JPH02247189A - 有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents

有機ケイ素化合物の製造方法

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JPH02247189A
JPH02247189A JP1066662A JP6666289A JPH02247189A JP H02247189 A JPH02247189 A JP H02247189A JP 1066662 A JP1066662 A JP 1066662A JP 6666289 A JP6666289 A JP 6666289A JP H02247189 A JPH02247189 A JP H02247189A
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JP
Japan
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formula
silane
substituted indole
aralkyl
poly
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JP1066662A
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English (en)
Inventor
Keiichi Yokoyama
恵一 横山
Yoshibumi Furukawa
古川 義文
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Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 渡m旧1黛互 本発明は、有機ケイ素化合物の製造方法に関し、詳しく
は、ケイ素原子上にヘテロ環を置換基として有する有機
ケイ素化合物の製造方法に関する。
かかる本発明の方法によって製造される有機ケイ素化合
物は、例えば、気相重合法によるシリコン薄膜の製造原
料や、或いは光ディスク用色素材料用の原料として有用
である。
l米■荻街 従来、種々の有機ケイ素化合物が知られているが、しか
し、有機炭素化合物に比べれば、その研究は未だ十分に
は進んでいない。例えば、従来、ケイ素原子上にアルキ
ル基、フェニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等の置
換基を有する有機ケイ素化合物は種々知られているもの
の、ケイ素原子かへテロ環にて置換されている有機ケイ
素化合物は、殆ど、知られておらず、勿論、その製造に
ついては、何らその手法が確立されていない。
日がHしようとする云 本発明は、ケイ素原子上にヘテロ環を置換基として有す
る有機ケイ素化合物、特に、インドリル置換(ポリ)シ
ラン化合物の製造方法を提供することを目的とする。
丑 を”′するための 本発明による有機ケイ素化合物の製造方法は、不活性雰
囲気下に一般式 (式中、R1は、アルキル基、アリール基又はアラルキ
ル基を示し、R2は、水素、アルキル基、アリール基又
はアラルキル基を示す。) で表わされるN−置換インドールにアルキルリチウム、
アリールリチウム又はアラルキルリチウムを反応させ、
次いで、−数式 %式%) (式中、R3及びR4は、それぞれ独立に、アルキル基
、アリール基又はアラルキル基を示し、Xはハロゲン原
子を示し、nは1以上の整数を示す。)で表わされるα
、ω−ジハロ(ポリ)シランを反応させて、−数式 %式% (式中、R1、R2、R3、R4及びnは、前記と同じ
である。) で表わされる有機ケイ素化合物を得ることを特徴とする
上記−数式(1)で表わされるN−置換インドールにお
いて、R1は、好ましくは、炭素数1〜12のアルキル
基、炭素数6〜12のアリール基又は炭素数7〜13の
アラルキル基を示し、R2は、好ましくは、水素、炭素
数1〜4のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基又
は炭素数7〜12のアラルキル基を示す。
上記において、アルキル基としては、例えば、メチル、
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、5
ec−ブチル、t−ブチル、アミル、ヘキシル、オクチ
ル、ドデシル基等を、アリール基としては、例えば、フ
ェニル、トリル、メトキシフェニル基等を、また、アラ
ルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、p
−メチルベンジル基等を挙げることができる。
従って、本発明の方法において、好ましく用い得るN−
置換インドールの具体例として、例えば、N−メチルイ
ンドールやN−フェニルインドール等が好ましく用いら
れる。
本発明の方法においては、先ず、かかるN−置換インド
ールにアルキルリチウム、アリールリチウム又はアラル
キルリチウムのような有機リチウム化合物を反応させる
上記アルキルリチウムとしては、例えば、メチルリチウ
ム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソプロ
ピルリチウム、n−ブチルリチウム、5ec−ブチルリ
チウム、t−ブチルリチウム、アミルリチウム、ヘキシ
ルリチウム等を挙げることができる。アリールリチウム
としては、例えば、フェニルリチウム、トリルリチウム
、メトキシフェニルリチウム等を挙げることができる。
また、アラルキルリチウムとしては、例えば、ベンジル
リチウム、フェネチルリチウム、p−メチルベンジルリ
チウム等を挙げることができる。かかる有機リチウムの
なかでは、特に、t−ブチルリチウムが好ましく用いら
れる。
上記反応は、不活性雰囲気下に、通常、溶剤中にて行な
われる。溶剤としては、用いるアルキルリチウムに不活
性な溶剤であれば、特に、限定されるものではないが、
例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、ペンタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ヘンゼン、トルエン
、キシレン等の芳香族炭化水素、又はこれらの混合溶剤
が好ましく用いられる。また、前記有機リチウムも、通
常、これらと同じ不活性溶剤中にて調製され、かかる溶
液として用いられる。不活性雰囲気としては、通常、窒
素、アルゴン等が好適である。
本発明の方法によれば、前記N置換インドールに上記し
たような有機リチウムを反応させることによって、−数
式(IV) (IV) (式中、R1及びR2は、前記と同じである。)で表わ
されるリチウム化N置換インドール化合物を得る。しか
し、本発明の方法によれば、通常は、かかるリチウム化
N置換インドール化合物を単離することなく、これを含
む反応混合物に前記−数式(II)で表わされるα、ω
−ジハロ(ポリ)シランを反応させることによって、イ
ンドリル置換有機ケイ素化合物を得ることができる。
前記−数式(II)で表わされるα、ω−ジハロ(ポリ
)シランにおいて、R3及びR4は、好ましくは、それ
ぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜1
2のアリール基又は炭素数7〜13のアラルキル基を示
し、前述したと同様に、アルキル基としては、例えば、
メチル、エチル、nプロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、5ec−ブチル、t−ブチル、アミル、ヘキシル基
等を、アリール基としては、例えば、フェニル、トリル
、メトキシフヱニル基等を、また、アラルキル基として
は、例えば、ベンジル、フェネチル、p−メチルベンジ
ル基等を挙げることができる。
また、Xはハロゲン原子を示し、例えば、塩素、臭素又
はヨウ素であり、特に、塩素が好ましい。
nは、1以上の整数を示し、好ましくは、1〜6の整数
である。
従って、本発明の方法においては、α、ω−ジハロ(ポ
リ)シランとして、例えば、ジクロロジメチルシラン、
ジクロロジフェニルシラン、メチルフエニルジクロロシ
ラン、ジクロロジベンジルシラン、1.2−ジクロロ−
1,1,2,2−テトラメチルジシラン、1.4−ジク
ロロ−1,L2,2,3,3,4.4オクタフエニルテ
トラシラン等が好ましく用いられる。
本発明においては、前記N−置換インドールと有機リチ
ウムとの反応において、有機リチウムは、N−置換イン
ドール1モルに対して、通常、1〜1.2モルの範囲で
用いられる。また、α、ω−ジハロ(ポリ)シランは、
N−置換インドール1モルに対して、通常、0.5〜0
.6モルの範囲で用いられる。
反応温度や反応時間等は、特に、限定されるものではな
いが、例えば、Ni換インドールと有機リチウムとの反
応においては、N置換インドール溶液に有機リチウム溶
液を、通常、−100°Cから25”C,好ましくは、
−80°Cから一30″Cの範囲の温度にて加えた後、
−30°Cから80°C1好ましくは、0〜40′Cの
範囲の温度にて、通常、数分乃至約10時間、好ましく
は30分間乃至2時間攪拌し、かくして、リチウム化N
置換インドールを生成させる。
次いで、このリチウム化N置換インドールとαω−ジハ
ロ(ポリ)シランとの反応においては、リチウム化N置
換インドールを含む反応混合物にα、ω−ジハロ(ポリ
)シランを、通常、−100°Cから80″C1好まし
くは、−80°Cから30°Cの範囲の温度にて加えた
後、−30°Cから80°C1好ましくは、0〜50°
Cの範囲の温度にて、通常、30分間乃至約40時間、
好ましくは1時間乃至20時間攪拌下に反応させる。
反応終了後、反応混合物から溶剤を減圧下に留去し、得
られた残渣を適宜の溶剤から再結晶し、或いは減圧蒸留
すれば、目的とするインドリル置換(ポリ)シラン化合
物を得ることができる。再結晶溶剤としては、例えば、
芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素又はこれらの混合溶剤
が好適である。
本発明の方法によれば、前記N−置換インドールや、α
、ω−ジハロ(ポリ)シランに対応して、例えば、ジメ
チルジ(2−(1−メチルインドリル)]シラン、メチ
ルフエニルジI:2−(1−メチルインドリル)〕シラ
ン、ジフェニルジ〔2(1−メチルインドリル)〕シラ
