含有させ
る事により、排気ガス中のSi成分がセンサの活性点に
達する迄に、この保護層にSiを吸着反応させることが
できる様にしたものである。
したものも含む)中に周期率表IIa族元素からなる成
分(以下+ r n a族成分」という)を含有させ
る事により、排気ガス中のSi成分がセンサの活性点に
達する迄に、この保護層にSiを吸着反応させることが
できる様にしたものである。
これは、保護層中のIIa族酸成分にCa、Mg等は排
ガス中に含まれるStとセンサが使用される状態下の温
度で反応を起こし低融点の結晶を生成する為、この保護
層より内側に位置し、耐熱性金属酸化物からなりIIa
族成分を含有しない保護層(第1保護層)(特にスピネ
ル、A1z03からなるもの)イこSiが侵入してこな
くなり第1保護層中に在る貴金属及び電極を保護するも
のと推定される。特にCa又はMgを含んだ塩化物、炭
酸塩は非常に細かい粒子が形成される為このSi成分が
累通りしてしまう事を防ぐ事ができる一J−に、このS
iに対して活性が高い。
ガス中に含まれるStとセンサが使用される状態下の温
度で反応を起こし低融点の結晶を生成する為、この保護
層より内側に位置し、耐熱性金属酸化物からなりIIa
族成分を含有しない保護層(第1保護層)(特にスピネ
ル、A1z03からなるもの)イこSiが侵入してこな
くなり第1保護層中に在る貴金属及び電極を保護するも
のと推定される。特にCa又はMgを含んだ塩化物、炭
酸塩は非常に細かい粒子が形成される為このSi成分が
累通りしてしまう事を防ぐ事ができる一J−に、このS
iに対して活性が高い。
しかしながら排ガス中に含まれるシリコンがエンジンの
低回転つまり温度が低い時に混入した場合にはIIa族
酸成分特にCa、Mg化合物)によるSlの吸着効果は
弱まり未反応のまま保護層にStが侵入してしまう事が
あった。そのためにセンサが高温にさらされた時その8
1がSiO□等に変化し保護層に目詰まりを生じてしま
う事も起こった。
低回転つまり温度が低い時に混入した場合にはIIa族
酸成分特にCa、Mg化合物)によるSlの吸着効果は
弱まり未反応のまま保護層にStが侵入してしまう事が
あった。そのためにセンサが高温にさらされた時その8
1がSiO□等に変化し保護層に目詰まりを生じてしま
う事も起こった。
そのため1本発明にあっては更に、排気ガスにさらされ
る側の保護層に■a族成分を含有させると共に、センサ
素子を加熱するヒータを備える事により、このSLの侵
入を防ぐ事ができたものである。つまり保護層温度をこ
のヒータにより高め、■a族酸成分吸着能力を高める事
によりSLはこのIIa族酸成分反応しStのみでの侵
入を少なくさせる事ができる為である。
る側の保護層に■a族成分を含有させると共に、センサ
素子を加熱するヒータを備える事により、このSLの侵
入を防ぐ事ができたものである。つまり保護層温度をこ
のヒータにより高め、■a族酸成分吸着能力を高める事
によりSLはこのIIa族酸成分反応しStのみでの侵
入を少なくさせる事ができる為である。
IIa族酸成分含む保護層(第2保護層)について、■
aa元素としてはCa、Mgが良好である。IIa族酸
成分組成としては非酸化物2例えばCaCJ2 、Mg
CO3等の塩化物、炭酸塩。
aa元素としてはCa、Mgが良好である。IIa族酸
成分組成としては非酸化物2例えばCaCJ2 、Mg
CO3等の塩化物、炭酸塩。
硝酸塩が良い。但し、ヒータを備えた酸素センサにあっ
ては酸化物であっても有効である。又これらの水和物例
えばCa Ci2 ・2H20゜複合化合物例えばC
aCO3・MgCO3(ドロマイト)であってもよい。
ては酸化物であっても有効である。又これらの水和物例
えばCa Ci2 ・2H20゜複合化合物例えばC
aCO3・MgCO3(ドロマイト)であってもよい。
IIa族成分成分Aで204.チタニア等の耐熱性金属
酸化物に担持させるとよい。特に非化学量論的化合物と
して例えばTiO2−1(x≦0.4) 、 L a
203−Xに高分散担持させることが好ましい。
酸化物に担持させるとよい。特に非化学量論的化合物と
して例えばTiO2−1(x≦0.4) 、 L a
203−Xに高分散担持させることが好ましい。
その製造法としては1例えば予めチタニア粒子(例えば
平均粒径0.1〜1μs)にIIa族酸成分担持させ、
