JPH02263344A - 情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光学的読出し方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は情報の熱磁気的記録技術とそこに使用される記
録素子とに関するものである。

（従来の技術） 情報の熱磁気的記録は記録方法の一つであって、例えば
ｒＰｈｉｌｏｐｓ　Ｔｅｃｈｎ、　Ｒｅｖ、４２　Ｊの
１９８５年に発行されたＮα２の５１〜５８頁に記載さ
れて、本質的には既知である。この方法では基板とその
上に設けられた記録層とを有する記録素子が用いられる
。

情報の熱磁気的記録においては、例えば、約８２０ｎ■
の波長を有するアルミニウムガリウム砒素（ＡＩＧａＡ
ｓ）レーザーから生じるレーザー光に露光される。レー
ザー光ビームはレンズシステムによって記録層上へ焦点
を合わされる。熱磁気的記録層は磁化容易軸がこの記録
層面に垂直な垂直異方性を有する磁気記録材料を含む。

レーザー光ビー、ムに露光された位置では、磁気材料の
温度が増大し、従って加熱された範囲の磁化の方向が反
転される。この反転は隣接した磁気材料の磁界との相互
作用に応答して自然に起こり得る。好適には、磁化の方
向は磁界の方向が記録層の磁化の方向と反対の外部磁界
によって反転される。露光の後に磁気材料は冷却し、磁
化の変えられた方向が固定される。反対の磁化方向を有
する範囲が記録された情報を表示する。この情報は偏光
面の回転を基礎として、偏光されたレーザー光の助けに
よって読出しできる。この回転は偏光された光の反射の
場合にカー効果（Ｋｅｒｒ　ｅｆｆｅｃｔ　）として知
られ、偏光された光の伝達の場合にはファラデー効果（
Ｆａｒａｄａｙ　ｅｆｆｅｃｔ）として知られている。

情報の熱磁気的記録が可能な磁気材料は２つの種類まで
は既知である。前記垂直異方性が明らかな多くの磁気材
料が既知であることは注意すべきである。然し乍ら、前
記２つの種類に属するこれらの磁気材料の少数のみが、
熱磁気的記録に適すことが見出された。

熱磁気的記録については材料が非常に厳密な要求を充た
さねばならないから、このことは非常に驚くべきことで
はない。それに加えて、これらの要求はしばしば対立す
る性質であり、即ち言うならば、一方の必要な特性を充
たすと他方の必要な特性を充たすことがもっと困難にな
ることを意味する。熱磁気記録材料が充たすべき種々の
要求は以下のごとくである。

（ａ）　　その材料が垂直な磁気異方性を有すること。

（ｂ）　　その材料が周囲温度において高い保持力を有
する直角なり０曲線（即ち、１００％の残留磁気）を有
すること。

（Ｃ）　　その材料が高い磁気光学的良度指数Ｒθ２を
有すること。ここでＲは反射率を表し、θは記録材料と
の相互作用による光の偏光面の回転を表す。

同　その材料は比較的低いキュリー温度Ｔｃを有するこ
と。

（ｅ）　　その材料は良好な切り替え特性を有すること
。その結果として、切り替えは種々のレーザー能力で且
つ使用される（外部）磁界の最小の強さで働かされ得て
、その強さは好適には４０ｋＡ／ｍよりも小さい。

（ｆ）　　その材料は低いディスク雑音と書込み雑音と
を有すること。

（（２）その材料は低温で正確に動作できねばなめこと
。

（ハ）その材料は適当な物理的及び化学的安定性を有さ
ねばならぬこと。

前記要求を適度に充たす材料の２つの種類は下記のごと
くである。

（１）特に１９８７年発行のｒＡｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、
　Ｌｅｔｔ、　２２３３７」に記載されたような、無定
形の希土類材料と遷移金属との合金の種類。

衆知且つ適切に有能なこの種類の材料は、例えば、ガド
リニウム・テルビウム・鉄（ＧｄＴｂＦｅ）又はテルビ
ウム・鉄・コバルト（ＴｂＦｅＣｏ）である。

（２）酸化化合物の種類。

この種類では（単）結晶柘榴石（ｇａｒｎｅｔ）とフェ
ライトの間で別の区別がされ得る。単結晶柘榴石層の助
けによる熱磁気的記録は、特に１９６５年発行のｒＪ、
　Ａｐｐｌ、　Ｐｈｙｓ、　３６　１１１０Ｊに開示さ
れている。フェライトの使用は米国特許ＵＳ　４５８６
０９２に記載されている。

（発明が解決しようとする課題） 前述の種類の従来技術による熱磁気的記録材料の使用は
下記の欠点を有する。

フェライト・はこの材料により生じる雑音が比較的高い
という欠点を有する。これが低い信号対雑音比（ＣＮＲ
）を起こすので、これらの材料は、例えはビデオ（映像
）信号の記録にはそれほど適しない。別の欠点は、この
フェライト層は高温において記録層中へ処理されねばな
らぬことである。従って、これらの材料は、例えば４０
０〜５００°Ｃのスパッター溶着により基板上に溶着さ
れる。これは基板がそのような高温に耐え得ねばならぬ
ことを意味する。これ故に、合成樹脂基板又は合成樹脂
層により覆った基板を使用することは充分可能というわ
けではない。しかし合成樹脂基板又は合成樹脂層により
覆った基板の使用は、まさに大変実際的に重要なことで
ある。すなわち、そのような合成樹脂では、単純な安価
な方法で、例えば螺旋状溝の形状で、ガイドトラックを
形成することが可能である。このガイドトラックによっ
て、書込み及び読出し処理におけるレーザー光が案内さ
れ且つ制御され得る。

柘榴石を含む単結晶性粘土金属は、それらの製造が非常
に高価であるという不利を有する。実際には、この型の
単結晶性層は熱磁気的記録には全く又は少ししか適さず
、実際に特殊な、専門の応用にのみ適する。そのような
単結晶性層が設けられた基板は、非磁性の単結晶柘榴層
材料でなければならない。この場合にも前述の欠点は存
在し、すなわち合成樹脂材料を含む基板の使用は除外さ
れる。これに加えて、これらの材料は、それらが非常に
高い透過度を有するので、書込みレーザー光の結合度、
すなわちエネルギー移動が非常に低い。

今まで最もを望な層であると立証されてきたガドリニウ
ム・テルビウム・鉄又はテルビウム・銖・コバルトを基
礎とした熱磁気的記録は、強い腐食（酸化）感応性の重
要な不利を有する。その結果としてこの層は短い時の経
過後はもはや記録に適さず、且つそれに加えて既に蓄積
された情報も失われる。この欠点を回避するために保護
層の使用が提案された。然し乍ら、これは部分的に腐食
の問題を回避するだけである。その上、これが記録素子
の構造を付加的に複雑化し、それ故に記録素子が一層高
価になる。

