JPH02240078A - チオフェンジカルボン酸ジエステルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規なチオフェンジヵルボン酸ジエステルおよ
びその製造方法に関する。チオフェンジカルボン酸ジエ
ステルは、機能性材料、医薬、農薬等を製造する際の重
要な中間体として広く知られている．例えば、チオフエ
ンジヵルボン酸ジエステルとアミノフェノール誘導体を
反応して得られるジベンズオキサゾリル化合物は、プラ
スチック用の蛍光増白剤として従来がらよく使用されて
いる。また該ジエステルは加水分解により容易に公知の
育用物質であるチオフェンジヵルボン酸に導くことがで
きる。

（従来の技術） （発明が解決しようとする問題点） 従来、チオフェンジカルボン酸誘導体を製造する方法は
いくつか知られている。例えば（１゛）アジビン酸と塩
化チオニルをビリジン触媒の存在下に反応せしめ、チオ
フェン２．５−ジヵルボン酸ジクロライドとし、これを
加水分解して千オフェン２，５−ジカルボン酸とする方
法．・・−・・−・・・東独特許第１２９４８８号（２
）α，α′−ジクロロアジビン酸から得られるテトラヒ
ド口チオフエン２．５−ジカルボン酸にオキシ塩化リン
と三塩化リンを反応させ、ひき続き塩素を作用させ、ジ
クロロテトラヒドロチオフエン２，５−ジカルボン酸ジ
クロライドとし、これよりチオフェン２．５−ジカルボ
ン酸を得る方法。

・・−・・・−・・・特公昭３９−３４３４（３）α，
α′−ジクロロアジビン酸のナトリウム塩と硫化ナトリ
ウムを水中で反応させ、そのまま系内に塩素を吹き込み
、チオフエン２，５−ジカルボン酸を得る方法。

特公昭３９−３８４２ （４）テトラヒドロチオフエン２，５−ジカルボン酸ジ
メチルエステルとイオウ原子を反応させ、チオフェン２
．５−ジカルボン酸ジメチルエステルを得る方法． ・−・・・・・・・チェコスロバキア特許第１４０８７
８（５）テトラヒドロチオフェン２．５−ジカルボン酸
ジメチルエステルを塩素化し、３．４−ジクロロテトラ
ヒド口チオフェン２．５−ジカルボン酸ジメチルエステ
ルとし、さらに加熱することにより、チオフェン２，５
−ジカルボン酸ジメチルエステルを得る方法． ・・・・・・・・・チェコスロバキア特許第１３７０３
２号等が知られている。

しかしながら、何れの方法も、反応時間が長く収率が悪
い等、コスト的に満足できるものはなく、中には、塩化
水素、二酸化イオウが廃ガスとして副生ずるものもあり
、工業的に実施するには、有利な方法とはいえない。

一方、前記チオフェンジカルボン酸誘導体を製造する際
の原料としても使用でき、またそれ自身中間原料として
有用なテトラヒドロチオフェンジカルボン酸誘導体につ
いてもその製造方法は公知であり種々の方法が知られて
いる。

例えば、 （１）α，α′−ジクロロアジビン酸のナトリウム塩と
硫化ナトリウムを水中で反応させ、テトラヒドロチオフ
ェン２．５−ジカルボン酸を得る方法。

特公昭３９−３４３４ （２）α，α′−ジブロモアジビン酸ジエチルエステル
と硫化ナトリウムをエタノール中で反応させ、テトラヒ
ドロチオフェン２．５−ジカルボン酸ジエチルエステル
を得る方法． Ｐｏｌｙｍ，Ｊ．　　７（１）　　７　　２　〜７　　
Ｂ　　＜１　　９　　７　　５）等が挙げられる．しか
しながら、これらのテトラヒドロチオフェンジカルボン
酸誘導体の製造方法についても、前記と同じような種々
の問題点が存在し、工業的に有利な方法とはいえない．
（問題点を解決するための手段） 前記伏況に鑑みて本発明者らは、チオフェンジカルボン
酸ジエステルの工業的に有利な製造方法について鋭意検
討した結果、原料としてテトラヒドロチオフェンジカル
ボン酸ジエステルを用い、これをハロゲン化した後に、
脱ハロゲン化水素反応を行えば、′ｓ異に、チオフェン
ジカルボン酸ジエステルが得られることを見い出した．
即ち、本発明の第１のＢＩＩは、一般式（Ｉ′）で表さ
れるチオフェンジカルボン酸ジエステルＣ式中Ｒ’　は
Ｃ１〜ＣＩ１のアルキル基、フエニル基、槍置換フェニ
ル基またはベンジル基を示す．） を製造するに際し、一般式（ｎ’）で表されるテトラヒ
ドロチオフェンジカルボン酸ジエステル（式中Ｒ゛は上
記定義と同じである。）をハロゲン化して一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される（式中ＸはαまたはＢｒを示し、Ｒ′は
上記定義と同じである．） ジハロテトラヒド口チオフェンジカルポン酸ジエステル
となし、引き続き、添加剤の存在下に脱ハロゲン化水素
反応を行うことを特徴とする一般式（１′）で表される
化合物の改良された製造方法である． （ＩＩ’）　　　　　　　　　（Ｉ［［）　　　　　　
　　　　（１’）上記反応は、Ｒ′がメチルの場合にの
み知られているが収率、品質面等で満足すべき結果は得
られていないゆ　（前掲、チェコスロバキア特許第１３
７０３２号） この原因は、ハロゲン化反応において、一部Ａロゲン原
子がエステル基を攻撃してエステル開裂等の副反応が起
きたり、脱ハロゲン化水素反応において加熱による熱層
歴のため、タール化反応が起きたりするためである． そこで本発明者らは、前記従来技術の欠点を排除するた
め鋭意検討を加えた．その結果、脱ハロゲン化水素反応
の際に、添加剤として一般式（Ｉ［ｌ）のＲ′と同じ基
を有するアルコールもしくは塩基を用いるとより温和な
条件で上記反応が進行し、収率よくチオフェンジカルボ
ン酸ジエステルが製造できることを見出した。

