JPH0223633A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
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- JPH0223633A JPH0223633A JP17300688A JP17300688A JPH0223633A JP H0223633 A JPH0223633 A JP H0223633A JP 17300688 A JP17300688 A JP 17300688A JP 17300688 A JP17300688 A JP 17300688A JP H0223633 A JPH0223633 A JP H0223633A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明はFM/AMチューナ等、信号周波数や信号レベ
ルが異る回路ブロックを同一半導体基板上に形成した半
導体集積回路に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (A) Field of Industrial Application The present invention relates to a semiconductor integrated circuit in which circuit blocks such as an FM/AM tuner having different signal frequencies and signal levels are formed on the same semiconductor substrate.
(ロ)従来の技術
TVチューナ、FA/AMチューナ等の電子機器は、R
F (Radio Frequency)信号からオー
ディオ信号を取出す為、機能こ゛とに分割した各回路ブ
ロックの取扱う信号の周波数が異る場合が多い。(b) Conventional technology Electronic devices such as TV tuners and FA/AM tuners are
Since the audio signal is extracted from the F (Radio Frequency) signal, the frequency of the signal handled by each functionally divided circuit block is often different.
例えば日本国内向けのFMチューナだけでも、RF倍信
号76〜90MHz、中間周波数信号は10゜7 M)
lz、そして20〜20000Hzのオーディオ信号と
、各回路ブロックは20Hz〜90MHzまでのいずれ
かの信号を取扱うことになる。For example, an FM tuner for Japan only has an RF multiplied signal of 76 to 90 MHz and an intermediate frequency signal of 10°7 M)
1z, and audio signals of 20 to 20,000 Hz, and each circuit block handles any signal of 20 Hz to 90 MHz.
上記FM/AMチューナの一例を第5図に示す。同図に
おいて、(1)はFM放送を選局し中間周波数に周波数
変換するFMフロントエンド回路、(2)は中間周波数
信号(IF倍信号を検波しオーディオ信号(AF倍信号
を得るFM・IF増幅回路、(3)は例えば特公昭62
−21461号に記載されているが如き機能を有するノ
イズキャンセル回路、(4)はステレオ放送の場合にL
チャンネル、Rチャンネル信号に復調するマルチプレク
ス回路、(5)はAM放送を選局しオーディオ信号を出
力するAMチューナ回路である。例えばFM放送受信の
場合、アンテナ(6)から入力したRF信号とFMフロ
ントエンド回路(1)の局部発振回路が出力する発振周
波数信号とをFMフロントエンド回路り1)の混合器で
混合することによりFMフロントエンド回路<1)から
IF倍信号出力し、該IF倍信号FM・IF増幅回路(
2)の検波回路で検波することによりFM−IF増幅回
路(2)からコンポジット信号を出力し、マルチプレク
ス回路(4)よって出力端子(7)に夫々Lチ〜ンネル
、Rチャンネルのオーディオ信号を出力する様構成され
ている。尚、斯る構成のFMチューナ回路は例えば昭和
62年12月10日発行、188三洋半導体データブッ
クポータプルオーディオ用バイポーラ集積回路編」第1
52頁に記載されている。An example of the above FM/AM tuner is shown in FIG. In the figure, (1) is an FM front-end circuit that selects FM broadcasting and converts the frequency to an intermediate frequency, and (2) is an FM front-end circuit that detects an intermediate frequency signal (IF multiplied signal and obtains an audio signal (AF multiplied signal). Amplification circuit (3) is for example
- Noise canceling circuit having the function as described in No. 21461, (4) is L in the case of stereo broadcasting.
(5) is an AM tuner circuit that selects AM broadcasting and outputs an audio signal. For example, in the case of FM broadcast reception, the RF signal input from the antenna (6) and the oscillation frequency signal output from the local oscillation circuit of the FM front end circuit (1) are mixed by the mixer of the FM front end circuit (1). The IF multiplied signal is output from the FM front end circuit <1), and the IF multiplied signal is outputted from the FM/IF amplification circuit (
A composite signal is output from the FM-IF amplifier circuit (2) by detection by the detection circuit 2), and the audio signals of the L channel and R channel are respectively output to the output terminal (7) by the multiplex circuit (4). It is configured to output. The FM tuner circuit with such a configuration is described in, for example, "Sanyo Semiconductor Data Book Portable Audio Bipolar Integrated Circuits Edition" published on December 10, 1988, Volume 1.
It is described on page 52.
ところで、近年の電子機器は増々小型化・高性能化が求
められ、それに伴って第5図の回路はできる限り1チツ
プ化する方向に進んでいると同時に、近年の電子機器は
増々多種・多様化してきており、第5図の回路に対して
特定の回路ブロックを削除・置換・追加といった様々な
要求がある。By the way, electronic devices in recent years are required to be smaller and more sophisticated, and as a result, the circuit shown in Figure 5 is being integrated into a single chip as much as possible. There are various demands such as deletion, replacement, and addition of specific circuit blocks to the circuit shown in FIG.
その為、夫々の要求に応えようとすると、前記特定の回
路ブロックが必ずしも同−占有面積内に納められるとは
限らないので、各要求ごとに再度設計し直さなくてはな
らず、前記要求に対して即応できない欠点があった。ま
た、上記FMチューナの例ではFMフロントエンド回路
(1)が数十MHzの高周波信号を扱う為、グランド(
GND)配線あるいは電源(Vcc)配線を一部共通に
することによる共通インピーダンスによる信号干渉、半
導体の基板を介しての干渉、寄生トランジスタ効果によ
るリーク電流による干渉が生じ易く、1チツプ化が困難
である欠点があった。Therefore, when trying to meet each request, the specific circuit block cannot necessarily be accommodated within the same occupied area, so the design must be redesigned for each request. The drawback was that it was not possible to respond immediately. In addition, in the above example of the FM tuner, the FM front end circuit (1) handles high frequency signals of several tens of MHz, so the ground (
Signal interference due to common impedance due to sharing part of GND) wiring or power supply (Vcc) wiring, interference through semiconductor substrates, and interference due to leakage current due to parasitic transistor effects are likely to occur, making it difficult to integrate into a single chip. There was a certain drawback.