情報の熱磁気的記録における粘土金属と遷移金属との使
用の別の欠点は、この材料の磁気光学的効果の大きさで
ある。ここでは磁気光学的効果は読出しに際して用いら
れる偏光レーザー光の偏光面の回転を意味すると理解さ
れねばならない。以下に詳細に説明するごとく、この効
果の大きさが熱磁気的に記録された情報の読出し時に基
本的な役割を演する。この効果の大きさが不幸にも、よ
り短い読出しレーザー光の波長において、もっと詳細に
言えば現在上として用いられている読出し波長に対して
低減する。さて、例えば一般に青レーザー（ｂｌｕｅ　
１ａｓｅｒ）と呼ばれる短波レーザー光が使用できる場
合には、書込み及び／又は読出しが一層高い密度で達成
できる。

（課題を解決するための手段） 本発明は、先の本発明が解決しようとする課題の項で述
べた欠点と問題点とを持たない、情報の熱磁気的記録と
蓄積された情報の光学的読出しの方法を提供する。

より詳細には、本発明は、基板とその上に設けられた多
重層の形の記録層とを有する記録素子が用いられ、前記
多重層は複数の一層当たり１．２ｎｍを超えない厚さの
磁性の主にコバルトを含む層と、複数の各々が少なくと
も一つの遷移元素を含み且つ各々が２．４ｎｍを超えな
い厚さを有する非磁性層とを具え、これら磁性層と非磁
性層とが交互に張られ且つこの多重層の全体厚さが７５
ｎｍを超えず、それに加えてこの多重層は基板面に垂直
な磁化容易軸を有し、この多重層が部分的にレーザービ
ームに露光されてこれらの位置で多重層の温度が増大し
、この露光された位置の磁化の方向が反転され、情報ビ
ットを構成するこの反転された磁化を有する位置が偏光
面の回転を基礎として偏光されたレーザー光によって読
出される、情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光学
的読出し方法に関する。

先ず、本発明の動作のモードについて述べる。

本発明の方法に用いられる記録素子は、熱磁気的記録に
対して新しい型の記録層を有する。以下に非常に詳細に
述べるように、ここに用いられる多重層の種類は、熱磁
気的記録材料の２つの既知の先に定義した種類を基礎と
する従来技術の記録層の特性と同等か、又はそれよりか
なり良好な多くの特性を有する。“主としてコバルトを
含む”とはその磁性層が少なくとも９０％のコバルトを
含むことであると理解すべきであることは注意されたい
。然し乍ら、このコバルトと非磁性遷移元素とのいくら
かの相互拡散が、磁性層と非磁性層との境界で起こり得
ることは注目される。その場合には、特にコバルト層が
０．６ｎｍより薄い場合に、磁性層内のコバルトの量が
より少なくなることがある。“遷移元素”°はここでは
、原子番号４４以上を有する周期表の■族とＩ−Ｂ族か
らの元素、もっと詳細に言えば白金、パラジウム、金、
ロジウム及びイリジウムのような元素であると理解され
るべきことも注意されたい。

本発明による熱磁気的記録方法に用いられる多重層の形
での記録層は、化学的にも物理的にも非常に安定してい
る。特に、この記録多重層には腐食問題が生じないので
、この記録素子は長期間にわたり使用可能であり、熱磁
気的に蓄積された情報が失われない。記録材料の磁性領
域の磁化の方向が、化学的及び／又は構造的変化をこの
記録多重層内に観察され得ることなく、少なくとも千回
は変化され得ることが反復書込み試験で実証された。

本発明により用いられる熱磁気的記録層の磁気光学的効
果は、例えば５０ｄＢあるいはそれ以上の高い信号対雑
音比が、３０ｋＨｚの帯域幅で、Ｉ　ＭＨｚの搬送波で
且つ５ｍ／ｓの線形速度において達成できるほど充分高
い。非磁性層としての白金及び／又はパラジウムを含む
特殊多重層は、信号対雑音比がそのように高い値を示す
。読出しレーザー光の比較的短い波長によって、この効
果はなおもっと驚くほど増大し、且つこの効果はガドリ
ニウム・テルビウム・鉄を基礎とした従来技術の材料の
磁気光学的効果よりさえも大幅に大きい。０．５ｎｍ厚
さのコバルト層と０．９ｎｍ厚さの白金層とにより形成
された多重層での４００ｎｍ波長での測定が、この効果
がガドリニウム・テルビウム・鉄の記録材料の約２倍で
あることを証明した。

本発明の方法に用いられる記録素子のキューリ温度（Ｔ
ｃ）は低く、即ち７００°に以下である。コバルトと非
磁性材料とが別れた層に存在するのだからこれは驚くべ
きである。従って、もっと高いコバルト金属のキューリ
温度Ｔｃが期待された。この比較的低いキューり温度Ｔ
ｃは、この経過ではこれらの位置での磁化の方向の反転
に従ってこの多重層がそれのキューり温度Ｔｃ付近まで
部分的に加熱されるので、熱磁気的書込み処理に対して
非常に有利である。そのように低いキューリ温度Ｔｃを
有する磁性多重層に対して、反復書込み試験（１０００
回）において、この多重層の構造と性質とがキュ一り温
度Ｔｃまでの温度増加により全くあるいはひどくは影響
されないことが見出された。

本発明による方法に用いられる記録素子は、これに加え
て、Ｒが反射率でθがこの多重層のカー回転であるこれ
らの積Ｒ・θ２により決定される高い磁気光学的良度指
数を有する。良度指数のこの高い値は、熱磁気的記録に
対してこの場合の多重層の有利な使用に良好な影響を与
える。良度指数の値は読出しにおいて達成し得る信号対
雑音比に比例している。例えば５５ｄＢ又はそれ以上の
得られた高い信号対雑音比はビデオ情報の蓄積と読出し
とを可能にする。

使用される多重層の周囲温度における保磁力は比較的高
（、即ち３５ｋＡ／ｒａよりは下回らず、好適には８０
ｋＡ／ｍを下回らない。保持力のこれらの高い値が、熱
磁気的領域が周囲温度における快適な安定性を保証する
。

それに加えて、使用される記録素子は垂直異方性を有す
る。本発明に至る実験では、個別のコバルト層の厚さが
約１．２ｎｍより小さい場合にのみこのようであること
が立証された。

更にこの記録素子の記録層の厚さが非常に重要であるこ
とが見出された。この多重層の全体厚さが７５ｎｍより
も小さくなければならない。より大きい厚さでは熱磁気
的書込み手順の時に比較的早い熱放散が生じることが立
証された。その上、薄い多重層の熱容量が増加する厚さ
と共に増加する。

