JPH02249110A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、磁気ヘッドに係り、より具体的にはギャッ
プに飽和磁束密度の大きい磁性金属膜を介在させたメタ
ルインギャップ式の磁気ヘッドの改良に関するものであ
る。

（従来の技術） 近年、磁気ディスク装置における記録の高密度化の要請
から、ギャップ部分に高飽和磁束密度の磁性金属膜を用
いたＭＩＧＣメタルインギャップ）ヘッドが研究・開発
されている。そして、この種の磁気ヘッドの一例を示す
と、第５図のようになっている。

すなわち、同図に示すように、細長な角柱のＩ型フェラ
イトコア１と、略コ字状のＵ型フェライトコア２とを組
合せてギャップ３を形成するのであるが、この時、Ｉ型
フェライトコア１のギャップ対向面にスパッタリ、ング
等によって飽和密度の高い磁性金属膜４を形成しておく
とともに、さらにこの磁性金属膜４とＵ型フェライトコ
ア２の対向面との間に非磁性材であるギャップガラス５
（高融点）を介在させる。そして、このギャップガラス
５がデータの読み書き等を行う実質的なギャップ部とな
り、ギャップガラス５の幅がギャップ幅となる。さらに
、Ｉ型フェライトコア１とＵ型フェライトコア２のギヤ
ツブ３近傍部分を低融点ガラスからなるボンディングガ
ラス６でもって接着一体化させるようにっている。

なお、磁性金属膜４としては、一般にセンダス）　（Ｆ
　ｅ−Ａｆｆｌ−Ｓｉ）が用いられる。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記した従来の磁気ヘッドでは、ボンデ
ィージ１−グ、ｆＩラス６にで両フェライトコア１９．
２を接着する際に、低融点ガラスを溶融しなければなら
ず、その際に生じる熱により磁性金属膜４と、ギャップ
ガラス５との界面が酸化反応を起こし、磁気劣化を起こ
す。

そして、本発明者らが知得したところによると、上記セ
ンダストの酸化反応は、主にセンダスト中のＡＪ２が酸
化していることがわかった。

また、このようにＡＪ２が酸化されＡぶ２０３になるこ
とにより、センダスト中のＡＪ２の存在比が減少し、当
初の磁気特性が得られなくなるという問題も生じる。

さらに、上記ギャップ部分の透磁率μを模式的に現すと
、第６図に示すようになする。そ、して、本来的には、
実線で示すように各膜間の界面で鋭角的にμが変化する
のが磁気特性の向上を図る上で必要であるが、上記した
酸化反応により、隣接する膜間の界面が融合しあい、実
際には、破線で示すようになだらかに変化してしまい、
磁気特性の低下をきたしてしまうという問題を有する。

そしテ１、こ、の゛ことは磁気ヘッドの読み書き用コイ
ルに通電する電流値に対する出力電圧の変化を示す特性
図（第７図）からも明らかである（大電流（高磁束）時
の出力が低下する）。

一方、上記した酸化反応により、磁性金属膜４のギャッ
プガラス５側に酸化膜が形成されてしまう。そして、そ
の酸化膜は非磁性材であるため、結局ギャップガラス５
と酸化膜とを合せた幅がギャップ幅となり、実効ギャッ
プが設定値より広がってしまうという問題を有する。

この発明は上記した背景に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは磁気特性が良好で、かつギャップ幅
を一定に保つことができるとともに磁気特性の良好な磁
気ヘッドを提供することにある。

（課題を解決するための手段） 上記した目的を達成するため、本発明に係る磁気ヘッド
では、２つのフェライトコアを組合せたギャップをボン
ディングガラスで接合するとともに、該ギャップ内に磁
性金属膜とギャップガラスを備えた磁気ヘッドにおいて
、該磁性金属膜と該ギャップガラス゛との間にＦｅ−８
ｔ合金層を配設した。

（作　用） 磁性金属膜とギャップガラスとの間に配置したＦｅ−３
ｔ合金層は、酸化しゃすいＡｆｆｌがないため、ボンデ
ィング処理等における熱があってもＦｅ−３ｔ合金層と
磁性金属膜との界面で酸化反応を生じない。

