JPH02230201A - 光学用成形品 - Google Patents
光学用成形品Info
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- JPH02230201A JPH02230201A JP5254289A JP5254289A JPH02230201A JP H02230201 A JPH02230201 A JP H02230201A JP 5254289 A JP5254289 A JP 5254289A JP 5254289 A JP5254289 A JP 5254289A JP H02230201 A JPH02230201 A JP H02230201A
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- JP
- Japan
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- optical
- polymer
- molding
- resin
- dihydrofuran
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレンズ,回折格子,光記録媒体用基体などの光
学用成形品に関する。
学用成形品に関する。
近年、各種照明器具用部品、各種看板類,レンズ類をは
じめとする各種光学部品などの材料として高い透明性を
有する樹脂が要求されている。現在、透明光学材科とし
て用いられているものに、ポリメチルメタクリレート(
以下、これをPMMAと略称する。)とビスフェノール
Aボリカーボネート(以下,これをPCと略称する。)
がある。
じめとする各種光学部品などの材料として高い透明性を
有する樹脂が要求されている。現在、透明光学材科とし
て用いられているものに、ポリメチルメタクリレート(
以下、これをPMMAと略称する。)とビスフェノール
Aボリカーボネート(以下,これをPCと略称する。)
がある。
PMMAはガラス転移温度が低く耐熱性に劣り、高耐熱
性が要求される用途には使用し難い。一方、PCは耐熱
性はある程度高いものの本賀的に光学的歪み(複屈折)
が犬きぐ、さらに成形歪みに起因する複朋折が大きくな
るという難点を有している。
性が要求される用途には使用し難い。一方、PCは耐熱
性はある程度高いものの本賀的に光学的歪み(複屈折)
が犬きぐ、さらに成形歪みに起因する複朋折が大きくな
るという難点を有している。
テトラヒド口フラン骨格を有するボリマーとして、2,
3−ジヒドロフラン、2.3−ジヒドロ−5−メチルフ
ラン7などをカテオン重合することにより得られたポリ
マーが知られており〔ジャーナル●オブーケミカルーソ
サエテイ(Journal ofChemical S
oci ety )、1954年、3766頁;および
ボリマー●ジャーナル( Pol)rmer Jour
nal )、16巻、415頁(I984年)参照〕,
また2,3−ジヒドロフランをカチオン重合することに
より得られたボリマーはリテクム2次電池のセパレータ
ーとしての性能を備えることが示唆されている〔ボリマ
ー・プレプリン7 ( Polymer Prepri
nts ) , 2 4巻、317頁(I983年ノ参
照〕。
3−ジヒドロフラン、2.3−ジヒドロ−5−メチルフ
ラン7などをカテオン重合することにより得られたポリ
マーが知られており〔ジャーナル●オブーケミカルーソ
サエテイ(Journal ofChemical S
oci ety )、1954年、3766頁;および
ボリマー●ジャーナル( Pol)rmer Jour
nal )、16巻、415頁(I984年)参照〕,
また2,3−ジヒドロフランをカチオン重合することに
より得られたボリマーはリテクム2次電池のセパレータ
ーとしての性能を備えることが示唆されている〔ボリマ
ー・プレプリン7 ( Polymer Prepri
nts ) , 2 4巻、317頁(I983年ノ参
照〕。
上述したように,従来、透明光学材科として用いられて
いるpMMAには耐熱性が不十分であるという欠点があ
り、またPCには光学的歪み(複屈折)が大きいという
欠点がある。従って, PMMAまたはPCからなる光
学用成形品はそれぞれ使用状況に応じてその使用に制限
を受けることから、優れた透明性と耐熱性を有し、かつ