従って、書込み動作に対して必要なレーザーのエネルギ
ーがそれにつれて高くなり、それが実際の応用に対する
欠点となる。

記録素子中の本発明の方法により熱磁気的に書込まれた
領域（ビット）は完全な形状をしている。

書込まれた領域の不規則性がいわゆる書込み雑音を生じ
るのだから、これは大変重要である。この型の雑音が全
体雑音に一般に大きく影響を与えていることが見出され
た。この領域（ビット）の完全な形状によって、使用さ
れる記録素子の測定された雑音は非常に低くなる。この
書込み雑音がディスク雑音よりも小さいことが立証され
た。

これに関係して、領域の書込みが違った方法でも達成さ
れ得ることは注意しなければならない。

第１の方法に従うと、この記録素子がこの素子の記録層
の磁化の方向と反対向きの一定磁界中に保持される。情
報は記録層の変調されたレーザー光への露光により書込
まれ得て、磁化の方向が露光された位置で反転される（
レーザー変調技術）。

第２の方法に従うと、この素子の記録層の一範囲が連続
したレーザー光ビームへ露光される。この加熱された領
域中で、蓄積されるべき情報に従って変調された外部磁
界の助けによって、逆の磁化を有する情報ビットが書込
まれる。この磁界方向が筒速度で変えられる。これが磁
界変調技術と呼ばれる。両方性共、本発明による方法に
うまく応用され得る。一般に、磁界変調技術は、記録層
を最初に消す必要なしに、既に存在する情報が直接に書
き加えられ得ると言う利点を有する。それに加えて、書
込みレーザーと磁界との両方が変調される別の方法も用
いられ得る。

本発明による方法の有利な一実施例では、非磁性層が主
に白金から成る記録素子が用いられる。

主にとはここではこれらの層が最低９０％の白金を有す
ることを意味すると理解されねばならない。

そのような記録素子の酸化に対する特に高い不感応性か
ら、蓄積された情報ビットは非常な長期間光のままであ
ることが見出された。酸化に最も感応しない素子は完全
に白金のみから成る非磁性層を用いることにより得られ
る。

本発明による方法の別の有利な実施例では、非磁性層が
主に金から成る記録素子が用いられる。

主にとはここではこれらの層が最低９０％の金を有する
ことを意味すると理解されねばならない。そのような記
録素子の耐食性（ｃｏｒｒｏｓｉｏｎ　ｒｅｓｉｓｔａ
ｎｃｅ）に卓越している。

本発明による方法の別の有利な実施例では、非磁性層が
主にパラジウムから成る記録素子が用いられる。主にと
はここではこれらの層が最低９０％のパラジウムを有す
ることを意味すると理解されねばならない。卓越した耐
食性はさておき、そのような記録素子は高い保磁力を示
す。

本発明による方法の別の有利な実施例では、コバルトを
含む磁性層が０．６ｎｍの最大厚さを有する記録素子が
用いられる。そのような記録素子が用いられた場合には
、記録層が１００％の残留磁気（Ｍｒ／Ｍｓ　＝　１　
）を有することが見出された。最良の切り替え特性を与
えるためにこれが特に重要である。

別の好適な実施例では、多重層が４０ｎｍより大きくな
い全体厚さを有する記録素子が用いられる。

この厚さが使用されるレーザー光（レーザーエネルギー
１５ｍＷ）の浸透深さとほぼ一致することが立証された
。

本発明の方法に用いられる記録素子の別の興味ある実施
例は、磁性層の合計厚さＭと非磁性層の合計厚さＮとが
、式１＜Ｎ７Ｍ＜５によって定義される。この発明にお
ける計算と実験結果が、多重層の磁性層と非磁性層との
厚みがこの条件を充たすように選択された場合に、本発
明による方法においては非常に良好な書込み及び読出し
特性が得られることを示した。特にＮ７Ｍが１より小さ
く選択された場合には、記録層の残留磁気が比較的低い
ことが見出された。Ｎ７Ｍが５より大きく選択された場
合には、カー回転が比較的小さいように見える。

別の興味ある実施例は、個別のコバルトを含む層の厚さ
が０．３〜０．５ｎｍであり、且つ個別の白金又はパラ
ジウムを含む層の厚さが０．８〜１．２ｎｍである記録
素子が用いられることを特徴とする。この実施例では高
いカー回転が高い残留磁気と組み合わせて得られる。

本発明は本発明による方法に用いるのに適した記録素子
にも関連する。もっと詳細に言えば、本発明は、基板と
その上に多重層の形で張られた記録層とを有し、前記多
重層は複数の一層当たり１．２ｎｍの最大厚さを有する
磁性の主にコバルトを含む層と、複数の各々が少なくと
も一つの遷移元素を含み且つ一層当たり２．４ｎｍの最
大厚さを有する非磁性層とを具え、これら磁性層と非磁
性層とは交互に置かれ、この多重層の厚さは７５ｎｍを
超えず且つこの多重層が基板面に垂直な磁化容易軸を存
する記録素子に関するものである。

欧州特許出願ＥＰ−Ａ２４１０８０がコバルト層とパラ
ジウム層とを交互ち張られた多重層を有する磁気記録素
子を開示していることは注意されるべきである。ここで
は情報は磁気的に書込まれ、それで磁気ヘッドを用いる
ことにより、磁気ヘッドの磁界の影響のもとて磁化の方
向が部分的に反転される。

前記特許出願に記載された多重層の全体厚さは、１９０
ｎｎ＋を超える。

本発明による記録素子では、基板を介して情報が好適に
書込み及び読出される。その場合に、使用されるレーザ
ービームに透明でなければならない。記録と読出しとの
この形態では、基板の面上の何らの塵埃粒子又は何らの
他の汚染も、光ビームがこの記録層上へ焦点を合わされ
る対物鏡の焦点の外側にそれらがあるので、書込み又は
読出し品質を悪くしない。透明基板は、例えば、ガラス
、水晶又は、例えばポリカーボネート又はポリメタクリ
ル酸メチル（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ　ｍｅｔｈａｃｒｙ
ｌａｔｅ　）のような合成材料から作られる。

記録層に対向する側で基板の表面は、例えば普通は螺線
形状又は円形状の溝の形態で光学的に走査できるガイド
トラックを設けられている。この溝は部分的に、例えば
書込みと読出し手順とを制御する光学的に読出せる情報
ビットを設けられる。

この光学的に読出せる情報ビットは高レベルと低レベル
とで交互に置かれており、それが従ってはざまを備えた
形状を有するようにされたトラックを生じる。この情報
ビットは反射された光の位相差を基礎とした反射で読取
られる。磁気光学的記録はこの溝内とこの溝回転の間に
置かれた堰堤部分との両方で達成され得る。

ガラス基板が用いられた場合には、トラックはこの基板
上に設けられた個別の合成樹脂材料層中に好適に作られ
、例えば光硬化されたアクリル酸エステルから成ってい
る。記録層はこのときこの層の上に張られる。

