JPH02262148A - 感光性平版印刷版の現像処理方法 - Google Patents

感光性平版印刷版の現像処理方法

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JPH02262148A
JPH02262148A JP8319389A JP8319389A JPH02262148A JP H02262148 A JPH02262148 A JP H02262148A JP 8319389 A JP8319389 A JP 8319389A JP 8319389 A JP8319389 A JP 8319389A JP H02262148 A JPH02262148 A JP H02262148A
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JP
Japan
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acid
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positive
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Pending
Application number
JP8319389A
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English (en)
Inventor
Akira Nogami
野上 彰
Masabumi Uehara
正文 上原
Kazuhiro Shimura
志村 和弘
Shinya Watanabe
真也 渡辺
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版(以下、「23版」という
)の現像処理方法に関し、更に詳しくは、自動現像機を
用いて現像補充液を補充して繰り返し使用する現像液で
ポジ型23版を現像処理する方法に関する。 〔発明の背景〕 現像液を循環して使用する自動現像機を用いて23版を
連続して処理すると現像液の活性度が低下してくる。こ
の低下を防ぐために現像補充液を補充して現像性を一定
のレベルに保ことか知られている。現像補充液は通常、
母液(補充対象である繰り返し使用される現像液)に比
べてアルカリ強度が高いものが用いられる。しかし、ポ
ジ型23版を現像処理する場合、ポジ型23版とネガ型
PS版とを同一現像液で共通に現像する場合を含めて、
現像補充液の添加でアルカリ強度を一定に保っても、ポ
ジ型23版の現像結果が軟調になる傾向がある。 この軟調化現象を改良するためには、ノニオン型又はカ
チオン型の界面活性剤を現像補充液に添加すると効果が
あることを本発明者等は見いだしたが、しかし、補充液
に上記界面活性剤が溶解しにくかったり、上記界面活性
剤の量の過不足を生じたりして、安定した現像仕上がり
が得られない問題があることを見いだした。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明は、上記技術課題を解決しようとするもので、本
発明の目的は、自動現像機を用い現像補充液を補充し繰
り返し使用する現像液で長期に亙って処理を行ったとき
でも、常に安定した現像性能を得られるポジ型23版の
現像処理方法を提供することである。 本発明の他の目的は、ネガ型28版とポジ型23版とを
、現像補充液を補充して繰り返し使用する共通の現像液
で現像した場合、これら両者を安定した仕上がりで現像
処理できる28版の現像処理方法を提供することである
。 〔問題点を解決するための手段〕 上記本発明の目的は、ポジ型23版を画像露光後、繰り
返し使用する現像液で処理する現像処理方法において、
ポジWPS版の裏面又はオーバーコート層の少なくとも
1つにノニオン界面活性剤及カチオン界面活性剤から選
ばれる少なくとも1種を含有させる感光性平版印刷版の
現像処理方法によって達成される。 以下、本発明について詳述する。 本発明のポジ整PS版の裏面又はオーバーコート層に含
有させるノニオン界面活性剤は種々のものが使用できる
。ノニオン界面活性剤は大別するとポリエチレングリコ
ール壓と多価アルコール型に分類することができ、本発
明にはどちらも使用できるが、効果の大きさの点からポ
リエチレングリコール型のノニオン界面活性剤が好まし
く、その中でもエチレンオキシ基(−CH2CH20−
)を3以上有し、かつ)HLB値(HLBはHydro
phile−Lipophi 1eBalanceの略
)が5以上(より好ましくは8〜2o)のノニオン界面
活性剤がより好ましい。 また、ノニオン界面活性剤のうち、エチレンオキシ基と
プロピレンオキシ基の両者を有するものが特に好ましく
、そのなかでHLB値が8以上のものがより好ましい。 本発明のポジ型23版に用いられるノニオン界面活性剤
の好ましい例として下記−能代(1)〜〔8〕で表され
る化合物が挙げられる。 (1)  RO(CH2CH20)nH(3)  R−
0−(CH3COO)m  (CH2CH20)nH(
7)  H(OCsH4)y(ocsue)x \/(
C3H60)X  (C2H40)yH〔l〕〜〔8〕
式において、Rは水素原子又は1価の有機基を表す。該
有機基としては、例えば直鎖もしくは分岐の炭素数1〜
3oの、置換基(例えばアリール基(フェニル等))を
有していてもよいアルキル基、アルキル部分が上記アル
キル基であるアルキルカルボニル基、置換基(例えばヒ
ドロキシル基、上記のようなアルキル基等)を存してい
てもよいフェニル基等が挙げられる。alb、c、mS
n、X及びyは各々1〜40の整数を表す。 次に本発明に用いられるノニオン界面活性剤の具体例を
示す。 ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオ
キシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステ
アリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル
、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンセチルエーテル、ポリオキ
シエチレンポリオキシプロピレンベヘニルエーテル、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ホリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルアミン、ポリオキシエチレンオレイルアミ
ン、ポリオキシエチレンステアリン酸アミド、ポリオキ
シエチレンオレイン酸アミド、ポリオキシエチレンヒマ
シ油、ポリオキシエチレンアビエチルエーテル、ポリオ
キシエチレンラノリンエーテル、ポリオキシエチレンモ
ノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、
ポリオキシエチレングリセリルモノオレート、ポリオキ
シエチレングリセルモノステアレート、ポリオキシエチ
レンプロピレングリコールモノステアレート、オキシエ
チレンオキシプロピレンブロックポリマー ジスチレン
化フェノールポリエチレンオキシド付加物、トリベンジ