光学的歪みの小さい光学用成形品の出現が望まれている
のが現状である。
いるpMMAには耐熱性が不十分であるという欠点があ
り、またPCには光学的歪み(複屈折)が大きいという
欠点がある。従って, PMMAまたはPCからなる光
学用成形品はそれぞれ使用状況に応じてその使用に制限
を受けることから、優れた透明性と耐熱性を有し、かつ
光学的歪みの小さい光学用成形品の出現が望まれている
のが現状である。
本発明の目的は、優れた透明性と耐熱性を有し、かつ光
学的歪みの小さい光学用成形品を提供するにある。
学的歪みの小さい光学用成形品を提供するにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によれば、上記の目的は,主鎖が実質的に下記の
繰返し単位(I) (式中、R1、R2、R3、B4、几6およびR6はそ
れぞれ水素原子まえは低級脂肪族炭化水素基を表す。ノ
からなっている数平均分子量s,ooo〜200,00
0の樹脂よシなる光学用成形品を提供することによって
達成される。
繰返し単位(I) (式中、R1、R2、R3、B4、几6およびR6はそ
れぞれ水素原子まえは低級脂肪族炭化水素基を表す。ノ
からなっている数平均分子量s,ooo〜200,00
0の樹脂よシなる光学用成形品を提供することによって
達成される。
上記の繰返し単位(I)におけるR1、R2、R’、R
l’,几6およびR’(以下、これらをR1〜6と総称
する)がそれぞれ表す低級脂肪族炭化水素墓としては、
例えばメチル基,エチル基、プロビル基、インプロビル
基,プテル基などが挙げられる。R1〜6が水素原子ま
たはメチル基を表す場合が好ましく、R1〜6のすべて
が水素原子を表す場合およびR1〜6のうちの任意の一
つがメテル基であシ,他のすべてが水素原子である場合
がよシ好ましい。本発明において好ましい樹脂としては
、下記の繰返し単位を有するものが挙げられる。
l’,几6およびR’(以下、これらをR1〜6と総称
する)がそれぞれ表す低級脂肪族炭化水素墓としては、
例えばメチル基,エチル基、プロビル基、インプロビル
基,プテル基などが挙げられる。R1〜6が水素原子ま
たはメチル基を表す場合が好ましく、R1〜6のすべて
が水素原子を表す場合およびR1〜6のうちの任意の一
つがメテル基であシ,他のすべてが水素原子である場合
がよシ好ましい。本発明において好ましい樹脂としては
、下記の繰返し単位を有するものが挙げられる。
なお、本発明における樹脂は上記の繰返し単位(I)の
うちの1mの繰返し単位のみを有していてもよく、マた
2棟以上の繰返し単位を有していてもよい。
うちの1mの繰返し単位のみを有していてもよく、マた
2棟以上の繰返し単位を有していてもよい。
本発明における樹脂は下記一般式(II)で表される2
.3−ジヒドロフランまたはその誘導体を適幽な開始剤
の存在下、公知のカチオン重合反応に付することによシ
製造することができる。
.3−ジヒドロフランまたはその誘導体を適幽な開始剤
の存在下、公知のカチオン重合反応に付することによシ
製造することができる。
本発明における樹脂は、ゲルパーミ●エーションクロマ
トグラ7イー(以下、これをGPCと略称する冫によシ
求めたボリスチレン換算の数平均分子量が5,000〜
2 0 0,0 0 0 の範囲Kあるものである。
トグラ7イー(以下、これをGPCと略称する冫によシ
求めたボリスチレン換算の数平均分子量が5,000〜
2 0 0,0 0 0 の範囲Kあるものである。
本発明における樹脂の数平均分子量は、10,000〜
150,000の範囲にあることが好ましい。数平均分
子量がs,oooよシ小さい樹脂の場合には、得られた
成形品の力学的強度が必ずしも充分ではなく,ま九20
0.000よシ大きい樹脂の場合には、光学部品を成形
する際の成形性が不充分となシ好ましくない。
150,000の範囲にあることが好ましい。数平均分
子量がs,oooよシ小さい樹脂の場合には、得られた
成形品の力学的強度が必ずしも充分ではなく,ま九20
0.000よシ大きい樹脂の場合には、光学部品を成形
する際の成形性が不充分となシ好ましくない。
(式中 Rl〜6は前記定義のとおシである。)本発明
Kおける樹脂を製造する際に使用される開始剤としては
,ヨウ化水素酸などのプロトン酸;酸化クロム、酸化モ