従来のこの種の技術としては、例えば特開昭59−84
542号(HOI L 21/76)に記載されている
技術がある。即ち、干渉の生じ易い各回路ブロック間を
半導体基板と連接する高濃度分離領域で区画し、該分離
領域表面にグランド配線を延在きせると共に、このグラ
ンド配線を分離領域にオーミックコンタクトさせて基板
のリーク電流を吸出す所謂吸出し電極の技術である。し
かしながら、この例においても前述した回路ブロックの
削除・置換・追加の際には始めから設営」シ直さなくて
はならず、要求に対して即応できない、機種展開に長い
設計時間を要する欠点がある。また、吸出し電極を設け
ても、グランド配線のインピーダンスによって電位差が
生じ、各回路ブロック間の干渉を完全に除去することは
不可能であった。As a conventional technique of this kind, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-84
There is a technique described in No. 542 (HOI L 21/76). That is, each circuit block where interference is likely to occur is divided by a highly concentrated isolation region connected to the semiconductor substrate, and a ground wiring is extended on the surface of the isolation region, and this ground wiring is brought into ohmic contact with the isolation region to connect the substrate. This is a so-called extraction electrode technology that sucks out leakage current. However, even in this example, when deleting, replacing, or adding the circuit blocks mentioned above, it is necessary to rebuild the building from the beginning, which has the disadvantage that it is not possible to respond immediately to requests, and that it takes a long design time to develop models. . Further, even if a suction electrode is provided, a potential difference occurs due to the impedance of the ground wiring, and it is impossible to completely eliminate interference between circuit blocks.
(ハ)発明が解決しようとする課題
この様に、従来のバイポーラ型ICは特定回路ブロック
を削除・置換・追加といった際に、パターン設計が即応
できず開発期間が長くなる欠点があった。また、ICの
多機能化を迫し進めて高周波回路をも1チツプ化した場
合、各回路ブロック間で干渉が生じ易い欠点があった。(c) Problems to be Solved by the Invention As described above, conventional bipolar ICs have the disadvantage that when a specific circuit block is deleted, replaced, or added, the pattern design cannot be immediately adapted, resulting in a long development period. Further, when ICs are made to have more functions and high frequency circuits are integrated into a single chip, there is a drawback that interference tends to occur between each circuit block.
(ニ)課題を解決するだめの手段
本発明は斯上した欠点に鑑み成されたもので、半導体チ
ップ(11)の中央を略一直線で横切る分割領域り12
)を設けて半導体チップけ1)を第1と第2の領域(1
3)と(14)に分割し、電源ライン(15〉とグラン
ドライン(16)を延在させることで夫々を同一サイズ
のマット<18>に分離し、前記分割領域(12)上に
電源ライン(15)とグランドライン(16〉を複数本
配設すると共に、前記分割領域(12)に分離領域(2
4)で囲まれたダミーアイランド(21)を1重又は多
重に形成したことを特徴とする。(d) Means for Solving the Problems The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and consists of a divided region 12 that crosses the center of the semiconductor chip (11) in a substantially straight line.
) to connect the semiconductor chip 1) to the first and second regions (1).
3) and (14) and extend the power line (15> and ground line (16) to separate them into mats <18> of the same size, and connect the power line on the divided area (12). (15) and a plurality of ground lines (16>), and the separation area (2) is provided in the divided area (12).
4) is characterized in that the dummy islands (21) surrounded by dummy islands (21) are formed in single or multiple layers.
(ホ)作用
本発明によれば、各回路ブロックを夫々整数個のマット
(18)に納めたので、特定回路ブロックを削除・置換
・追加といった際には各マットけ8)を1単位として任
意に移動できる。その為、設計変更は変更したマット(
18)に納めた回路素子間の接続と、各マット(18)
間の配線を変えるだけで済むので、設計期間を短縮でき
る。また、電源ライン(15)又はグランドライン(1
6)を延在させることで比較的大占有1面積を要する分
割領域(12)にダミーアイランド(21)を設けるこ
とで、チップサイズを増大させずに高周波回路を共存し
た時のリーク電流による干渉を防止できる。(E) Effect According to the present invention, each circuit block is stored in an integral number of mats (18), so when deleting, replacing, or adding a specific circuit block, each mat 8) can be arbitrarily treated as one unit. You can move to Therefore, the design change was made with a changed mat (
Connections between circuit elements housed in 18) and each mat (18)
Since all you need to do is change the wiring between the two, the design period can be shortened. In addition, the power line (15) or ground line (1
By extending 6), a dummy island (21) is provided in the divided area (12) that requires a relatively large area, thereby reducing interference due to leakage current when high frequency circuits coexist without increasing the chip size. can be prevented.
くべ)実施例 以下、本発明を図面を参照しながら詳細に説明する。Kube) Example Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.
第1図は本発明の半導体集積回路を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a semiconductor integrated circuit of the present invention.
先ず半導体チップ(11)の中央にこれを略一直線で横
切る分割領域(12)を形成し、半導体チップ(11)
の素子形成領域を実質的に上下同一サイズの2つの領域
に区画する。分割領域(12)は後述する配線を延在さ
せる為の領域であり、且つ回路素子を形成しない領域で
あって、分割領域(12)を形成することにより区画し
た前記2つの領域を夫々第1と第2の領域(13)(1
4)とする。そして、分割領域(12)の延在方向とは
直交する方向に同図において実線で示す電源■。Cライ
ツク15)と同じく一点鎖線で示すグランドライン(1
6)とをペアで延在させた区画ライン(17)を設け、
該区画ライン(17)を複数本並設することにより第1
と第2の領域(13)(14)を夫々実質的に同一サイ
ズの領域に分割し、各領域をマット〈18)とする。マ
ット(18)の大きさは、任意の一定素子数の素子をレ
イアウトできる大きさに設定されている。First, a divided region (12) is formed in the center of the semiconductor chip (11) and crosses it in a substantially straight line, and the semiconductor chip (11)
The element forming region is divided into two regions of substantially the same size, upper and lower. The divided area (12) is an area for extending wiring, which will be described later, and is an area in which no circuit elements are formed. and the second area (13) (1
4). A power supply ■ is shown by a solid line in the figure in a direction perpendicular to the extending direction of the divided region (12). The ground line (1
6) and a partition line (17) extending in pairs,
By arranging a plurality of partition lines (17) in parallel, the first
and the second regions (13) and (14) are divided into regions of substantially the same size, and each region is defined as a mat (18). The size of the mat (18) is set to a size that allows an arbitrary fixed number of elements to be laid out.
マット(18)の両側は区画ライン(17)を構成する
V ccCライン15)とグランドライン(16)とが
ペアで延在するので、それらを規則的に配列することに
より、マット(18)の1辺にはV。。ライン(15)
が、相対向する他辺にはグランドライン(16)が夫々
接するように延在させる。そして、マット(18)の1
辺と他辺に延在する■。Cライン(15)とグランドラ
イン(16)とにより、マット(18)内に納めた回路
素子に動作電源を供給する。On both sides of the mat (18), the VccC line 15) and the ground line (16), which constitute the partition line (17), extend in pairs, so by arranging them regularly, the mat (18) can be V on one side. . line (15)
However, the ground lines (16) are extended so as to be in contact with the other opposing sides. And 1 of Matt (18)
■ Extending to one side and the other side. The C line (15) and the ground line (16) supply operating power to the circuit elements housed within the mat (18).