ルフェノールポリエチレンオキシド付加物、オクチルフ
ェノールポリオキシエチレンポリオキシプロピレン付加
物、グリセロールモノステアレート、ソルビタンモノラ
ウレート、ポリオキシエチレンソルビクンモノラウレー
ト等。 本発明に用いるノニオン界面活性剤の重量平均分子量は
300〜10000の範囲が好ましく、500〜500
0の範囲が特に好ましい。ノニオン型界面活性剤は1種
を単独で含有させても、又2種以上を併用してもよい。 ポジ型13版の裏面又はオーバーコート層に含有させる
カチオン界面活性剤は種々のものが使用できる。カチオ
ン界面活性剤はアミン型と第四アンモニウム塩型に大別
されるが、これらの何れをも本発明に用いることができ
る。 アミン型の例としては、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、N−アルキルプロピレンアミン、Nアルキルポリ
エチレンポリアミン エチレンポリアミンジメチル ビグアニド、長鎖アミンオキシド、アルキルイミダシリ
ン、1−ヒドロキシエチル−2−アルキルイミダシリン
、1−アセチルアミノエチル−2−アルキルイミダシリ
ン、2−アルキル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル
オキサゾリン等がある。 また、第四アンモニウム塩聾の例としては、長鎖第1ア
ミン塩、アルキルトリメチルアンモニラム塩、ジアルキ
ルジメチルエチルアンモニウム塩、アルキルジメチルア
ンモニウム塩、アルキルジメチルベンジルアンモニウム
塩、アルキルピリジニウム塩、アルキルキノリニウム塩
、アルキルイソキノリニウム塩、アルキルピリジニウム
硫酸塩、ステアラミドメチルピリジニウム塩、アシルア
ミノエチルジエチルアミン メチルジエチルアンモニウム塩、アルキルアミドプロピ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩、脂肪酸ポリエチレ
ンポリアミド、アシルアミノエチルピリジニウム塩、ア
シルコラミノホルミルメチルピリジニウム塩、ステアロ
オキシメチルピリジニウム塩、脂肪酸トリエタノールア
ミン、脂肪酸トリエタノールアミンギ酸塩、トリオキシ
エチレン脂肪酸トリエタノールアミン、脂肪酸ジブチル
アミノエタノール、セチルオキシメチルピリジニウム塩
、p−インオクチルフェノキシエトキシエチルジメチル
ベンジルアンモニウム塩等がある。(上記化合物の例の
中の 「アルキル」とは炭素数6〜20の、直鎖または
一部置換されたアルキルを示し、具体的には、ヘキシル
、オクチル、セチル、ステアリル等の直鎖アルキルが好
ましく用いられる。)これらの中では、特に水溶性の第
四アンモニウム塩塁のカチオン界面活性剤が有効で、そ
の中でも、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキ
ルジメチルベンジルアンモニウム塩、エチレンオキシド
付加アンモニウム塩等が好適である。また、カチオン成
分をくり返し単位として有する重合体も広い意味ではカ
チオン界面活性剤であり、本発明のカチオン界面活性剤
に金色される。特に、親油性七ツマ−と共重合して得ら
れた第四アンモニウム塩を含む重合体は好適に用いるこ
とができる。 該重合体の重量平均分子量は300〜50000の範囲
であり、特に好ましくは500〜5000の範囲である
。 これらのカチオン界面活性剤は単独で使用するほか、2
種以上を併用してもよい。 ポジ型13版の裏面及び/又はオーバーコート層に含有
させるノニオン界面活性剤及び/又はカチオン界面活性
剤の量は、ノニオン界面活性剤とカチオン界面活性剤と
の合計で0.001〜0.1g/m2の範囲が好ましい
。また、含有させるポジ型PS版が現像において消費す
る量に見合う量を実験的に求め、そのような量としても
よい。 前記界面活性剤をポジ型PS版の裏面に含有させるには
、水溶性またはアルカリ可溶性の高分子化合物を結合剤
とする層を該裏面に設け、該層中に該界面活性剤を含有
させることが好ましい。また、オーバーコート層に含有
させるには、上記裏面の場合と同様に、水溶性又はアル
カリ可溶性の高分子化合物を結合剤とするオーバーコー
ト層を感光性層の上に塗設し、該オーバーコート層中に
前記界面活性剤を含有させればよい。 前記水溶性又はアルカリ可溶性高分子化合物として、例
えばポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリメタ
クリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン
、ポリソジウムーL−グルタメート、水溶性ポリビニル
ブチラール、ビニルアルコールとマレイン酸との共重合
体、ビニルアルコールとアクリルアミドとの共重合体、
ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合体、(メタ)
アクリル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体
のような合成高分子化合物;メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどのセルロース
エーテル;カゼイン、アルブミン、ゼラチン(アシル化
ゼラチンも含む)、アラビアガムなどの天然高分子化合
物が含まれ、これらは単独又は2種以上併用して用いる
ことができる。前記界面活性剤を含有する裏面層及びオ
ーバーコート層の結合剤の量は特に限定されないが、そ
れぞれ0.1〜5.0g/m’の範囲が適当である。 本発明の好ましい実施態様として、アルカリ可溶性のポ
リマーを結合剤とし前記界面活性剤を含有する層をPS
版の裏面に塗設する態様が挙げられる。 本発明に係るポジ堅PS版は、PS版の支持体として通
常用いられる支持体上にO−キノンジアジド化合物を感
光成分として含有する感光性組成物を塗設してなるもの
である。該支持体としては、例えば特開昭62−175
757号公報の第6頁右下欄第15行〜第7頁右上欄第
11行に記載されているような支持体が挙げられる。 本発明における0−キノンジアジド化合物としては、例
えば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノー
ル類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物が挙げられる。 前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、l−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等のm個フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。 前記アルデヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアル
デヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フル
フラール等が挙げられる。これらのうち好ましいものは
ホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドである。又、前