リブデンなどの金属酸化物:ヨウ素、臭素、臭化ヨウ素
などのハロゲン;三フフ化ホウ素、三フッ化ホウ素エー
テル錯体などのハロゲン化ホク素;塩化アルミニウム、
臭化アルミニウム、四塩化チタン、四臭化チタン、四壇
化スズ、三鷹化鉄などのノ・ロゲン化金属;エテルアル
ミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、
ジエチルアルミニウムプロミド、ジエチル亜鉛などの有
機金属化合物;トリフエニルメチル六塩化アンチモン、
トリフエニルメテル五塩化スズのようなカルボニウムイ
オン塩などが挙げられる。開始剤は2,3−ジヒドロ7
ランま念はその誘導体に対して0.01〜10モルチの
範囲内の量、好ましくは0.05〜2モルチの範囲内の
量で用いられる。
Kおける樹脂を製造する際に使用される開始剤としては
,ヨウ化水素酸などのプロトン酸;酸化クロム、酸化モ
リブデンなどの金属酸化物:ヨウ素、臭素、臭化ヨウ素
などのハロゲン;三フフ化ホウ素、三フッ化ホウ素エー
テル錯体などのハロゲン化ホク素;塩化アルミニウム、
臭化アルミニウム、四塩化チタン、四臭化チタン、四壇
化スズ、三鷹化鉄などのノ・ロゲン化金属;エテルアル
ミニウムジクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、
ジエチルアルミニウムプロミド、ジエチル亜鉛などの有
機金属化合物;トリフエニルメチル六塩化アンチモン、
トリフエニルメテル五塩化スズのようなカルボニウムイ
オン塩などが挙げられる。開始剤は2,3−ジヒドロ7
ランま念はその誘導体に対して0.01〜10モルチの
範囲内の量、好ましくは0.05〜2モルチの範囲内の
量で用いられる。
重合温度としては−200℃〜100℃の範囲の温度,
好ま′シ<は−100℃〜50℃の範囲の温度が採用さ
れる。重合反応は、通常、窒素、アルゴン、ヘリウムな
どの不活性ガス雰囲気下で行なわれる。重合は溶媒の不
存在下でも行い得るが、ベンゼン、トルエン、キシレン
、メシチレンナトの芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサン、
シクロオクタンなどの脂環式炭化水素;塩化メチレン、
クロロホルム、テトラクロ口エチレンなどの71ロゲン
化炭化水素などのような溶媒の存在下で行なうのが、反
応熱の除去,生成したポリマーの取シ扱いの容易さなど
の点で好ましい。なお,使用する開始剤の種類によって
は、上記の溶媒に加えてジエテルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジオクテルエーテル,エチレンクリコールジメ
チルエーテル,シエチレングリコール ジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランなどのエーテル;酢酸メチル、
酢酸エチル,酢酸インプロビル、安息香酸メチルなどの
エステル;アセトン,メテルエチルヶトン、メテルイソ
ブチルケトンなどのケトンなどを適宜共存させることに
よって重合反応をより効率的に行なうことができる。反
応時間は通常1秒間から100時間の範囲内から選ばれ
る。所望の重合度に到達し九のち,公知の方法にょシ反
応を停止し、得られたボリマーを単離、精製する。
好ま′シ<は−100℃〜50℃の範囲の温度が採用さ
れる。重合反応は、通常、窒素、アルゴン、ヘリウムな
どの不活性ガス雰囲気下で行なわれる。重合は溶媒の不
存在下でも行い得るが、ベンゼン、トルエン、キシレン
、メシチレンナトの芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサン、
シクロオクタンなどの脂環式炭化水素;塩化メチレン、
クロロホルム、テトラクロ口エチレンなどの71ロゲン
化炭化水素などのような溶媒の存在下で行なうのが、反
応熱の除去,生成したポリマーの取シ扱いの容易さなど
の点で好ましい。なお,使用する開始剤の種類によって
は、上記の溶媒に加えてジエテルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジオクテルエーテル,エチレンクリコールジメ
チルエーテル,シエチレングリコール ジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフランなどのエーテル;酢酸メチル、