ハロゲン化反応はＲ′がメチル、エチルの場合、前記副
反応を抑制するためには、反応温度、ハロゲン化剤の添
加速度等反応条件に注意する必要があるが　Ｒ　ＪがＣ
，〜Ｃ，のアルキル基、フェニル基、核置換フェニル基
、ベンジル基についてはエステル開裂等による副反応が
少ないため、高収率でジハロテトラヒド口チオフェンジ
カルボン酸ジエステルを得ることができる。

ハロゲン化剤としては、塩素、臭素、塩化スルフリル、
奥化スルフリル等を用いることができ、その使用量はテ
トラヒドロチオフエンジカルボン酸ジエステルに対し、
２．０〜４．０倍モル、好まし《は２．０〜３．０倍モ
ルである。ハロゲン化剤の使用量が少なすぎると収率が
低く、逆に多すぎると副反応が起きるので前記範囲丙で
使用するのが好ましい。

ハロゲン化反応は、無溶媒あるいは溶媒の存在下で行う
ことができる．溶媒を用いる場合、特に限定されるもの
ではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン、ジクロルベンゼン等の芳香族化合物、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素等を挙げることができる．反応温度は通常−２０℃
〜４０℃の範囲であり、好ましくは、−１５℃〜３０℃
の範囲で行う．反応温度が４０℃をこえるときは副反応
のため目的物の収率は低下し、一方反応温度が−２０℃
未満のように低くても特に有利な効果を得ることはでき
ない． 脱ハロゲン化水素反応は、ジハロテトラヒド口チオフエ
ンジカルボン酸ジエステルを単に加熱するだけで進行す
る場合があるが、前記したように、添加剤の存在下に脱
ハロゲン化反応を行うとより温和な条件で、収率よく目
的物を得ることができる．添加剤として一般式（ｍ）の
Ｒ′と同じ基を有するアルコールを用いた場合、脱ハロ
ゲン化水素反応が一旦下弐で示されるジアルコキシテト
ラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエステルを経由して
進行するため、より温和な条件で目的とするチオフェン
ジカルボン酸ジエスチルが得られる。この場合にアルコ
ールのＲ′と目的物のアルキルエステル基のＲ′が同一
であれば、エステル交換反応による異なるアルキル基を
有するチオフェンジカルボン酸ジエステルの生成が無く
、純度の低下の心配がなくなり、目的とするチオフェン
ジカルボン酸ジエステルが収率よく得られる．例えば、
チオフェンジカルボン酸ジイソプ口ピルエステルを得た
い場合は、イソプロピルアルコールを添加すればよい． アルコールの添加量は、ジハロテトラヒドロチオフェン
ジカルボン酸ジエステルに対して０．２〜２０．０倍モ
ル、好ましくは２．０〜６．０倍モル使用する．使用量
が少なすぎると添加効果が認められず、多すぎてもそれ
に見合う効果がなく、有利な結果は得られない．反応温
度は５０℃〜１５０℃の範囲であり、好ましくは６０〜
１００℃の範囲で行う．反応温度が１５０℃を超える時
は、副反応のため収率が低下し、一方反応温度が５０℃
未満の時は、反応速度が実用上遅すぎるので好ましくな
い． 添加剤として塩基を用いて脱ハロゲン化水素する場合は
、例えば、水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の水酸
化アルカリ金属，トリエチルアミン，トリメチルアミン
．ピリジン等のアミン類，メトキシナトリウム．ｔ−ブ
トキシナトリウム．ｔ−ブトキシカリウム等のアルカリ
金属アルコラート等を用いる。塩基の添加量は塩基の種
類により異なるので一概にはいえないが、ジハロテトラ
ヒド口チオフェンジカルボン酸ジエステルに対し、２〜
１５倍モル、好ましくは２〜８倍モル用いる．添加量が
少なすぎると収率が低下し、逆に多すぎても特に有利な
結果は得られない． 反応温度は通常３０℃〜１００℃の範囲であり、好まし
くは５０℃〜９０℃の範囲である。反応温度が１００℃
