JPH02257405A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はギャップスペーサを介して二つのコア半体を
突き合わせる構造の磁気ヘッドに関し、特にＶＴＲ、Ｄ
ＡＴなどの情報記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに
関する。

〔従来の技術〕

従来、ギャップスペーサ１を介して二つのコア半体３を
突き合わせる構造の磁気ヘッドとしては第１４図に示す
ように、Ａ２□０．やＳｉＯ□など非磁性高硬度のもの
を単一でギャップスペーサとして用いていた。

第１５図に示すように、二つの磁性材料コア半体３の突
き合わせ面に巻線加工溝５、トラック加工溝４を施した
後この面を鏡面ポリッシュし、第１６図のようにギャッ
プスペーサ１としてＡＮ。

０、、ＳｉＯ，などをスパッタ、蒸着等の薄膜形成手段
によって所望の厚さ付着させる。この後これら二つのコ
ア半体３を突き合わせ面６で突き合わせ、接合するとと
もに第１７図のようにギャップ近傍にガラス２を充填し
てコアブロック８とする。なお符号７はコア半体３に設
けられたガラス接合用溝である。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の二つのコア半体３を突き合わせる構造の磁気ヘッ
ドは以上のように構成されているので、Ａ　ｌ　ｚ　Ｏ
ｘをギャップスペーサ１として用いる場合、一般にＡ　
１　ｚ　Ｏｓのガラス２との濡れ性がよくないためにギ
ャップ近傍に確実にガラスを充填するのが難しい。

また５ｉｎ３をギャップスペーサ１として用いる場合に
、一般にＳｉｎ、は第１８図の符号９に示すようにガラ
スに腐食されやすいことが多くトラック幅全体に渡って
良好なギャップを得にくい。

〔発明の目的〕

この発明は、従来の磁気ヘッドの前述の欠点を改善する
ためのもので、ギャップスペーサとその近傍、若しくは
ギャップスペーサ近傍に充填ガラスとの濡れ性を改善す
る薄膜を形成することにより、磁気ヘッドのギャップ形
成、及びギャップ近傍へのガラスの充填が確実に行われ
るようにすることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明は、前述の目的を達成するための磁気ヘッドの
手段に関し、少なくともガラスを充填する前に、ギャッ
プスペーサであるＡ　ｌ　ｚ　Ｏ３とガラスとの濡れ性
を改善する薄膜を、ギャップスペーサ表面とその近傍、
若しくはギャップスペーサ近傍に形成することにある。

この濡れ性を改善する薄膜としては、厚さ１０Å以上の
５ｉｆｔを使用するのが望ましい。

〔発明の実施例〕

次に、本発明の実施例の一例を、第１図〜第２図につい
て説明する。

第１５図に示すように、従来と同様にして二つの磁性コ
ア半体の突き合わせ面に巻線窓加工溝５、トラック加工
溝４を施した後この面をポリッシュし、第１６図のよう
に先ず主たるギャップスペーサ１となるＡ　ｆ　ｚ　Ｏ
３をスパッタ、蒸着等の薄膜形成手段によって所望のギ
ャップ長の二層の一以下の厚さで各コア半体３に付着さ
せる。

次に第３図のように、この／１．０３膜の上に、第２の
ギャップスペーサ１０としてＳｉｎ、をやはリスバッタ
、蒸着等の薄膜形成手段で各１０Å以上の厚さで付着さ
せる。

このギャップスペーサ１０は、第１図に示すように少な
くともギャップ近傍において、ガラスが充填される部分
に付着される。

尚、ギャップスペーサ１０としては、Ｓｉｎ。

の他に、非磁性金属薄膜、非磁性金属酸化薄膜等、ガラ
スとの濡れ性が改善でき、且つ薄膜化可能であれば、種
々の材料が使用できる。

この後、第１７図のようにガラスによって二つ′のコア
半体３を接合すると共にギャップ近傍にガラス２を充填
するが、Ｓｉｎ、を含む充填ガラス２との濡れ性を改善
する薄膜が形成されているので、確実にガラスが充填さ
れる。

またこの際、充填ガラスとの濡れ性改善膜（ＳｉＯｔ）
がガラス２によって多少腐食されても、主たるギャップ
スペーサ１はガラスに腐食されにくいＡ！、Ｏ，である
ために磁気ギャップはトラック幅全体に渡って良好に形
成される。

なお上記実施例では、Ａ２□０．とＳｉｎ、の二層構造
のギャップスペーサを形成した場合について述べたが、
これは例えば第３図のように表層が、厚さ１０Å以上の
ＳｉＯ□の薄膜となっていればその下はＡ２□０．とＳ
ｉＯ□あるいは他の膜１１の多層膜としても構わない。

更に、Ａ２□０．のギャップスペーサ１は、一方のコア
にのみ形成してもさしつかえない。

次に、本発明の他の実施例を、第４図〜第８図について
説明する。

この実施例においては、第４図のように片側のコア半体
３に巻線窓加工５を施した後、第４図のように、ギャッ
プスペーサ１となるＡ　ｆｉ　！Ｏ，をスパッタ、蒸着
等の薄膜形成手段によって、所要のギャップ長の二層の
一以下の厚さで各コア半体３に付着させる。