区画ライン(17)を延在した■。。ライン(15)と
グランドライン(16)は、目的別や各回路ブロックこ
゛とにまとめられ、分割領域(12)上を延在すると共
に、各々が対応するV。。電極バッド(19)又はグラ
ンド電極バッド(20)に個別に接続される。まとめた
V。Cライン(15)やグランドライン(16)は配線
のインピーダンスを低減する為比較的幅広に形成される
ので、これらの配線を複数本並設する分割領域(12)
は比較的大占有面積を必要とする。■Extended section line (17). . The line (15) and ground line (16) are grouped by purpose or by each circuit block, extend over the divided area (12), and each has a corresponding V. . They are individually connected to the electrode pad (19) or the ground electrode pad (20). V summarized. Since the C line (15) and the ground line (16) are formed relatively wide to reduce the impedance of the wiring, a divided area (12) where multiple of these wirings are arranged in parallel is used.
requires a relatively large footprint.
区画ライン(17)を延在するVCCライン(15)と
グランドライン(16)、分割領域(12)上を延在す
る■ccライン(15)とグランドライン(16)、そ
して各マット(18)内における各回路素子間の接続配
線は基本的に第1層目配線によって行なわれている。VCC line (15) and ground line (16) that extend the division line (17), CC line (15) and ground line (16) that extend on the division area (12), and each mat (18) Connection wiring between each circuit element within is basically performed by first layer wiring.
第2層目配線以降は、区画ライン(17)や分割領域(
12)を横断して各マット(18)間の信号伝達用配線
を形成するのに主として用いる。After the second layer wiring, the division line (17) and division area (
12) and is mainly used to form signal transmission wiring between each mat (18).
尚、分割領域<12)は時として各区画ライン(17)
と平行にも延在させる。これは、パッケージのビン配列
への要求に対するVCC電極パッド(19)とグランド
電極パッド(20)の位置的制約や、隣接したマット(
18)又は回路機能ブロックにおいて特に離間したい関
係がある場合に各マット(18)の間に設ける。第1図
においては、マットDとEの間が前者の理由、マットM
とNの間が後者の理由である。そして、前記平行に延在
させた分割領域(12a)の終端付近に設けたV。0電
極パツド(19〉とグランドバッド(20〉から夫々V
ccCライン15)とグランドライン(16〉を引き
廻し、続いて前記半導体チップ(11)の中央を横切る
分割領域(12)の上を引き廻して各マツl−(18)
内の回路素子に接続される。Note that the divided area < 12) is sometimes divided by each division line (17).
Also extend parallel to. This is due to the positional constraints of the VCC electrode pad (19) and ground electrode pad (20) in relation to the package bin arrangement requirements, and the adjacent mat (
18) or between each mat (18) if there is a relationship that is particularly desired to be spaced apart in circuit functional blocks. In Figure 1, the reason for the former is between mats D and E, and mat M
The reason for the latter is between and N. A V is provided near the end of the divided region (12a) extending in parallel. V from the 0 electrode pad (19〉) and the ground pad (20〉) respectively.
The CC line 15) and the ground line (16) are routed, and then they are routed over the divided area (12) that crosses the center of the semiconductor chip (11) to form each pine l-(18).
connected to circuit elements inside.
この様に素子形成領域を多数個のマット(18)に分割
した半導体チップ(11)に機能別回路ブロックを納め
る場合、各回路ブロックは以下の通りに収納する。When functional circuit blocks are housed in the semiconductor chip (11) in which the element formation area is divided into a large number of mats (18) in this way, each circuit block is housed as follows.
先ずマット(18)が任意の一定の素子数を収納できる
サイズに設計されているので、前記回路ブロックを前記
一定の素子数に区分する。例えばマット(18)の大き
さが100素子収納用で、前記回路ブロックが270素
子程度ならば、3個のマット(18)を用意して各々1
00素子を目安に区分する。むろん、占有面積の大きな
コンデンサ等は考慮に入れる。そして、上記区分に従っ
て各マット(18)毎に回路素子を収納し、マット(1
8)に収納したNPN−PNP トランジスタ、ダイオ
ード、抵抗、コンデンサ等の回路素子間の接続配線及び
素子と■。。及びグランドライン(15)(16)との
接続配線を第1層目配線層で終了しておく。これを繰り
返して全てのマット(18)のパターン設計を終えた後
、前記3個のマット(18)を隣接して配置し、第2層
目以降の配線によって各マット(18)間の電気的接続
を行なうことにより、機能別回路ブ0ツクを構成する。First, since the mat (18) is designed to have a size that can accommodate an arbitrary fixed number of elements, the circuit block is divided into the fixed number of elements. For example, if the size of the mat (18) is for storing 100 elements and the circuit block is about 270 elements, prepare three mats (18) and store 100 elements each.
Classify using 00 elements as a guide. Of course, capacitors, etc. that occupy a large area should be taken into consideration. Then, the circuit elements are stored in each mat (18) according to the above classification, and the circuit elements are stored in each mat (18).
8) Connection wiring and elements between circuit elements such as NPN-PNP transistors, diodes, resistors, and capacitors housed in ■. . The connection wiring with the ground lines (15) and (16) is terminated at the first wiring layer. After repeating this process and completing the pattern design for all the mats (18), the three mats (18) are placed adjacent to each other, and the electrical connection between each mat (18) is established by wiring from the second layer onwards. By making connections, functional circuit blocks are constructed.
そして全ての回路ブロックをマット(18)に収納した
後、全てのマット(18〉を組み合せ、第2層目以降の
配線層により各回路ブロック間の電気的接続を行なうこ
とにより全体のICを設計する。After storing all the circuit blocks in the mat (18), combine all the mats (18) and design the entire IC by making electrical connections between each circuit block using the second and subsequent wiring layers. do.
斯る構成によれば、各回路ブロックを整数個のマットに
収納することにより、各回路ブロック毎の設計を行なえ
且つ回路ブロックを一定の素子数に分割してマット(1
8)毎の設計が行なえるようになる。従って回路ブロッ
ク毎に並行設計が可能であり、設計期間の大幅な短縮が
図れる。また回路変更も回路ブロック毎に且つマット毎
に行なえるので、IC全体の設計変更は不要である。According to this configuration, by storing each circuit block in an integer number of mats, each circuit block can be designed, and the circuit block can be divided into a fixed number of elements to be stored on the mat (1
8) You will be able to design each case. Therefore, it is possible to design each circuit block in parallel, and the design period can be significantly shortened. Further, since circuit changes can be made for each circuit block and each mat, there is no need to change the design of the entire IC.