記ケトンとしてはアセトン、メチルエチルケトン等が挙
げられる。 前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノ−ル・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−9p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。 前記0−す7トキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OHiI!i1個に対する反応率)は、15〜
80%が好ましく、より好ましくは20〜45%である
。 更に本発明に用いられる。−キノンジアジド化合物とし
ては特開昭58−43451号公報に記載のある以下の
化合物も使用できる。即ち例えば1.2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸エステル、l、2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、l、2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸アミド、l、2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド
化合物、更に具体的にはジェイ・コサール(J 、[o
sar)著「ライト・センシティブ・システムズ」 (
“Light−Sensitive Systems″
)第339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリ
ー・アンド・サンズ(John Wiley & 5o
ns)社にニーヨーク)やダブリニー・ニス・デイ−・
フォレスト(W、S、De Forest)著「フォト
レジスト」(”Photoresist”)第50巻、
  (1975年)、マグロ−ヒル(Me Gray−
Hill)社にニーヨーク)に記載されている1、2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステ
ル、1,2.1 ’、2 ’−ジー(ベンゾキノンジア
ジド−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1
,2−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチルートβ
・ナフチル)−スルホンアミド、1.2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、l
−(1,2−ナフトキノンジアジF −5−スルホニル
)−3,5−ジメチルピラゾール、1,2−す7トキノ
ンジアジドー5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェ
ニル−4′−アゾ−β−ナフトールエステル、N、N−
ジー(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル
)−アニリン、2’−(1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラ
キノン、1.2−ナフトキノンジアジド・5−スルホン
酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1
.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3
,4−)リヒドロキシベンゾフェノンエステル、112
−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モ
ルと4゜4′−ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物
、1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロ
リド2モルと4.4′−ジヒドロキシ−1,1’−ジフ
ェニルスルホン1モルの縮合物、■、2−ナフトキノン
ジアジドー5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガ
サ21モルの縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1.2−キノンジアジド化合物を挙げることができる
。又、特公昭37−1953号、同37−3627号、
同37−1310Q号、同40−26126号、同40
−3801号、同45・5604号、同45−2734
5号、同51−13013号、特開昭48−96575
号、同48−63802号、同48−63802号各公
報に記載されたl、2−キノンジアジド化合物をも挙げ
ることができる。 前記0−キノンジアジド化合物のうち、l、2−ベンゾ
キノンジアジドスルホニルクロリド又は1.2−ナフト
キノンジアジドスルホニルクロリドとピロガロール・ア
セトン縮合樹脂又は2,3.4・トリヒドロキシベンゾ
フェノンを反応させて得られる0−キノンジアジドエス
テル化合物が特に好ましい。 本発明において、O−キノンジアジド化合物としては上
記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せ
て用いてもよい。 本発明のポジを23版の感光層における0−キノンジア
ジド化合物の感光性組成物中に占める割合は、5〜60
重量%が好ましく、特に好ましくは、10〜50重量%
である。 本発明のポジ型PS版の感光層は有機酸を含有すること
ができる。好ましい有機酸としては、25℃におけるp
ka値が2以上の有機酸が挙げられる。 上記pka値を有する有機酸としては、例えば化学便覧
基礎編■、丸善(株’) 1966年、第1054〜1
058頁に記載されている有機酸で、上記pka値が2
以上である化合物をすべて挙げることができる。 pka値が2以上である化合物としては、例えば安息香
酸、アジピン酸、アゼライン酸、イソフタル酸、p−ト
ルイル酸、β−エチルグルタル酸、ローオキシ安息香酸
、p−オキシ安息香酸、3.5−ジメチル安息香酸、3
,4−ジメトキシ酸、グリセリン酸、グルタコン酸、グ
ルタル酸、p−アニス酸、コハク酸、セパシン酸、β、
β−ジエチルグルタル酸、1.1−シクロブタンジカル
ボン酸、1,3−シクロブタンジカルボン酸、1.1−
シクロペンクンジカルボン酸、1゜2−シクロペンクン
ジカルボン酸、1.3−シクロペンクンジカルボン酸、
β、β−ジメチルグルタル酸、ジメチルマロン酸、α−
酒石酸、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタ
ル酸、7マル酸、β−プロピルグルタル酸、プロピルマ
ロン酸、マンデル酸、メソ酒石鹸、β−メチルグルタル
酒、β、β−メチルプロピルグルタル酸、メチルマロン
酸、リンゴ酸、■、1−シクロヘキサンジカルボン酸、
1.2−シクロヘキサンジカルボン酸、1.3−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、1.4−シクロヘキサンジカル
ボン酸、シス−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、n−カプ