記録層は更に防御被膜によって覆ってもよく、例えばこ
の層は、例えばアクリル酸エステルで作られた光硬化性
ラッカーから成っている。面白い特徴は本発明の２つの
記録素子を相互に接着又は固着する可能性であり、この
とき２つの素子の記録層は互いに対向する。

本発明による記録素子の興味ある一実施例では、誘電体
層が記録層と基板との間に置かれている。

この誘電体層は、例えば、無機酸化物、窒化物、セレン
化物その他を含む。適当な層の例は３１３Ｎ４１ＡＩＮ
、　Ｓｉｎ、　Ｓｉｏ２．　ＺｎＯ，ＺｎｔＯ２，Ｚｎ
５ｉＪｚ、　Ｚｎ５ｅ。

Ｚｒ０ｚ＋　Ｔ１０２１及び八ｌ’１ｒＮｚでできた層
である。このような層を使用すると高い良度指数となる
。

例えば、ガドリウム・テルビウム・鉄が用いられている
従来技術の熱磁気的記録素子では、誘電体層の選択は酸
化への感受性の観点で酸化されない材料に制限されるこ
とは注意すべきである。本発明による熱磁気的記録素子
に対してはこれは考えなくてよい。

非常な利点を有して用いることのできる本発明による別
の記録素子は、基板から遠い記録層の面に反射層が存在
することを特徴とする。そのような素子は基板を介して
のみ、読込まれ得て、また読出され得る。読出しに際し
ては、読出しレーザ−ビームは記録層を２回通過する。

反射層を有しない記録素子と比較して、反射層を有する
素子は検知された読出しビームのカー回転が、成る環境
のもとて大幅に増大すると言う特別の利点を有する。こ
の効果は反射層の材料と多重層の厚さに非常に影響され
る。例えば、４０〜５０ｎｍ厚さの記録層上へアルミニ
ウムの反射層を張ることにより、信号対雑音比に重要な
増大を与える。この反射層は普通は真空メツキかスパッ
タによる金属鏡により構成される。この鏡に適当な金属
はアルミニウム、金、銀、白金、銅及びチタンである。

本発明による記録素子の別の有利な一実施例では、誘電
体層が記録層と反射層との間に設けられている。この誘
電体層は好適には基板と記録層との間に張られた前述の
誘電体層と同じ材料を含む。

この誘電体層の使用は記録素子の良度指数がそれによっ
てなお一層改善され、従ってなお一層良好な信号対雑音
比が実現されると言う利点を有する。

このような第２誘電体層の貼付は、例えば４０ｎｍより
薄いような薄い記録層に対してのみ有利である。

好適には、記録層はそのとき１０〜２５ｎｍの厚さを有
する。

更に別の興味ある一実施例は、記録層が、各々多重層で
形成された少なくとも２つの記録層を含み、これら記録
層は磁気的に結合されておらず、これら記録層はスペー
サ層で互いに分離されており、且つこれら記録層の少な
くとも一方の厚さは４０ｎｍより小さい、本発明による
記録素子の態様である。実際には、熱磁気的及び磁気光
学的特性を快適に保ったままで、記録層が非常に薄くで
きることが見出された。より外側位置の−っ又は複数の
層がより内側に置かれた一つ又は複数の層を介して書込
み又は読出されねばならぬので、そのような薄い層が多
重層システムでは必要である。それ故に、より内側位置
での一つまたは複数の層は、より外側に置かれた層へ達
するように、用いられるレーザー光に関していくらがよ
い透明度をなお有さねばならない。この意味において、
より内側に置かれる層は４０ｎｍより薄（、もっと詳細
に言えば１０〜３０ｎｍ厚さでなくてはならない。これ
に関連して、無定形の粘土金属と遷移金属との合金を基
礎とした従来技術の熱磁気的記録材料による多重層記録
素子は不可能である。この既知の材料の酸化に対する感
応度は薄い層は快適な寿命を持たないほどに高い。

特に有利な場合は、スペーサ層が有機重合体を含み、好
適には、例えばアクリル酸エステルを基礎とした光重合
されたラッカーを含む場合である。

多重層から成る記録層が各々複数の磁性層と非磁性層と
を有する書込みセクター及び平行に延在する読出しセク
ターから構成され、個別の磁性層の厚さ（Ｍ）と個別の
非磁性層の厚さ（Ｎ）とが、読出しセクターの（Ｎ／Ｍ
）　＜書込みセクターの（Ｎ／Ｍ）なる関係を維持する
ように選択されている、記録素子の態様も特に重要であ
る。記録素子における多重層から成る記録層の使用は、
記録層での記録機能と読出し機能とを分離することを可
能にし、それらを個別に最良化することを可能にする。

読出し手順が主として達成される多重層のセクター（読
出しセクター）でのカー回転を増大させることによって
これが実現される。そのような増大はこのセクター内の
磁性層の相対厚さを増大させることにより達成される。

熱磁気的書込み手順が主に達成される他の、セクター（
書込みセクター）では、個別の磁性及び非磁性層は、そ
の多重層の特性が熱磁気的記録用に最も良く適するよう
に選択されねばならない。実際には、読出しセクターの
コバルト含有量が書込みセクターのコバルト含有量を超
えることをこれが意味することが見出された。

そのような記録素子に対して、読出しセクターの全体厚
さと記録セクターの全体厚さとが１：３の比であること
を好適に維持する。そのような記録素子に対して、読出
しセクターの（Ｎ／Ｍ）　＝　３／２であり且つ記録セ
クターの（Ｎ／Ｍ）　＝　９／４である特徴を有するこ
とが有利さを更に維持する。

読出しセクターの非磁性層は本質的に白金を含み、書込
みセクターの非磁性層は本質的にパラジウムを含む、記
録素子の実施例も面白い。この実施例は単一の記録多重
層内での記録の必要条件と読出しの必要条件とのそれ以
上の最適化を可能にする。

この記録素子に用いられる多重層は、個別の磁性層と非
磁性層との物理的な真空めっきによる既知の方法で得る
ことができる。真空蒸着、例えば電子ビーム蒸着（ｅ−
ｂｅｓｍ　ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）による堆積が、堆
積された多重層がスパッタリングによって得られた保磁
力Ｈｃ値よりも高い保磁力Ｈｃ値を示すことが見出され
た。これはコバルト−白金多重層に対して特に維持され
る。蒸着による金属層は、表面に衝突する金属原子のよ
り低い運動エネルギーのために、異なる金属層の間にス
パッタリングにより得られたものより鋭い推移が得られ
、金属原子の少ない相互拡散へ導くことが考えられる。

