JPH035906A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH035906A JPH035906A JP1141710A JP14171089A JPH035906A JP H035906 A JPH035906 A JP H035906A JP 1141710 A JP1141710 A JP 1141710A JP 14171089 A JP14171089 A JP 14171089A JP H035906 A JPH035906 A JP H035906A
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- Japan
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- film
- magnetic
- ferrite
- core
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気記録媒体からデータを読みだしたり、磁
気記録媒体にデータを書寺込んだりする磁気記録再生装
置に用いられ、ギャップ対向面に金属磁性膜を形成した
磁気ヘッドに関するものである。
気記録媒体にデータを書寺込んだりする磁気記録再生装
置に用いられ、ギャップ対向面に金属磁性膜を形成した
磁気ヘッドに関するものである。
従来の技術
近年、磁気記録分野においては、記録密度の高密度化が
進められており、そのために高い保磁力と高い残留磁束
密度を有した磁気記録媒体の開発が進められている。そ
して、この種の磁気記録媒体を十分に飽和記録させるた
めに、磁気ヘッドから高密度の磁束を飛び出させる事が
要求される。
進められており、そのために高い保磁力と高い残留磁束
密度を有した磁気記録媒体の開発が進められている。そ
して、この種の磁気記録媒体を十分に飽和記録させるた
めに、磁気ヘッドから高密度の磁束を飛び出させる事が
要求される。
そこで、磁気ヘッドのギャップ対向面にフェライトに比
べて高い飽和磁束密度を有する金属磁性膜を形成した磁
気ヘッドが開発された。
べて高い飽和磁束密度を有する金属磁性膜を形成した磁
気ヘッドが開発された。
この種の磁気ヘッドに用いられる金属磁性膜としては、
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系の非結晶質合金膜。
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系の非結晶質合金膜。
Ｆｅ−Ａ！−８ｉ系合金膜、さらに最近になって、Ｆｅ
−Ｇａ−８ｉ合金膜等があり、それらの膜は各種スパッ
タリング、真空蒸着法により形成されている。しかしこ
のように構成された磁気ヘッドでは、金属磁性膜とフェ
ライトコアとの界面に疑似ギャップが形成されるため、
再生出力を示す波形の裾の方に疑似出力がでるという問
題かあり、実用化を防げる原因となっている。この疑似
ギャップの発生原因としては、コア同志をガラスで接合
する際の磁気ヘッド製造工程時の高温熱処理により、金
属磁性膜中の構成原子がフェライトコア内に拡散したり
、拡散した原子がフェライト中の＃素と反応したりして
、フェライトコアの金属磁性膜と接している部分及びそ
の近傍部分が磁気的に著しく劣化するためであると考え
られる。この拡散・反応の現象について以下具体的に説
明する。Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系結晶質合金などのようにＣ
Ｏを含んだ合金をフェライト上に膜付けすると、Ｃｏ原
子がフェライトの中へ拡散し、この拡散によってフェラ
イトの金属磁性膜と接している部分及びその近傍では、
磁気的に劣化した部分ができ、その劣化した部分が疑似
ギャップの原因となる。次にＦｅ−Ａｌ−８ｉ系合金や
ＦｅＧａ−３ｉ系合金などの材料をフェライトコアの上
に膜付けした時を説明する。Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金磁
性膜にはＡＩやＳｉの活性元素が含まれており、又Ｆｅ
−Ｇａ−８ｉ系合金磁性膜にはＧａやＳｉの活性元素が
含まれている。Ａ１．Ｓｉ、Ｇａがフェライト中に入り
こんでいくとフェライト中の酸素とこれら原子が反応し
、Ａｌ２Ｏ２、Ｓ ｉ ０２ 、Ｇ ａ２０３の非磁性
酸化物がフェライトの金属磁性膜近傍に形成され、疑似