リン酸、ペラルゴン酸、n−ウンデカン酸等を挙げるこ
とができる。その他メルドラム酸やアスコルピン酸など
のエノール構造を有する有機酸も好ましく用いることが
できる。上記有機酸の感光層中に占める割合は0.05
〜10重量%が適当であり、好ましくは、0.1〜5重
量%である。 本発明のポジff1Ps版の感光層は酸無水物を含有す
ることができる。好ましくは環状酸無水物であり、この
ようなものとして例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ
無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニ
ンドオキシー△4テトラヒドロ無水7タル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、
タロル無水マレイン酸、a−フェニル無水マレイン酸、
無水コハク酸、ピロメリット酸等が挙げられる。これら
の酸無水物は感光層中に0.05〜10重量%、特に0
.1〜5重量%含有されることが好ましい。 本発明のポジ型PS版において、0−キノンジアジド化
合物を含有する感光層にはアルカリ可溶性樹脂を含有さ
せることが好ましい。 このアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂、フ
ェノール性水酸基を有するビニル系重合体、特開昭55
−57841号公報に記載されている多価フェノールと
アルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が挙げられる。 上記ノボラック樹脂としては、例えばフェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
、特開昭55−57841号公報に記載されているよう
なフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載されて
いるようなp−置換フェノールとフェノールもしくはク
レゾールとホルムアルデビトとの共重縮合体樹脂等が挙
げられる。 前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標準)は、
好ましくは数平均分子量Mnが3.OOX 102〜7
.50X 103、重量平均分子量Myが1.00X 
103〜3.00X 10’、より好ましくはMnが5
.OOX 102−4.008IQ”%Myが3.00
X 10”−2,00X 10’である。 上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上
組合せて用いてもよい。 上記ノボラック樹脂の感光層中に占める割合は5〜95
重量%が適当である。 前記感光層にはフェノール性水酸基を有するビニル系重
合体を含有させることが好ましい。 このフェノール性水酸基を有するビニル系重合体として
は、フェノール性水酸基を有する単位を分子構造中に有
する重合体であり、下記−能代
〔9〕〜【13〕の少な
くとも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。 一般式〔12〕 一般式〔13〕 一般式
〔9〕 一般式〔IO〕 一般式(11) 一般式
〔9〕〜〔13〕において、R,及びR2はそれ
ぞれ水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表し、
好ましくは水素原子である。R8は水素原子、ハロゲン
原子又はアルキル基を表し、好ましくは水素原子又はメ
チル基、エチル基等のアルキル基である。R4は水素原
子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、
好ましくは水素原子である。Aは窒素原子又は酸素原子
と芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有してもよい
アルキレン基を表し、■は0〜1oの整数を表し、Bは
置換基を有してもよいフェニレン基又は置換基を有して
もよいナフチレン基を表す。 前記感光層に用いられる重合体としては共重合体型の構
造を有するものが好ましく、前記−能代
〔9〕〜〔13
〕でそれぞれ示される構造単位と組合せて用いることが
できる単量体単位としては、例えばエチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエチレ
ン系不飽和オレフィン’IR1例工Iiスチレン、α−
メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチ
レン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸
等のアクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無
水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えば
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−
ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、
アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α
−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、エタグリル酸エチル等のα−メチレン
脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えば
アクリルアミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド
、p−クロロアクリルアニリド、m−二トロアクリルア
ニリド、l−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類
、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸
ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチル
ビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド
、ビニリデンシアナイド、例えばl−メチル−1−メト
キシエチレン、1.1−ジメトキシエチレン、l、2−
ジメトキシエチレン、1.1−ジメトキシカルボニルエ
チレン、l−メチル−1−二トロエチレン等のエチレン
誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N−ビニルカル
バゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物、等の
ビニル系単量体がある。これらのビニル系単−23= 量体は不飽和二重結合が開裂した構造で高分子化合物中
に存在する。 上記の単量体のうち、脂肪族モノカルボン酸のエステル
類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れた性能を示