そして第2図に示す如く、半導体チップ(11)をマッ
トA−Jから成る第1の領域り13)とマットに〜Tか
ら成る第2の領域(14)に区分する分割領域(12)
の占有面積を利用し、分割領域(12)に沿って半導体
チップ(11)周縁部まで延在するダミーアイランド(
21)を設ける。このダミーアイランド(21)はグラ
ンド電位が与えられる半導体の基板と接続した高濃度分
離領域で完全に囲まれたエピタキシャル領域により形成
するので、各々のダミーアイランド(21)は電気的に
他とは独立する。尚、第1図の様に第1の領域<13)
をマットA−Dとマ・ン)E−Jのグループに区分する
分割領域(12a)や第2の領域(ロ)をマットに−M
とマ・ン1−N−Tのグループに区分する分割領域(1
2a)を形成したものは、夫々の分割領域(12a)に
もダミーアイランド(21)を延在させる。As shown in FIG. 2, a divided area (12) divides the semiconductor chip (11) into a first area (13) consisting of mats A-J and a second area (14) consisting of mats A-J.
A dummy island (
21). Since this dummy island (21) is formed by an epitaxial region completely surrounded by a highly doped isolation region connected to a semiconductor substrate to which a ground potential is applied, each dummy island (21) is electrically independent from the others. do. In addition, as shown in Figure 1, the first area < 13)
The divided area (12a) which divides the area into matte A-D and M-N) E-J groups and the second area (B) into matte-M
A divided area (1
2a), a dummy island (21) is also extended to each divided region (12a).
分割領域(12)に形成したダミーアイランド(21)
の断面構造は第3図の如くになる。(22)はP型半導
体基板、(23)はN型エピタキシャル層であり、前述
した通りダミーアイランド(21)はP+型分離領域(
24)により囲まれたN型エピタキシャル層(23)に
よって形成される。ダミーアイランド(21)の表面は
酸化膜(25)で覆れ、その上の第1層目配線層には分
割領域(12)を延在するVCC又はグランドライン(
15)(16)が複数本並行に延在し、さらにその上の
第2層目配線層には層間絶縁膜(26)を介して各マッ
ト(18)間を接続する信号伝達用配線(27)か又は
前記VCC又はグランド配線(15)(16)の一部が
延在する。Dummy island (21) formed in divided area (12)
The cross-sectional structure of is shown in FIG. (22) is a P-type semiconductor substrate, (23) is an N-type epitaxial layer, and as mentioned above, the dummy island (21) is a P+ type isolation region (
It is formed by an N-type epitaxial layer (23) surrounded by (24). The surface of the dummy island (21) is covered with an oxide film (25), and the first wiring layer thereon has a VCC or ground line (
A plurality of mats (15) and (16) extend in parallel, and a signal transmission wiring (27) connecting each mat (18) via an interlayer insulating film (26) is further provided in the second wiring layer above the wiring. ) or a portion of the VCC or ground wiring (15) (16) extends.
斯る構成によれば、分割領域(12〉が区分する第1と
第2の領域(13)(14>は互いに分割領域(12〉
の占有面積の分だけ距離が離れるので、基板(22〉の
層抵抗(28)とエピタキシャル層(23)の層抵抗(
29)による抵抗成分が増大することにより、第1の領
域(13)と第2の領域(14)との結合を粗にできる
。According to such a configuration, the first and second regions (13) (14> divided by the divided region (12) are separated from each other by the divided region (12).
Since the distance increases by the area occupied by , the layer resistance (28) of the substrate (22) and the layer resistance (28) of the epitaxial layer (23)
By increasing the resistance component due to 29), the coupling between the first region (13) and the second region (14) can be made loose.
また、分割領域(12)の占有面積を利用してダミーア
イランド(21)を多重構造にすれば、エピタキシャル
層(23)の層抵抗が形成する抵抗成分(29)の他に
分離領域(24)のP型領域とダミーアイランド(21
)のN型領域が形成するPN接合による電位障壁が複数
個形成されるので、前記抵抗成分を増大でき、第1と第
2の領域(13)(14)の結合を更に粗にできる。さ
らに前記電位障壁はPN接合による接合容量(30)と
も考えられるので、分割領域(12)上を延在するV。In addition, if the dummy island (21) is made into a multilayer structure using the area occupied by the divided region (12), in addition to the resistance component (29) formed by the layer resistance of the epitaxial layer (23), the separated region (24) P-type region and dummy island (21
Since a plurality of potential barriers are formed by the PN junctions formed by the N-type regions of ), the resistance component can be increased and the coupling between the first and second regions (13) and (14) can be made even rougher. Furthermore, since the potential barrier can also be considered as a junction capacitance (30) due to a PN junction, V extending over the divided region (12).
Cライン(15)を利用し、N1型コンタクト領域(3
1)を介してダミーアイランド(21〉に電源電位■。Using the C line (15), connect the N1 type contact region (3
1) Power supply potential ■ to the dummy island (21〉) through.
Cを印加することにより、ダミーアイランド(21)を
交流的に接地できると共に前記接合容量(30)を増大
せしめ、前記抵抗成分を増大させることができる。第3
図の例ではダミーアイランド(21)が3重構造を有し
、中央のダミーアイランド(21)にVCCを、両側の
ダミーアイランド〈21〉は何の電位も印加しないフロ
ーティングとしである。一般にダミーアイランド(21
)は多重構造である方が第1と第2の領域(13)(1
4)の結合を粗にできるので、分離領域(24)の占有
面積をプロセスの最小線幅として分割領域(12)の占
有面積内にできる限り多重に形成する。By applying C, the dummy island (21) can be grounded in an alternating current manner, the junction capacitance (30) can be increased, and the resistance component can be increased. Third
In the example shown in the figure, the dummy island (21) has a triple structure, with VCC applied to the central dummy island (21), and the dummy islands <21> on both sides floating to which no potential is applied. Generally dummy island (21
) has a multiple structure, the first and second regions (13) (1
Since the bonding in step 4) can be made coarse, the separation area (24) is formed as many times as possible within the area occupied by the division area (12), with the area occupied by the separation area (24) being the minimum line width of the process.
以上説明した如く分割領域(12)にダミーアイランド
(21)を形成することで第1と第2の領域(す)(1
4)の結合を粗にできるので、斯る利点を利用し半導体
チップ(11)に第5図の如きFM/AMチューナを形
成した一実施例を以下に説明する。As explained above, by forming the dummy island (21) in the divided area (12), the first and second areas (1)
4) Since the coupling can be made coarse, one embodiment will be described below in which an FM/AM tuner as shown in FIG. 5 is formed on the semiconductor chip (11) by taking advantage of this advantage.