ギャップが形成される。従来より、この疑似ギャップの
発生を防止するため、非磁性酸化物や非磁性窒化物等の
反応防止膜をフェライトコアと金属磁性膜の間に形成す
ることで、金属磁性膜中の原子がフェライトの方に拡散
するのを防止する試みがなされている。
−Ｇａ−８ｉ合金膜等があり、それらの膜は各種スパッ
タリング、真空蒸着法により形成されている。しかしこ
のように構成された磁気ヘッドでは、金属磁性膜とフェ
ライトコアとの界面に疑似ギャップが形成されるため、
再生出力を示す波形の裾の方に疑似出力がでるという問
題かあり、実用化を防げる原因となっている。この疑似
ギャップの発生原因としては、コア同志をガラスで接合
する際の磁気ヘッド製造工程時の高温熱処理により、金
属磁性膜中の構成原子がフェライトコア内に拡散したり
、拡散した原子がフェライト中の＃素と反応したりして
、フェライトコアの金属磁性膜と接している部分及びそ
の近傍部分が磁気的に著しく劣化するためであると考え
られる。この拡散・反応の現象について以下具体的に説
明する。Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系結晶質合金などのようにＣ
Ｏを含んだ合金をフェライト上に膜付けすると、Ｃｏ原
子がフェライトの中へ拡散し、この拡散によってフェラ
イトの金属磁性膜と接している部分及びその近傍では、
磁気的に劣化した部分ができ、その劣化した部分が疑似
ギャップの原因となる。次にＦｅ−Ａｌ−８ｉ系合金や
ＦｅＧａ−３ｉ系合金などの材料をフェライトコアの上
に膜付けした時を説明する。Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金磁
性膜にはＡＩやＳｉの活性元素が含まれており、又Ｆｅ
−Ｇａ−８ｉ系合金磁性膜にはＧａやＳｉの活性元素が
含まれている。Ａ１．Ｓｉ、Ｇａがフェライト中に入り
こんでいくとフェライト中の酸素とこれら原子が反応し
、Ａｌ２Ｏ２、Ｓ ｉ ０２ 、Ｇ ａ２０３の非磁性
酸化物がフェライトの金属磁性膜近傍に形成され、疑似
ギャップが形成される。従来より、この疑似ギャップの
発生を防止するため、非磁性酸化物や非磁性窒化物等の
反応防止膜をフェライトコアと金属磁性膜の間に形成す
ることで、金属磁性膜中の原子がフェライトの方に拡散
するのを防止する試みがなされている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら前記従来の磁気ヘッドでは、金属磁性膜と
コアの間の拡散や反応を防止する事ができるが、反応防
止膜は非磁性体であるので、や゛はり再生出力を示す波
形の裾に疑似出力がでる。今日までの記録密度では前記
疑似出力は問題では無かったが、将来的に記録密度がま
すます高（なっていくと、やはり疑似出力が記録再生特
性に悪影響を与えると思われる。
コアの間の拡散や反応を防止する事ができるが、反応防
止膜は非磁性体であるので、や゛はり再生出力を示す波
形の裾に疑似出力がでる。今日までの記録密度では前記
疑似出力は問題では無かったが、将来的に記録密度がま
すます高（なっていくと、やはり疑似出力が記録再生特
性に悪影響を与えると思われる。
本発明は、前記従来の問題点を解決するもので、疑似出
力の発生を防止することにより、良好な記録再生特性を
有する磁気ヘッドを提供することを目的としている。
力の発生を防止することにより、良好な記録再生特性を
有する磁気ヘッドを提供することを目的としている。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために金属磁性膜とフェライトの間
にＦｅ膜を設けた。
にＦｅ膜を設けた。
作 用
Ｆｅ膜の結晶構造はち密であるために、金属磁性１漠中
の活性原子はＦｅ膜を通ってフェライトの中に拡散する
事はな（、シからＦｅｔｌｌはフェライトおよび金属磁
性膜の主成分と同一であるために、Ｆｅ）ｌ’Ａの部分
で磁気特性の急激な変化はない。
の活性原子はＦｅ膜を通ってフェライトの中に拡散する
事はな（、シからＦｅｔｌｌはフェライトおよび金属磁
性膜の主成分と同一であるために、Ｆｅ）ｌ’Ａの部分
で磁気特性の急激な変化はない。
実 施 例
第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドを示す斜
視図である。第１図において１はフェライトで構成され
た１型のコア、２はフェライトで構成されたＣ型のコア
、３はＦｅ膜でできた反応防止膜で、反応防止膜３は、