スラリとして第1保護層上に塗布させ熱処理(例えば5
00〜700”C)する方法;チタニア粒子を第1保護
層に塗布した後、これをIIa族成分溶岐に減圧又は加
圧上浸漬させた後、熱処理する方法が挙げられる。これ
らの場合、第2保護層の耐熱金属酸化物に対してIIa
族成分成分合を。
平均粒径0.1〜1μs)にIIa族酸成分担持させ、
スラリとして第1保護層上に塗布させ熱処理(例えば5
00〜700”C)する方法;チタニア粒子を第1保護
層に塗布した後、これをIIa族成分溶岐に減圧又は加
圧上浸漬させた後、熱処理する方法が挙げられる。これ
らの場合、第2保護層の耐熱金属酸化物に対してIIa
族成分成分合を。
IIa族元素換算で30vt%以下、より好ましくは2
0vt%以下にするとよい。30wt%を越えると次第
にセンサの応答性が悪くなる。つまり目詰りが生じ始め
るからである。
0vt%以下にするとよい。30wt%を越えると次第
にセンサの応答性が悪くなる。つまり目詰りが生じ始め
るからである。
電極或いは触媒としての貴金属の耐久劣化を防ぐために
は、耐熱性金属酸化物の少なくとも一部が2非化学量論
的化合物例えばTiO□−8として存在することが必要
である。但し、全て非化学ご論的化合物である必要はな
く、化学量論的化合物(例えばTiO2,Aで204.
スピネル)と共にIIa族成分成分散担持させることも
できる。この場合、非化学量論的化合物と化学量論的化
合物との存在割合は3:2以上、より好ましくは2:1
以上にするとよい。
は、耐熱性金属酸化物の少なくとも一部が2非化学量論
的化合物例えばTiO□−8として存在することが必要
である。但し、全て非化学ご論的化合物である必要はな
く、化学量論的化合物(例えばTiO2,Aで204.
スピネル)と共にIIa族成分成分散担持させることも
できる。この場合、非化学量論的化合物と化学量論的化
合物との存在割合は3:2以上、より好ましくは2:1
以上にするとよい。
又、jl金属好ましくはPtを、非化学量論的化合物に
対して2 mo1%以下(但し、濃い(リッチ)排ガス
条件ではl 、 5moffi%以下)の量で含有させ
ることにより初期での制御A/Pのバラツキを更におさ
えることができる。この場合、第2保護層はIIa族成
分成分金属とを同一部に存在させてもよ。
対して2 mo1%以下(但し、濃い(リッチ)排ガス
条件ではl 、 5moffi%以下)の量で含有させ
ることにより初期での制御A/Pのバラツキを更におさ
えることができる。この場合、第2保護層はIIa族成
分成分金属とを同一部に存在させてもよ。
いが、貴金属を担持してなる部分(第1保護部)と■a
族成分を担持してなる部分(第2保護部)とをもって構
成させてもよい。しかし、その場合には特に第2保護部
をより外側に配置させる必要がある。この第1.第2保
護部を構成する耐熱性金属酸化物については、いずれも
非化学量論的化合物であることが好ましい。第1保護部
については、非化学量論的化合物が60%以上あること
が必要である。又、IIa族成分成分護層を構成する耐
熱性金属酸化物とは独立して存在することが好ましい。
族成分を担持してなる部分(第2保護部)とをもって構
成させてもよい。しかし、その場合には特に第2保護部
をより外側に配置させる必要がある。この第1.第2保
護部を構成する耐熱性金属酸化物については、いずれも
非化学量論的化合物であることが好ましい。第1保護部
については、非化学量論的化合物が60%以上あること
が必要である。又、IIa族成分成分護層を構成する耐
熱性金属酸化物とは独立して存在することが好ましい。
「独立して」とはIIa族酸成分これら金属酸化物と反
応して例えばM g T l OsのようなSt酸成分
対して不活性な化合物を形成していないことをいう。
応して例えばM g T l OsのようなSt酸成分
対して不活性な化合物を形成していないことをいう。
又、前記第2保護層よりも内側において電極を直接被覆
して位置し、 ■a族酸成分含有しない保護層(第1保
護層)を備えるとよい。第1保護層についても耐熱性金
属酸化物からなり、特にスピネル<Mg0−Aで20.
> 、アルミナが好ましく、溶射にて強固に付着させた
ものが良い。
して位置し、 ■a族酸成分含有しない保護層(第1保
護層)を備えるとよい。第1保護層についても耐熱性金
属酸化物からなり、特にスピネル<Mg0−Aで20.