酢酸エチル,酢酸インプロビル、安息香酸メチルなどの
エステル;アセトン,メテルエチルヶトン、メテルイソ
ブチルケトンなどのケトンなどを適宜共存させることに
よって重合反応をより効率的に行なうことができる。反
応時間は通常1秒間から100時間の範囲内から選ばれ
る。所望の重合度に到達し九のち,公知の方法にょシ反
応を停止し、得られたボリマーを単離、精製する。
本発明における樹脂は、通常120”C以上のガラス転
移a度を有してお)、繰返し単位(I)の種類によって
は125℃以上のガラス転移温度を有し,PMMAよ〕
も優れた耐熱性を有する。また,本発明における樹脂は
光弾性係数がPCに比べて極小であり,複屈折が極めて
小さく,さらに透明性が極めて良好であり、力学的性質
も優れる。
移a度を有してお)、繰返し単位(I)の種類によって
は125℃以上のガラス転移温度を有し,PMMAよ〕
も優れた耐熱性を有する。また,本発明における樹脂は
光弾性係数がPCに比べて極小であり,複屈折が極めて
小さく,さらに透明性が極めて良好であり、力学的性質
も優れる。
上記の樹脂は通常の溶融成形または適当な溶媒によるキ
ャスト成形により、各梅の本発明の光学用成形品に加工
することができる。
ャスト成形により、各梅の本発明の光学用成形品に加工
することができる。
本発明の光学用成形品としては例えば次のものを挙げる
ことができる。
ことができる。
(I) 光ディスクプレーヤピックアップ、分光素子
,光学用ローパスフィルメなどの回折格子(2) 光
ディスク,光カードなどの光記録媒体用基体(8)
眼鏡、カメラ、ルーペ,プロジエクションテレビなどの
各種レンズ類 (4) プリズム、光導波路,ビームスパツタなどの各
種光学素子 (5) 自動車のヘッドランプ、リアランプなどのカバ
ー類 (6) 各種照明器具部品 (7)窓、風防などの分野におけるガラス代替品(8)
各種看板類 〔実殉例〕 以下、実施例によシ本発明を具体的に説明する。
,光学用ローパスフィルメなどの回折格子(2) 光
ディスク,光カードなどの光記録媒体用基体(8)
眼鏡、カメラ、ルーペ,プロジエクションテレビなどの
各種レンズ類 (4) プリズム、光導波路,ビームスパツタなどの各
種光学素子 (5) 自動車のヘッドランプ、リアランプなどのカバ
ー類 (6) 各種照明器具部品 (7)窓、風防などの分野におけるガラス代替品(8)
各種看板類 〔実殉例〕 以下、実施例によシ本発明を具体的に説明する。
なお,物性値は下記の方法に従って測定した。
■ 数平均分子量および分子量分布: cpc (ポリ
スチレン換算)によシ求めた。
スチレン換算)によシ求めた。
■ ガラス転移温度:示差熱分析法(窒素中、昇温速度
10℃/分)により測定した。
10℃/分)により測定した。
■ ビカット軟化温度:熱プレスによ!)1■厚に成形
した板について、JIS K7206に準じた方法に
より測定し九。
した板について、JIS K7206に準じた方法に
より測定し九。
■ 全光線透過率:熱プレスによシ1■厚に成形した板
について、ASTM D1003に準じた方法によシ測
定した。
について、ASTM D1003に準じた方法によシ測
定した。
■ 光弾性係数:熱プレスによ,9 100■X20m
×1■厚K成形した板Kついてヘリウムーネオンレーザ
を光源として副島らの方法〔高分子学会高分子與験学編
集委員会編「高分子夷験学」第10巻、296頁(I9
83年)共立出版〕に準拠して求めた。
×1■厚K成形した板Kついてヘリウムーネオンレーザ
を光源として副島らの方法〔高分子学会高分子與験学編
集委員会編「高分子夷験学」第10巻、296頁(I9
83年)共立出版〕に準拠して求めた。
■ 曲げ強度および曲げ弾性率:熱プレスにょシ1 0
0 van X 2 0 wm X 1調に成形した
板についてJIS K7203に準じた方法によシ測
定した。
0 van X 2 0 wm X 1調に成形した
板についてJIS K7203に準じた方法によシ測
定した。
実施例1
攪拌装置を備えた1t容のガラス製容器の内部を乾燥し
た窒素ガスで充分に置換し九のち,故容器内に脱水した
トルエン0.5Aを仕込み、三フツ化ホウ素を0.01
モル/tの濃度になるまで吹き込んだ後、−78℃に冷
却した。攪拌下、その溶液に脱水した2,3−ジヒドロ
フラン932を20分かけて徐々に添加しな。−78℃