し、好ましい。 これらの単量体は重合体中にブロック又はランダムのい
ずれの状態で結合していてもよい。 上記ビニル系重合体の感光層中に占める割合は0.5〜
70重量%が好ましい。 上記ビニル系重合体は1種を用いてもよいし、又2種以
上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。 本発明の感光層には、さらに下記−能代〔14〕で表さ
れる置換フェノール類を感脂化剤として含有させること
が好ましい。 さらにまた、本発明の感光層には下記−能代〔14)で
表される置換フェノール類とアルデヒド類との縮合樹脂
及び/又は該樹脂の0−キノンジアジドスルホン酸エス
テル化合物を含有させることが好ましい。 一般式〔14〕 H 一般式〔14〕において、R1及びR7は各々水素原子
、アルキル基又はハロゲン原子を表し、R3は炭素原子
数2以上のアルキル基又はシクロアルキル基を表す。 一般式〔14〕において、R1及びR2が表すアルキル
基は、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、炭素
原子数1〜2のいアルキル基が特に有用である。R□及
びR2が表すハロゲン原子は、例えばフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素等で、特に塩素原子及び臭素原子が好ましい
。R8が表すアルキル基は好ましくは炭素原子数15以
下であり、炭素原子数3〜8のアルキル基が特に好まし
く、シクロアルキル基は炭素原子数3〜15のものが好
ましく、炭素原子数3〜8のものが特に有用である。 −能代〔14〕で表される置換フェノール類の例としで
は、イソプロピルフェノール、tert−ブチルフェノ
ール、tert−アミルフェノール、ヘキシルフェノー
ル、tert−オクチルフェノール、シクロヘキシルフ
ェノール、3−メチル−4−クロロ−5−tert−ブ
チルフェノール、イソプロピルクレゾール、tert−
ブチルクレゾール、tert−アミルクレゾール、ヘキ
シルクレゾール、tert−オクチルクレゾール、シク
ロヘキシルクレゾール等が挙げられ、そのうち特に好ま
しくはtert−オクチルフェノール及びtert−ブ
チルフェノールが挙げられる。 また、上記アルデヒド類の例としてはホルムアルデヒド
、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン
、クロトンアルデヒド、フルフラール等の脂肪族および
芳香族アルデヒドが挙げられ、炭素原子数1ないし6の
ものを包含する。そのうち好ましくはホルムアルデヒド
およびベンズアルデヒドである。 一般式〔14〕で表される置換フェノール類の感光層中
の含有量は0.05〜15重量%の範囲が好ましい。 上記該置換フェノール類とアルデヒド類とを縮合させた
樹脂は、−能代〔14〕により表される置換フェノール
と、アルデヒド類とを酸性触媒の存在下で重縮合して合
成される。使用される酸性触媒としては、塩酸、しゅう
酸、硫酸、リン酸等の無機酸や有機酸が用いられ、置換
フェノール類とアルデヒド類との配合比は、置換フェノ
ール類1モル部に対しアルデヒド類が0.7〜1.0モ
ル部用いられる。反応溶媒としては、アルコール類、ア
セトン、水、テトラヒドロフラン等が用いられる。 所定温度(−5〜120°C)、所定時間(3〜48時
間)反応後、減圧下加圧し、水洗いして脱水させて得る
か、又は水結析させて反応物を得る。 上記置換フェノール類とアルデヒド類との縮合樹脂の0
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は、
上記縮合樹脂を適当な溶媒、例えば、ジオキサン等に溶
媒させて、これに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
クロライドを投入し、加圧撹拌しながら、炭酸アルカリ
等のアルカリを当量点まで滴下することによりエステル
化させて得られる。 前記エステル化物において、フェノール類の水酸基に対
する0−す7トキノンジアジドスルホン酸クロライドの
縮合率(水酸基1個に対する反応率%)は、5〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜70%、更に好まし
くは30〜60%である。該縮合率は、元素分析により
スルホニル基の硫黄原子の含有量を求めて計算する。 前記感光層中に占める前記−能代〔14〕で表される置
換フェーノール類とアルデヒド類縮合させた樹脂および
該樹脂の0−ナフトキノンシアシトスルホン酸エステル
化合物(以下、これらを「感脂化剤(B)」という)の
量は0.05〜15重量%が好ましく、特に好ましくは
1〜10重量%である。 感脂化剤(B)は、重量平均分子量Myが好ましくは、
5.OX 102〜5.OX 103の範囲であり、更
に好ましくは、7.OX 10”〜3.OX 10”の
範囲である。その数平均分子量Mnは3.OX 102
〜2.5X103の範囲であることが好ましく、更に好
ましくは4.0X 102〜2、OX 10”の範囲で
ある。 感脂化剤(B)の化合物例を次に挙げる。 −i 30w (m : n =50: 50. Q’ を反応させる
前の樹脂のMw= 1500) (m : n =50: 50、Qを反応させる前の樹
脂のM w −1300) H 前記感光層の中には、上記の素材の他、必要に応じて更
に染料、顔料光の色素、可塑剤、界面活性剤、フッ素系
界面活性剤、露光により酸を発生し得る化合物などを添
加することができる。 更に前記感光層には、該感光層の感脂性を向上するため
に例えば、p−tert−ブチルフェノールホルムアル
デヒド樹脂やp−n−オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂や、これらが0−キノンジアジド化合物で部分
的にエステル化された樹脂などを添加することもできる
。 これらの各成分を通常用いられる溶媒に溶解させ、28
版用の支持体表面に塗布し、乾燥させることにより感光
層を設けて、ポジWPS版を製造することができる。塗
布量は、乾燥後重量で好ましくは0.5〜7 g/m’
の範囲である。 本発明に係る界面活性剤を含有する裏面層を設けるには
、前記高分子化合物及び前記界面活性剤を溶剤に溶解さ
せた塗布液を回転塗布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗
布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布、カ
ーテン塗布等の方法で28版の裏面に塗布すればよい。 本発明に係る界面活性剤を含有するオーバーコート層を
設けるには、上記裏面の場合と同様にして、前記高分子
化合物と前記界面活性剤とを含有する塗布液を28版の
感光層の上に塗布すればよい。 塗布溶剤としては、水、メタノール、エタノール、プロ
ピレングリコール等感光層を溶解しない溶剤を好ましく
用いることができる。 次に、本発明において、繰り返し使用する現像液(以下
、単に「現像液」という)は、好ましくは、水を主たる
溶媒とする(具体的には溶媒の50重量%以上が水であ
る)アルカリ性現像液である。 上記アルカリ剤としては、例えばケイ酸アルカす(ケイ
