JPH02275862A - N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 - Google Patents
N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法Info
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- JPH02275862A JPH02275862A JP9723189A JP9723189A JPH02275862A JP H02275862 A JPH02275862 A JP H02275862A JP 9723189 A JP9723189 A JP 9723189A JP 9723189 A JP9723189 A JP 9723189A JP H02275862 A JPH02275862 A JP H02275862A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、電子機器分野あるいは電子材料分野などにお
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのN−置換−イミダゾー
ル・7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類
およびその製造方法に関するものである。
ける導電性材料として注目されている有機半導体に関す
るもので、特に新規物質としてのN−置換−イミダゾー
ル・7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類
およびその製造方法に関するものである。
[発明の概要]
更に詳しくは、下記の式[1]で表わされる新規有機半
導体(新規化合物)としてのN−置換−イミダゾール・
7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およ
びその製造方法を提供するものである。
導体(新規化合物)としてのN−置換−イミダゾール・
7.7.8.8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およ
びその製造方法を提供するものである。
ただし、式[1]中、RはC0〜C+aのアルキル基ま
たはベンジル基を示す0mは1モルの錯塩に含まれる中
性7.7.8.8−テトラシアノキノジメタンのモル数
に対応する正の@(0,5〜1.5)を意味する。
たはベンジル基を示す0mは1モルの錯塩に含まれる中
性7.7.8.8−テトラシアノキノジメタンのモル数
に対応する正の@(0,5〜1.5)を意味する。
なお、説明の便宜上、7.7.8.8−テトラシアノキ
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
ノジメタンを以下、TCNQと称す。
次に、上記の式[1Fで示した化合物は、下記の式[2
]で表わされるN−置換−イミダゾール・第四アンモニ
ウム塩類を 下記の式[3]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
]で表わされるN−置換−イミダゾール・第四アンモニ
ウム塩類を 下記の式[3]で表わされるTCNQと反応させること
により製造することができるものである。
上記の式[1]の化合物において1式中のHのアルキル
基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシルのような炭素数が01〜C1]1の
アルキル基(n−,1so−などの全ての異性体を含む
、)を例示することができる。また、式[1]中のRと
してベンジル基を例示することができる0式[1]中の
mは0.5〜1.5が好ましく、より好ましくは約1で
ある。さらに1式[2]中のRは式[1]と同様にC3
〜C+aのアルキル基またはベンジル基であり、Xはハ
ロゲンである。
基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシルのような炭素数が01〜C1]1の
アルキル基(n−,1so−などの全ての異性体を含む
、)を例示することができる。また、式[1]中のRと
してベンジル基を例示することができる0式[1]中の
mは0.5〜1.5が好ましく、より好ましくは約1で
ある。さらに1式[2]中のRは式[1]と同様にC3
〜C+aのアルキル基またはベンジル基であり、Xはハ
ロゲンである。
[合成方法]
上述したように、本発明に係る式[1]の新規化合物で
あるN−置換−イミダゾール・TCNQCN類は、式[
2]のN−置換−イミダゾール・第四アンモニウム塩類
を式[3]のTCNQに反応させることによって容易に
好ましい収率で製造することができる。以下に、代表例
としてN−置換−イミダゾール、T CN Q錯塩類の
製造方法について述べる。
あるN−置換−イミダゾール・TCNQCN類は、式[
2]のN−置換−イミダゾール・第四アンモニウム塩類
を式[3]のTCNQに反応させることによって容易に
好ましい収率で製造することができる。以下に、代表例
としてN−置換−イミダゾール、T CN Q錯塩類の
製造方法について述べる。
式[2]のN−置換−イミダゾール・第四アンモニウム
塩類は既に公知の化合物であって、イミダゾールからそ
れ自体公知の手法を利用して容易に合成することができ
る。
塩類は既に公知の化合物であって、イミダゾールからそ
れ自体公知の手法を利用して容易に合成することができ
る。
式[3]のTCNQおよびその種々の塩ならびにその製
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (1962)i5よび昭和58年特許出願公開
第191414号公報に明示されている。
造方法についても既に公知であって、例えばり、R,M
elbyらのJ、Am、Chem、Soc、、84.3
374 (1962)i5よび昭和58年特許出願公開
第191414号公報に明示されている。
次に、式[2]の化合物と式[3]のTCNQとから式
[1]の化合物を製造する一態様について詳述すると1
例えば式[2]中の一例としてめN−メチル−イミダゾ
ール・第四アンモニウム塩類の熱アセトニトリル溶液と