の温度で48時間反応を続けた後、反応混合物にアンモ
ニア水の1規定メタノール溶液10dを加え、重合を停
止させた。次いで,その混合溶液をメタノール10t中
に滴下し、常法に従い再沈殿によシ単離し、37Fの白
色生成物を得た。生成物の数平均分子景をGPCによシ
測定したところ、ボリステレン換算で56,000であ
つ念。また分子量分布は1.70であった。
た窒素ガスで充分に置換し九のち,故容器内に脱水した
トルエン0.5Aを仕込み、三フツ化ホウ素を0.01
モル/tの濃度になるまで吹き込んだ後、−78℃に冷
却した。攪拌下、その溶液に脱水した2,3−ジヒドロ
フラン932を20分かけて徐々に添加しな。−78℃
の温度で48時間反応を続けた後、反応混合物にアンモ
ニア水の1規定メタノール溶液10dを加え、重合を停
止させた。次いで,その混合溶液をメタノール10t中
に滴下し、常法に従い再沈殿によシ単離し、37Fの白
色生成物を得た。生成物の数平均分子景をGPCによシ
測定したところ、ボリステレン換算で56,000であ
つ念。また分子量分布は1.70であった。
生成物を重クロロホルム溶液とし、そのNMRスペクト
ルを1H−NMR( 5 0 0MHz ,日本電子製
JNM GX−500 )にて測定したところ、1
.9ppmと3. 8 ppmの位置Kスペクトル上で
等面積を占める二つの吸収が認められた。これらの吸収
については後者を酸素に隣接したメチンとメチレンのプ
ロトンに、前者をそれ以外のメチンとメテレンのプロト
ンにそれぞれ帰属させることができる。
ルを1H−NMR( 5 0 0MHz ,日本電子製
JNM GX−500 )にて測定したところ、1
.9ppmと3. 8 ppmの位置Kスペクトル上で
等面積を占める二つの吸収が認められた。これらの吸収
については後者を酸素に隣接したメチンとメチレンのプ
ロトンに、前者をそれ以外のメチンとメテレンのプロト
ンにそれぞれ帰属させることができる。
生成物をテトラヒドロフラン溶液とし、その溶液をテフ
ロンシ一ト上で厚さ8μmのフイルムに調製し,赤外線
吸収スペクトルを島津製作所製l几一400によシ測定
したところ、2.3−ジヒドロフランの場合と同じく波
数910m’と1 0 6 0 cm−”の位置に−C
−O−C−に起因する吸収が認められた。なお,2,3
−ジヒドロフランの場合に16 3 0cm−”の位置
に認められる二重結合による吸収は消失していた。
ロンシ一ト上で厚さ8μmのフイルムに調製し,赤外線
吸収スペクトルを島津製作所製l几一400によシ測定
したところ、2.3−ジヒドロフランの場合と同じく波
数910m’と1 0 6 0 cm−”の位置に−C
−O−C−に起因する吸収が認められた。なお,2,3
−ジヒドロフランの場合に16 3 0cm−”の位置
に認められる二重結合による吸収は消失していた。
これらの結果から、生成物は次の繰返し単位からなるポ
リマーであり、2,3−ジヒドロフランをその五員環を
開環することなく、環内二重結合で重合して得られてい
ることが確認された。
リマーであり、2,3−ジヒドロフランをその五員環を
開環することなく、環内二重結合で重合して得られてい
ることが確認された。
上記のボリマーの物性を第1表一にまとめ念。
このポリマーを用いて成形した平滑基板上に、特開昭6
2−95525号に記載の方法に従い,メタクリル酸2
−ブテニルとメタクリル酸メチルの共重合体(共重合モ
ル比1:3.3,分子量2 0 0,0 0 0 )1
1量1および3−ペンゾイルベンゾフエノン1重量部
からなる組成物を用いて薄膜を形成後、回折格子用フォ
トマスクを通して紫外線を照射することによりパターン
露光を行なった。次いで%95℃にて真空乾燥して未反
応の3−べ冫ゾイルベンゾフエノンを除去することによ
シ回折格子を作製し念。この回折格子を100℃で24
時間放置した後とその放置前とで、その回折格子の透過
光の波面収差に変化は認められなかった。
2−95525号に記載の方法に従い,メタクリル酸2
−ブテニルとメタクリル酸メチルの共重合体(共重合モ
ル比1:3.3,分子量2 0 0,0 0 0 )1
1量1および3−ペンゾイルベンゾフエノン1重量部
からなる組成物を用いて薄膜を形成後、回折格子用フォ
トマスクを通して紫外線を照射することによりパターン
露光を行なった。次いで%95℃にて真空乾燥して未反