を超えると副反応のため目的物の収率が低下し、反応温
度が３０℃未満の時は反応速度が遅くなりすぎて実用的
ではない．また反応後そのまま系内に水を入れて処理す
るとチオフエンジカルボン酸ジエステルが加水分解され
、チオフエンジカルボン酸を得ることができる．上記の
脱ハロゲン化水素反応は、無溶媒もしくは溶媒の存在下
で行う．溶媒としては特に限定されるものではなく、前
段のハロゲン化反応溶媒と同じものを用いると工業的に
有利である．以上の方法により得られたー殻式（１′）
で表されるチオフェンジカルボン酸ジエステルの物性は
、Ｒ′がメチル，エチルの場合は常温で固体であるが、
Ｒ′がＣ，〜Ｃ，のアルキルの場合はほとんど常温で液
体であり、大きく異なる．単離、精製は晶析あるいは減
圧蒸留により適宜行えばよい． 以上詳述したように、本発明の方法は、−ａ式’（　１
　’　）で表される公知の化合物を含むチオフェンジカ
ルボン酸ジエステルの改良された製造方法を提供するも
のであり、本発明の方法を実施することにより、チオフ
ェン−２．５−ジカルボン酸ジメチルエステル，チオフ
ェン−２．５−ジカルボン酸ジエチルエステル，チオフ
エン−２，５−ジカルボン酸ジーｎ−プロビルエステル
，チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｎ−ブチルエ
ステル，チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｎ−オ
クチルエステルチオフェン−２．５−ジカルボン酸ジフ
ェニルエステル等の公知の化合物を従来法よりも簡単な
工程で収率よく得ることができる， 本発明の方法のさらにすぐれた特徴は、原料を選ぶこと
により、多くの新規なチオフエンジカルボン酸ジエステ
ルを製造できる点にある．即ち本発明の第２の態様は、
上記方法により得られた一般式（１） （式中ＲはＣ，〜Ｃ．の非直鎖アルキル基、核置換フェ
ニル基またはベンジル基を示す．）で表される新規なチ
オフェンジカルボン酸ジエステルである． これらの例としては チオフェン−２，５−ジカルボン酸ジーｉｓｏ−プロビ
ルエステル．チオフェン−２、５−ジカルボン酸ジーｉ
ｓｏ−ブチルエステル，チオフエン−２，５−ジカルボ
ン酸ジーｓｅｃ−ブチルエステル．チオフエン−２．５
−ジカルボン酸ジーｔａｒｔ−ブチルエステル，チオフ
ェン−２．５−ジカルボン酸ジーｓｅｅ−ヘキシルエス
テル．チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｔｅｒｔ
−アミルエステル．チオフェン−２，５−ジカルポン酸
ジ−ｍ−クレジルエステル，チオフェン−２．５−ジカ
ルボン酸ジーＰ−クロルフエニルエステル，チオフエン
−２．５−ジカルボン酸ジベンジルエステル等が挙げら
れる． 前掲のチェコスロバキア特許第１３７０３２号には、一
般式（１）におけるＲがＣ，〜Ｃ８の直鎖または分岐し
たアルキルを持つチオフェンジカルボン酸ジエステルの
製法が開示されているが、実施例にはＲがメチルの場合
のみが例示されており、他のアルキルについての記載は
一切ない。前述したように、Ｒがメチルの場合、即ちチ
オフェンジカルボン酸ジメチルエステルは常温で固体で
、その融点は１４９〜１５０℃であり、チオフェンジカ
ルボン酸ジエチルエステルでは、その融点は５１〜５２
℃ある． 一方、本願発明の一般式（１）で表されるチオフェンジ
カルボン酸ジエステルの物性については従来知られてい
ない． 因みに、本発明者らはＣ，〜Ｃ０の非直鎖のアルキル基
を持つチオフェンジカルボン酸ジエステルのほとんどが
、常温で液体であることを見出した。

さらに反応面においては、本発明のチオフェンジカルボ
ン酸ジエステルは、前記のチオフェンジカルボン酸ジメ
チルエステルまたはジエチルエステルを用いる場合に比
べて、例えばアミン類と反応させて酸アミドを合成する
場合、より温和な条件で収率よく目的物を得ることがで
きる。