Ｆｅのターゲットを用いてスパッタリングを行ってコア
１の上に形成されている。４は反応防止ｊｉｆｆ ３の
上に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜４はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金系磁性材料をスパッタして形成される。５
は磁気ギャップとなるギャップ材である。６はコア１と
コア２とを接合する接着ガラスである。
視図である。第１図において１はフェライトで構成され
た１型のコア、２はフェライトで構成されたＣ型のコア
、３はＦｅ膜でできた反応防止膜で、反応防止膜３は、
Ｆｅのターゲットを用いてスパッタリングを行ってコア
１の上に形成されている。４は反応防止ｊｉｆｆ ３の
上に形成された金属磁性膜で、金属磁性膜４はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金系磁性材料をスパッタして形成される。５
は磁気ギャップとなるギャップ材である。６はコア１と
コア２とを接合する接着ガラスである。
以上の様に構成された本実施例の磁気ヘッドについて以
下その製造方法を説明する。先ずフェライトによってコ
アｌを形成し、コアｌの上にＦｅでできた反応防止ｆｆ
ｆ１３を形成する。反応防止膜３はＦｅのターゲットを
用いてスパッタリングを行って形成する。この時反応防
止膜３の厚さは０．１μｍにした。次に反応防止膜３の
上に金属磁性膜４を形成する。金属磁性膜４はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金系磁性材料ターゲットにしてスパッタリン
グを行って形成する。この時金属磁性膜４の厚さは４μ
ｍにした。次にフェライトでできた磁性ブロックに巻線
溝を形成してコア２を形成し、コア２のギャップ対向面
に二酸化シリコンでできたギャップ材５を形成し、ギャ
ップ材５を介して金属磁性膜４とコア２を突き合わせる
。最後にコア１とコア２に渡って接着ガラス６を付着さ
せ、コア１とコア２を接合する。最後にコア１かもしく
はコア２に巻線を施して完成させる。
下その製造方法を説明する。先ずフェライトによってコ
アｌを形成し、コアｌの上にＦｅでできた反応防止ｆｆ
ｆ１３を形成する。反応防止膜３はＦｅのターゲットを
用いてスパッタリングを行って形成する。この時反応防
止膜３の厚さは０．１μｍにした。次に反応防止膜３の
上に金属磁性膜４を形成する。金属磁性膜４はＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ合金系磁性材料ターゲットにしてスパッタリン
グを行って形成する。この時金属磁性膜４の厚さは４μ
ｍにした。次にフェライトでできた磁性ブロックに巻線
溝を形成してコア２を形成し、コア２のギャップ対向面
に二酸化シリコンでできたギャップ材５を形成し、ギャ
ップ材５を介して金属磁性膜４とコア２を突き合わせる
。最後にコア１とコア２に渡って接着ガラス６を付着さ
せ、コア１とコア２を接合する。最後にコア１かもしく
はコア２に巻線を施して完成させる。
第２図は本実施例の磁気ヘッド及び従来の磁気ヘッドの
再生出力の波形を示すグラフである。第１のヘッドとし
て本実施例の磁気ヘッド、第２のヘッドとしてコアと金
属磁性膜の間に非磁性酸化物や非磁性富化物等でできた
反応防止膜を設けた磁気ヘッド、第３のヘッドとしてコ
アの上に直接金属磁性膜を形成した従来の磁気ヘッドを
それぞれ作成した。第２図に示す様に第３のヘッドは金
属磁性膜の原子がコアに拡散し、反応するために、コア
の金属磁性膜と接する部分及びその近傍に磁気的に劣化
した層が形成されて疑似ギャップが形成されるため、再
生出力の波形の裾の方に疑似ギャップによる疑似出力が
でている。しかも疑似ギャップによって再生出力の最大
相対出力は他のヘッドに比べて小さい。第２のヘッドで
は第３のヘッドの疑似出力はど大きくはないか、やはり
疑似出力がでている。又相対出力は第３のヘッドに比べ
て大きくなっているが、第１のヘッドに比べると小さい
。第１のヘッドは疑似出力は出ておらず、再生出力の相
対出力も他のヘッドに比べて最も大きい。この様にコア
１と金属磁性膜４の間にＦｅでできた反応防止膜３を形
成する事によって、疑似ギャップの発生を防止する事が
でき、疑似出力を抑える事ができる。又最大の再生出力
も太き（なる。
再生出力の波形を示すグラフである。第１のヘッドとし