> 、アルミナが好ましく、溶射にて強固に付着させた
ものが良い。
この第1保護層中に、貴金属例えばptおよび/または
Rh、Pdの含有を行なう事は、排ガス中の未燃成分の
酸化、還元を完全に行ない、センサにとって良好な制御
A/Fを示す事になる。なお第2保護層の外側に例えば
チタニア、アルミナ。
Rh、Pdの含有を行なう事は、排ガス中の未燃成分の
酸化、還元を完全に行ない、センサにとって良好な制御
A/Fを示す事になる。なお第2保護層の外側に例えば
チタニア、アルミナ。
スピネル等からなる第3保護層を更に備えてもよい。
尚、各保護層はセンサ応答性を劣化しない程度の通気性
を必要とすることは勿論である。そのため、第1保護層
については例・えば気孔率10〜30%、厚み10〜5
0−1第2保護層については例えば気孔率8〜35%、
厚み10〜50μmにするとよい。
を必要とすることは勿論である。そのため、第1保護層
については例・えば気孔率10〜30%、厚み10〜5
0−1第2保護層については例えば気孔率8〜35%、
厚み10〜50μmにするとよい。
又、センサ素子本体例えばジルコニア固体電解質の測定
電極側表面は凸凹10u1m以上をHした構造にすると
よい。保護層の剥離を防上して、耐久性に優れる。
電極側表面は凸凹10u1m以上をHした構造にすると
よい。保護層の剥離を防上して、耐久性に優れる。
センサ素子の本体材料としては、ZrO2固体電解質の
他、TiO2,CoO半導体等であってもよい。非化学
量論的化合物としてチタニアの外、酸化ランタンであっ
てもよい。又ヒータの種類、材質(例えばセラミック)
、取付位置等は。
他、TiO2,CoO半導体等であってもよい。非化学
量論的化合物としてチタニアの外、酸化ランタンであっ
てもよい。又ヒータの種類、材質(例えばセラミック)
、取付位置等は。
上記作用を発揮できる限り2問わない。
[実施例]
実施例A(第1表、試料魔1〜14)
l、下記工程1〜9によってセンサ素子本体(電極、第
1保護層を備えたもの)を製作する。
1保護層を備えたもの)を製作する。
工程1:
純度99%以上のZrO2に純度99%のY2O3を5
s+of%添加し、湿式混合した後、 1300℃で
2時間仮焼する。
s+of%添加し、湿式混合した後、 1300℃で
2時間仮焼する。
工程2:
水を加えボールミル中にて湿式にて粒子の80%が2.
5μm以下の粒径になるまで粉砕する。
5μm以下の粒径になるまで粉砕する。
工程3:
水溶性バインダを添加し、スプレードライにて平均粒径
70趨の球状の造粒粒子を得る。
70趨の球状の造粒粒子を得る。
工程4:
工程3にて得た粉末をラバープレスし所望の管状(U字
管状)に成形し乾燥後、砥石にて所定の形状に研削する
。
管状)に成形し乾燥後、砥石にて所定の形状に研削する
。
工程5:
外面上に、工程3で得た造粒粒子に水溶性バインダ繊維
素グリコール酸ナトリウム及び溶剤を添加した泥漿を付
着させる。
素グリコール酸ナトリウム及び溶剤を添加した泥漿を付
着させる。
工程6:
乾燥後、 1500℃X 211rsにて焼成する。検
出部に対応する部分について、軸方向長25關、外径約
5履膳φ、内径約3111φとした。
出部に対応する部分について、軸方向長25關、外径約
5履膳φ、内径約3111φとした。
工程7:
無電解メツキにより、外面にpt測定電極層を厚さ0.