応の3−べ冫ゾイルベンゾフエノンを除去することによ
シ回折格子を作製し念。この回折格子を100℃で24
時間放置した後とその放置前とで、その回折格子の透過
光の波面収差に変化は認められなかった。
実施例2
実施例1において2,3−ジヒドロフラン939の代シ
に2.3−ジヒドロ−2−メチルフラン982を仕込む
以外は同様Kして重合反応および単離操作を行なうこと
Kよ?)、439の白色生成物を得た。このものの’
H − NM几よシ次の繰返し単位からなる府リマーで
あることが確認された。
に2.3−ジヒドロ−2−メチルフラン982を仕込む
以外は同様Kして重合反応および単離操作を行なうこと
Kよ?)、439の白色生成物を得た。このものの’
H − NM几よシ次の繰返し単位からなる府リマーで
あることが確認された。
上記のボリマーの物性を第1表にまとめた。
このボリマーを用いてテクノプラス社製SIM−474
9A射出成形機によシ外径13m,内径1. 5 as
,厚さ1. 2 msに射出成形し、得られた成形体
を基体として用い、基体の表面に記録部層として酸化テ
ルルを真空蒸着法により成膜して得られた光ディスクの
書き込み/読み出し/消去特性を評価した結果、基体に
PMMAを用い九場合と全く同等の性能を示した。
9A射出成形機によシ外径13m,内径1. 5 as
,厚さ1. 2 msに射出成形し、得られた成形体
を基体として用い、基体の表面に記録部層として酸化テ
ルルを真空蒸着法により成膜して得られた光ディスクの
書き込み/読み出し/消去特性を評価した結果、基体に
PMMAを用い九場合と全く同等の性能を示した。
この光ディスクを100℃で24時間放置した後とその
放置前とで、その光ディスクの書き込み/読み出し/消
去特性に変化は認められなかった。
放置前とで、その光ディスクの書き込み/読み出し/消
去特性に変化は認められなかった。
実施例3
!!施例1において2.3−ジヒドロフラン93f(7
) 代D K 2. 3 − シヒドロ−2−エチルフ
ラン100fを仕込む以外は同様にして重合反応および
単陥操作を行なうことによ,9、43Fの白色生成物を
得た。このもののIH−NMrtよシ次の繰返し単位か
上記のボリマーの物性を第1表にまとめ念。
) 代D K 2. 3 − シヒドロ−2−エチルフ
ラン100fを仕込む以外は同様にして重合反応および
単陥操作を行なうことによ,9、43Fの白色生成物を
得た。このもののIH−NMrtよシ次の繰返し単位か
上記のボリマーの物性を第1表にまとめ念。
このボリマーを用いて,実施例1におけると同様の方法
により回折格子を作製した。この回折格子を100℃で
24時間放置し念後とその放置前とで、その回折格子の
透過光の波面収差に変化は認められなかった。
により回折格子を作製した。この回折格子を100℃で
24時間放置し念後とその放置前とで、その回折格子の
透過光の波面収差に変化は認められなかった。
実施例4
実施例lにおいて2,3−ジヒドロフラン93Fの代り
に2.3−ジヒドロ−3−メチルフラン97Vを仕込む
以外は同様にして重合および単離操作を行なうことによ
F),479の白色生成物を得た。
に2.3−ジヒドロ−3−メチルフラン97Vを仕込む
以外は同様にして重合および単離操作を行なうことによ
F),479の白色生成物を得た。
このものの’H−NMR,よシ次の繰返し単位からなる
ボリマーであることが確認された。
ボリマーであることが確認された。
上記のポリマーの物性を第1表にまとめた。
このポリマーを用いて、実施例2におけると同様の方法
Kよシ作製した光ディスクの書き込み/読み出し/消去
特性を評価した結果、基体にPMMAを用いた場合と全
く同等の性能を示した。
Kよシ作製した光ディスクの書き込み/読み出し/消去
特性を評価した結果、基体にPMMAを用いた場合と全
く同等の性能を示した。
この光ディスクを100℃で24時間放置した後とその
放置前とで、その光ディスクの書き込み/読み出し/消
去特性に変化は認められなかった。
放置前とで、その光ディスクの書き込み/読み出し/消
去特性に変化は認められなかった。
実施例5
実施例lにおいて三フフ化ホウ素の代りにエチ# 7
/l/ jニウムジクロリドの1モル/ L n−へキ
サン溶液17mを仕込む以外は同様にして重合反応およ
び単離操作を行なうことにより、402の白色生成物を