第1図又は第2図において、マットA−Dの4個のマッ
ト(18)にAMチューナ回路(5)プロ・ンクが、マ
ットE−Iの5個のマット(18)にFM・■F増幅回
路(2)ブロックが、マットJの1個の1(i−
マット(18)にその他(オプション)の回路ブロック
が、マットに−Mの3個のマット(18)にFMフロン
トエンド回路(1)ブロックが、マットN−Pの3個の
マット(18)にノイズキャンセル回路〈2)ブロック
が、マットQ−Tの4個のマット(18)にマルチプレ
クス回路(4〉ブロックが夫々回路ブロック毎に納めら
ている。In Fig. 1 or Fig. 2, the AM tuner circuit (5) pro-nk is connected to the four mats (18) of mats A-D, and the FM tuner circuit (5) is installed to the five mats (18) of mats E-I. The amplifier circuit (2) block is installed in one 1 (i- mat (18)) of mat J, and the FM front-end circuit ( 1) Blocks are noise canceling circuits on the three mats (18) of mats NP (2) Blocks are multiplex circuits on the four mats (18) of mats Q-T (4> blocks are each circuits) It is stored in each block.
マットに−Mに納めたFMフロントエンド回路(1)は
、アンテナ(6〉と図示せぬ同調回路により同調したR
F倍信号入力され、該RF倍信号局部発振回路が発生ず
る局部発振周波数信号とを混合回路で混合することによ
り10.7MHzの中間周波数信号に周波数変換して出
力する機能を有する。この回路は数マイクロボルト(μ
V)と極めて小さいレベルの信号から数ボルト(V)ま
での信号を取扱う為、他回路ブロックからの干渉信号を
極端に嫌う回路である。また、前記局部発振回路はそれ
自身が発振して不要輻射を放出する為、他回路ブロック
とはできるたけ離間したい回路である。The FM front end circuit (1) housed in the mat at -M is tuned by the antenna (6) and a tuning circuit (not shown).
It has a function of frequency-converting an F-fold signal into an intermediate frequency signal of 10.7 MHz by mixing it with a local oscillation frequency signal generated by the RF-multiply signal local oscillation circuit in a mixing circuit and outputting the signal. This circuit is a few microvolts (μ
This circuit handles signals ranging from an extremely low level (V) to several volts (V), so it is extremely sensitive to interference signals from other circuit blocks. Furthermore, since the local oscillation circuit itself oscillates and emits unnecessary radiation, it is a circuit that should be separated from other circuit blocks as much as possible.
−j5、マツl−E〜■に納めたFM・IF増幅回路(
2)は、前記中間周波数信号をリミッタ−増幅回路で増
幅及び振幅制限をし、検波回路で検波することによりコ
ンポジット信号に復調するまでの機能を有する。斯る回
路は10.7MHzとFMフロントエンドM路(1)が
扱う周波数と比較的近似した周波数信号を扱い、しかも
増幅して大振幅レベルの信号を扱うので、FM・IF増
幅回路(2)からのリーク電流がFMフロントエンドM
路(1〉まで達すると相互の信号干渉によってRF倍信
号かき消され、特に入力レベルが極めて小さい場合、回
路が不安定となり、著しい場合は発振してしまう。その
為、上記FMフロントエンドM路(1)とFM・IF増
幅回路(2)、特に局部発振回路とリミッタ−増幅回路
の組み合せは相互の分離を強固にしなければならない組
み合せである。-j5, FM/IF amplifier circuit installed in Matsu l-E~■ (
2) has the functions of amplifying and amplitude limiting the intermediate frequency signal with a limiter-amplifier circuit, and demodulating it into a composite signal by detecting it with a detection circuit. This circuit handles a frequency signal of 10.7 MHz, which is relatively similar to the frequency handled by the FM front end M path (1), and also amplifies and handles signals with large amplitude levels, so the FM/IF amplifier circuit (2) The leakage current from the FM front end M
When the FM front end M path (1) is reached, the RF multiplied signal is drowned out by mutual signal interference, and the circuit becomes unstable, especially when the input level is extremely low, and in severe cases it will oscillate. The combination of 1) and the FM/IF amplifier circuit (2), especially the local oscillation circuit and the limiter amplifier circuit, is a combination that must be strongly separated from each other.
他方、マットQ−Tに納めたマルチプレクス回路(4)
は、前記コンポジット信号中の和信号(L+R)と差信
号(L−R)を、同じくコンポジット信号中に含まれる
19K)lzステレオパイロット信号に応答して作られ
る38KHzスイッチング信号を用いて左右ステレオ信
号(L及びR)に分離するステレオ復調機能を有する。On the other hand, the multiplex circuit (4) housed in the mat Q-T
converts the sum signal (L+R) and difference signal (L-R) in the composite signal into left and right stereo signals using a 38KHz switching signal generated in response to a 19K)lz stereo pilot signal also included in the composite signal. It has a stereo demodulation function that separates into (L and R).
この回路は、前記38 KHzスイッチング信号を発生
させるのにトランジスタのスイッチング動作を利用する
為、その動作に伴ってスイッチングノイズを発生し易い
。例えば前記スイッチング信号を発生させる回路として
位相比較器、ローパスフィルタ、電圧制御発振器及び複
数の分周器から成るPLL(フェーズ・ロックド・ルー
プ)回路を用いた場合等が相当する。その為、できるこ
とならばFMフロントエンドM路(1)やFM−IF増
幅回路(2)とは離しておきたい回路である。Since this circuit uses the switching operation of a transistor to generate the 38 KHz switching signal, it is likely to generate switching noise along with the operation. For example, a PLL (phase locked loop) circuit consisting of a phase comparator, a low-pass filter, a voltage controlled oscillator, and a plurality of frequency dividers is used as the circuit for generating the switching signal. Therefore, if possible, it is a circuit that should be separated from the FM front end M path (1) and the FM-IF amplifier circuit (2).
また、マットN−Pに納めたノイズキャンセル回路(3
)は前記コンポジット信号にパルス雑音が重畳した際こ
れを除去する機能を有する。この回路は特に高周波信号
を扱うものでもスイッチングノイズを発生させるもので
も無い。In addition, the noise canceling circuit (3
) has a function of removing pulse noise when it is superimposed on the composite signal. This circuit does not particularly handle high-frequency signals or generate switching noise.
さらに、マットA−Dに納めたAMチューナ回路(5)
は、AM放送を選局しオーディオ(AF)信号を出力す
る機能を有する。一般にFM放放送受信量19
−とAM受信時とは外部制御信号によって完全に切換る
ものであり且つ周波数が数百KHz前後であるので、A
Mチューナ回路(5)とFMフロントエンドM路(1)
やFM・IF増幅回路(2)との信号干渉は無いと考え
て良い。Furthermore, AM tuner circuit (5) housed in mat A-D
has a function of selecting AM broadcasting and outputting an audio (AF) signal. Generally, the amount of FM broadcasting received19- and AM reception are completely switched by an external control signal, and the frequency is around several hundred KHz, so A
M tuner circuit (5) and FM front end M path (1)
It can be assumed that there is no signal interference with the FM/IF amplifier circuit (2).