次に、両コア半体を、そのギャップスペーサ１面を突き
合わせて、例えばコアが金属磁性材料（センダスト等）
である場合には、主としてバックギャップ側を銀ロウ等
で接合後、第６図に示すようにトラック溝１２を切削す
る。

そして、このトラック溝１２内にＳｉｎｇ等の充填ガラ
ス１３に対して濡れ性を改善できる薄膜１４を、前記と
同様な薄膜形成手段によって付着させ、その後トラック
溝１２内に充填ガラス１３を充填する。

次に、接合されたコア半体３を充填ガラス１３の部分で
切断し、所要の磁気ヘッドが得られる。

この実施例においては、磁気ギャップは、第７図のよう
にギャップスペーサｌの厚さだけで形成され、充填ガラ
スとの濡れ性改善用の薄膜１４がギャップ長に加わらな
いので、ギャップ長が増加することがない。

又、第８図は、磁気ギャップをＡ　１　ｚ　Ｏｓのギャ
ップスペーサ１と前実施例と同様な薄膜１１とで多層膜
としたものである。

更に、本発明の他の実施例を、第９図〜第１２図につい
て説明する。

この実施例においては、従来例の第１４図に示すと同様
に、二つの磁性材料コア半体３の突き合わせ面に巻線加
工溝５、トラック加工溝４を施した後、この面を鏡面ポ
リッシュし、第１５図のようにギャップスペーサ１とし
てＡ　ｌ　ｚＯｓ　、　Ｓ　ｉ　Ｏｘ等の薄膜を形成す
る。

次に、このコア半体３を突き合わせ面６で突き合わせた
後、第１０図のようにガラス用接合溝７に高融点ガラス
１５を充填して、二つのコア半体３を接合する。

尚、コア半体３が金属磁性材料である場合には、このバ
ックギャップを銀ロウ等で接合してもよい。

そして、この接合されたコアブロック８に対して、第１
１図に示すように、トラック加工溝４が形成されている
面から、濡れ性を改善するための薄膜を形成し、その後
に第１２図に示すように、トラック加工溝４にガラス２
を充填する。

前記バックギャップの接合に高融点ガラス１５を用いた
場合には、トラック加工溝４に充填するガラスは、高融
点ガラス１５よりも融点の低いガラスが用いられる。

このコアブロックを切削、裁断して磁気へラドコアが得
られるものであるが、そのギャップ近傍は第１３図に示
すように、磁気ギャップを形成するギャップスペーサｌ
の部分には、濡れ性を改善する第２のギャップスペーサ
１０となる薄膜は存在しないものである。

〔発明の効果〕

本発明は叙上のように、／Ｍ！２０．を主体とするギャ
ップスペーサの表面、近傍にＳｉＯ□等の充填ガラスと
の濡れ性を改善できる薄膜を被着させたので、この薄膜
とガラスとの濡れの良さのため′に、ギャップ近傍に確
実にガラスを充填できる。

そして、ギャップスペーサはＡ　ｌ　ｚ　Ｏｘを主体と
するため、ギャップスペーサと充填ガラスとの濡れ性が
悪いのを前記薄膜によって改善され、Ａ２□０３のガラ
スによる耐腐食性のよいことと相俟って、磁気ギャップ
はトラック巾全体に、均一に、且つ正確に形成されるも
のである。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第２図は本発明の一実施例を示すもので、 第１図はギャップ近傍の正面図、 第２図はその製造工程の斜面図、 第３図は第１図のギャップスペーサを多層化したギャッ
プ近傍の正面図、 第４図〜第７図は他の実施例を示すもので、第４図〜第
６図はその製造工程の斜面図、第７図はそのギャップ近
傍の正面図、 第８図は第７図のギャップスペーサを多層化した正面図
、 第９図〜第１２図は更に他の実施例を示すもので、第９
図〜第１１図はその製造工程の斜面図、第１２図はその
ギャップ近傍の正面図、第１３図は従来の磁気ヘッドの
ギャップ近傍の正面図、 第１４図〜第１６図はその製造工程の斜面図、第１７図
はそのギャップスペーサの腐食を示す正面図である。 ｌ・・・ギャップスペーサ、２・・・ガラス、３・・・
コア半体、４・・・トラック加工溝、５・・・巻線窓加
工溝、６・・・突き合わせ面、７・・・ガラス接合用溝
、８・・・コアブロック、９・・・ギャップスペーサの
腐食、ｌＯ・・・第２のギャップスペーサ、１１・・・
薄膜、１２・・・トラック溝、１３・・・充填ガラス、
１４・・・薄膜。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）二つの磁性材料のコア半体のギャップ形成面のう
   ち、少なくとも一方にＡｌ＿２Ｏ＿３を主体とするギャ
   ップスペーサを形成し、コア半体を突き合わせた後、ギ
   ャップ近傍にガラスを充填した磁気ヘッドにおいて、少
   なくともガラス充填前にギャップスペーサ表面とギャッ
   プ近傍、若しくはギャップ近傍に、充填ガラスとの濡れ
   性を改善するための薄膜を形成したことを特徴とする磁
   気ヘッド。
2. （２）前記充填ガラスとの濡れ性を改善するための薄膜
   を厚さ１０Å以上のＳｉＯ＿２とし、これをギャップス
   ペーサの表面に形成したことを特徴とする請求項（１）
   記載の磁気ヘッド。