従って、Ｆｅ−８ｔ合金層の存在により磁性金属膜とギ
ャップガラスとの間での酸化反応が防止され、磁気劣化
を生じない。

しかも、Ｆｅ−８ｔ合金は飽和磁束密度Ｂｓが萬いため
、書込磁界を急峻にでき、書込電流を大きくしても出力
低下が起きない。

また、ギャップ幅も設定当初の幅（ギャップガラスの幅
）から変動しない。

（実　施　例） 以下、本発明の好適な実施例について添付図面を参照に
して説明する。

第１図は本発明の一実施例を示す要部拡大図である。同
図に示すように、基本的□には従来と同様に、Ｉ型フェ
ライトコア１とＵ型フェライトコア２との対向面間に形
成されるギャップ・３部分に磁性金属膜４とギャップガ
ラス５とを介装さている。

そして、本実施例では、磁性金属膜４としてセンダスト
を用いている。

ここで本発明では、上記磁性金属膜４と、ギャップガラ
ス５との間にＦｅ−８ｔ合金層７を介設している。この
Ｆｅ−３ｔ合金層７の厚さは、本実施例では約５０〜１
０００人程度に設定しである。これは、５０人を超えれ
ば磁性金属膜４の酸化反応を確実に防止することができ
、１０００人を超えると書込電流の小さな時における磁
気特性が低下するため（Ｆｅ−８ｔのμが小さい）であ
る。

さらに本実施例では、Ｆｅ−８ｔ合金層７におけるＳｉ
の含有量を２〜８　ｗ　ｔ％としている。すなわち、第
２図に示すようにこの範囲内であると、磁歪が小さく、
ボンディングガラス等からの応力を受けにくくなり、良
好な磁気特性を得られるからである。しかも、同図から
λ１１０及びλ１００磁歪が０となる２、８あるいは６
．５ｗｔ％とすることがよく、さらに透磁率μをも考慮
すると６゜５　ｗ　ｔ％とするのが望ましい。

また、このＦｅ−Ｓｉ合金層７を形成するには、例えば
、Ｉ型フェライトコア１の表面にセンダストをスパッタ
リングにより付着させて磁性金属膜４を形成した後、そ
の磁性金属膜４の上面にスパッタリング等にてＦｅ−Ｓ
ｉを付着させることにより形成する。そして、以後、通
常の工程に従って、磁気ヘッドを製造することになる。

なお、本実施例では、磁性金属膜４全面に亘ってＦｅ−
５ｉ合金層７を形成したが、本発明はこれにかぎること
なく、少なくともギャップガラス５を覆うように配設す
ればよい。

第３図は、上記実施例における磁気ヘッドの読み書き用
コイル（図示せず）へ通電する電流値に対する出力電圧
の関係を示している。同図から明らかなように、電流値
を大きくしてもその出力は低下することなく安定してお
り、これにより磁気特性が向上していることがわかる。

しかも、Ｆｅ−Ｓｉ層７はＢｓが大きいため、書込時等
に磁気飽和を起こすことがなく、たとえ高電流領域（セ
ンダストが磁気飽和するような領域）になったとしても
第４図に示すようにＦｅ−Ｓｉ合金層７にて磁束の通過
を確保でき、確★に出力電圧の低下を防止できるととも
に記録媒体８への深い書き込みが可能となる。

（発明の効果） 以上のように本発明に係る磁気ヘッドによれば、ギャッ
プガラスと磁性金□属膜との間にＦｅ−３ｉ合金層を介
装させたこと−により磁性金属膜の酸化反応を抑制でき
る。

その結果、ギャップ幅を一定に保つことができるととも
に、磁気特性の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの好適な一実絶倒を示
す要部拡大図、第２図はＦｅ−Ｓｉの磁歪特性を示す特
性図、第３図はその特性を示すグラフ、第４図は高電流
領域におけるギャップ部分の磁束の流れを示す模式図、
第５図は従来の磁気ヘッドを示す図、第６図はギャップ
部分の透磁率の変化を示すを模式図、第７図は従来の磁
気ヘッドの特性を示すグラフである。 １・・・Ｉ型フェライトコア ２・・・Ｕ型フェライトコア ３・・・ギャップ ５・・・ギャップガラス ７・・・Ｆｅ−Ｓｉ合金層 ４・・・磁性金属膜 ６・・・ボンディングガラス

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ２つのフェライトコアを組合せたギャップをボンディン
   グガラスで接合するとともに、該ギャップ内に磁性金属
   膜とギャップガラスを介在させた磁気ヘッドにおいて、
   該磁性金属膜と該ギャップガラスとの間にＦｅ−Ｓｉ合
   金層を配設してなることを特徴とする磁気ヘッド。