ン、1.2−ジ(2−(1−メチルインドリル) ) 
−LL2.2テトラメチルジシラン、1,4−ジC2−
(1−メチルインドリル) ) −LL2.2,3,3
.4.4−オクタフェニルテトラシラン等を得ることが
できる。
チウムを反応させ、次いで、α、ω−ジノ\口(ポリ)
シランを反応させることによって、ケイ素原子上にヘテ
ロ環を置換基として有する有機ケイ素化合物を得ること
ができる。
実施拠 以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこ
れら実施例により何ら限定されるものではない。
実施例1 (ジメチルジC2−(1−メチルインドリル)]シラン
の合成) 1−メチルインドール1.31g(10ミリモル)のテ
トラヒドロフラン溶液7mlを一78°Cに冷却し、こ
れに濃度1.7モル/!のt−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液7.1mlを加えた。25°Cまで昇温させ、こ
の温度にて1.5時間攪拌した。この後、反応混合物を
再度、−78°Cまで冷却し、ジクロロジメチルシラン
0.65g(5,0ミリモル)を加え、次いで、室温ま
で昇温させて、2時間攪拌した。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィー(DB−1,3Qm、300°C)にて分析した結
果、ジメチルジ(2−(1−、メチルインドリル)]シ
ランに基づく単一のピークのみが認められた。
反応混合物から溶剤を減圧下に留去して、粗ジメチルジ
(1−(1−メチルインドリル)]シランを黄色結晶と
して1.50g(収率94%)を得た。この粗結晶にト
ルエン/ヘキサン(容量比1/1)混合溶剤を加えて還
流した後、少量の不溶物を熱時濾過によって除去し、濾
液を濃縮し、得られた残渣をヘキサンから再結晶して、
精製ジメチルジ[2−(1−メチルインドリル)〕シラ
ンを無色針状結晶としてo、 s o gを得た。収率
50%。
融点 107〜108°C 赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法、cm−’ )1
490 1462、1350.1298.1070.8
95.820゜875 734 677゜ 1H−核磁気共鳴吸収スペクトル(CDCI3溶液、δ
(ppm)) 0.76  (68,s、  5iCH3)、3.60
  (611,S、  NCth)。
6.84  (2Hs、  olefinic H)、
  6.9−7.3  (6H,m。
aromatic H)+  7.5−7.7  (2
H,m、  aromatic l()。
マススペクトル(m/e) 31B (M’)、 303.187.144゜実施例
2 (メチルフエニルジ(2−(i−メチルインドリル)]
シランの合成) 実施例1において、ジクロロジメチルシランに代えて、
メチルフエニルジクロロシランを用いた以外は、実施例
1と同様にして、粗メチルフエニルジ〔2−(1−メチ
ルインドリル)〕シランを収率80%にて得、これをヘ
キサンから再結晶した。
融点 151〜153°C 赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法、cm−’ )1
490 1460、1420.1350.1320.1
296.1100゜1065、802.790. ’7
39.720.623゜IH−核磁気共鳴吸収スペクト
ル(CDCI:+溶液、δ(ppm)) 1.00  (3H,s、  5iCTo)、3.66
  (6H,51NCR3)6.70  (2H,s、
  olefinic H)、  6.9−7.7  
(13H,m。
aromatic  )()。
マススペクトル(m/e) 380 (M”)。
実施例3 (ジフェニルジ(1−(1−メチルインドリル)〕シラ
ンの合成) 実施例1において、ジクロロジメチルシランに代えて、
ジクロロジフェニルシランを用いた以外は、実施例1と
同様にして、ジフェニルジ〔2(1−メチルインドリル
)〕シランを結晶として得た。収率6℃%。
融点 206〜207°C 赤外線吸収スペクトル(KBrBr法、cm−’)14
90、1460.1422.1352.1300.11
03.1070゜790 740 698 630 5
00゜1H−核磁気共鳴吸収スペクトル(CDCI3溶
液、δ(ppm)) 3.57 (6肥 S、 NCH3)16.73 (2
HI S、 olefinicl()、7.0−7.8
  (18)1.ml aromatic H)。
マススペクトル(m/e) 442 (M”)。
実施例4 〔1,2−ジ(1−(1−メチルインドリル)〕〕LL
2.2−テトラメチルジシラの合成)■−メチルインド
ール1.31g(10ミリモル)のテトラヒドロフラン
溶液7mlを一78°Cに冷却し、これに濃度1.7モ
ル/I!、のt−ブチルリチウムのヘキサン溶液7.1
mlを加えた。25°Cまで昇温させ、この温度にて1
.5時間攪拌した。この後、反応混合物を再度、−78
°Cまで冷却し、1,2ジクロロ−1,C2,2−テト
ラメチルジシラン0.94g(5,0ミリモル)を加え
、次いで、室温まで昇温させて、−晩、放置した。