酸カリウム、ケイ酸ナトリウム等)、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリ
ウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第
ニリン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン
酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウ
ムなどのような無機アルカリ剤、モノ−ジー又はトリエ
タノールアミンおよび水酸化テトラアルキルのような有
機アルカリ剤及び有機ケイ酸アンモニウム等が挙げられ
る。アルカリ剤の現像液中の含有量は0.05〜20重
量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10重
量%の範囲である。 該現像液は、繰り返し使用の開始時からノニオン界面活
性剤及びカチオン界面活性剤から選ばれる少なくとも1
種を含有させることが好ましい。 該界面活性剤は、ポジ型28版の裏面又はオーバーコー
ト層に含有させるノニオン界面活性剤及びカチオン界面
活性剤として挙げた前記界面活性剤を用いることができ
る。該現像液中の該界面活性剤の濃度は、ノニオン界面
活性剤とカチオン界面活性剤との合計量で0.001〜
lO重量%が好ましく、より好ましくは0.01−1重
量%である。 前記現像液には有機カルボン酸を含有させることが好ま
しい。該有機カルボン酸は、好ましくは炭素原子数6〜
20の脂肪族カルボン酸、およびベンゼン環またはナフ
タレン環にカルボキシル基が置換した芳香族カルボン酸
である。 脂肪族カルボン酸としては炭素数6〜20のアルカン酸
が好ましく、具体的な例としては、カプロン酸、エナン
チル酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウ
リン酸、ミスチリン酸、バルミチン酸、ステアリン酸等
があり、特に好ましいのは炭素数6〜12のアルカン酸
である。また炭素鎖中に二重結合を有する脂肪酸でも、
枝分れした炭素鎖のものでもよい。上記脂肪族カルボン
酸は水溶性を高めるために、ナトリウムやカリウムの塩
又はアンモニウム塩として用いるのが好ましい。 芳香族カルボン酸の具体的な化合物としては、安息香酸
、0−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、0−ヒド
ロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ter
t−ブチル安息香酸、0−アミノ安息香酸、pアミノ安
息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2゜5−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2.3−ジヒドロキシ安息香酸、2
,3−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安
息香酸、没食子酸、l−ヒドロキシ−2−す7トエ酸、
3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−■
−す7トエ酸、■−す7トエ酸、2−ナフトエ酸等であ
るが、これらの中でも安息香酸類は特に有効である。上
記芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム
やカリウムの塩またはアンモニウム塩として用いるのが
好ましい。 前記現像液に添加する脂肪族カルボン酸、芳香族カルボ
ン酸の含有量は格別な制限はないがo、1重量%より低
いと効果が十分でなく、また10重量%以上ではそれ以
上の効果の改警が計れないばかりか、別の添加剤を併用
する時に溶解をさまたげることがある。従って好ましく
は0.1−10重量%の添加量であり、より好ましくは
0.5〜4重量%である。 前記現像液には更に添加剤を加えることができるが、そ
の中でも20℃における水に対する溶解度が10重量%
以下の有機溶剤は本発明の目的に対して特に効果的であ
る。 水に対する溶解度が10重量%以下の有機溶剤としては
、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸
アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコールモノブチル
アセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブチルのようなカ
ルボン酸エステル;エチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノンのようなケトン類;エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルベンジルエーテル、エチレングリコールモノブチルエ
ーテル、メチルフェニルカルビノール、nアミルアルコ
ール、メチルアミルアルコールのようなアルコール類;
キシレンのようなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレ
ンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベ
ンゼンのようなハロゲン化炭化水素などがある。これら
有機溶媒は一種以上用いてもよい。 該有機溶剤は、ネガ型とポジ型の両PS版に対して現像
性を向上するためのすぐれた添加剤であるが、同時にポ
ジ型23版に対しては画像部の皮膜を劣化させる欠点を
も有している。ポジ型23版は露光時にネガ型28版の
ような架橋反応を起こさないため、もともと現像が過度
になった場合の皮膜の劣化が大きく、有機溶剤の存在下
ではさらに劣化の程度が大きくなる。上記のごとき、ポ
ジ型23版の現像時の皮膜の劣化を防ぎ、かつネガ型2
8版を良好に現像するのに、現像液中にノニオン壓及び
/又はカチオン型界面活性剤を含有させることが効果が
ある。 本発明に係る現像液がネガ、ポジ両用の現像液である場
合、その現像母液のpHは12以上が好ましく、より好
ましくは12.5〜13.5の範囲である。このような
高いpH(pH12以上)でネガ型28版を現像した場
合、ある品種の版では現像されていながら印刷時に汚れ
を生じることがある。その汚れの程度はpHに依存性が
ありpHが高いほど汚れやすい。 このような高pHでネガ型28版を良好に現像し、印開
時の汚れをなくすためには、現像液に亜硫酸塩を含有さ
せることが非常に効果的であり、又、アニオン界面活性
剤の添加は、特に酸価の低い重合体を用いたネガ型28
版の現像促進に大きな効果を示す。 本発明の現像液には、水溶性又はアルカリ可溶性の有機
及び無機の還元剤を含有させることができる。 有機の還元剤としては、例えばハイドロキノン、メトー
ル、メトキシキノン等のフェノール化合物、フェニレン
ジアミン、フェニルヒドラジン等のアミン化合物があり
、無機の還元剤としては、例えば亜硫酸ナトリウム、亜
硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素ナトリ