て本実施例の磁気ヘッド、第２のヘッドとしてコアと金
属磁性膜の間に非磁性酸化物や非磁性富化物等でできた
反応防止膜を設けた磁気ヘッド、第３のヘッドとしてコ
アの上に直接金属磁性膜を形成した従来の磁気ヘッドを
それぞれ作成した。第２図に示す様に第３のヘッドは金
属磁性膜の原子がコアに拡散し、反応するために、コア
の金属磁性膜と接する部分及びその近傍に磁気的に劣化
した層が形成されて疑似ギャップが形成されるため、再
生出力の波形の裾の方に疑似ギャップによる疑似出力が
でている。しかも疑似ギャップによって再生出力の最大
相対出力は他のヘッドに比べて小さい。第２のヘッドで
は第３のヘッドの疑似出力はど大きくはないか、やはり
疑似出力がでている。又相対出力は第３のヘッドに比べ
て大きくなっているが、第１のヘッドに比べると小さい
。第１のヘッドは疑似出力は出ておらず、再生出力の相
対出力も他のヘッドに比べて最も大きい。この様にコア
１と金属磁性膜４の間にＦｅでできた反応防止膜３を形
成する事によって、疑似ギャップの発生を防止する事が
でき、疑似出力を抑える事ができる。又最大の再生出力
も太き（なる。
次に本実施例の磁気ヘッド及び従来の磁気ヘッドのオー
ジェ分光分析を行ない、各構成原子の拡散状況を説明す
る。そこで先ず本実施例及び従来の磁気ヘッドのサンプ
ルを下記の様に作成する。
ジェ分光分析を行ない、各構成原子の拡散状況を説明す
る。そこで先ず本実施例及び従来の磁気ヘッドのサンプ
ルを下記の様に作成する。
Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板上に、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非結
晶質合金をスパッタリング法により５００Ａ形成し、Ｃ
ｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非結晶質合金膜を安定化するために５５
０℃の熱処理を行った第１のサンプルと、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライト基板上に、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ合金をスパッタリ
ング法により５００Ａ形成し、５５０℃の熱処理を行っ
た第２のサンプルと、Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板上にＦ
ｅ膜を５０ＯＡ形成後、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ合金をスパッ
タリング法により５００人形成し、５５０℃の熱処理を
行った第３のサンプルを作成する。この様に作成したサ
ンプルを金属磁性膜の膜表面からオージェ分光分析によ
り、拡散・反応の観察を行った。第１のサンプル及び第
２のサンプル及び第二３のナンブルの測定結果を、それ
ぞれ第３図。
晶質合金をスパッタリング法により５００Ａ形成し、Ｃ
ｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非結晶質合金膜を安定化するために５５
０℃の熱処理を行った第１のサンプルと、Ｍｎ−Ｚｎフ
ェライト基板上に、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ合金をスパッタリ
ング法により５００Ａ形成し、５５０℃の熱処理を行っ
た第２のサンプルと、Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板上にＦ
ｅ膜を５０ＯＡ形成後、Ｆｅ−Ａｌ−８ｉ合金をスパッ
タリング法により５００人形成し、５５０℃の熱処理を
行った第３のサンプルを作成する。この様に作成したサ
ンプルを金属磁性膜の膜表面からオージェ分光分析によ
り、拡散・反応の観察を行った。第１のサンプル及び第
２のサンプル及び第二３のナンブルの測定結果を、それ
ぞれ第３図。
ｉ４図、第５図に示す。図において、縦軸はオージェ電
子の強度、横軸は金属磁性膜の表面からの深さである。
子の強度、横軸は金属磁性膜の表面からの深さである。
第３図から判る様に、Ｍ ｎ −Ｚｎフェライト上にＣ
ｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非晶質合金を形成した場合には、ｃｏ原