次に前述したチオフェンジカルボン酸ジエステルを製造
する際の原料として用いるテトラヒドロチオフェンジカ
ルボン酸ジエステルの製造方法ならびに新規な該ジエス
テルについて述べる。すなわち、本発明の第３のＢ様は
、一般式（■′）（弐中Ｒ゛ばＣ１〜Ｃ，のアルキル基
、フエニル基、核置換フェニル基、またはベンジル基を
示す．） で表されるテトラヒドロチオフエンジカルボン酸ジエス
テルを製造するに際し、一般式（ＩＶ）（式中Ｘはａま
たはＢｒを示し、Ｒ゛は上記定義と同じである．） で表されるα．α′−ジハロアジピン酸ジエステルと無
機硫化塩とを水不溶性溶媒と水からなる２相系溶媒中で
反応させることを特徴とする一喰式（■′）で表される
化合物の製造方法である。

（ＩＶ）　　　　　　　　　　　　　（Ｉ！’）従来、
上記反応は、前記の如く公知であり、エタノール、アセ
トン等の溶媒中で行われているが、副反応のため、目的
物を収率よく得ることは困難である．例えば、Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ．　Ｊ．　ｖｏｌ　７　ＩｌｋＬ１　７　２〜７
８（１９７５）にはα，α′−ジブロモアジビン酸ジエ
チルエステルと硫化ナトリウムをエタノール溶媒中で反
応させ、テトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエチル
エステルを得る方法が記載されているが、その収率は３
３％にすぎない。

この原因は、無機硫化塩がテトラヒドロチオフェン環の
形成反応以外に、置換アルキルエステル基と反応し、加
水分解反応を起こすためである．特にこの傾向はＲ′が
メチルやエチルのような低級アルキルエステル基の場合
に顕著である．そこで本発明者らは、上記副反応を抑え
るべく種々検討した結果、上記エタノールあるいはアセ
トンの〜ような水溶性均一溶媒に代えて、水不溶性溶媒
と水とからなる２相系溶媒を用いたところ、以外にも副
反応が抑制され、目的物が収率よく得られることを見出
した． このような好結果が得られたことの原因は詳らかではな
いが、テトラヒドロチオフェン環の形成反応が起こるオ
イル相で副生じた無機塩が逐次水相に移行するため、上
記環化反応が円滑に進行するものと考えられる．さらに
Ｒ′がＣ３以上のアルキル基、フェニル基、核置換フェ
ニル基、またはベンジル基では驚くべきことに副反応は
殆ど起こらず、目的物のみをほぼ定量的に得ることがで
きる． 水相に移行した無機塩は、単に分液するだけで除くこと
が可能で、従来法において行われていたＳ縮、炉遇等の
煩雑な操作が不要となるため、反応後の後処理工程にお
いても大巾な簡略化が可能となる． 前記反応で用いる、−ａ式（ＩＶ）で表されるα，α′
−ジハロアジピン酸ジエステルは、例えばＯｒｇ．　　
Ｓｙｎ．　ｃｏｌｆ．　ｖｏｌ　　ｍ　Ｐ６　２　３に
記載されているように、アジビン酸を塩化チオニル等で
アジビン酸ジクロライドとなし、引き続きハロゲン化し
、さらにエステル化することにより容易に得られる。

かかる化合物の具体例としては、 α，α′−ジクロロアジビン酸ジメチルエステル、α．
α′−ジブロモアジピン酸ジエチルエステル、α，α′
−ジクロロアジピン酸ジイソプロピルエステル、α，α
′−ジクロ口アジピン酸ジーｓｅｃ−ブチルエステル、
α．α′−ジブロモアジビン酸ジーｔｅｒ　ｔ−プチル
エステル、α，α′−ジクロロアジピン酸ジーｎ−オク
チルエステル、α，α′−ジクロロアジビン酸ジーｍ−
クレジルエステル、α，α′−ジクロロアジビン酸ジベ
ンジルエステノレ 等を挙げることができる． 無機硫化塩としては、硫化ナトリウム、硫化カリウム、
硫化アンモニウム、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム
等を用いることができるが、特に、硫化アルカリ金属塩
、就中硫化ナトリウムを用いると好結果が得られる． 前記２相系溶媒に用いられる水不溶性溶媒としては、通
常、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、トリクロルベンゼン等の芳香族炭化
水素溶媒、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素溶媒を用いる．ｔｌｔ中、トル
エン、キシレン、クロルベンゼン、クロロホルムを用い
ると好結果が得られる． 無機硫化塩の使用量は、α．α′−ジハロアジピン酸ジ
エステルに対して１．０〜４．０倍モル好ましくは１．
０〜３．０倍モルである．無機硫化塩の使用量が少なす
ぎると収率が低く、逆に多すぎると副反応が起こるので
前記範囲内で使用するのが好ましい． また前記２相系溶媒に用いられる水の量は、副生ずる無
機塩を溶解するに足りる量が必要であり、原料であるα
．α′−ジハロアジピン酸ジエステル１モルに対しＩＯ
〜１００倍モル使用する．水不溶性溶媒の使用量は、原
料であるα，α′−ジハロアジピン酸ジエステルを溶解
するに足りる量が必要であり、その量は、水ｌ容に対し
、０．　１〜１０容用いるのが好ましい．使用する水の
量が０．　１容より少ないと塩の析出のため反応がスム
ーズに進まず、逆に１０容より多すぎると容積効率が悪
《なるため好ましくない． 前記、水不溶性溶媒と水の２相系溶媒に相関移動触媒を
添加するとさらに良好な結果が得られる場合が多い。相
間移動触媒としては、特に限定されるものではないが、
ラウリルトリメチルアンモニウム塩、アルキルジメチル
ベンジルアンモニうム塩（ペンザルコニウム塩）等に代
表される第４級アンモニウム塩、ヘキサデシルトリブチ
ルホスホニウム塩等に代表されるリン系化合物等を用い
ることができる．特に第４級アンモニウム塩、就中、ア
ルキル基がＣ＋＊−Ｃ＋＊であるペンザルコニウム塩を
用いると短時間で反応を完結することができる．相関移
動触媒の添加量は特に限定されるものではないが、通常
ジハロアジピン酸ジエステルに対し、５重量％で十分で
ある． 反応温度は通常１０℃〜１００℃の範囲であり好ましく
は、２０℃〜６０℃の範囲である。反応温度が１００℃
を超えると副反応のため目的物の収率が低下し、反応温
度が１０℃未満のときは、実用上反応速度が遅すぎる． 以上の反応により得られるテトラヒド口チオフェンジカ
ルボン酸ジエステルは、減圧蒸留等により単離精製する
ことが可能であるが、目的によってはことさら単離する
ことなく次反応に用いることも可能である。