9aに折着させ、その後1000℃で焼付する。
9aに折着させ、その後1000℃で焼付する。
工程8:
MgOφAJ203 (スピネル)の粉末にてプラズマ
溶射して厚さ約100μ糟の電極を直接被覆する第1保
護層を形成する。
溶射して厚さ約100μ糟の電極を直接被覆する第1保
護層を形成する。
工程9:
工程7と同様にして、内面にpt基準電極層を形成した
。
。
2、 P t 0.051:/でのH2PtCfle溶
液に素子のスピネル溶射部を入れ真空引きし、第1保護
層中に貴金属(pHを担持させた。その担持量は第1保
護層の金属酸化物に対して約0.02〜0,05vt%
である。
液に素子のスピネル溶射部を入れ真空引きし、第1保護
層中に貴金属(pHを担持させた。その担持量は第1保
護層の金属酸化物に対して約0.02〜0,05vt%
である。
3、平均粒径0.2μm程度のTiO2−1粉末にCa
CJ2 ・2H20(純水にて溶かしたもの)等のI
Ia族成分成分え、煮騰撹拌しながら乾燥しその後55
0℃にて熱処理した。試料N11l、 12はα−Ai
’zC)+ も配合した。尚、’rio2−.粉末は。
CJ2 ・2H20(純水にて溶かしたもの)等のI
Ia族成分成分え、煮騰撹拌しながら乾燥しその後55
0℃にて熱処理した。試料N11l、 12はα−Ai
’zC)+ も配合した。尚、’rio2−.粉末は。
T【02粒子を予め非酸化性雰囲気800℃以上で処理
することによって得た。TiO2に対して0.01mo
ffi%程度の貴金属を含有させても、非化学量論的化
合物にすることができる。チタニア粉末に貴金属を担持
させるときは、予め所望の貴金属含有塩溶液中にチタニ
ア粒子を入れ煮沸乾燥し、その後大気中550℃にて熱
処理させた。
することによって得た。TiO2に対して0.01mo
ffi%程度の貴金属を含有させても、非化学量論的化
合物にすることができる。チタニア粉末に貴金属を担持
させるときは、予め所望の貴金属含有塩溶液中にチタニ
ア粒子を入れ煮沸乾燥し、その後大気中550℃にて熱
処理させた。
4.2で得た素子に、3で得た粉末に有機バインダとブ
チルカルピトールを加え、hJにて塗布2焼付した。焼
付は500℃の還元雰囲気で行なった。
チルカルピトールを加え、hJにて塗布2焼付した。焼
付は500℃の還元雰囲気で行なった。
5、公知のセンサ組付を行った。
実施例B(第2表、試料Na15〜27)【、2.前記
Aの1.2と同じ 3.1で得た素子に2平均粒径0.2M程度のT102
−X粉末に有機バインダとブチルカルピトールを加え、
筆にて塗布、乾燥した。乾燥は120’C大気中にて行
った。
Aの1.2と同じ 3.1で得た素子に2平均粒径0.2M程度のT102
−X粉末に有機バインダとブチルカルピトールを加え、
筆にて塗布、乾燥した。乾燥は120’C大気中にて行
った。
4、CaCJ2 ・2H20を水にて溶がし、3で得た
素子の塗布部を入れ、真空引きした。その際、Ca濃度
を各種変更させた。その後、 100’C大気中にて
乾燥を行った。
素子の塗布部を入れ、真空引きした。その際、Ca濃度
を各種変更させた。その後、 100’C大気中にて
乾燥を行った。
実施例C(第3表、試料28〜35)
(a)センサ素子の製造
前記実施例A又はBと同じ。
(b)ヒータの製造等
1、Al1203を主成分とするシートを厚み0.81
にドクターブレード法にて成形した。
にドクターブレード法にて成形した。
2、スクリーン印刷法によりWを主成分とし有機バイン
ダと溶剤を加えたペーストにて、導電性パターンを印刷
した。
ダと溶剤を加えたペーストにて、導電性パターンを印刷
した。
3、更にAで。03を主成分とし有機バインダと溶剤を
加えたペーストにて厚30μ譜コーティングした。
加えたペーストにて厚30μ譜コーティングした。
4、 A Rz Osを主成分とする外径2關の碍管に
3で得たシートを巻きつけ400℃にて24 II r
を樹脂抜きし、 1550℃X2Hrsにて焼成した。
3で得たシートを巻きつけ400℃にて24 II r
を樹脂抜きし、 1550℃X2Hrsにて焼成した。
5、端子部にリード線を銀ロー付けしてヒータを得た。
G、素子を組付ける時に袋状素子の内側に接触しないよ
うに1〜5で得たヒータを挿入した。
うに1〜5で得たヒータを挿入した。
実施例D(第3表、試料37〜39)
1、Z r02 +Y2035モル%を主成分とするシ
ートを厚み 0 、8 amにドクターブレード法にて
成形した。
ートを厚み 0 、8 amにドクターブレード法にて
成形した。
2、スクリーン印刷法によりpiを主成分とし。
有機バインダと溶剤を加えたペーストにて電極を2〇−
厚両面に印刷した。
厚両面に印刷した。
3、該電極を被覆する様にAl1203を主成分とし、
有機バインダと溶剤とを加え更に多孔質にする為デンプ
ン等を少量加えたペーストにて厚み30μIコーテイン
グした。
有機バインダと溶剤とを加え更に多孔質にする為デンプ
ン等を少量加えたペーストにて厚み30μIコーテイン