子がＭｎ−Ｚｎフェライト基板＋ｕｑへ拡散している様
子が判る。また、第４図のから判る様に、Ｆｅ−Ａｌ−
８Ｉ合金膜を直接Ｍｎ−Ｚｎフェライト上に形成した場
合には、Ｍ ｒｌ−Ｚ ｎフェライトのＦｅ−Ａｌ−８
ｉ合金１摸上近傍部分に反応が起きており、Ａｌ５ｉの
酸化物が形成されている。一方、第５図の結果より、Ｆ
ｅ膜を反応防止膜として用いた場合には、Ｆｅ−Ａｌ
−３ｉ合金ｊ摸注のＡＩやＳｉはＭｎ２０フェライト中
即ち第５図に示す１０００八以上の部分には存在せず、
ＡＩやＳｉはＭｎ−Ｚｎフェライト中には拡散していな
いことが判る。以上の様にＦｅ１Ｉを反応防止膜として
用いることでフェライト基板と、金属磁性膜との界面近
傍での拡散・反応は防止できる。又Ｆｅ膜とフェライト
および金属磁性膜の主成分は同じであるので、Ｆｅｔ１
１部分での磁気特性の大きな変化はないので、Ｆｅｔｌ
Ｉ近傍からの磁束の漏れはない。なお、Ｆｅ膜上に形成
する金属磁性膜として、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−８Ｉ
系合金、及びＦｅ−Ｇａ−８Ｉ系合金を用いても同様の
効果が得られる。なお、本実施例においては、片方の磁
気コアに金属磁性膜が形成された複合磁気ヘッドについ
て説明したが、本発明は両方の磁気コアに金属磁性膜が
形成された複合磁気ヘッドにも応用できる。又反応防止
膜であるＦｅ膜に耐食性を向上させるために′ＦｉやＣ
ｒやＮｉや白金属元素等を添加しても同様の効果を得る
事ができた。
ｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非晶質合金を形成した場合には、ｃｏ原
子がＭｎ−Ｚｎフェライト基板＋ｕｑへ拡散している様
子が判る。また、第４図のから判る様に、Ｆｅ−Ａｌ−
８Ｉ合金膜を直接Ｍｎ−Ｚｎフェライト上に形成した場
合には、Ｍ ｒｌ−Ｚ ｎフェライトのＦｅ−Ａｌ−８
ｉ合金１摸上近傍部分に反応が起きており、Ａｌ５ｉの
酸化物が形成されている。一方、第５図の結果より、Ｆ
ｅ膜を反応防止膜として用いた場合には、Ｆｅ−Ａｌ
−３ｉ合金ｊ摸注のＡＩやＳｉはＭｎ２０フェライト中
即ち第５図に示す１０００八以上の部分には存在せず、
ＡＩやＳｉはＭｎ−Ｚｎフェライト中には拡散していな
いことが判る。以上の様にＦｅ１Ｉを反応防止膜として
用いることでフェライト基板と、金属磁性膜との界面近
傍での拡散・反応は防止できる。又Ｆｅ膜とフェライト
および金属磁性膜の主成分は同じであるので、Ｆｅｔ１
１部分での磁気特性の大きな変化はないので、Ｆｅｔｌ
Ｉ近傍からの磁束の漏れはない。なお、Ｆｅ膜上に形成
する金属磁性膜として、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−８Ｉ
系合金、及びＦｅ−Ｇａ−８Ｉ系合金を用いても同様の
効果が得られる。なお、本実施例においては、片方の磁
気コアに金属磁性膜が形成された複合磁気ヘッドについ
て説明したが、本発明は両方の磁気コアに金属磁性膜が
形成された複合磁気ヘッドにも応用できる。又反応防止
膜であるＦｅ膜に耐食性を向上させるために′ＦｉやＣ
ｒやＮｉや白金属元素等を添加しても同様の効果を得る
事ができた。
発明の効果
本発明は、金属磁性膜とフェライトの間にＦｅ膜を設け
た事により、Ｆｅ膜の結晶構造はち密であるために、金
属磁性膜中の活性原子はＦｅ膜を通ってフェライトの中
に拡散する事はないので、フェライトの金属磁性膜近傍
部分の磁気的劣化を防ぎ、しかもＦｅ膜はフェライトお
よび金属磁性膜の主成分と同一であるために、Ｆｅ膜の
部分で磁気特性の急激な変化はないのでＦｅ膜の部分で
磁束が漏れる事はな（、疑似ギャップが出来ない様にす
る事ができ、疑似出力が発生を押させる事ができる。
た事により、Ｆｅ膜の結晶構造はち密であるために、金
属磁性膜中の活性原子はＦｅ膜を通ってフェライトの中
に拡散する事はないので、フェライトの金属磁性膜近傍
部分の磁気的劣化を防ぎ、しかもＦｅ膜はフェライトお
よび金属磁性膜の主成分と同一であるために、Ｆｅ膜の
部分で磁気特性の急激な変化はないのでＦｅ膜の部分で
磁束が漏れる事はな（、疑似ギャップが出来ない様にす
る事ができ、疑似出力が発生を押させる事ができる。
第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドを示す斜
視図、第２図は従来の磁気ヘッドおよび本発明の一実施
例の複合磁気ヘッドの再生出力の波形を示す特性図であ