上記反応を利用することにより、多くの新規なテトラヒ
ド口チオフエンジカルボン酸ジエステルを合成すること
ができる．即ち本発明の第４の態様は一殼式（ｎ）で表
される新規なテトラヒド口チオフェンジカルボン酸ジエ
ステルである。

（式中Ｒ″は０３〜Ｃ８のアルキル基、フェニル基、核
置換フェニル基、またはベンジル基を示す．） かくして得られた新規化合物の具体例としてはテトラヒ
ド口チオフェン・２．５−ジカルボン酸ジーｉｓｏ−プ
ロビルエステル、テトラヒドロチオフェン−２，５−ジ
カルボン酸ジーｎ−プロビルエステル、テトラヒド口チ
オフェン・２，５−ジカルボン酸ジーｎ−ブチルエステ
ル、テトラヒドロチオフェン−２．５−ジヵルボン酸ジ
ーｉｓｏ−ブチルエステル、テトラヒド口チオフエン−
２，５−ジカルボン酸ジーａｅｃ−ブチルエステル、テ
トラヒドロチオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｔｅ
ｒｔ−ブチルエステル、テトラヒドロチオフェン−２．
５−ジカルボン酸ジーｉｓｏ−アミルエステル、テトラ
ヒドロチオフェン＝２，５−ジカルボン酸ジーｎ−オク
チルエステル、テトラヒドロチオフエン−２，５−ジカ
ルボン酸ジーフェニルエステル、テトラヒドロチオフェ
ン−２．５−ジカルボン酸ジーｍ−クレジルエステル、
テトラヒド口チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジベン
ジルエステル等を挙げることができる。

以上述べた本発明の方法、及び新規化合物を利用して、
例えば化学合成用中間体として有用なチオフェンジカル
ボン酸を次のような方法で製造することができる． （■） （■　′） （ＩＩＩ） （■　′） 一般弐（Ｉ′）で表されるチオフェンジカルボン酸ジエ
ステルの加水分解反応は特に限定されるものではなく、
通常のアルカリまたは酸触媒下における加水分解反応に
より容易にチオフェンジカルボン酸を得ることができる
。

尚、以上説明した本発明で用いられる一般式（Ｉｆ），
　　（ｎ’）．　　（１）．　　（Ｎ）の化合物には、
異性体としてｄｌ体とｍｅｓｏ体が存在ｔるが、本発明
で得られる一般式（ＩＩ）　　（Ｔｌ’），　　（ＩＩ
Ｉ）（ＩＶ）の化合物はこれらの混合物を意味するもの
である。