反応終了後、得られた反応混合物をガスクロマトグラフ
ィーにて分析した結果、はぼ定量的に反応が進行したこ
とが確認された。
反応混合物を濾過して、無機塩を除去した後、濾液を濃
縮して、粗1,2−ジ(2−(1−メチルインドリル)
)−LL2.2−テトラメチルジシラン1.50g(収
率80%)を粘稠な油状物として得た。
この油状物にヘキサンを加え、−晩、放置したところ、
結晶が析出した。これを濾取し、ヘキサンからの再結晶
にて精製した。
融点 119〜120°C 赤外線吸収スペクトル(KBrBr法、cm−’)14
90、1442.1402. 1350.1320.1
300.1250゜1060、835.795.730
.650゜IH−核磁気共鳴吸収スペクトル(CDC1
,溶液、δ(ppm)) 0.50 (12H,s、 5iCH+)、 3.36
 (6H,S、 NCH3)6.65 (2H,s、 
NC=CH)、 6.9−7.7 (8H,marom
atic H)。
マススペクトル(m/e) 376 (Ma、 36L 1B8.144.59゜参
考例1 (オクタフェニルシクロテトラシランの合成)窒素雰囲
気下に粉末状金属リチウムにジクロロジフェニルシラン
76.3g(0,3モル)の乾燥テトラヒドロフラン溶
液115m1を速やかに加え、撹拌した。室温で5時間
、攪拌した後、固形物を濾取し、温ベンゼン各50m1
にて3回、エタノール各35m1にて2回及び温水各7
0m1にて3回、洗浄した。
窒素ガス流通下、−晩、乾燥させた後、ソックスレー抽
出器を用いて27時間、トルエン抽出した。得られたト
ルエン溶液を濃縮し、晶出させ、得られた結晶を濾取、
乾燥して、オクタフェニルシクロテトラシランを白色結
晶として得た。収率5%、融点321〜323°c0 参考例2 (1,1−ジクロロ−1,C2,2,3,3,4,4−
オクタフェニルテトラシランの合成) 窒素雰囲気下にオクタフェニルシクロテi・ジシラン3
−45g(4,7ミリモル)にLL2.2−テトラクロ
ロエタン50m1を加え、攪拌した。次いで、160°
Cにて1時間攪拌し、不溶物を濾過にて除去した後、濃
縮した。得られた油状物にヘキサンを加え、析出した結
晶を濾取し、ヘキサン30m1にて3回洗浄した後、乾
燥して、1.1−ジクロロ1.1.2,2,3,3,4
.4−オクタフェニルテトラシランを白色結晶として得
た。収率90%。融点178〜180°C0 実施例5 (1,4−ジ(2−(1−メチルインドリル)〕1.1
.2.2.3.3.4.4−オクタフェニルテトラシラ
ンの合成) 実施例4において、1.2−ジクロロ−LL2.2テト
ラメチルジシランに代えて、1,4−ジクロロ−1,1
,2,2,3,3,4,4−オクタフェニルテトラシラ
ンを用いた以外は、実施例4と同様にして反応を行なっ
た。
反応終了後、反応混合物を濾過して、無機塩を除去した
後、濾液を濃縮し、得られた残渣にトルエン/ヘキサン
(容量比115)を加えて、更に、沈殿物を除去した。
濾液を濃縮し、得られた粗結晶からクーゲルロール(2
00°C/ 0.5 mmHg)にて不純物の1−メチ
ルインドールを除去し、残渣をヘキサンから再結晶して
、1,4−ジ(1−(1−メチルインドリル) ) −
1,L2,2,3,3.4.4−オクタフェニルテトラ
シランを得た。
■=核磁気共鳴吸収スペクトル(CI)CI3溶液、δ
(ppm)) 3.56 (6H,s、 NCH3)、 6.72 (
2H,s、 NC=CH)。
6.5−7.8 (48H,m、 aromatic 
H)。
マススペクトル(m/e) 988 (M4)。
特許出願人 三井石油化学工業株式会社代理人 弁理士
  牧 野 逸 部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)不活性雰囲気下に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) (式中、R^1は、アルキル基、アリール基又はアラル
    キル基を示し、R^2は、水素、アルキル基、アリール
    基又はアラルキル基を示す。) で表わされるN−置換インドールにアルキルリチウム、
    アリールリチウム又はアラルキルリチウムを反応させ、
    次いで、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (II) (式中、R^3及びR^4は、それぞれ独立に、アルキ
    ル基、アリール基又はアラルキル基を示し、Xはハロゲ
    ン原子を示し、nは1以上の整数を示す。)で表わされ
    るα,ω−ジハロ(ポリ)シランを反応させることを特
    徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (III) (式中、R^1、R^2、R^3、R^4及びnは、前
    記と同じである。) で表わされる有機ケイ素化合物の製造方法。
JP1066662A 1989-03-17 1989-03-17 有機ケイ素化合物の製造方法 Pending JPH02247189A (ja)

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