各層の厚さは金属源の温度の影響及び／又は個別の元素
の堆積時間とにより本質的に知られる方法で実現され得
る。

その素子の第２記録層へ磁気的に交換結合された（ｅｘ
ｃｈａｎｇｅ−ｃｏｕｏ　１ｅｄ）多重層により構成さ
れた磁気記録層を有する記録素子も興味ある一素子であ
る。第２記録層も多重層によって形成でき、あるいは、
例えばガドリニウム・テルビウム・鉄又はテルビウム・
コバルト・鉄を基礎とした既知の記録材料から構成でき
る。欧州特許出願Ｎｏ、２５８９７８に特に記載されて
いるように、この型の記録素子は“ｄｉｒｅｃ　ｏｖｅ
ｒｗｒｉｔｅ”として知られた型の熱磁気的記録方法に
用いるために興味ある可能性を提供する。この記録方法
における少なくとも一つの多重層の使用は、合計層厚さ
が非常に制限できると言う利点を有するので、必要な書
込みレーザーエネルギーが小さくなる。それに加えて、
交換結合された薄い層、例えば３０層ｍより小さい厚さ
であるが好適には２０層ｍより小さい厚さを有する層は
、この結合がもっと厚い層よりも非常に効率よく生じる
と言う利点を有する。

（実施例） 以下、添付の図面に示した実施例を参照しつつ本発明を
より詳細に説明する。

先ず、熱磁気的記録素子の生産について述べる。

５インチの直径を有するガラス基板１　（第１図参照）
はアクリラー）　（ａｃｒｙｌａｔｅ）を基礎とした光
重合可能なラッカーの層２で覆われている。先ず非硬化
のラッカーが基板と母型との間に塗られる。

この母型の表面には必要なガイドトラックのネガが設け
られている。このラッカーが基板を通して紫外線に露光
することにより硬化される。その後この母型は除去され
る。この方法で溝３の形態にガイドトラックが作られる
。このトラックは高レベル４と低レベル５とで交互に置
かれた光学的に読出しできる情報ビットにより構成され
た制御情報が備えられている。高レベルと低レベルとに
おいてビットから生じる反射光中の位相差を基礎として
、図示されていない弱いレーザー光ビームの助けによる
反射でこのビットが読出される。層２はスパッタリング
法によって８０層ｍの厚さを有する窒化アルミニウム（
７／！Ｎ）から成る誘電体層６で覆われる。多重層（第
１Ａ図参照）の形態の磁気光学的層７がこの誘電体層の
上に真空めっきされる。

この目的のために、Ｎ２と６とを備えた基板１がペルジ
ャー内に置かれ、その後そのペルジャーは４　Ｘ　１０
−　”ｍｂａｒの圧力に減圧される。０．２４層ｍの厚
さを有するコバルト層と１　、７４層ｍの厚さを存する
白金層とが、順次に電子ビーム蒸着（ｅ−ｂｅａｍ　ｅ
ｖａｐｏｒａｔｉｏｎ　ｄｅｐｏｓｉｔｅ）される。こ
れらの層は第１八図に示され、コバルト層は７ａで示さ
れており、白金層は７ｂにより示されている。このコバ
ルトと白金とを堆積している間は、圧力が５　Ｘ　１０
−　’ｍｂａｒに保持される。白金とコバルト金属の堆
積速度は水晶発振器の助けによって０．１〜０．２ｎｍ
／ｓの間の速度で一定に保持される。金属蒸気流はシャ
ッターで制御される。この多重層の全体厚さは約５０ｎ
ｍである。

白金層とコバルト層との合計数はこの場合には５０であ
る。明瞭化のために１０層のみを第１Ａ図に示した。多
（の場合には、例えば３０層ｍの厚さを有するアルミニ
ウム、銀、金、チタン、銅又は白金の金属の反射層７ｃ
が記録層上に蒸着され、従って多重層７ａ、　７ｂと誘
電体層６と一緒に“三重層”構造を形成する。成る場合
には、第１図及び第１Ａ図には図示していない第２誘電
体層が、“四重層”構造と達成するように、多重層と反
射層との間に張られる。

次に、本発明による方法を実行する装置について述べる
。

第２図は前述の記録素子が使用される情報を熱磁気的に
記録し且つ光学的に読出す装置を示す。

図において、参照符号８は８２０ｎｏ＋の波長を有する
パルス化された光ビーム９を発生するアルミニウム・ガ
リウム・砒素（Ａ　１２　ＧａＡｓ）　レーザーを示す
。

この光ビームは記録されるべき情報に従ってパルス化（
変調）されている。この光ビーム９は０．３の開口数（
ＮＡ）を有する対物鏡１０を通過する。このレーザービ
ームの非点収差は円筒レンズ１１を通過することにより
修正される。平行ビーム１２がその後半透明鏡（ｐａｒ
ｔｉａｌｌｙ　ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ　ｍ１ｒｒｏｒ
）１３と偏光分割立方体（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ　
５ｐｌｉｔｔｅｒ−ｃｕｂｅ）１４とを通過し、該偏光
分割立方体はレーザー光の平行偏光成分を伝達し、一方
垂直成分は反射される。伝達された線形に偏光された光
が小さい角度だけ偏光方向を動かすファラデー回転器１
５を通る。

その後、この線形に偏光された光は０．６の開口数（Ｎ
Ａ）を有する対物鏡１６によって、磁気光学的記録素子
１８の記録層１７上へ焦点を合わされる。この記録素子
は第１図及び第１Ａ図に示した記録素子と同じである。

従って、この記録層１７はコバルト層と白金層とを交互
に積み重ねられ、ガラス基板１９上に設けられた多重層
である。記録層の光への露光が前記基板１９を介して達
成される。露光された場所では光吸収に影響されて、温
度がほぼキューリ温度に増大する。コイル２０により発
生する２Ｘ１０’Ａ／ｍの起磁力を有する磁界によって
、記録層の磁化方向が露光された場所では１８０°回転
され、従って磁化の反転された方向を有する情報ビット
を形成する。

情報の記録を第１Ｂ図で更に図解する。この図において
、参照符号３０はガラス基板（図示せず）に張られた誘
電体層を示す。誘電体層３０は多重層３１を設けられて
いる。明瞭化のために、多重層３１のうちの４つの補助
層のみが図示しである。それ故、誘電体層３０はコバル
ト３２．白金３３．コバルト３４及び白金３５の真空め
っき層を設けられている。二の多重層３１が矢印４２に
よって示したように、誘電体層３０を介して、変調され
たレーザー光に露光される。破線の境界面３８．３９の
間に位置する露光された点３７では、多重層の温度がキ
ューリ温度（約７００”Ｋ）まで上昇する。これは境界
面４０と４１との間の露光点３６でも起こる。多重層の
磁化方向が磁気的コバルト層３２と３４内の矢印４４に
より示されている。

方向が矢印４３により指示され、値が２Ｘ１０’八／Ｉ
ｌｌの外部磁界が板を交差して印加される。露光された
点３６と３７とでは、磁化の方向が磁界４３に応答して
反転される。これが磁気的コバルト層３２と３４内の矢
印４５により示されている。

蓄積された情報の読出しを第２図を参照して更に図解す
る。＾ｆ！　ＧａＡｓレーザー８から来る、エネルギー
では弱い連続光ビームが書込みビーム９．１２について
先に説明したのと同じ光路に沿って進行する。記録層１
７の情報ビットに対する線形に偏光された光ビームの反
射に際して、部分的に変えられた磁化方向に応答して偏
光面が成る角度θ。

たけ（カー回転）回転される。反射された読出し光ビー
ムは再び対物鏡１６、ファラデー回転器１５を通り、そ
れから偏光分割立方体１４へ到達し、そこでは平行成分
が伝達される。半透明鏡１３から反射した後に、平行成
分２１が書込み過程での記録層１７上ヘル−ザー光ビー
ムの位置決めと焦点合わせ用の制御装置２２へ印加され
る。読出しビームの垂直な光成分２４は偏光分割立方体
により反射される。

この垂直成分２４は対物鏡２３を介して、カー回転を検
出するように、例えばツェナーダイオードで構成された
検出器２５へ焦点を合わされて集光される。

次にこの磁気光学的記録素子の測定について述べる。

（ａ）　　第１表は６つの記録素子についての光学的及
び磁気的測定の結果を示す。Ｒによって示された第１列
は試験参照番号を示す。第２列は多重層のそれぞれ１つ
の磁性層と１つの非磁性層とからなる２重層の数りを示
す。第３列と第４列とはそれぞれ個々のコバルト層と白
金層との厚さｔ　（ｒ＋ｍ）を示す。第５列はこの多重
層の波長８２０ｎＩｍにおけるカー回転θ、を示す。、
第６列はコバルトの単位体積当たりの異方性エネルギー
Ｋｅｆ　ｆ　（ｋＪ）を示す。

第７列はパーセントにして表現した残留磁気Ｍｒ／Ｍｓ
を示し、第８列は保持力Ｈｅ　（ｋＡ／ｍ）を示す。こ
の表は明らかに多重層中の垂直異方性が個々のコバルト
層の厚さが約１　、２ｎｍより小さい場合に得られるこ
とを示している。このときだけ異方性エネルギーＫｅｆ
ｆが正である。それに加えて１００％残留磁気は個々の
コバルト層の厚さが約０．６ｎｍより小さい場合に得ら
れることを示している。

第１表 ＲＬ　　ｔＣｏ　　ｔＰｔ　　θｙ　Ｋｅｆｆ　Ｍｒ／
Ｍｓ　Ｈｅ１２５０．２４１．７４−０．０６１０７４
１００４４２２２０．４５１．７７−０．１０８６５１
００７８３２００．７０１．７２−０．１２４７’５４
０５２４１９０．９２１．７４−０．１４２８４　１３
３３５１７１．４２１．７２−０．１８−１０１　６２
５６１４２．０２１．７？　−０，２５−２７１５２５
（ｂ）　　第３図はカー回転が印加される磁界Ｈの関数
として示されている、第１表に載せた実施例の磁気光学
的ヒステリシスループを示す。このループａ　−ｆは個
別の試験標本１〜６で測定された。

この図から１００％残留磁気は個々のコバルト層が約０
．６ｎｍより小さい場合に得られることもわかる。

（Ｃ）　　第４図は第１表に載せた試料の波長λ（ｎｍ
）の関数としての極性カー回転（ｐｏｌａｒ　ｋｅｒｒ
　ｒｏｔａｔｉｏｎ）θ　（度）の曲線を示す。この図
は明らかにこれらの多数層の極性カー回転は、比較的短
い波長が用いられた場合に増大することを示している。

これは、本発明にらる多重層の読出しはいわゆるスペク
トルの青領域で増大し、それがこの多重層をいわゆる青
レーザーと組み合わせて特に意味のあるものにすること
を示している。

（ｄ）　　第２表は磁気光学的記録素子に使用する別の
多重層のいくつかの光学的及び磁気的特性を示す。この
表も１００％残留磁気はコバルト層の厚さが０．６ｎｏ
＋より小さい場合に得られることを示している。

第２表 ＲＬ　　ｔＣｏ　　ｔＰｔ　　０ｗ　Ｍｒ／Ｍｓ　ｌ１
ｃ７　３５０．３１１．３０−０．１０　１００８８８
　３００．３０１．５５−０．０８　１００１００９　
３００．３１１．７４−０．０７　１００１００１０２
５０．３２１．９０−０．０７　１００８０１１　３０
０．４０１．２７−０．１２　１００１００１２３００
．３９１．４９−０．１１　１００１１２１３２５０．
４１１．７１−０．０９　１００１００１４３００．４
１１．９８−０．０７　１００１００１５３００．６２
１．３２−０．１３　２８８８１６２５０．６２１．４
３−０．１２　３０６５１７２５０．６２１．６３−０
．１１　４７８８１８２２０．６２１．９８−０．１０
　６６８８１９５００．４５０．５８−０．２９　１１
　５０２１　４００．４００．９２−０．２０　７３１
００（ｅ）　　第５図はコバルト層の厚さが０．．４ｎ
ｍであり白金層の厚さが１．８ｎｍである多重層の形態
の記録層を有するいくつかの記録素子が５３０ｎｍの波
長スで測定された磁気光学的ヒステリシスループを示す
。記録層の全体厚さは、５５ｎｍ　（曲線ａ）から、４
４ｎｍ　（曲線ｂ）、３３ｎｍ　（曲線Ｃ）、２０ｎｍ
　（曲線ｄ）、１１ｎｎ＋　（曲線ｅ）　、６．６ｎｍ
（曲線ｆ）へ減少する値によって変化している。この図
は、最良のヒステリシスループは全体の多重層の厚さが
約４０ｎｍより小さい場合に得られることを示す。

（ｆ）　　第６図はコバルト層の厚さが０．４ｎｍであ
り白金層の厚さが０．９ｎｎ＋である多重層の形態の記
録層を有するいくつかの記録素子の５３０ｎｍの波長λ
で測定された磁気光学的ヒステリシスループを示す。記
録層の全体厚さは、５２ｎｍ　（曲線ａ）から、４０．
３ｎｍ　（曲線ｂ）、３０ｎｍ　（曲線Ｃ）、２０ｎｍ
　（曲線ｄ）、ｔＯｒ＋ｎ＋　（曲線ｅ）へ減少する値
によって変化している。この図は、多重層の％数値での
残留磁気が、これらの層の全体厚さが約４０ｎｎ＋より
小さい場合に最良であることを示す。第５図及び第６図
に図解したこれらの多重層での測定から、これらの層の
全体厚さはなるべく　１０ｎｍより大きくなければなら
ぬことも得られる。もっと薄い厚さでは、これらの層の
保磁力が極めて急速に減少することが見出された。

（匂　第７図において、ａは前項で説明した記録層の波
長の関数として表した極性カー回転を示し、ｂは既知の
ＧｄＴＢＦｅ材料を基礎とした同等の厚さの記録層の波
長の関数として表した極性カー回転を示す。本発明に従
って用いられる記録材料のカー回転は、短い波長におい
て従来技術の材料のカー回転よりも有意に大きい。

次に熱磁気的に書込まれた領域での信号／雑音比につい
て述べる。

別の実施例において、ガラス基板には７０ｎｍ厚さの窒
化アルミニウムの誘電体層が設けられ、その上にその後
１８ｒ＋ｍ厚さの記録層が設けられ、その記録層は０．
４ｎｍ厚さのコバルト層と１．８ｎｍ厚さの白金層とか
ら形成された。この多重層は９０ｎｍ厚さの誘電体窒化
アルミニウム層で覆われ、その上に３０ｎａ＋厚さのア
ルミニウムの反射層が張られた。いくつかの熱磁気的記
録実験において（Ｖ　＝１．４ｒ＠／ｓ　；帯域幅１０
ｋＨｚ　；　ｆ　＝７５０ｋＨｚ　；　ｔ、＝３００ｎ
ｍ、　　Ｐｗｒｉｔｅ＝　６　ｍＷ、　　Ｈｗｒｉｔｅ
　＝２８ｋＡ／ｍ）　、領域（ビット）がこの記録素子
に蓄積された。偏光顕微鏡を通した目視観察により蓄積
された領域（約１μ２サイズ）は実質的に完全な形状で
あることが立証された。

これらの実験で測定された信号対雑音比は４２．４ｄＢ
であった。ディスク雑音は１５ｄＢよりも良かった。

書込み雑音は測定できないほど低かった。別の実験から
、記録層の最良の構成では６５ｄＢの信号／雑音比が実
現できることがわかった。

更に熱磁気的に書込まれた領域での信号／雑音比につい
て述べる。

他の実施例では、２−Ｐラッカーを有するガラス基板が
８０ｎｍ厚さの窒化アルミニウムの誘電体層が設けられ
、その上にその後電子ビーム蒸着によって２３ｎｍ厚さ
の記録層が堆積され、その記録層は０．４ｎｍ厚さのコ
バルト層と０．９ｎｍ厚さの白金層とで形成された。こ
の多重層の最初の層と最後の層とは白金で構成されたの
で、すべてのコバルト層が白金層の間に挟み込まれた。

前の例に対比して、この記録層上には誘電体層と反射層
とは堆積されなかった。

第８図は８２０ｎｍの波長でガラス基板を通して測定さ
れたこの多重層のカーヒステリシスループを示す。いく
つかの熱磁気的記録実験において（Ｖ−５ｍ／ｓ；帯域
幅３０ｋＨｚ　　；　ｆ　＝　ＩＭＨｚ　　；　　ｔ、
＝４００ｎｓ、　Ｐｗｒｉｔｅ＝８ｍＷ、　Ｈｗｒｉｔ
ｅ＝４８に＾／ｍ）　、領域（ビット）がこの記録素子
に蓄積されり。偏光顕微鏡を通した目視観察により蓄積
された領域（約１μ２サイズ）が実質的に完全な形状で
あることが立証された。この実験において測定された信
号対雑音比は５３．０ｄＢであった。ディスク雑音は９
．３ｄＢより良かった。書込み雑音は０．６ｄＢであっ
た。

更に熱磁気的に書込まれた領域での信号／雑音比につい
て述べる。

他の実施例において、２−Ｐラッカーを有するガラス基
礎が８０ｎｍの厚さの窒化アルミニウムの誘電体層を設
けられ、その上にその後２３ｎｍ厚さの記録層が電子ビ
ーム蒸着によって堆積され、その記録層は０．４ｒｖ厚
さのコバル＋−ｉと０．９ｎｍ厚さのパラジウム層とか
ら形成された。

第９図は８２０ｎｍの波長でガラス基板を通して測定さ
れたこの多重層のカーヒステリシスループを示す。保磁
力Ｈｃ値は１０７ｋＡ／ｍである。いくつかの熱磁気的
記録実験において（ｖ＝５ｍ／ｓ　　；帯枠幅３０ｋＨ
ｚ　　；　ｆ　＝　ＬＭＨｚ　　；　ｔｐ＝４００ｎｓ
　　；　Ｐｗｒｉｔｅ　＝９．２ｎ＋Ｗ　　；　Ｈｗｒ
ｉｔｅ　＝４０ｋＡ／ｍ）　、領域（ビット）がこの記
録素子中に蓄積された。その信号対雑音比は５０．５ｄ
Ｂより良かった。ディスク雑音は８．７ｄＢより良かっ
た。書込み雑音は１．０ｄＢであった。

次にその他の磁気光学的記録素子の測定について述べる
。

他の実施例において、ガラス基板が電子ビーム蒸着によ
って６４．４ｎｒａ厚さの記録層を設けられ、その記録
層は０．５ｎｓ＋厚さのコバルト層と２．３ｎｍ厚さの
金属層から形成された。

第１０図は５３０ｒ＋ｎ＋の波長でガラス基板を通して
測定されたこの多重層のカーヒステリシスループを示す
。保磁力Ｈｃの値は３８．４ｋＡ／ｍであり、残留磁気
の量は９４％である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気光学的素子の接線方向の断面
図であり、 第１Ａ図は本発明による磁気光学的素子の第１図の線Ａ
−Ｂ上での断面図であり、 第１Ｂ図はそれを利用して記録の過程を説明する第１図
及び第１Ａ図の記録素子の断面図であり、第２図は本発
明による方法を用いることができる記録装置の簡略図で
あり、 第３図はコバルトと白金との多重層の形態での多数の記
録層についての磁気光学的ヒステリシスループを示し、 第４図はコバルトと白金との多重層の形態での多数の記
録層についての印加される磁界の関数としての極性カー
回転を示し、 第５図はコバルトと白金との多重層の形態での変化する
厚さの多数の記録層の、印加される磁界の関数としての
極性カー回転を示し、 第６図はコバルトと白金との多重層の形態での変化する
厚さの多数の別の記録層の、印加される磁界の関数とし
ての極性カー回転を示し、第７図は本発明による記録素
子中の記録層と従来技術におけるＧａＴＢＰｅを基礎と
した記録層との、波長の関数としての極性カー回転を示
し、第８図はコバルトと白金との多重層を備えている記
録素子の、印加される磁界の関数としての極性カー回転
を示し、 第９図はコバルトとパラジウムとの多重層を備えている
記録素子の、印加される磁界の関数としての極性カー回
転を示し、 第１０図はコバルトと金との多重層を備えている記録素
子の、印加される磁界の関数としての極性カー回転を示
す。 １．１９・・・ガラス基板　　２・・・層３・・・溝　
　　　　　　　４・・・高レベル５・・・低レベル　　
　　　６・・・誘電体層７・・・磁気光学的層　　　７
ａ・・・コバルト層７ｂ・・・白金層　　　　　　７ｃ
・・・反射層８・・・アルミニウムガリウム砒素レーザ
ー９・・・光ビーム １０、１６．２３・・・対物鏡 １２・・・平行ビーム １４・・・偏光分割立方体 １７・・・記録層 ２０・・・コイル ２２・・・制御装置 ２５・・・検出器 ３１・・・多重層 ３２、４３・・・コバルトの真空めっき層３３、３５・
・・白金の真空めっき層 ３６、３７・・・露光された点 ３８、３９．　　・４０．４１・・・境界面４２、４３
．４４．４５・・・矢印 １１・・・円筒レンズ １３・・・半透明鏡 １５・・・ファラデー回転器 １８・・・磁気光学的記録素子 ２１・・・平行成分 ２４・・・垂直成分 ３０・・・誘電体層 ロ ーＣコ ■ ℃ 〜−−− ロ ｌコ （ｊ ℃ ■ ？ ８８８　Ｂ　　ｇ　　５　　呂 ロロロロロロロ ？ ■ ？呂８菖冨呂冨昌目固； ０５００００００００口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板とその上に設けられた多重層の形の記録層とを
   有する記録素子が用いられ、前記多重層は複数の一層当
   たり１．２ｎｍを超えない厚さの磁性の主にコバルトを
   含む層と、複数の各々が少なくとも一つの遷移元素を含
   み且つ各々が２．４ｎｍを超えない厚さを有する非磁性
   層とを具え、これら磁性層と非磁性層とが交互に張られ
   且つこの多重層の全体厚さが７５ｎｍを超えず、それに
   加えてこの多重層は基板面に垂直な磁化容易軸を有し、
   この多重層が部分的にレーザービームに露光されてそれ
   らの位置で多重層の温度が増大し、この露光された位置
   の磁化の方向が反転され、情報ビットを構成するこの反
   転された磁化を有する位置が偏光面の回転を基礎として
   偏光されたレーザー光によって読まれる、情報の熱磁気
   的記録と蓄積された情報の光学的読出し方法。 ２、非磁性層が主に白金で作られている記録素子が用い
   られる、請求項１記載の情報の熱磁気的記録と蓄積され
   た情報の光学的読出し方法。 ３、非磁性層が主にパラジウムで作られている記録素子
   が用いられる、請求項１記載の情報の熱磁気的記録と蓄
   積された情報の光学的読出し方法。 ４、非磁性層が主に金で作られている記録素子が用いら
   れる、請求項１記載の情報の熱磁気的記録と蓄積された
   情報の光学的読出し方法。 ５、コバルトを含む磁性層が０．６ｎｍの最大厚さを有
   する記録素子が用いられる、請求項１、２、３又は４記
   載の情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光学的読出
   し方法。 ６、４０ｎｍを超えない全体厚さの多重層を有する記録
   素子が用いられる、請求項１、２、３、４又は５記載の
   情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光学的読出し方
   法。 ７、磁性層が合計厚さＭを有し且つ非磁性層が合計厚さ
   Ｎを有し、１＜Ｎ／Ｍ＜５の関係により定義される記録
   素子が用いられる、請求項１〜６のうちいずれか１項記
   載の情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光学的読出
   し方法。 ８、個々のコバルトを含む層の厚さが０．３〜０．５ｎ
   ｍであり且つ個々のパラジウムを含む層の厚が０．８〜
   １．２ｎｍである記録素子が用いられる、請求項１、３
   又は５記載の情報の熱磁気的記録と蓄積された情報の光
   学的読出し方法。 ９、請求項１〜８のいずれか１項記載の情報の熱磁気的
   記録と蓄積された情報の光学的読出し方法に用いるのに
   適する記録素子であって、該素子は基板とその上に多重
   層の形で張られた記録層とを有し、前記多重層は複数の
   一層当たり１．２ｎｍの最大厚さを有する磁性の主にコ
   バルトを含む層と、複数の少なくとも一つの遷移元素を
   含み且つ一層当たり２．４ｎｍの最大厚さを有する非磁
   性層とを含み、これら磁性層と非磁性層とは交互に置か
   れ、この多重層の最大厚さは７５ｎｍを超えず且つこの
   多重層が基板面に垂直な磁化容易軸を有する記録素子。 １０、誘電体層が記録層と基板との間に置かれた、請求
   項９記載の記録素子。 １１、基板から遠い記録層の面に反射層が存在する、請
   求項９又は１０記載の記録素子。 １２、誘電体層が記録層と反射層その間に設けられた請
   求項１１記載の記録素子。 １３、各々が多重層で形成され且つ磁気的に結合されて
   いない少なくとも２つの記録層を含み、これら記録層は
   スペーサ層で互いに分離されており、且つこれら記録層
   の少なくとも一方の厚さは４０ｎｍよりも小さい、請求
   項９又は１０記載の記録素子。 １４、スペーサ層が有機重合体を含む、請求項１３記載
   の記録素子。 １５、スペーサ層が光重合されたラッカーから成る、請
   求項１４記載の記録素子。 １６、多重層から成る記録層が各々複数の磁性層と非磁
   性層とを有する書込みセクター及び平行に延在する読出
   しセクターから構成され、個別の磁性層の厚さ（Ｍ）と
   個別の非磁性層の厚さ（Ｎ）とが、読出しセクターの（
   Ｎ／Ｍ）＜書込みセクターの（Ｎ／Ｍ）なる関係を維持
   するように選択された、請求項９〜１２のうちいずれか
   １項記載の記録素子。 １７、読出しセクターの全体厚さと書込みセクターの全
   体厚さとが１：３の比である、請求項１６記載の記録素
   子。 １８、読出しセクターの（Ｎ／Ｍ）が３／２であり、且
   つ書込みセクターの（Ｎ／Ｍ）が９／４であることを維
   持する、請求項１６又は１７記載の記録素子。 １９、読出しセクターの非磁性層が白金を含み、且つ書
   込みセクターの非磁性層が本質的にパラジウムを含むこ
   とを維持する、請求項１５、１６又は１７記載の記録素
   子。 ２０、請求項９〜１９のうちいずれか１項による記録素
   子を製造する方法において、記録する多重層が電子ビー
   ム蒸着によって張られることを特徴とする記録素子を製
   造する方法。