（実施例） 以下実施例により本発明をさらに詳細に説明する． 実施例１ （チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｎ−ブチルエ
ステルの合成） テトラヒド口チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジーｎ
−ブチルーエステルを塩素化し、引き続き添加剤として
エステルと同じブチル基を有するブチルアルコールの存
在下で、脱塩化水素反応させることによりチオフエンジ
カルボン酸ジーｎ−ブチルエステルを得た．すなわち、
攪拌機、温度計、ガス吹込管および冷却器を備えた３　
０　０ｄ４ツロフラスコに、後述の実施例２０で得られ
たテトラヒド口チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジー
ｎ−ブチルエステル２８．８ｇ（０．１０モル）および
クロルベンゼン１００−を仕込み、攪拌下、−１０℃〜
−５℃にて塩素１　４．９　ｇ　（０．２　１モル〉を
１時間で導入した．その後同温度で１時間熟成し、塩素
化反応を行った。添加剤として、ｎ−ブタノール８０ｇ
（１．０８モル）を加え、８０℃にて６時間攪拌し、脱
塩化水素反応を行った．反応終了後、減圧下にｎ−ブタ
ノールおよびクロルベンゼンを留去し、残留物を減圧蒸
留することにより、無色の液体であるチオフェン−２，
５−ジカルボン酸ジーｎ−ブチルエステル２　６．　５
　ｇを得た．テトラヒド口チオフェン−２．５−ジヵル
ボン酸ジーｎ−ブチルエステルに対する収率は、９３．
３％であった． 実施例２〜ｌ２ 第１表に示すテトラヒド口チオフェンジカルボン酸ジエ
ステル（０．１０モル）、反応溶媒（１　０　０一》、
ハロゲン化剤（０．２１モル）を用い、添加剤としての
アルコールの種類、使用量を変えた以外は、実施例１と
同様な操作を行い、目的物が液体のものは減圧蒸留によ
り単離し、固体のものは、反応終了後が遇、精製するこ
とによりチオフェンジカルボン酸ジエステルを得た。結
果を表１に示した． 又、アルコールを添加しない場合の結果を比較例１〜２
に示した． 尚、実施例１〜１１により得られたチオフエンジカルボ
ン酸ジエステルの物性値を第２表に示した．実施例１３ （チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジエチルエステル
の合成） テトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエチルエステル
を塩素化し、引き続き添加剤としてトリエチルアミンの
存在下で、脱塩化水素反応させることによりチオフェン
ジカルボン酸ジエチルエステルを得た。すなわち、撹拌
機、温度計、ガス吹込管および冷却器を備えた３　０　
０Ｉ！１４ツロフラスコに、後述の実施例２８で得られ
たテトラヒドロチオフエン−２．５−ジカルボン酸ジエ
チルエステル２３．２ｇ（０．１０モル）およびクロル
ベンゼンｌｏｏｍを仕込み、撹拌下、−１０℃〜−５゜
Ｃにて塩素１　４．９　ｇ　（０．２　１モル）を１時
間で導入した．その後同温度で１時間熟成し、塩素化反
応を行ウた． 添加剤として、トリエチルアミン４０．４ｇ（０．４０
ギル）を滴下し、５０゜Ｃ〜６０”Ｃで２時間撹拌し、
脱塩化水素反応を行った．副生じたトリエチルア毅 ミン塩駕塩を水洗により除去し、過剰のトリエチルアミ
ンおよび溶媒を留去し、残留物にエタノールを加えた．
析出した白色結晶を炉取することにより、チオフェン−
２．５−ジカルポン酸ジエチルエステル１　８．　４　
ｇを得た． テトラヒド口チオフェン−２，５−ジカルボン酸ジエチ
ルエステルに対する収率は、８０．７％であった． 実施例１４ （チオフェン−２，５−ジカルボン酸ジーｉｓｏ−プロ
ビルエステルの合成） テ１・ラヒドロチオフェン−２．５−ジカルボン酸ジー
ｉｓｏ−プロビルエステルを塩素化し、引き続き添加剤
として水酸化ナトリウムの存在下で、脱塩化水素反応さ
せることによりチオフエン−２，５一ジカルボン酸ジー
Ｌｓｏ−プロビルエステルを得た．すなわち、撹拌機、
温度針、ガス吹込管および冷却器を備えた１００ｄ４ツ
ロフラスコに、後述の実施例１７で得られたテトラ１ニ
ド口チオフエンー２，５−ジカルボン酸ジーｉｓｏ〜プ
ロビルエステル２６．０ｇ（０．１０モル）を仕込み、
撹拌下−１０゜Ｃ〜−５゜Ｃにて塩素１４．９ｇ（０．
２１モル）を１時間で導入した。その後同温度で１時間
熟成し、塩素化反応を行った。水５ｇを加えた後、固体
の水酸化ナトリウム１６ｇ（０．４０モル）を徐々に加
え、さらに５０゜Ｃ〜６０℃で３時間撹拌し、説塩化水
素反応を行った． その後、クロロホルムおよび水を加え、クロロホルム溶
液を十分水洗したのち、クロロホルムを留去し、残留物
を減圧蒸留した。