グした。
4.1と同様のシート上にA象z O3を主成分とし有
機バインダと溶剤とを加えたペーストを厚み30μmに
両面にコーティングした。
機バインダと溶剤とを加えたペーストを厚み30μmに
両面にコーティングした。
5.2と同様のペーストにて20μ謡ヒータパターンを
印刷した。
印刷した。
6、更に4を繰り返した(ただしヒータパターン上の面
のみ)。
のみ)。
7.1と同様のシートをコの字状に切断しスペーサ用シ
ートを1〜3で得た電極印刷シートと4〜6で得たヒー
タパターン内在シートとの間に配置して熱圧着した。
ートを1〜3で得た電極印刷シートと4〜6で得たヒー
タパターン内在シートとの間に配置して熱圧着した。
8、 400℃24H「樹脂抜きした後1500℃X4
1(rの焼成を行なった。
1(rの焼成を行なった。
9、チタニア及び■a族成分担持保護層を形成した。こ
の第2保護層については、試料Na37は実施例Aの試
料胤3におけるもの、又試料Nα38.39は実施例B
の試料Nα17.1gにおけるものと同様にした。
の第2保護層については、試料Na37は実施例Aの試
料胤3におけるもの、又試料Nα38.39は実施例B
の試料Nα17.1gにおけるものと同様にした。
実施例E(第4表、試料Nα40〜55.80.81)
1、前記実施例Aの1(工程1〜9)と同じ。
1、前記実施例Aの1(工程1〜9)と同じ。
試料Nα45〜48につい、では、前記実施例Aの2と
同様にして第1保護層中に貴金属を含浸させた。
同様にして第1保護層中に貴金属を含浸させた。
2、TiO2粉末(平均粒径0.3μm)をP t O
,05g/l〜1f/でのH2PtCJ2.溶液及び/
又はRh 0.05g / i!のRhC1’3 #x
)120溶液に浸し、50〜10口輸膳11gの圧力下
で約5分放置して。
,05g/l〜1f/でのH2PtCJ2.溶液及び/
又はRh 0.05g / i!のRhC1’3 #x
)120溶液に浸し、50〜10口輸膳11gの圧力下
で約5分放置して。
TiO2に対してpt又はRhが1 mof%相当にな
るように含浸させた。次に、乾燥した後、600℃大気
中にて処理して、熱処理を行ない、更に有機バインダと
溶剤にてペーストとした。
るように含浸させた。次に、乾燥した後、600℃大気
中にて処理して、熱処理を行ない、更に有機バインダと
溶剤にてペーストとした。
3、このペーストを第1保護層に塗布し、 120℃
にて乾燥した(第1保護部、208℃厚)。
にて乾燥した(第1保護部、208℃厚)。
4、チタニア粉末をCa Cj:2 ・2H20など
の溶液中に入れ、煮沸しながら乾燥した。その後水溶性
バインダと水にてペーストとした。TiO2に対して、
■a族金属換算で20vt%とじた。
の溶液中に入れ、煮沸しながら乾燥した。その後水溶性
バインダと水にてペーストとした。TiO2に対して、
■a族金属換算で20vt%とじた。
5、このペーストを第1保護部上に塗布し、600℃に
て焼付けた(第2保護部、20n厚)。
て焼付けた(第2保護部、20n厚)。
B、第2保護層(第1.第2保護部からなる)上に適宜
第3保護層を形成した。その他、第4表に示すように各
種の多層構造からなる試料を作成した。
第3保護層を形成した。その他、第4表に示すように各
種の多層構造からなる試料を作成した。
7、公知のセンサ組付を行った。
実施例F(第4表、試#j No、 5 G〜59)1
、前記実施例りの1〜8と同じ。但し阻58゜59につ
いては、実施例A−2と同様にしてA R203からな
る保護層に貴金属を含有させた。
、前記実施例りの1〜8と同じ。但し阻58゜59につ
いては、実施例A−2と同様にしてA R203からな
る保護層に貴金属を含有させた。
2、実施例Eの3と同様なペーストを塗布、600℃大
気中にて焼付けて第1保護部を形成した(20μm)。
気中にて焼付けて第1保護部を形成した(20μm)。
3、実施例Eの5と同様なペーストを塗布、800℃大
気中にて焼付けて第2保護部を形成した(20−)。
気中にて焼付けて第2保護部を形成した(20−)。
4.こうして得られた素子の両側に、一対の支持体をガ
ラスシールによって取付けた。
ラスシールによって取付けた。
5、公知のセンサ組付を行なった。
本発明は上記実施例に限定されるものではなく1種々の
タイプの空燃比制御用酸素センサ、例えばポンプ等を併
設してなる全域空燃比制御用センサ(第7図)、又Ti
O2,Coo等の金属酸化物半導体を利用したセンサ(
第8図)にも適用群できる。半導体型センサの場合2例
えば半導体である金属酸化物中に貴金属を含有させ、ス
ピネル等の溶射層を備え、IIa族成分成分有する第2
保護層を備えてもよい。
タイプの空燃比制御用酸素センサ、例えばポンプ等を併
設してなる全域空燃比制御用センサ(第7図)、又Ti
O2,Coo等の金属酸化物半導体を利用したセンサ(
第8図)にも適用群できる。半導体型センサの場合2例
えば半導体である金属酸化物中に貴金属を含有させ、ス
