JPH02270198A - 紫外線消去装置 - Google Patents
紫外線消去装置Info
- Publication number
- JPH02270198A JPH02270198A JP1091010A JP9101089A JPH02270198A JP H02270198 A JPH02270198 A JP H02270198A JP 1091010 A JP1091010 A JP 1091010A JP 9101089 A JP9101089 A JP 9101089A JP H02270198 A JPH02270198 A JP H02270198A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet
- eprom
- wafer
- erasing
- time
- Prior art date
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- Pending
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ＥＰＲＯＭ（紫外線消去型読み出し専用メ
モリ）のメモリ内容を消去するために用いる紫外線消去
装置に関するものである。
モリ）のメモリ内容を消去するために用いる紫外線消去
装置に関するものである。
第２図は従来の紫外線消去装置を示す断面図である。図
に示すように、密閉された紫外線照射室（１）内部にス
テージ（３）があり、その上にウェハ（２）が設置され
ている◇ステージ（３）の上方に設置された紫外線ラン
プ（４）より発せられた紫外線がウェハ（２）に照射さ
れるようになっている。
に示すように、密閉された紫外線照射室（１）内部にス
テージ（３）があり、その上にウェハ（２）が設置され
ている◇ステージ（３）の上方に設置された紫外線ラン
プ（４）より発せられた紫外線がウェハ（２）に照射さ
れるようになっている。
次に動作について説明する。紫外線消去は以下のように
行う。紫外線照射室（１）内のステージ（３）にＥＰＲ
ＯＭを製造したウェハ（２）を載せて、紫外線ランプ（
４）より発せられた紫外線をウェハ（２）に決められた
照射して、ＥＰＲＯＭのメモリの消去を行う。
行う。紫外線照射室（１）内のステージ（３）にＥＰＲ
ＯＭを製造したウェハ（２）を載せて、紫外線ランプ（
４）より発せられた紫外線をウェハ（２）に決められた
照射して、ＥＰＲＯＭのメモリの消去を行う。
従来の紫外線消去装置は以上のように構成されているの
で、紫外線消去を紫外線ランプの照度状態を管理せずに
、照射時間固定で行っている。このため、紫外線ランプ
が劣化して照度が落ちることでＥＰＲＯＭのメモリの消
去が不十分となっても、紫外線消去装置では検知できな
いという問題点があった。
で、紫外線消去を紫外線ランプの照度状態を管理せずに
、照射時間固定で行っている。このため、紫外線ランプ
が劣化して照度が落ちることでＥＰＲＯＭのメモリの消
去が不十分となっても、紫外線消去装置では検知できな
いという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、紫外線ランプの劣化により紫外線照度が低下
したとしても、紫外線照射時間をＥＰＲＯＭのメモリの
消去が完了するまで延ばすよう時間調整できる紫外線消
去装置を得ることを目的とする◎ 〔課題を解決するための手段〕 この発明に係る紫外線消去装置は、ス、テージの横に紫
外線消去を行うＥＰＲＯＭと同型のＥＰＲＯＭを紫外線
照射量モニタとして設置し、この紫外線照射量モニタと
して設置したＥＰＲＯＭの消去時間と、紫外線照射時間
を対応させるようにしたものである。
たもので、紫外線ランプの劣化により紫外線照度が低下
したとしても、紫外線照射時間をＥＰＲＯＭのメモリの
消去が完了するまで延ばすよう時間調整できる紫外線消
去装置を得ることを目的とする◎ 〔課題を解決するための手段〕 この発明に係る紫外線消去装置は、ス、テージの横に紫
外線消去を行うＥＰＲＯＭと同型のＥＰＲＯＭを紫外線
照射量モニタとして設置し、この紫外線照射量モニタと
して設置したＥＰＲＯＭの消去時間と、紫外線照射時間
を対応させるようにしたものである。
この発明における紫外線消去装置は、紫外線消去を行う
ＥＰＲＯＭと同型のＥＰＲＯＭをステージ横に設け、こ
のＥＰＲＯＭの消去完了時間がウェハの紫外線消去時間
と対応しているため、紫外線消去を行うＥＰＲＯＭのメ
モリの消去が完了するまで紫外線がウェハに照射される
。
ＥＰＲＯＭと同型のＥＰＲＯＭをステージ横に設け、こ
のＥＰＲＯＭの消去完了時間がウェハの紫外線消去時間
と対応しているため、紫外線消去を行うＥＰＲＯＭのメ
モリの消去が完了するまで紫外線がウェハに照射される
。
第１図はこの発明の一実施例である紫外線消去装置を示
す断面図である。図に示すように、密閉された紫外線照
射室（す内部に、ステージ（３）があり。
す断面図である。図に示すように、密閉された紫外線照
射室（す内部に、ステージ（３）があり。
その上にウェハ（２）が設置されている。ステージ（３
）の上方に設置された紫外線ランプ（４）より発せられ
た紫外線がウェハ（２）に照射される・更に、ステージ
（３）の横には紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）
を設置する０紫外線照射量モニタ用Ｅ Ｆ ＲＯＭ （
５）は、ウェハ（２）に製造されたＥＰＲＯＭと同型の
ものであるＯ 次：こ動作について説明する。紫外線消去は以下のよう
に行う０紫外線照射室（１）内のステージ（３）にＥＰ
ＲＯＭを製造したウェハ（２）を載せて、紫外線ランプ
（４）より発せられた紫外線をウェハ（２）に照射させ
る。これと同時にステージ（３）の横に設置されている
紫外線耐量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）にも紫外線が照射
される。
）の上方に設置された紫外線ランプ（４）より発せられ
た紫外線がウェハ（２）に照射される・更に、ステージ
（３）の横には紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）
を設置する０紫外線照射量モニタ用Ｅ Ｆ ＲＯＭ （
５）は、ウェハ（２）に製造されたＥＰＲＯＭと同型の
ものであるＯ 次：こ動作について説明する。紫外線消去は以下のよう
に行う０紫外線照射室（１）内のステージ（３）にＥＰ
ＲＯＭを製造したウェハ（２）を載せて、紫外線ランプ
（４）より発せられた紫外線をウェハ（２）に照射させ
る。これと同時にステージ（３）の横に設置されている