無色透明の液体であるチオフエン−２，５−ジカルホン
酸ジーｉｓｏ−プロビルエステル２　０．　１　ｇを得
た。テトラヒドロチオフエン−２，５−ジカルボン酸ジ
ーｉｓｏ−プロビルエステルに対する収率は、７８．５
％であった． 実施例１５ （テ１・ラヒドロチオフエン−２．５−ジカルボン酸ジ
ーｎ−プロビルエステルの合成） 冴，α′−ジブロモアジピン酸ジーｎ−プロビルエステ
ルと硫化ナトリウムとを水不溶性溶媒と水とからなる２
相系溶媒中で反応させることにより、テ１・ラヒドロチ
オフエン−２，５−ジカルボン酸ジ−ｎ−プロビルエス
テルを得た．水不溶性溶媒としてはクロルベンゼンを用
い、クロルベンゼン／水−１（容積比）で反応を行った
。すなわち、撹拌機、温度計、滴下ロートおよび冷却器
を備えた３００ｔ！容量４ツロフラスコにα，α′−ジ
ブロモアジビン酸ジーｎ−プロビルエステル３８．８ｇ
ｃｏ．ｉｏモル）、クロルベンゼン１００ｄおよび相間
移動触媒としてペンザルコニウムクロライド（Ｃ＋ａ８
０％以上）０．３ｇを仕込み、撹拌下これに６０％市販
硫化ナトリウム１３．６５ｇ（０．１０５モル）を水１
００−に溶解した溶液を４０゜Ｃ〜５０゛Ｃの範囲で１
時間を要して滴下し、さらに同温度で２時間撹拌した．
その後分液し、クロルベンゼン溶液を水洗、乾燥後、減
圧下にクロルベンゼンを留去し、残留物を減圧蒸留した
．無色の液体であるテトラヒド口チオフエン−２．５−
ジカルボン酸ジーｎ−プロビルエステル２２．９ｇを得
た。

α．α′−ジブロモアジビン酸ジｎ−プロビルエステル
に対する収率は、８８．１％であった。

実施例１６〜２８ 第３表に示すα．α′−ジハロアジピン酸ジエステル（
０．１０モル）、無機硫化塩（０．１０５モル）、相間
移動触媒（０．３ｇ）を用い、水不溶性溶媒の種類と水
不溶性溶媒／水の容積比を変えた以外は、実施例ｌ５と
同様な操作を行い、目的物が液体のものは、減圧蒸留に
より単離し、固体のものは、反応終了後水不溶性溶媒を
濃縮した後、残留物を常法により精製し、目的物を得た
。

結果を第３表に示した。

尚、実施例１５〜２５．２８により得られたテトラヒド
ロチオフェンジカルボン酸ジエステルの物性値を第４表
に示した。

比較例−３ （テトラヒドロチオフェン−２．５−ジカルボン酸ジメ
チルエステルの合成） α．α′−ジブロモアジビン酸ジメチルエステルと硫化
ナトリウムとを均一系溶媒で反応させることにより、テ
トラヒドロチオフェン−２，５−ジカルボン酸ジメチル
エステルを得た。すなわち、撹拌機、温度計、滴下ロ一
トおよび冷却器を備えた５００ａＺ容Ｉ４ツロフラスコ
に、α，α′−ジプロモアジピン酸ジメチルエステル３
３．２ｇ（０．１０モル）、メタノール１００＠Ｉを仕
込み、撹拌下これに６０％市版硫化ナトリウム１３．６
５ｇ（０．１０５モル）をメタノール２００−に溶解し
た溶液を４０゛Ｃ〜５０℃の範囲で１時間を要して滴下
し、さらに同温度で２時間撹拌した．その後、減圧下に
メタノールを留去し、残留分に酢酸エチルおよび水を加
え、酢酸エチル溶液を水洗、乾燥後、減圧下に酢酸エチ
ルを留去し、゛残留物を減圧蒸留した．無色の液体であ
るテトラヒド口チオフェン−２．５−ジカルボン酸ジメ
チルエステル１１．５ｇを得た．α，α′−ジブロモア
ジビン酸ジメチルエステルに対する収率は、５６．４％
であった． （発明の効果）

Claims (37)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ′） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （式中Ｒ′はＣ＿１〜Ｃ＿３のアルキル基、フェニル基
   、核置換フェニル基またはベンジル基を示す。） で表されるチオフェンジカルボン酸ジエステルを製造す
   るに際し、 一般式（II′） ▲数式、化学式、表等があります▼（II′） （式中Ｒ′は上記定義と同じである。） で表されるテトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエス
   テルをハロゲン化して 一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中ＸはＣｌまたはＢｒを示し、Ｒ′は上記定義と同
   じである。） で表されるジハロテトラヒドロチオフェンジカルボン酸
   ジエステルとなし、引き続き添加剤の存在下に脱ハロゲ
   ン化水素反応させることを特徴とする一般式（ I ′）
   で表されるチオフェンジカルボン酸ジエステルの製造方
   法。
2. （２）ハロゲン化温度が−１５〜３０℃である請求項（
   １）記載の方法。
3. （３）脱ハロゲン化水素反応の際に用いられる添加剤が
   一般式（II′）で示したＲ′と同じ基を有するアルコー
   ルである請求項（１）記載の方法。
4. （４）アルコールの添加量が、ジハロテトラヒドロチオ
   フェンジカルボン酸ジエステルに対して０．２〜２０．
   ０倍モルである請求項（３）の記載の方法。
5. （５）脱ハロゲン化水素反応の際に用いられる添加剤が
   塩基である請求項（１）記載の方法。
6. （６）塩基の添加量がジハロテトラヒドロチオフェンジ
   カルボン酸ジエステルに対して２〜１５倍モルである請
   求項（５）記載の方法。
7. （７）塩基が水酸化アルカリ金属である請求項（５）記
   載の方法。
8. （８）水酸化アルカリ金属が水酸化ナトリウムである請
   求項（７）記載の方法。
9. （９）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中ＲはＣ＿３〜Ｃ＿８の非直鎖アルキル基、核置換
   フェニル基またはベンジル基を示す。）で表されるチオ
   フェンジカルボン酸ジエステル。
10. （１０）Ｒがイソプロピル基である請求項（９）記載の
    化合物。
11. （１１）Ｒがｉｓｏ−ブチル基である請求項（９）記載
    の化合物。
12. （１２）Ｒがｓｅｃ−ブチル基である請求項（９）記載
    の化合物。
13. （１３）Ｒがｔｅｒｔ−ブチル基である請求項（９）記
    載の化合物。
14. （１４）Ｒがクレジル基である請求項（９）記載の化合
    物。
15. （１５）Ｒがベンジル基である請求項（９）記載の化合
    物。
16. （１６）一般式（II′） ▲数式、化学式、表等があります▼（II′） （式中Ｒ′はＣ＿１〜Ｃ＿３のアルキル基、フェニル基
    、核置換フェニル基またはベンジル基を示す。） で表されるテトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエス
    テルを製造するに際し、 一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中ＸはＣｌまたはＢｒを示し、Ｒ′は上記定義と同
    じである。） で表されるα，α′−ジハロアジピン酸ジエステルと無
    機硫化塩とを水不溶性溶媒と水からなる２相系溶媒中で
    反応させることを特徴とする一般式（II′）で表される
    化合物の製造方法。
17. （１７）無機硫化塩の使用量が、α，α′−ジハロアジ
    ピン酸ジエステルに対し１．０〜４．０倍モルである請
    求項（１６）記載の方法
18. （１８）無機硫化塩が硫化アルカリ金属塩である請求項
    （１６）記載の方法。
19. （１９）硫化アルカリ金属塩が硫化ナトリウムである請
    求項（１８）記載の方法。
20. （２０）水不溶性溶媒が芳香族炭化水素である請求項（
    １６）記載の方法。
21. （２１）芳香族炭化水素溶媒がトルエン、キシレン、ク
    ロルベンゼンからなる群より選ばれたものである請求項
    （２０）記載の方法。
22. （２２）水不溶性溶媒がハロゲン化炭化水素である請求
    項（１６）記載の方法。
23. （２３）ハロゲン化炭化水素がクロロホルムである請求
    項（２２）記載の方法。
24. （２４）相間移動触媒の存在下に反応を行う請求項（１
    ６）記載の方法。
25. （２５）相間移動触媒が第４級アンモニウム塩である請
    求項（２４）記載の方法。
26. （２６）第４級アンモニウム塩がアルキルジメチルベン
    ジルアンモニウム塩である請求項（２５）記載の方法。
27. （２７）アルキルジメチルベンジルアンモニウム塩のア
    ルキル基がＣ＿１＿２−Ｃ＿１＿３である請求項（２６
    ）記載の方法。
28. （２８）２相系溶媒における水不溶性溶媒／水の比が容
    積比で、０．１〜１０であり、水の使用量がα，α′−
    ジハロアジピン酸ジエステルに対し、１０〜１００倍モ
    ルである請求項（１６）記載の方法。
29. （２９）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒ″はＣ３〜Ｃ８のアルキル基、フェニル基、核
    置換フェニル基またはベンジル基を示す。） で表されるテトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエス
    テル。
30. （３０）Ｒ″がイソプロピル基である請求項（２９）記
    載の化合物。
31. （３１）Ｒ″がｉｓｏ−ブチル基である請求項（２９）
    記載の化合物。
32. （３２）Ｒ″がｓｅｃ−ブチル基である請求項（２９）
    記載の化合物。
33. （３３）Ｒ″がｔｅｒｔ−ブチル基である請求項（２９
    ）記載の化合物。
34. （３４）Ｒ″がｎ−オクチル基である請求項（２９）記
    載の化合物。
35. （３５）Ｒ″がフェニル基である請求項（２９）記載の
    化合物。
36. （３６）Ｒ″がクレジル基である請求項（２９）記載の
    化合物。
37. （３７）Ｒ″がベンジル基である請求項（２９）記載の
    化合物。