ピネル等の溶射層を備え、IIa族成分成分有する第2
保護層を備えてもよい。
尚、第1〜8図は本発明に係る酸素センサの例を示した
もので、各図において、1はセンサ素子本体、2は基準
電極、3は測定電極、4は第1保護層、5は第2保護層
、5aは耐熱性金属酸化物(特に非化学量論的化合物)
、5bはIIa族成分成分はヒータを夫々表わす。
もので、各図において、1はセンサ素子本体、2は基準
電極、3は測定電極、4は第1保護層、5は第2保護層
、5aは耐熱性金属酸化物(特に非化学量論的化合物)
、5bはIIa族成分成分はヒータを夫々表わす。
[試験]
各試料について1次のような試験を行なった。
■、実車にてセンサ初期の制gJA/Pを測定した。
測定方法はマニホールドにセンサを取付け、 80kj
/!Ir X 8 psの走行状態に固定した時のセン
サによる制御を行い、その排ガスを空燃比針にて^/F
を計測した。
/!Ir X 8 psの走行状態に固定した時のセン
サによる制御を行い、その排ガスを空燃比針にて^/F
を計測した。
2、排気管(マニホールド−1mm上下流にセンサを取
付け、更にマニホールド部から81オイルを5 cc/
30分の割合で111r(10cc)を注入しながら
3000rl)s (但しヒータ付についてはNa2
8〜39を除き1000rp謹)にてエンジンを動かし
た[Siテスト〕。雰囲気はλζ1近傍にて行なった。
付け、更にマニホールド部から81オイルを5 cc/
30分の割合で111r(10cc)を注入しながら
3000rl)s (但しヒータ付についてはNa2
8〜39を除き1000rp謹)にてエンジンを動かし
た[Siテスト〕。雰囲気はλζ1近傍にて行なった。
3.1の測定を行い、初期と耐久後のA/Pの変化(Δ
^/P )を求めた。又センサの応答性として高速応答
レコーダにてセンサ出力をモニタした(例えば第10図
)。そして、第11図に示すように平均値な直線を結び
300.80hV間の時間(TLil。
^/P )を求めた。又センサの応答性として高速応答
レコーダにてセンサ出力をモニタした(例えば第10図
)。そして、第11図に示すように平均値な直線を結び
300.80hV間の時間(TLil。
TML)を、Siテスト後に計測した。
4、又、試料隘28〜39については、Siオイル注入
時の1?/C回転11000rp及び3000rpmに
おいて。
時の1?/C回転11000rp及び3000rpmに
おいて。
ヒータを通電させ(試料N1135は除く)、センサの
制御状態を観察した。
制御状態を観察した。
5、又、実車エンジンl: テλw 1 、 850℃
(30分)0アイドル(30分) 1o0011rsの
熱サイクルテストを行ない、制御A/Fを測定した。
(30分)0アイドル(30分) 1o0011rsの
熱サイクルテストを行ない、制御A/Fを測定した。
これらの結果を第1〜4表及び第12.13図に示す。
(以下余白)
第
表
1) E/G回転3000rpmのとき(ヒータ通電な
し)、約550℃ る。
し)、約550℃ る。
又EIG回転11000rpのとき。
(ヒータ通電なし)、約400℃
る。
センサ温度は約400℃
(ヒータ通電あり)であ
センサ温度は約300℃
(ヒータ通電あり)であ
2)試料Na37〜39については実施例りの1〜8に
より素子本体及び第1保護層を形成し、その後表中0内
に示した素子隠と同様な第2保護層を形成した。
より素子本体及び第1保護層を形成し、その後表中0内
に示した素子隠と同様な第2保護層を形成した。
第1表〜第4表から明らかなように2本発明範囲外であ
る比較試料はSiテストにおいて、^/P変動が大きく
(Δ^/[’≧0.08) 、立下り応答性も遅くな
る(TRL≧ 120m5)。又、熱サイクルテストに
おいても、 A/F変動が大きい(ΔA/I’ −0,
04)。
る比較試料はSiテストにおいて、^/P変動が大きく
(Δ^/[’≧0.08) 、立下り応答性も遅くな
る(TRL≧ 120m5)。又、熱サイクルテストに
おいても、 A/F変動が大きい(ΔA/I’ −0,
04)。
これに対して、各実施例試料はS1テストにおいて、
A/F変動が顕著に抑制され(Δ^/P≦0.04)
、応答性も高水準に維持される(TRL≦90aS)。
A/F変動が顕著に抑制され(Δ^/P≦0.04)
、応答性も高水準に維持される(TRL≦90aS)。
又、熱サイクルテストにおいてもA/F変動が抑制され
る(ΔA/F≦0.02)。
る(ΔA/F≦0.02)。
又、第3表の結果から、 11000rp 、 30
0℃の低回転(低温)時においては、ヒータが存在しな
い場合(試料魔35)ΔA/Pが大きくなってしまう。
0℃の低回転(低温)時においては、ヒータが存在しな
い場合(試料魔35)ΔA/Pが大きくなってしまう。
これは低温時にSiが混入した場合、IIa族成分によ
る吸着効果が弱まるためと考えられる。
る吸着効果が弱まるためと考えられる。
これに対して、ヒータを備えた本実施例の各素子胤28