る。第３図及び第４図は従来の磁気ヘッドのオージェ分
光分析による深さ方向の組成分布を示すグラフ、第５図
は本実施例の磁気ヘッドのオージェ分光分析による深さ
方向の組成分布を示すグラフである。
視図、第２図は従来の磁気ヘッドおよび本発明の一実施
例の複合磁気ヘッドの再生出力の波形を示す特性図であ
る。第３図及び第４図は従来の磁気ヘッドのオージェ分
光分析による深さ方向の組成分布を示すグラフ、第５図
は本実施例の磁気ヘッドのオージェ分光分析による深さ
方向の組成分布を示すグラフである。
Claims (2)
- （１）フェライトコアの少なくともギャップ対向面の上
に金属磁性膜を設けた第１のコアチップと、前記第１の
コアチップと対向する第２のコアチップを備え、前記第
１のコアチップのフェライトコアと前記金属磁性膜の間
にＦｅ膜を設けた事を特徴とする磁気ヘッド。 - （２）Ｆｅ膜にＴｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、白金属元素の内少な
くとも一つを添加した事を特徴とする請求項第１項記載
の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141710A JPH035906A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1141710A JPH035906A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035906A true JPH035906A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15298402
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1141710A Pending JPH035906A (ja) | 1989-06-02 | 1989-06-02 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035906A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11773758B2 (en) | 2019-12-25 | 2023-10-03 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Variable valve mechanism |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279404A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPH01241007A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
| JPH01303614A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 磁気ヘッド |
-
1989
- 1989-06-02 JP JP1141710A patent/JPH035906A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63279404A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 複合型磁気ヘッド |
| JPH01241007A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
| JPH01303614A (ja) * | 1988-06-01 | 1989-12-07 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 磁気ヘッド |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11773758B2 (en) | 2019-12-25 | 2023-10-03 | Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha | Variable valve mechanism |
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