ウム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩、亜リン酸ナト
リウム、亜リン酸カリウム、亜リン酸水素ナトリウム、
亜リン酸水素カリウム、亜リン酸二水素ナトリウム、亜
硫酸水素カリウム等のリン酸塩、ヒドラジン、チオ硫酸
ナトリウム、亜ジチオン酸ナトリウム等を挙げることが
できる。該還元剤は少なくとも0.1〜10重量%の範
囲含有することができる。 又、本発明における現像液には更に現像性能を高めるた
めに以下のような添加剤を加えることができる。例えば
特開昭58−75152号公報記載のNaCLKC(2
にBr等の中性等、特開昭59−190952号公報記
載のEDTA、 NTA等のキレート剤、特開昭59−
121336号公報記載の(Co(NHs)) aC(
2s等の錯体、特開昭56・142528号公報記載の
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドとア
クリル酸ナトリウムの共重合体等の両性高分子電解質、
特開昭58−59444号公報記載の塩化リチウム等の
無機リチウム化合物、特公昭50−34442号公報記
載の安息香酸リチウム等の有機リチウム化合物、特開昭
59−75255号公報記載のSi、 Ti等を含む有
機金属界面活性剤、特開昭59−84241号公報記載
の有機硼素化合物が挙げられる。 本発明における現像補充液は、現像処理自体による疲労
及び経時による疲労(空気中の炭酸ガスの吸収による)
によって消費される現像液中の成分を補充によって補い
現像液の活性度を回復させ得る組成のものでよい。 本発明は、前記のようにポジをPS版に前記界面活性剤
を含有させることによって前記界面活性剤をPS版から
補充するので、現像補充液には前記界面活性剤を含有さ
せる必要はない。 現像補充液中のアルカリ剤の濃度は、現像液中のアルカ
リ剤の濃度よりも大きいことが好ましい。 その濃度は好ましくは0.2〜30重量%、より好まし
くは0.5〜10重量%の範囲である。5i02濃度は
現像液と同等あるいはそれ以上であることが好ましい。 有機カルボン酸、有機溶剤、還元剤等の添加剤を用いる
場合、現像補充液中の濃度は現像液における濃度よりも
それぞれ大であることが好ましい。具体的には、現像補
充液中の濃度は現像液中の濃度の1.2〜1O90倍で
あることが適当である。 本発明方法において、前記界面活性剤を含有する裏面層
及び/又はオーバーコート層を有するポジ堅PS版と同
一現像液で共通に現像し得る該PS版以外のPS版には
、感光成分としてジアゾ化合物を含有するネガWPS版
、感光成分としてエチレン性不飽和二重結合を有する化
合物で光二量化反応を起こす化合物及び光重合反応を起
こす化合物、並びに酸で分解するC−0−C基を有する
化合物を用いるネガ型PS版が含まれる。上記ジアゾ化
合物を感光成分として含有するネガWPS版は、例えば
特開昭62−175757号公報の第6頁右上欄第8行
〜同頁右下欄第14行に記載されたようなネガをPS版
である。 〔実施例〕 以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 実施例1 厚さ0.31のアルミニウム板を硝酸溶液中で電気化学
的に粗面化し、よく洗浄した後硫酸溶液中で陽極酸化を
行って2.5g/m”の酸化皮膜を上記アルミニウム板
表面上に形成させた。 水洗、乾燥後、特開昭56−1044号公報の実施例に
従って合成したレゾルシンベンズアルデヒド樹脂とナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロライ
ドとのエステル化物3重量部、タレゾールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂9重量部、2−トリクロロメチル−
5−(β−(2−ベンゾフリル)ビニ=40 ル)−1,3,4−オキサジアゾール0.09重量部、
ビクトリア・ピュア・ブルーBOH(保土谷化学工業株
式会社製) 0.12重量部を2−メトキシエタノール
100部に溶解した感光液を上記支持体上に塗布乾燥し
、2.8g/a”の感光性層を設けた。 次に、この感光性層の上に下記組成のオーバーコート層
を乾燥重量が1−5g/n+”になるように塗設した。 (オーバーコート層組成物) スワノール CA −1000,01重量部(日光ケミ
カルズ(株)社製 カチオン界面活性剤) ポリビニルアルコール      10重量部水   
              200重量部このように
して得られたPS版をステップタブレット(コダック社
製)No、2)を通じて2kWメタルハライドランプを
用いて30秒間露光を与えた。 このPS版を自動現像機PSK−910(コニカ(株)
製)を用い、ポジPS版用現像液5DR−1(コニカ(
株)製)を水で6倍に稀釈した現像液で多数枚連続処理
した。また、補充装置として5RC−3(コニカ(株)
製)を用い、補充液は5DR−IR(コニカ(株)製)
を使用して現像補充を行なった。 前記28版を1週間かけて500版処理して階調性(ク
リアー段数とベタ段数の差)を調べたところ、処理開始
時の階調性は7.5段で1週間後の終了時は7.0段で
階調性の変動は小さく、印刷時も特に問題を生じなかっ
た。 比較例1 実施例1で製造した28版のオーバーコート層のない2
8版を用意し、実施例1と同様に露光、現像処理を行な
い、処理開始時と500版処理後の階調性を調べたとこ
ろ、処理開始時の階調性が7.5段であったのに対し、
500版処理後の階調性は9.0段と軟調となり、印刷
時の網点再現性やはり込み後、膜べり等で問題を生じる
ことがあった。 実施例2 厚さ0.24mmの封31050アルミニウム板を2%
の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、脱脂処理を行っ
た後に、希塩酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よく
洗浄した後に、希塩酸溶液中で陽極酸化処理を行って2
.5g/m2の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に
形成させた。 得られたアルミニウム板を水洗、乾燥後、下記組成の感
光液を乾燥重量2.5g/n+”となるように塗布し、
さらに下記組成の裏面層組成物を乾燥重量1.2g/+
”となるように塗布し、乾燥して裏面層を有するポジW
PS版を得た。版の寸法は1003mm10O3■とし
た。 (感光液) レゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂の ナフトキノン−1,2−ジアジド(2)−5−スルホン
酸エステル(特開昭 56−1044号公報の実施例1に記載されているもの
)       ・・・ 1重量部クレゾール−フェノ
ール− ホルムアルデヒド樹脂    ・・・ 3重量部ter
t−ブチルフェノール−ベンズ アルデヒド樹脂のナフトキノン 1.2−ジアジド(2)−5−スルホン酸エステル(特
開昭60−31138号公報の実施例1に記載されてい
るもの) 0.1重量部 クリスタルバイオレット (B、A、S、F、製染料)     ・・・0.05
重量部エチレングリコールモノメチルエーテル・・・ 
20重量部 (裏面層組成物) ニラコールBO−500,1重量部 (日光ケミカルズ(株)製 ノニオン界面活性剤) ゼラチン             10重量部水  
                200重量部酸化ケ
イ素粒子(径5〜10μm)    0.3重量部一方
、厚さ0.24IllIIlのJIS1050アルミニ
ウム板を20%リン酸ナトリウム水溶液に浸漬して脱脂
し、希硝酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よく洗浄
した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って1.5g
/m”の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に形成さ
せた。 =44− 得られたアルミニウム板を、さらにメタケイ酸ナトリウ
ム水溶液中に浸漬して封孔処理を行い、水洗、乾燥した
後に、下記の感光液を乾燥重量2.0g/m2となるよ
うに塗布し、乾燥してネガ型PS版を得た。版の寸法は
10010O3800mmとした。 (感光液) p−ジアゾジフェニルアミンと パラホルムアルデヒドとの縮合物 のヘキサフルオロ燐酸塩    ・・・ 1重量部N−
(4−ヒドロキシフェニル メタクリルアミド共重合体 (特開昭57−43890号公報の 実施例1に記載のもの)    ・・・10重量部ビク
トリア・ピュア・ブルー・BOH (保土谷化学(株)製、染料)   ・・・0.2重量
部エチレングリコールモノメチルエーテル・・・100
重量部 上記ポジ2fflPS版及びネガ型ps版に透明の原稿
フィルムを密着させて2キロワツトのメタルハライドラ
ンプで70cmの距離から、30秒間露光を行った。 一方、自動現像機PSK−910(コニカ(株)製)に
下記現像母液を仕込んだ。 (現像母液) β−アニリノエタノール       5重量部プロピ
レングリコール       5重量部2−ヒドロキシ
−3−ナフトエ酸    lo重量部p−tert−ブ
チル安息香酸      2o重量部50%水酸化カリ
ウム水溶液    50重量部エヤルゲン147   
      0.3重量部(花王(株)製ノニオン界面
活性剤) Aケイ酸カリ            36重量部(日
本化学工業(株)製) 亜硫酸カリウム          12重量部水  
               1500重量部最後に
PHを25℃で12.90に調整した。 また、現像補充液として下記組成のものを用い、PS版
5 m2処理ごとに補充した。 (現像補充液) β−アニリノエタノール       5重量部プロピ
レングリコール       5重量部2−ヒドロキシ
−3−ナフトエ酸    lO重量部p−tert−ブ
チル安息香酸      20重量部50%水酸化カリ
ウム水溶液    60重量部亜硫酸カリウム    
      12重量部Aケイ酸カリ        
   100重量部(日本化学工業(株)製) 水                  1500重量
部最後にPHを25℃で13.30に調整した。 このようにして多数枚のネガ型及びポジ型23版をラン
ダムに処理した。その結果、ネガ型28版もポジをPS
版も良好に安定して現像処理することができた。 しかも、現像液中のノニオン界面活性剤の含有量が一定
しているため両板とも階調性の変動がほとんどなかった
。 比較例2 実施例2において、ポジ型23版の裏面層にノニオン界
面活性剤を添加しないで、現像補充液に、裏面層に添加
したのと同じノニオン界面活性剤を添加して実施例2と
同様に連続処理した場合、ネガ型PS版を処理した場合
とポジPS版を処理した場合ではノニオン界面活性剤の
消費量が異なるが、現像補充液は版の処理面積に応じて
補充されるため、ネガをPS版とポジ型23版の処理比
率により、現像仕上がり、特に階調性に変動が生じてし
まった。 〔発明の効果〕 本発明によれば、自動現像機を用い、現像補充液を補充
して繰り返し使用する現像液で長期に互って処理を行う
現像処理において、ポジ型23版の現像処理における現
像仕上がりの安定性が改良され、また、ポジff1Ps
版とネガ型28版とを同一の現像液で共通に現像処理す
る場合、ポジ型23版とネガ型28版の両者を安定した
仕上がりで現像することができる。 上記効果は、処理されるPS版の面積の応じた補充量を
補充することができ、現像液中に界面活性剤の過不足を
生じることがないこと、及び一つの現像液でネガ型28
版とポジ型23版を共通に現像する場合、ネガ型28版
には必要のないノニオン界面活性剤及び/又はカチオン
界面活性剤がネガ型28版を処理した場合でも補充され
てしまい、ポジ型23版の現像仕上がりが一定しなくな
る問題が解消することによる。 更に、本発明によれば、ポジWPS版の軟調化現象を改
良する効果があるノニオン界面活性剤及びカチオン界面
活性剤を現像補充液によらす、PS版に含有させ現像液
に溶出させて補充することにより、現像補充液に溶解し
にくい界面活性剤でも用いることができるという効果も
得ることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ポジ型感光性平版印刷版を画像露光後、繰り返し使用す
    る現像液で処理する現像処理方法において、ポジ型感光
    性平版印刷版の裏面又はオーバーコート層の少なくとも
    1つにノニオン界面活性剤及び/又はカチオン界面活性
    剤を含有させることを特徴とする感光性平版印刷版の現
    像処理方法。
JP8319389A 1989-03-31 1989-03-31 感光性平版印刷版の現像処理方法 Pending JPH02262148A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1455234A1 (en) * 2003-03-03 2004-09-08 Fuji Photo Film B.V. Method to reduce precipitation in developers for lithographic printing plates
EP1457838A1 (en) * 2003-03-03 2004-09-15 Fuji Photo Film B.V. Method to reduce precipitation in developers for lithographic printing plates

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1455234A1 (en) * 2003-03-03 2004-09-08 Fuji Photo Film B.V. Method to reduce precipitation in developers for lithographic printing plates
EP1457838A1 (en) * 2003-03-03 2004-09-15 Fuji Photo Film B.V. Method to reduce precipitation in developers for lithographic printing plates

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