〜34. Na37〜39はこの低温時におけるSiテ
スト後においてもA/F変動を顕著に抑制できる(ΔA
/P≦0.05)。
〜34. Na37〜39はこの低温時におけるSiテ
スト後においてもA/F変動を顕著に抑制できる(ΔA
/P≦0.05)。
なお、vs2保護層について■a族酸成分貴金属とを別
個の保護部に存在させた場合、 A/Fの初期値はリッ
チ制御の傾向にあることも確認された(第4表)。
個の保護部に存在させた場合、 A/Fの初期値はリッ
チ制御の傾向にあることも確認された(第4表)。
[発明の効果]
以上の如く本発明によれば、排ガス中にSi成分が存在
しても、その被毒を防いでA/Pを集中でき、かつ立ち
下がり応答性も優れる。加えて、エンジンの低回転時に
おいてもSil毒による性能劣化を確実に防止すること
もできる。
しても、その被毒を防いでA/Pを集中でき、かつ立ち
下がり応答性も優れる。加えて、エンジンの低回転時に
おいてもSil毒による性能劣化を確実に防止すること
もできる。
第1図は本発明の作用を示すセンサの一部断面図。
第2図は本発明の酸素センサの一例を示す一部断面図。
第3図、第4図は本発明の作用を示すセンサの一部断面
図(第3図はヒータ無の場合、第4図はヒータ有の場合
)。 第5図は本発明の酸素センサの一例(袋状)を示す一部
断面図。 第6図は本発明の酸素センサの一例(板状)を示す一部
断面図。 第7図は本発明に係る全域空燃比制御用酸素センサ(ポ
ンプ素子を併設したもの)の−例を示す断面図。 第8図は本発明に係る半導体型酸素センサの一例を示す
図であって、第8(a)図はその平面図(但し保護層は
省略)、第8(b)図はその断面図。 第9図はテス、ト後における制御中の出力を示す波形の
略図。 第10図、第11図はセンサ出力の波形の一例及び計測
時間(T LR、、T RL )を規定する図。 第12図は初期及び耐久後の制# A/Fの変化を示す
グラフ、そして 第13図は初期及び耐久後の(T LR+ TRL )
の変化を示すグラフ。 を夫々表わす。 1・・・素子本体 2・・・測定電極4・・・第
1保護層 5・・・第2保護層5a・・・耐熱性金
属酸化物 (特に非化学量論的化合物) 5b・・・IIa族成分
図(第3図はヒータ無の場合、第4図はヒータ有の場合
)。 第5図は本発明の酸素センサの一例(袋状)を示す一部
断面図。 第6図は本発明の酸素センサの一例(板状)を示す一部
断面図。 第7図は本発明に係る全域空燃比制御用酸素センサ(ポ
ンプ素子を併設したもの)の−例を示す断面図。 第8図は本発明に係る半導体型酸素センサの一例を示す
図であって、第8(a)図はその平面図(但し保護層は
省略)、第8(b)図はその断面図。 第9図はテス、ト後における制御中の出力を示す波形の
略図。 第10図、第11図はセンサ出力の波形の一例及び計測
時間(T LR、、T RL )を規定する図。 第12図は初期及び耐久後の制# A/Fの変化を示す
グラフ、そして 第13図は初期及び耐久後の(T LR+ TRL )
の変化を示すグラフ。 を夫々表わす。 1・・・素子本体 2・・・測定電極4・・・第
1保護層 5・・・第2保護層5a・・・耐熱性金
属酸化物 (特に非化学量論的化合物) 5b・・・IIa族成分
Claims (8)
- (1)排気ガス中の酸素濃度を検出するセンサにおいて
、センサ素子の排気ガスにさらされる側に耐熱性金属酸
化物からなり周期律表IIa族元素からなる成分(以下、
「IIa族成分」という)を担持した保護層を備え、該保
護層の少なくとも一部が耐熱性金属酸化物について非化
学量論的化合物として存在していることを特徴とする酸
素センサ。 - (2)排気ガス中の酸素濃度を検出するセンサにおいて
、センサ素子を加熱するヒータを備え、センサ素子の排
気ガスにさらされる側に耐熱性金属酸化物からなりIIa
族成分を担持した保護層を備え、該保護層の少なくとも
一部が耐熱性金属酸化物について非化学量論的化合物と
して存在していることを特徴とする酸素センサ。 - (3)保護層が貴金属をも含有している請求項1、2の
一記載の酸素センサ。 - (4)排気ガス中の酸素濃度を検出するセンサにおいて
、センサ素子の排気ガスにさらされる側に耐熱性金属酸
化物からなりIIa族成分及び貴金属を担持した保護層を
備え、該保護層の少なくとも一部が耐熱性金属酸化物に
ついて非化学量論的化合物として存在し、貴金属が担持
された部分がIIa族成分が担持された部分よりも電極に
近接して位置することを特徴とする酸素センサ。 - (5)排気ガス中の酸素濃度を検出するセンサにおいて
、センサ素子を加熱するヒータを備え、センサ素子の排
気ガスにさらされる側に耐熱性金属酸化物からなりIIa
族成分及び貴金属を担持した保護層を備え、該保護層の
少なくとも一部が耐熱性金属酸化物について非化学量論
的化合物として存在し、貴金属が担持された部分がIIa
族成分が担持された部分よりも電極に近接して位置する