紫外線耐量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）にも紫外線が照射
される。
紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）のメモリ消去が
完了すると、ウェハ（２）の紫外線照射が完了するよう
になっている。すなわち紫外線照射量モニタ用Ｅ Ｐ
ＲＯＭ （５）とウェハ（２）のＥＰＲＯＭは同型であ
るから、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）がメモ
リ消去されていれば、ウェハ（２）のＥＰＲＯＭもメモ
リ消去されているからである。
完了すると、ウェハ（２）の紫外線照射が完了するよう
になっている。すなわち紫外線照射量モニタ用Ｅ Ｐ
ＲＯＭ （５）とウェハ（２）のＥＰＲＯＭは同型であ
るから、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）がメモ
リ消去されていれば、ウェハ（２）のＥＰＲＯＭもメモ
リ消去されているからである。
また、メモリ消去を行うウェハ（２）を入れ換える際、
紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）にメ・そり書き
込みを行うので、次のウェハ（２）がセツ、トされたと
きには、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）はメモ
リが書き込まれた状態になっており、紫外線照射量モニ
タとして使用できる状態となっている。
紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）にメ・そり書き
込みを行うので、次のウェハ（２）がセツ、トされたと
きには、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）はメモ
リが書き込まれた状態になっており、紫外線照射量モニ
タとして使用できる状態となっている。
紫外線消去を行うウェハ（２）のＥＰＲＯＭの型が変っ
た場合には、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）を
同じ型のものに入れ換えれば良い。
た場合には、紫外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭ（５）を
同じ型のものに入れ換えれば良い。
なお、上記実施例では、ウェハ状態にあるＥＰＲＯＭの
メモリ消去について示したが、パッケージ状態のＥＰＲ
ＯＭのメモリ消去に用いても良い。
メモリ消去について示したが、パッケージ状態のＥＰＲ
ＯＭのメモリ消去に用いても良い。
以上のように、この発明の紫外線消去装置によれば、ウ
ェハの紫外線照射時間が、紫外線照射モニタ用ＥＰＲＯ
Ｍの消去状態によって調整されるので、紫外線ランプが
劣化して紫外線照度が低下しても、照射量を時間で調整
を行い、メモリの消去が不十分となることがないという
効果が得られる。
ェハの紫外線照射時間が、紫外線照射モニタ用ＥＰＲＯ
Ｍの消去状態によって調整されるので、紫外線ランプが
劣化して紫外線照度が低下しても、照射量を時間で調整
を行い、メモリの消去が不十分となることがないという
効果が得られる。
第１図はこの発明の一実施例である紫外線消去装置を示
す断面図、第２図は従来の紫外線消去装置を示す断面図
である。 図において、（１）は紫外線照射室、（２）はウェハ、
（３）はステージ、（４）は紫外線ランプ、（５）は紫
外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭである。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
す断面図、第２図は従来の紫外線消去装置を示す断面図
である。 図において、（１）は紫外線照射室、（２）はウェハ、
（３）はステージ、（４）は紫外線ランプ、（５）は紫
外線照射量モニタ用ＥＰＲＯＭである。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＥＰＲＯＭのメモリ内容を消去する紫外線消去装置であ
つて、 メモリ消去を行う第１のＥＰＲＯＭの横に紫外線照射量
モニタとして第１のＥＰＲＯＭと同型の第２のＥＰＲＯ
Ｍを設置し、第２のＥＰＲＯＭのメモリ消去時間により
、第１のＥＰＲＯＭの紫外線照射時間を決めることを特
徴とする紫外線消去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1091010A JPH02270198A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 紫外線消去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1091010A JPH02270198A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 紫外線消去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02270198A true JPH02270198A (ja) | 1990-11-05 |
Family
ID=14014555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1091010A Pending JPH02270198A (ja) | 1989-04-10 | 1989-04-10 | 紫外線消去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02270198A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006510027A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 紫外線（ｕｖ）光の強度を測定するための装置及び方法 |
-
1989
- 1989-04-10 JP JP1091010A patent/JPH02270198A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006510027A (ja) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 紫外線（ｕｖ）光の強度を測定するための装置及び方法 |
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