斯る構成によれば、FMフロントエンドM路(1)とF
M・IF増幅回路(2)を夫々第1と第2のflJ[(
13)(14)のマツ) (1B>に形成したので、両
者を分割領域(12)の分だけ距離的に離せると共に、
ダミーアイランド(21)によるインピーダンス増大に
よって両者のエピタキシャル層(23)を介しての結合
をより一層粗にできる。その為、FMフロントエンドM
路(1)とFM・IF増幅回路(2)とを互いの信号干
渉を防止して1チツプ化することが可能となる。また、
スイッチングノイズを発生し易いアルチブレクス回路(
4)は、FM−IF増幅回路(2)に対しては分割領域
(12〉及びダミーアイランド(21)を挾むので、F
Mフロントエンド回路(1)に対してはノイズキャンセ
ル回路(3)ブロックとダミーアイランド(21)を間
に挾むので、夫々の回路との結合を祖にして信号干渉を
防止できる。According to such a configuration, the FM front end M path (1) and F
The M-IF amplifier circuit (2) is connected to the first and second flJ[(
13) (14) pine) (1B>), so they can be separated by the distance of the divided area (12), and
By increasing the impedance due to the dummy island (21), the coupling between the two through the epitaxial layer (23) can be made even rougher. Therefore, FM front end M
It becomes possible to integrate the circuit (1) and the FM/IF amplifier circuit (2) into one chip while preventing mutual signal interference. Also,
Altibrex circuit that tends to generate switching noise (
4), for the FM-IF amplifier circuit (2), the divided area (12> and the dummy island (21) are sandwiched between them, so the F
Since the noise canceling circuit (3) block and the dummy island (21) are interposed between the M front end circuit (1) and the noise canceling circuit (3) block, signal interference can be prevented by coupling with each circuit.
ところで、前記FMフロントエンドM路(1)とFM−
IF増幅回路(2)との関係の他にも、隣接するマット
(18)間において、マット(18〉内に形成した各回
路素子間において等、基板(22〉を介しての干渉は生
じる。この干渉は主に基板(22)へのノーク電流によ
って生じ、リーク電dCを流出し易い回路素子としては
、コンデンサ、飽和動作を伴うNPN−PNP トラン
ジスタ、N型エピタキシャル層(23)をベースとする
ラテラルPNP トランジスタ及びラテラルPNP )
ランジスタをインジェクタとするIIL等があげられ、
隣接する回路素子ばかりで無く遠方の回路素子へも基板
(22)の電位を上昇させて回路動作を不安定にする。By the way, the FM front end M path (1) and the FM-
In addition to the relationship with the IF amplifier circuit (2), interference occurs via the substrate (22>) between adjacent mats (18), between each circuit element formed within the mat (18>), etc. This interference is mainly caused by a nok current to the substrate (22), and circuit elements that tend to leak current dC include capacitors, NPN-PNP transistors with saturated operation, and N-type epitaxial layer (23) based circuit elements. Lateral PNP transistor and lateral PNP)
Examples include IIL that uses a transistor as an injector,
The potential of the substrate (22) is increased not only in adjacent circuit elements but also in distant circuit elements, making the circuit operation unstable.
斯様なリーク電流に対しては、第3図の如く分離領域(
24)表面にオーミンクコンタクトする吸出し電極(3
2)によって対処する。即ち第4図に示す如く、前記リ
ーク電流を流出し易い回路素子の即近で干渉を生じるこ
とが予測される回路素子間又は回路素子群間にコンタク
トホール(33)を介してオーミンクコンタクトさせ、
区画ライン(17)を形成するグランドライン(16)
に接続して接地するのである。また、区画ライン(17
)を形成するグランドライン(16)自体をも吸出し電
極(32)として流用することにより、各マット(18
)間の干渉を防止すると共にチップサイズの増大を防ぐ
。To prevent such leakage current, the separation area (
24) Suction electrode (3) that makes ohmink contact with the surface
2) will be dealt with. That is, as shown in FIG. 4, ohmink contact is made between circuit elements or groups of circuit elements that are expected to cause interference in the immediate vicinity of the circuit elements from which the leakage current is likely to flow, through contact holes (33). ,
Ground line (16) forming section line (17)
It is connected to and grounded. In addition, the plot line (17
) by reusing the ground line (16) itself as the suction electrode (32), each mat (18
) and prevents an increase in chip size.
吸出し電極(32)が接続されるグランドライン(16
)は、吸出したリーク電流の大きさや、グランドライン
(16)が共通インピーダンスを有することを許容する
か否かによって分割又は共用される。その為、分割領域
(12)上にゲランドラインク16)が複数本延在する
ことになる。例えば第4図においては、マットEにFM
・IF増幅回路(2)を構成するコンデンサ素子が集中
的に配置され、基板(22)へのリークが極めて大であ
ることが予測されるので、区画ライン(17)を形成す
るグランドライン(16)自身を吸出し電極(32)に
すると共に、マットE全体を吸出し電極(32〉が囲む
様にグランドライン(16)を延在させ、さらにチップ
(11)の外周部を延在させてグランド電極パッド(2
0)に接続する。The ground line (16) to which the suction electrode (32) is connected
) are divided or shared depending on the magnitude of the leaked current and whether or not the ground line (16) is allowed to have a common impedance. Therefore, a plurality of Guérande lines 16) extend over the divided area (12). For example, in Figure 4, FM is placed on mat E.
・Since the capacitor elements constituting the IF amplifier circuit (2) are arranged in a concentrated manner, it is predicted that leakage to the substrate (22) will be extremely large, so the ground line (16) forming the partition line (17) ) itself as a suction electrode (32), a ground line (16) is extended so that the entire mat E is surrounded by the suction electrode (32>), and the outer periphery of the chip (11) is further extended to form a ground electrode. Pad (2
0).
マットEの領域内にある吸出し電極(32)は上記コン
デンサ素子を互いに干渉から肪ぐ為である。The suction electrode (32) in the area of the mat E is to protect the capacitor elements from interference with each other.
マットGの領域内にある吸出し電極(32)は前記リー
ク電流を流出し易い回路素子の即近に設けたものであり
、この吸出し電極(32)はリーク電流の絶対値が小さ
いのでマットGに回路動作用接地電位を与えるグランド
ラインけ6)と共通にしている。そして、マットFとマ
ットGに夫々形成した回路素子が機能的にみて共通イン
ピーダンスを許容するのと、前記リーク電流の絶対値が
さほど大きくないので、これらのグランドライン(16
)は分割領域(12)上で1本にまとめグランド電極パ
ッド(20〉に接続する。The extraction electrode (32) in the area of the mat G is provided in the immediate vicinity of the circuit element from which the leakage current tends to flow out, and since the absolute value of the leakage current is small, the extraction electrode (32) is It is shared with the ground line 6) which provides the ground potential for circuit operation. Since the circuit elements formed on the mat F and mat G functionally allow a common impedance, and the absolute value of the leakage current is not very large, these ground lines (16
) are combined into one on the divided region (12) and connected to the ground electrode pad (20>).
(ト)発明の詳細
な説明した如く、本発明はマットけ8)を基本とし該マ
ット(18)整数個の領域に各回路ブロックを収納する
ので、各マット(18〉毎にパターン設計が行なえ、設
計の終了したマットク18〉を組み合せることでIC全
体のレイアウトが任意に実現できる利点を有する。また
、マット(18)毎の並行設計ができる利点もある。そ
の為、IC全体の設計期間を短縮できると共に、回路機
能の異る機種を設計する際は変更部分のマット(18)
だけを設計すれば良く、残りのマット(18)は前機種
の信頼性を保ったまま流用できるので、機種展開に要す
る設計期間も大幅に短縮できる利点を有する。(g) As described in detail, the present invention is based on the mat 8) and stores each circuit block in an integer number of areas of the mat (18), so a pattern can be designed for each mat (18). , it has the advantage that the entire IC layout can be realized arbitrarily by combining the designed matte boards 18〉.It also has the advantage that each mat (18) can be designed in parallel.Therefore, the design period for the entire IC can be reduced. In addition to shortening the process, when designing a model with a different circuit function, the mat of the changed part (18)
Only one mat (18) needs to be designed, and the remaining mat (18) can be used while maintaining the reliability of the previous model, which has the advantage of greatly shortening the design period required for model development.
そして、上記マット(18)を形成する為及びマット(
1B)に収納する回路素子に動作電源を与える為のV。Then, in order to form the above-mentioned mat (18) and the mat (
V for providing operating power to the circuit elements housed in 1B).
0ライン(15)及びグランドライン(16)を延在さ
せる分割領域(12)の占有面積を利用し、この部分に
ダミーアイランド(21)を設けたので、占有面積の有
効利用が図れると共に、分割領域(12)の分だけ離間
した以上に第1と第2の領域(13)(14)の基板(
22)を介しての結合を粗にできる。その為、周波数と
信号レベルが互いに異り信号干渉を生じ易い回路ブロッ
クを同一チップ(11)上に形成する際、これらの回路
ブロックを第1と第2の領域(13)(14)に分離す
るように各マット(18)を組み合せれば、互いの信号
干渉を防止した高性能のICを実現できる利点を有する
。また、上記利点を利用してFMフロントエンド回路(
1)とFM−IF増幅回路(2)とを1チツプ化するこ
とにより、より安価で高性能のFMチューナを提供でき
る利点をも有する。Since the occupied area of the divided area (12) where the 0 line (15) and the ground line (16) are extended is used, and the dummy island (21) is provided in this area, the occupied area can be used effectively, and the divided area The first and second regions (13) and (14) of the substrate (
22) can make the bond loose. Therefore, when forming circuit blocks on the same chip (11) that have different frequencies and signal levels and are likely to cause signal interference, these circuit blocks are separated into the first and second regions (13) and (14). By combining the mats (18) in this manner, there is an advantage that a high-performance IC can be realized that prevents mutual signal interference. In addition, by utilizing the above advantages, the FM front end circuit (
By integrating 1) and the FM-IF amplifier circuit (2) into one chip, there is an advantage that a cheaper and higher performance FM tuner can be provided.
そして更に、マット(18)内のリーク電流を生じ易い
回路素子の近傍に吸出し電極<32)を設けたので、基
板(22)へのリーク電流を直ちに吸出すことができ隣
接する回路素子間の干渉を防止できる。Furthermore, since the suction electrode <32) is provided in the vicinity of the circuit element in the mat (18) that is likely to cause leakage current, the leakage current to the substrate (22) can be immediately sucked out, and the leakage current between adjacent circuit elements can be immediately sucked out. Interference can be prevented.
また、隣接するマット(18)の間に吸出し電極(32
)を延在させることにより、前記マット(18)内の吸
出し電極(32)で除去しきれなかったリーク電流やそ
の他の回路素子からのリーク電流を吸出し、隣接するマ
ット(18)間における干渉を防止できる。さらに、区
画ライン(17)を形成する為のグランドライン(16
)を吸出し電極(32)として利用することにより、占
有面積の効率利用ができる利点をも有する。In addition, a suction electrode (32) is provided between adjacent mats (18).
), the leakage current that could not be removed by the suction electrode (32) in the mat (18) and the leakage current from other circuit elements is sucked out, and interference between adjacent mats (18) is prevented. It can be prevented. Furthermore, a ground line (16) for forming a division line (17) is provided.
) as the suction electrode (32), there is also the advantage that the occupied area can be used efficiently.
第1図と第2図は本発明を説明する為の平面図、第3図
及び第4図は夫々本発明を説明する為の要部断面図及び
要部平面図、第5図はFM/AMチューナ回路を説明す
る為の回路図である。
(12)は分割領域、 (13)(14)は第1と第2
の領域、 (15)(16)はVCC及びグランドライ
ン、 (18)はマット、 (21)はダミーアイラ
ンド、 (24)はP+型分離領域、 (32)は吸
出し電極である。1 and 2 are plan views for explaining the present invention, FIGS. 3 and 4 are a sectional view and a plan view of essential parts, respectively, for explaining the present invention, and FIG. 5 is an FM/ FIG. 2 is a circuit diagram for explaining an AM tuner circuit. (12) is the divided area, (13) and (14) are the first and second
(15) and (16) are VCC and ground lines, (18) is a mat, (21) is a dummy island, (24) is a P+ type isolation region, and (32) is an extraction electrode.
Claims (1)
域により前記半導体チップを第1と第2の領域に分割し
、前記分割領域とは直交する方向に電源ラインとグラン
ドラインをペアで延在させた区画ラインを複数本並設す
ることにより前記第1と第2の領域を実質的に同一サイ
ズの複数個の領域に分割して夫々の領域をマットとし、
各機能別回路ブロックを夫々整数個のマットに収納し、
前記分割領域上に個別に電極パッドへ接続される電源又
はグランドラインを延在させると共に、前記分割領域に
半導体の基板と接続する同一導電型の分離領域によって
囲まれたダミーアイランドを1重又は多重に設けたこと
を特徴とする半導体集積回路。 (2〉半導体チップの中央を略一直線で延在する分割領
域により前記半導体チップを第1と第2の領域に分割し
、前記分割領域とは直交する方向に電源ラインとグラン
ドラインをペアで延在させた区画ラインを複数本並設す
ることにより前記第1と第2の領域を実質的に同一サイ
ズの複数個の領域に分割して夫々の領域をマットとし、
高周波回路ブロックを前記第1又は第2の領域のどちら
か一方のマットを整数個用いて収納し、前記高周波回路
ブロックに対して機能と周波数の異る回路ブロックを他
方のマットを整数個用いて収納し、前記分割領域上に個
別に電極パッドと接続される電源又はグランドラインを
複数本延在させると共に、前記分割領域に半導体の基板
と接続する同一導電型の分離領域によって囲まれたダミ
ーアイランドを1重又は多重に設けたことを特徴とする
半導体集積回路。 (3)前記高周波回路ブロックは少なくとも局部発振回
路を含むフロントエンド回路であり且つ前記機能と周波
数の異る回路ブロックは少なくとも振幅制限回路を含む
中間周波数増幅回路であることを特徴とする請求項第2
項に記載の半導体集積回路。 (4)半導体チップの中央を略一直線で延在する分割領
域により前記半導体チップを第1と第2の領域に分割し
、前記分割領域とは直交する方向に電源ラインとグラン
ドラインをペアで延在させた区画ラインを複数本並設す
ることにより前記第1と第2の領域を実質的に同一サイ
ズの複数個の領域に分割して夫々の領域をマットとし、
機能と周波数の異る回路ブロックを夫々整数個のマット
に収納し、各マット内の所望個所に半導体の基板と接続
する同一導電型の分離領域表面とオーミックコンタクト
する吸出し電極を設け、前記分割領域上に前記吸出し電
極と接続するグランドラインを目的別に複数本設け、個
別に1個又は複数個のグランド電極パッドに接続すると
共に、前記分割領域に前記分離領域で囲まれたダミーア
イランドを1重又は多重に形成したことを特徴とする半
導体集積回路。 (5)前記第1又は第2の領域のどちらか一方に高周波
回路ブロックを、他方に前記高周波回路ブロックに対し
て機能と周波数の異る回路ブロックを収納したことを特
徴とする請求項第4項に記載の半導体集積回路。 (6)前記高周波回路ブロックは少なくとも局部発振回
路を含むフロントエンド回路であり、前記機能と周波数
の異る回路ブロックは少なくとも振幅制限回路を含む中
間周波数増幅回路であることを特徴とする請求項第5項
に記載の半導体集積回路。 (7)前記マットを区画するグランドラインと前記吸出
し電極とが共通の電極で構成されていることを特徴とす
る請求項第4又は第5項に記載の半導体集積回路。Scope of Claims: (1) The semiconductor chip is divided into a first and second region by a dividing region extending substantially in a straight line in the center of the semiconductor chip, and a power line is connected in a direction perpendicular to the dividing region. dividing the first and second regions into a plurality of regions of substantially the same size by arranging a plurality of division lines in which pairs of ground lines are extended, each region being made into a mat;
Each functional circuit block is stored in an integral number of mats,
A power supply or ground line individually connected to the electrode pad is extended over the divided region, and one or more dummy islands surrounded by separated regions of the same conductivity type connected to the semiconductor substrate are provided in the divided region. A semiconductor integrated circuit characterized by being provided with. (2> The semiconductor chip is divided into a first and second region by a division region extending in a substantially straight line through the center of the semiconductor chip, and a power supply line and a ground line are extended in pairs in a direction orthogonal to the division region. dividing the first and second regions into a plurality of regions of substantially the same size by arranging a plurality of partition lines in parallel, each region being made into a mat;
A high frequency circuit block is stored using an integral number of mats in either the first or second area, and a circuit block having a different function and frequency from the high frequency circuit block is stored using an integral number of mats in the other area. a dummy island in which a plurality of power or ground lines are housed and connected to the electrode pads individually on the divided region, and the divided region is surrounded by a separated region of the same conductivity type connected to a semiconductor substrate; 1. A semiconductor integrated circuit characterized in that a semiconductor integrated circuit is provided in a single layer or in multiple layers. (3) The high frequency circuit block is a front end circuit including at least a local oscillation circuit, and the circuit block having a different function and frequency is an intermediate frequency amplification circuit including at least an amplitude limiting circuit. 2
The semiconductor integrated circuit described in . (4) The semiconductor chip is divided into a first and second region by a dividing region extending in a substantially straight line through the center of the semiconductor chip, and a power supply line and a ground line are extended in pairs in a direction perpendicular to the dividing region. dividing the first and second regions into a plurality of regions of substantially the same size by arranging a plurality of partition lines in parallel, each region being made into a mat;
Circuit blocks with different functions and frequencies are housed in an integral number of mats, and a suction electrode is provided at a desired location in each mat to make ohmic contact with the surface of a separated region of the same conductivity type connected to a semiconductor substrate, and the divided region is A plurality of ground lines connected to the suction electrode are provided on the top for different purposes, and are individually connected to one or more ground electrode pads, and a dummy island surrounded by the separation area is provided in the divided area in one or more layers. A semiconductor integrated circuit characterized by being formed in multiple layers. (5) A high frequency circuit block is housed in either the first or second area, and a circuit block having a different function and frequency from the high frequency circuit block is housed in the other area. The semiconductor integrated circuit described in . (6) The high frequency circuit block is a front end circuit including at least a local oscillation circuit, and the circuit block having a different function and frequency is an intermediate frequency amplifier circuit including at least an amplitude limiting circuit. The semiconductor integrated circuit according to item 5. (7) The semiconductor integrated circuit according to claim 4 or 5, wherein the ground line that partitions the mat and the suction electrode are constituted by a common electrode.
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| JP63173006A JPH0628287B2 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Linear semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63173006A JPH0628287B2 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Linear semiconductor integrated circuit |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0223633A true JPH0223633A (en) | 1990-01-25 |
| JPH0628287B2 JPH0628287B2 (en) | 1994-04-13 |
Family
ID=15952445
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63173006A Expired - Lifetime JPH0628287B2 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Linear semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628287B2 (en) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138351U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | ||
| JPS61292341A (en) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
| JPS6212147A (en) * | 1985-07-10 | 1987-01-21 | Hitachi Ltd | Master slice type semiconductor device |
| JPS62293660A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63173006A patent/JPH0628287B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57138351U (en) * | 1981-02-23 | 1982-08-30 | ||
| JPS61292341A (en) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
| JPS6212147A (en) * | 1985-07-10 | 1987-01-21 | Hitachi Ltd | Master slice type semiconductor device |
| JPS62293660A (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-21 | Hitachi Ltd | Semiconductor integrated circuit device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0628287B2 (en) | 1994-04-13 |
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