得た。このものの’H−NM几よυ次の繰返し単位から
なるボリマーであることが確認さ上記のポリマーの物性
を第1表にまとめた。
/l/ jニウムジクロリドの1モル/ L n−へキ
サン溶液17mを仕込む以外は同様にして重合反応およ
び単離操作を行なうことにより、402の白色生成物を
得た。このものの’H−NM几よυ次の繰返し単位から
なるボリマーであることが確認さ上記のポリマーの物性
を第1表にまとめた。
このボリマーを用いて、実抱例lと同様にして回折格子
を作製した。この回折格子を100℃で24時間放置し
た後とその放置前とで、その回折格子の透過光の波面収
差に変化は認められなかった。
を作製した。この回折格子を100℃で24時間放置し
た後とその放置前とで、その回折格子の透過光の波面収
差に変化は認められなかった。
以下余白
比較例I
PMMAについてガラス転移温度および光弾性係数を測
定したところ、それぞれ97℃および4X 1 0
d/ dyneであつ九〇PMMAを用いて,実施例1
におけると同様の方法によシ作製した回折格子を100
℃で24時間放置したところ、形状が著しく変化し、回
折格子としての使用は不能となった。
定したところ、それぞれ97℃および4X 1 0
d/ dyneであつ九〇PMMAを用いて,実施例1
におけると同様の方法によシ作製した回折格子を100
℃で24時間放置したところ、形状が著しく変化し、回
折格子としての使用は不能となった。
比較例2
PMMAを用いて,実施例2におけると同様の方法によ
り作製した光ディスクを100℃で24時間放置1−た
ところ、形状が著しく変化し、光ディスクとしての使用
は不能となった。
り作製した光ディスクを100℃で24時間放置1−た
ところ、形状が著しく変化し、光ディスクとしての使用
は不能となった。
比較例3
PCについてガラス転移温度および光弾性係数を測定し
たところ、それぞれ138℃および−80X 1 0−
13ctA/ dyne 1?あった。
たところ、それぞれ138℃および−80X 1 0−
13ctA/ dyne 1?あった。
本発明によシ、憂れ九透明性と耐熱性を有し、かつ光学
的歪みが糎めて小さい光学用成形品が提供される。
的歪みが糎めて小さい光学用成形品が提供される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 主鎖が実質的に下記の繰返し単位( I ) ( I )▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5およ
びR^6はそれぞれ水素原子または低級脂肪族炭化水素
基を表す。)からなつている数平均分子量5,000〜
200,000の樹脂よりなる光学用成形品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5254289A JPH02230201A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 光学用成形品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5254289A JPH02230201A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 光学用成形品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02230201A true JPH02230201A (ja) | 1990-09-12 |
Family
ID=12917668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5254289A Pending JPH02230201A (ja) | 1989-03-03 | 1989-03-03 | 光学用成形品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02230201A (ja) |
-
1989
- 1989-03-03 JP JP5254289A patent/JPH02230201A/ja active Pending
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