ことを特徴とする酸素センサ。 - (6)非化学量論的化合物がチタニアであり、該チタニ
ア粒子にIIa族成分を分散担持してなる保護層であるこ
とを特徴とする請求項1、2、4、5の一記載の酸素セ
ンサ。 - (7)センサ素子の本体がZrO_2固体電解質からな
ることを特徴とする請求項1、2、4、5の一記載の酸
素センサ。 - (8)前記IIa族成分を含有しない保護層が貴金属を含
有し、センサ素子の本体の測定電極側表面が凸凹10μ
m以上を有する請求項1、2、4、5の一記載の酸素セ
ンサ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1252025A JP2748031B2 (ja) | 1988-11-01 | 1989-09-29 | Si被毒防止用酸素センサ |
| DE68927087T DE68927087T2 (de) | 1988-11-01 | 1989-10-31 | Sauerstoffempfindlicher Sensor und Verfahren zu dessen Herstellung |
| EP89120196A EP0369238B1 (en) | 1988-11-01 | 1989-10-31 | Oxygen sensor and method for producing same |
| US08/408,132 US5849165A (en) | 1988-11-01 | 1995-03-21 | Oxygen sensor for preventing silicon poisoning |
| HK9997A HK9997A (en) | 1988-11-01 | 1997-01-23 | Oxygen sensor and method for producing same |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-276744 | 1988-11-01 | ||
| JP63-276743 | 1988-11-01 | ||
| JP27674488 | 1988-11-01 | ||
| JP27674388 | 1988-11-01 | ||
| JP1-63942 | 1989-03-17 | ||
| JP6394289 | 1989-03-17 | ||
| JP1252025A JP2748031B2 (ja) | 1988-11-01 | 1989-09-29 | Si被毒防止用酸素センサ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02222831A true JPH02222831A (ja) | 1990-09-05 |
| JP2748031B2 JP2748031B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=27464378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1252025A Expired - Fee Related JP2748031B2 (ja) | 1988-11-01 | 1989-09-29 | Si被毒防止用酸素センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2748031B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0968515A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-11 | Denso Corp | 酸素センサ素子 |
| JP2013011523A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Toyota Motor Corp | ガスセンサ素子とガスセンサ |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1252025A patent/JP2748031B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0968515A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-11 | Denso Corp | 酸素センサ素子 |
| JP2013011523A (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-17 | Toyota Motor Corp | ガスセンサ素子とガスセンサ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2748031B2 (ja) | 1998-05-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |