JPH02244144A - 無水平版印刷用ps印刷版 - Google Patents

無水平版印刷用ps印刷版

Info

Publication number
JPH02244144A
JPH02244144A JP2011674A JP1167490A JPH02244144A JP H02244144 A JPH02244144 A JP H02244144A JP 2011674 A JP2011674 A JP 2011674A JP 1167490 A JP1167490 A JP 1167490A JP H02244144 A JPH02244144 A JP H02244144A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
silicone rubber
plate according
trihalogenomethyl
rubber layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011674A
Other languages
English (en)
Inventor
Heinz Herrmann
ハインツ、ヘルマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Publication of JPH02244144A publication Critical patent/JPH02244144A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/075—Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、無水(water−f’ree)平版印刷、
特にオフセット印刷用P S (presensltl
zed)印刷版に関する。本発明に係る印刷版は、基材
、放射線または光によって硬化できるシリコーンゴム層
および所望ならば非接着性トップシートまたはトップ層
を有する。
〔発明の背景〕
前記種類の印刷版は、既知である。このように、DE−
A第2,207.495号明細書は、感光性層が露光に
よって架橋される不飽和重合性または架橋性側鎖を有す
るオルガノポリシロキサンを含有する平版印刷版を記載
している。層の未露光部は、有機溶剤で洗い流すことに
よって除去している。版は、層の露光部がしばしば十分
にはインキ反発性ではなく且つ未露光部が粘着性である
という不利を有する。DE−A第2.422.428号
明細書に記載のように、増感剤を層に加えて光感度を増
大するならば、増感剤は、しばしばシリコーンゴムと不
相容性である。
この理由で、ベンゾフェノン基が配合されているポリオ
ルガノシロキサンは、EP−B第88゜842号明細書
において同じ目的で使用されている。これらの化合物は
、より良い相容性を有する層を与えるが、その光感度お
よびインキ反発挙動は、最適ではない。
DD−A第225,670号明細書は、ポリジアルキル
シロキサンジオール、テトラアルコキシシランおよび光
開始剤と補助開始剤との組み合わせを含む光架橋性層を
有する同様の平版印刷版を記載している。使用されてい
る光開始剤は、ベンゾフェノン化合物またはベンゾイン
エーテルであり且つ使用されている補助開始剤は、オニ
ウム化合物または有機ハロゲン化合物、例えば、α−ク
ロロテトラフルオロプロピオン酸基である。この版は、
非常に長い露光時間を必要とする。
〔発明の概要〕
本発明の目的は、長い貯蔵寿命および不粘着性表面との
組み合わせで高い光感度を有し且つ水分の不在下で高い
永久インキ反発性を有する非画線部を含有する印刷版を
与える無水平版用PS印刷版を提供することにある。
本発明によれば、基材および光硬化性シリコーンゴム層
を有する無水平版用PS印刷版が提案される。
本発明に係る印刷版は、シリコーンゴム層が室温で架橋
できる二成分シリコーンゴムおよび感光性トリハロゲノ
メチル化合物を含有することを特徴とするものである。
本発明に係る印刷版に含有されるトリハロゲノメチル化
合物に存在するハロゲン原子は、一般に、塩素または臭
素原子、好ましくは塩素原子である。
化合物は、好ましくは、不揮発性であり且つ好ましくは
芳香環または複素環式環に結合された少なくとも2個の
トリハロゲノメチル基を含有する。
更に他の置換基、好ましくは芳香族置換基を有するモノ
−またはビス(トリクロロメチル)−5−トリアジンが
、特に好ましい。
好適なトリハロゲノメチル化合物は、米国特許節3,7
79,778号明細書、第3,954゜475号明細書
、第4.239.850号明細書、DE−A第2,71
8,259号明細書、第2゜934.758号明細書お
よび欧州特許出願第135.863号明細書および第1
37,452号明細書に記載されている。2−アリール
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン
、特に欧州特許出願第137.452号明細書に記載の
化合物が、好ましい。
これらの化合物の例は、1−エチル−2−(p−トリク
ロロメチルベンゾイルメチレン)ベンゾチアゾリン、1
−メチル−2−(3,5−ビス(トリクロロメチル)ベ
ンゾイルメチレン〕ベンゾチアゾリン、1,3.3−ト
リメチル−2−(3−トリクロロメチルベンゾイルメチ
レン)インドリン、2−スチリル−12−ナフト−1−
イル−12−ナフト−2−イル−12−(4−エトキシ
ナフト−1−イル)−12−フエナントルー9−イルー
12−アセナフト−5−イル−12−ビフェニル−4−
イル−12−(4−スチリルフェニル)−12−C4−
(3,4−ジメトキシスチリル)フェニル〕−12−(
4−p−クロロスチリルフェニル)−および2−(2−
スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル
)−8−トリアジンである。
トリハロゲノメチル化合物は、通常、2成分シリコーン
ゴムの量に対して0.1〜30、好ましくは1〜10重
量%の量で加える。
本発明の文脈およびノル、「ヘミ−・ラント・テクノロ
ジm−デルQシリコーン(Che■ie undTec
hnologle der 5lllkona) J 
 (シリコーンの化学およびテクノロジー)、フエルラ
ーゲ・ヘミ−1968、第332頁による定義によれば
、高分子量の実質上線状のポリジオロガノシロキサンは
シリコーンゴムと呼ばれる一方、加硫シリコーンゴムな
る名前は架橋または加硫生成物のために使用される。好
適なシリコーンゴムは、末端OH基を有するポリジアル
キルシロキサン(架橋性RTV−2シリコーンゴムの縮
合による)およびアルケニル基を有するポリジアルキル
シロキサン(架橋性RTV−2シリコーンゴムへの付加
による)である。2つの種類の混合物の使用も、可能で
ある。好ましくは、ポリジメチルシロキサンジオールが
、使用される。メチル基の20%までは、他のアルキル
基、ハロゲノアルキル基で置換でき、または非置換また
は置換フェニル基でさえ置換することもできる。
使用するシリコーンゴムは、化学線の照射によってトリ
ハロゲノメチル化合物の存在下で架橋する(通常の架橋
剤は不在であることもできる)。
しかしながら、架橋反応は、架橋補助剤の存在下で高度
に加速される。
好適な架橋用補助剤は、成るシランをベースとするシリ
コーンゴム架橋剤である。5it(を有するビニルトリ
アセトキシシラン、テトラエトキシシランおよびオリゴ
マーポリジアルキルシロキサンが、特に好都合である。
一般に、シリコーンゴムの量に対して1〜100、好ま
しくは10〜50重量%の架橋補助剤が、使用される。
層の成分のために使用する溶媒は、芳香族炭化水素、ハ
ロゲン化炭化水素および/またはエステルである。溶液
は、限定量の他の有機溶媒も含有できる。溶液の濃度は
、被覆法および所望の層厚に依存し且つ通常固形分3〜
30重−%の範囲内である。
シリコーンゴム層は、更に他の添加剤を含有できる。機
械的性質を改良し且つ粘着性および未硬化ゴム層の低温
流れを減少するために、補強充填剤、例えば、高分散シ
リカおよび/または相容性重合体は、被覆溶液に配合で
きる。添加剤は、ポリシロキサンの量の約30%を超え
るべきではない。その理由は、そうでなければ加硫シリ
コーンゴム層の不粘着性が悪影響されるからである。
層は、化学線を吸収しないか弱くのみ吸収し且つ現像液
によって洗い流されない染料または顔料によって着色で
きる。
層の光感度は、1,3−ジフェニルイソベンゾフラン、
酸素による光重合の抑制を排除することができる物質を
加えることによって増大できる(S、  C,デツカ−
等、Photographic Sci、a。
Engg、23.  (1979)第137頁〕。ジフ
ェニルイソベンゾフランの添加量は、シリコーンゴムの
量に対して0.1〜10、好ましくは1〜4重量%であ
る。
シリコーン層の厚さは、臨界的ではない。層厚は、少な
くとも基材のすべてのむらのある場所が覆われ且つ硬化
画像が印刷法に十分な機械的安定性を有するようなもの
でなければならない。層厚は、未架橋場所の除去を現像
時に困難にさせ且つブレのある画像を生ずる程厚くては
ならない。−般に、単位面積当たりの層の重量は、1〜
30g/rd”、好ましくは2〜Log/rr?である
。
未露光未硬化シリコーンゴム層は、しばしば軟質であり
且つ若干粘着性である。フィルム原稿が複写プロセス時
に汚れるようにならないこと、および原稿が容易にスラ
イドできることを保証させるために、層は、不粘着性透
明フィルムで覆う。
第−法は、ローリングによってプラスチック薄膜、例え
ば、ポリエチレンまたはポリエチレンテレフタレートフ
ィルムを適用することからなる。フィルムの厚さは、接
触露光でブした画像の形成を回避することが可能である
程薄くなければならない。
非常に好適なフィルムは、厚さ5〜15μmを有する。
画像を現像する前に、現像液に不溶性であるフィルムは
、除去する。
第二法は、シリコーンゴム層を不粘着性重合体薄膜(こ
れは別個の支持体シートのトップ上に配置される)と積
層することからなる。支持体シートは、露光前に除去す
る。不粘着性重合体薄膜、例えば、ポリアミドフィルム
が現像液に可溶性であるならば、現像前に除去するには
及ばない。しかしながら、現像液に不溶性であるフィル
ムは、引くか溶解することによって予め除去しなければ
ならない。水溶性重合体フィルム、例えば、ポリビニル
アルコールフィルムは、現像前に水で容易に洗い流すこ
とができる。不粘着性重合体フィルムの厚さは、有利に
は0.5〜15μmである。
更に他の好ましい方法は、このシリコーンゴム層を不粘
着性重合体の溶液で被覆することからなる。溶液を調製
するためには、被覆物を適用した時にシリコーン層を溶
解し去らない溶媒が、使用されなければならない。特に
単純なC1〜C4アルカノールまたはそれらの混合物が
、好適である。
それらは、必要ならば使用する重合体を溶解するために
少量の他の有機溶媒を含有できる。好適な重合体の例は
、ポリアミドおよびポリビニルピロリドンである。溶液
が不粘着性シリコーンゴム層を均一に濡らすことを保証
させるために、少量の湿潤剤、例えば、フルオロ界面活
性剤は、有利には溶液に加える。好ましくは、低い酸素
透過を有する不粘着性重合体が、使用される。酸素は、
露光時にポリシロキサンの架橋を遅延する。不粘着性ト
ップ層の厚さは、0.3〜10、好ましくは0.5〜3
μmの範囲内である。
印刷の準備ができた平版印刷版は、フィルム原稿下で露
光し、現像することによって感光材料から得られる。
露光に好適な光源の例は、水銀ランプ、カーボンアーク
ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ネオ
ン管ランプ、レーザー機器、電子ビーム管および他の既
知の光源である。
現像、即ち、印刷版支持体からの層の未硬化部の除去は
、脂肪族、芳香族またはハロゲン化炭化水素、エステル
またはエーテルで実施できる。ケトンおよび/またはア
ルコールとの混合は、しばしば好都合である。有利には
、脂肪族炭化水素とアルコールとの混合物が、使用され
る。
現像液は、基材の露光表面を着色するための着色剤、例
えば、クリスタルバイオレット0.01〜0.5%を含
有できる。
加硫シリコーンゴムからなる不粘着性非画線部を強化す
るために、印刷版は、追加的に後露光するか、後加熱す
るか、シリコーンゴムの架橋を促進する物質で後処理す
ることができる。ポリジアルキルシロキサンジオールを
含有する層の場合には、例えば、有機スズ化合物、染料
ベース、例えば、クリスタルバイオレットベースまたは
塩基性物質は、後処理のために使用できる。使用できる
有機スズ化合物は、例えば、ジブチルスズジアセテート
、ジブチルスズジラウレートおよびジブチルジメトキシ
スズであり且つ好適な塩基性添加剤は、例えば、尿素、
ヘキサメチレンテトラミンおよびアミン、例えば、トリ
エタノールアミンまたはイソホロンジアミンである。現
像および化学後処理は、有利には同じプロセス工程で実
施することもできる。
硬化反応の機構は、既知ではない。トリハロゲノメチル
化合物の光分解で形成される遊離基または陽子は、シリ
コーンゴムの官能基との架橋反応を生ずると仮定される
。
下記例を参照して、本発明の詳細な説明する。
重量部(pbw)は、gがmlに関係するように容量部
(p b v)に関係する。相対量および%は、特に断
らない限り、重量単位である。印刷版を製版し、黄色光
下で現像した。
例1 電解的に粗面化された陽極処理アルミニウムシートをス
ピニングプレート(125rpm)によって下記シリコ
ーンゴム溶液で被覆した:トルエン84pbw。
トルエン中のα、ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキ
サンの33%溶液(25℃での粘度9.000〜15.
000mPa)15pbw。
ビニルトリアセトキシシランl、Qpbw。
(4−スチリルフェニル) −4,6−ビス(トリクロ
ロメチル)−s−)リアジン0.2pbw。
プレートを乾燥キャビネット中で100℃において1分
間乾燥し、1時間放置し、次いで、スピニングプレート
上で9Orpmにおいて下記ポリアミド溶液で被覆した
: エタノール可溶性ポリアミド(軟化点110〜120℃
、160℃での溶融粘度0.35〜0.50Pa)lp
bw。
イソプロパツールg7pbv。
トルエン1Opbv、 n−ブタノール3pbv。
非イオンフルオロ界面活性剤(フッ素化アルキルエステ
ル、酢酸エチル中50%)0.5pbv。
得られた印刷版をポジフィルム原稿下で120Wネオン
管ランプに40秒間露光した。
造像的露光に付した版を現像液で湿らした綿ウールパッ
ドで20秒間拭いた。使用した現像液は、等容量部のイ
ソプロパツールと脂肪族炭化水素混合物(沸点159〜
179℃)との混合物であった。風乾後、印刷インキを
ゴムローラーによって適用することによって、印刷版を
無水オフセットプリントのために着色した。このことは
、原稿に等しい鋭い画像を与えた。
例2および3 2−(4−スチリルフェニル)−ビス(トリクロロメチ
ル)−トリアジンの代わりに下記感光性ハロゲン化合物
を使用した以外は、例1を繰り返した: 2−(4−エトキシナフト−1−イル)−4゜6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン(例2)および
2−アセナフト−5−イル−4゜6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジン(例3)。このことは、例1
と同様の結果を与える。
例4 ビニルトリアセトキシシランの代わりにテトラエトキシ
シランを使用した以外は、例1を繰り返した。得られた
結果は、例1と同様であった。
例5 トルエンg4pbw。
例1に記載のポリジメチルシロキサンジオール溶液15
pbw。
ビニルトリアセトキシシラン1.5pbw。
例1に記載のトリアジン0.2pbw 1.3−ジフェニルイソベンゾフラン0.15bw からなるシリコーンゴム溶液を電解的に粗面化された陽
極処理アルミニウムプレートにスピン被覆によって12
5rpmで適用した。80℃で1分間乾燥した後、層を
下記溶液で被覆した(90rpmで): 熱可塑性ポリアミド(軟化点105〜115℃)1.5
pbw。
イソプロパツール95pbv。
トルエン4pbv。
n−ブタノール1pbv。
フルオロ界面活性剤(例1と同様)0.1pbv。
トップ層を100℃で1分間乾燥した。露光を120W
ネオン管ランプ下で10秒間実施した。
例1と同様に、良好な印刷画像が得られた。
例6 例1で調製されたシリコーンゴム溶液をわずかに変えた
:1.Opbwの代わりに1,5pbwのビニルトリア
セトキシシランを使用した。溶液を例1における方法と
同様にアルミニウムプレートに適用した。100℃で1
分間乾燥した後の単位面積当たりの層の重量は、2. 
8g/r&であった。
シリコーン層を90rpmにおいて下記ポリアミド溶液
でスピン被覆した: 例5に記載のポリアミド1.5pbw。
インプロパツール95pbv。
トルエン4pbv。
n−ブタノール1pbv。
陰イオンフルオロ界面活性剤(例1と同様)0.1pb
v。
乾燥後(100℃で1分)、トップ層は、単位面積当た
りの重量1g/r&を有していた。
印刷版を製版するために、版をポジフィルム試験原稿(
タイプ/ライン/ハーフトーン画像60ライン/cm)
上で120印の距離で5kWメタルハライドランプに6
0秒間露光し、次いで、脂肪族炭化水素混合物(沸点1
76〜188℃)4pbvとイソプロパツール1pbv
との混合物によって2分間現像した。
湿しユニットが取り外されたオフセット印刷機械におい
て、印刷版は、画像点で印刷インキを迅速に吸収し、鮮
明な良好なプリントを与えた。
20.000回の複写後、印刷版は、依然として有意な
変化を示さなかった。
例7 高分散シリカlpbwを攪拌機ボールミルによってシリ
コーン溶液に摩砕混入した以外は、例1を繰り返した。
例1と同様に、良好な印刷版が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基材および光硬化性シリコーンゴム層を具備する無
    水平版印刷用PS印刷版であって、前記シリコーンゴム
    層は室温で架橋できる二成分シリコーンゴムおよび感光
    性トリハロゲノメチル化合物を含有することを特徴とす
    る無水平版印刷用PS印刷版。 2、トリハロゲノメチル化合物が、少なくとも1個のト
    リクロロメチル基を含有する化合物である、請求項1に
    記載のPS印刷版。 3、トリハロゲノメチル化合物が、2−置換4,6−ビ
    ス(トリハロゲノメチル)−s−トリアジンである、請
    求項1または2に記載のPS印刷版。 4、2位における置換基が、アリール基である、請求項
    3に記載のPS印刷版。 5、シリコーンゴムが、末端ヒドロキシル基を有するポ
    リジアルキルシロキサンである、請求項1に記載のPS
    印刷版。 6、シリコーンゴム層が、架橋補助剤を追加的に含有す
    る、請求項1に記載のPS印刷版。 7、架橋補助剤が、ビニルトリアセトキシシランまたは
    テトラエトキシシランである、請求項6に記載のPS印
    刷版。 8、印刷版が、有機重合体からなる透明トップ層を追加
    的に担持する、請求項1に記載のPS印刷版。 9、有機重合体が、アルコール可溶性ポリアミドである
    、請求項8に記載のPS印刷版。 10、シリコーンゴム層が、単位面積当たり1〜30g
    /m^2の重量を有する、請求項1に記載のPS印刷版
    。 11、トップ層が、厚さ0.3〜10μmを有する、請
    求項8に記載のPS印刷版。 12、シリコーンゴム層が、感光性トリハロゲノメチル
    化合物0.1〜30重量%を含有する、請求項1に記載
    のPS印刷版。
JP2011674A 1989-01-21 1990-01-20 無水平版印刷用ps印刷版 Pending JPH02244144A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3901799.0 1989-01-21
DE3901799A DE3901799A1 (de) 1989-01-21 1989-01-21 Vorsensibilisierte druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02244144A true JPH02244144A (ja) 1990-09-28

Family

ID=6372561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011674A Pending JPH02244144A (ja) 1989-01-21 1990-01-20 無水平版印刷用ps印刷版

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0379907B1 (ja)
JP (1) JPH02244144A (ja)
DE (2) DE3901799A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016505079A (ja) * 2012-11-08 2016-02-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Uv硬化性シリコーン剥離組成物

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4968803A (ja) * 1972-11-02 1974-07-03
DE3337024A1 (de) * 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
DD225670A1 (de) * 1984-03-26 1985-08-07 Tech Hochschule C Schorlemmer Fotopolymerisierbare bzw. fotovernetzbare zusammensetzung fuer die herstellung von flachdruckplatten
DE3811832C2 (de) * 1987-04-10 1998-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd Trockene, vorsensibilisierte Platte und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016505079A (ja) * 2012-11-08 2016-02-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Uv硬化性シリコーン剥離組成物

Also Published As

Publication number Publication date
EP0379907B1 (de) 1994-10-26
EP0379907A1 (de) 1990-08-01
DE3901799A1 (de) 1990-08-02
DE59007533D1 (de) 1994-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0333186B1 (en) Photosensitive lithographic plate necessitating no dampening water
CA1243880A (en) Treatment of image-forming laminated plate
JPS60192948A (ja) 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法
JPS6154222B2 (ja)
US4826752A (en) Dry photosensitive lithographic plate comprising a silicon rubber layer containing an aromatic aminosilane
JPWO1997017634A1 (ja) 水なし平版製版用処理液
JPH08305012A (ja) 乾式オフセット印刷板製造用の、水で被膜除去できる記録材料
JPS6154223B2 (ja)
JPH043865B2 (ja)
JPS63317379A (ja) 水なし平版製版用処理液
EP0799438B1 (en) Production of water-less lithographic plates
JPH043866B2 (ja)
EP0379907B1 (de) Vorsensibilisierte Druckplatte für den wasserlosen Flachdruck
JP2507470B2 (ja) 水なし平版印刷用原板
JPS62194255A (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版
JP2894631B2 (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版
JPS6322304B2 (ja)
JPH04190358A (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版
JPH0213295B2 (ja)
JPH0234857A (ja) 湿し水不要感光性平版印刷版
CA2015187A1 (en) Photosensitive lithographic printing plate requiring no wetting water
JPH09189993A (ja) 水なし平版印刷版原版
JPH03129350A (ja) 水なし平版印刷版用染色液
JPH0356623B2 (ja)
JP2000047377A (ja) 水なし平版印刷版原版