式[3]のTCNQの熱アセトニトリル溶液を熱時混合
した後に放冷し、析出した結晶を濾過する。この際、反
応溶液に大過剰のエーテルを注加し、反応生成物を析出
せしめても良い0反応生成物は熱アセトニトリルで再結
晶するか、または冷無水エタノールで同エタノールの着
色が無くなるまで洗浄すれば、無機塩類を含有しない式
[1]中の一例としてのN−メチルーイミグゾール・T
CNQ錯塩を高収率で得ることができる。
[1]の化合物を製造する一態様について詳述すると1
例えば式[2]中の一例としてめN−メチル−イミダゾ
ール・第四アンモニウム塩類の熱アセトニトリル溶液と
式[3]のTCNQの熱アセトニトリル溶液を熱時混合
した後に放冷し、析出した結晶を濾過する。この際、反
応溶液に大過剰のエーテルを注加し、反応生成物を析出
せしめても良い0反応生成物は熱アセトニトリルで再結
晶するか、または冷無水エタノールで同エタノールの着
色が無くなるまで洗浄すれば、無機塩類を含有しない式
[1]中の一例としてのN−メチルーイミグゾール・T
CNQ錯塩を高収率で得ることができる。
ところで1式[2]の化合物と式[3]のTCN−〇と
の反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒
素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらの適
当な混合物のような不活性有機溶媒の沸点下で行なうと
良い0反応に使用する式[3]のTCNQの使用量は、
式[2]の混合物1モルに対して約1〜3モルの如き使
用量を例示することができる。また、不活性有機溶媒の
使用量も適宜選択することができ、式[2]の化合物に
対して約10〜20倍、式[3]のTCNQに対して約
50〜120倍の如き使用量を例示することができる。
の反応において、同反応は例えば常圧下、好ましくは窒
素ガス、アルゴンガスのような不活性ガス雰囲気中で、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、アルキルセロソルブなと、あるいはそれらの適
当な混合物のような不活性有機溶媒の沸点下で行なうと
良い0反応に使用する式[3]のTCNQの使用量は、
式[2]の混合物1モルに対して約1〜3モルの如き使
用量を例示することができる。また、不活性有機溶媒の
使用量も適宜選択することができ、式[2]の化合物に
対して約10〜20倍、式[3]のTCNQに対して約
50〜120倍の如き使用量を例示することができる。
[実施例]
更に、本発明に係る式[1]のN−置換−イミダゾール
・TCNQI塩類の具体的な合成方法の実施例について
述べる。
・TCNQI塩類の具体的な合成方法の実施例について
述べる。
実施例1
N−メチル−イミダゾール・第四アンモニウム・TCN
Q錯塩の合成について述べる。
Q錯塩の合成について述べる。
N−メチル−イミダゾール・第四アンモニウム・沃化水
素酸塩0.0047モルをアセトニトリル20m1に熱
時溶解し、これにTCNQo。
素酸塩0.0047モルをアセトニトリル20m1に熱
時溶解し、これにTCNQo。
0047モルをアセトニトリル65m1に熱時溶解して
注加し、混合し、さらに30分間還流した。その後、約
10時間、5℃に放置する。析出した結晶を濾過した後
、アセトニトリル、メタノール、エーテルの順で洗浄し
、アセトニトリルにより2回再結晶を行なった。これを
さらに乾燥させると、N−メチル−イミダゾール・第四
アンモニウム・TCNQ錯塩、融点236〜238℃の
針状結晶を収率79%の高収率で得ることができる。
注加し、混合し、さらに30分間還流した。その後、約
10時間、5℃に放置する。析出した結晶を濾過した後
、アセトニトリル、メタノール、エーテルの順で洗浄し
、アセトニトリルにより2回再結晶を行なった。これを
さらに乾燥させると、N−メチル−イミダゾール・第四
アンモニウム・TCNQ錯塩、融点236〜238℃の
針状結晶を収率79%の高収率で得ることができる。
実施例2〜5
上記実施例1ではN−メチル−イミダゾール・第四アン
モニウム・T CN Q錯塩の合成について述べたが、
式[2]中の化合物Rがエチルに置換された化合物、R
がn−プロピルに置換された化合物、Rがn−ブチルに
置換された化合物、Rがベンジルに置換された化合物を
それぞれ用い、実施例1と同様の手法・手順に準じて合
成した結果、第1表に示すようにN−エチル−イミダゾ
ール・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例2)、
N−n−プロピル−イミダゾール・第四アンモニウム・
TCNQ錯塩(実施例3)、N−n−プチルーイミダゾ
ール・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例4)、
N−ベンジル−イミダゾール・第四アンモニウム・T
CN Q fa塩(実施例5)を得た。
モニウム・T CN Q錯塩の合成について述べたが、
式[2]中の化合物Rがエチルに置換された化合物、R
がn−プロピルに置換された化合物、Rがn−ブチルに
置換された化合物、Rがベンジルに置換された化合物を
それぞれ用い、実施例1と同様の手法・手順に準じて合
成した結果、第1表に示すようにN−エチル−イミダゾ
ール・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例2)、
N−n−プロピル−イミダゾール・第四アンモニウム・
TCNQ錯塩(実施例3)、N−n−プチルーイミダゾ
ール・第四アンモニウム・TCNQ錯塩(実施例4)、
N−ベンジル−イミダゾール・第四アンモニウム・T
CN Q fa塩(実施例5)を得た。
[応用例]上述のようにして得た式[1]のN−置換−
イミダゾール・TCNQCN類の用途について述べると
、このT CN Qil塩類は例えば2枚のアルミニウ
ム箔をセパレータを介して巻回したコンデンサ素子から
なる固体電解コンデンサの固体電解質として、あるいは
タンタル粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解
コンデンサの固体電解質として利用し得るものである。
イミダゾール・TCNQCN類の用途について述べると
、このT CN Qil塩類は例えば2枚のアルミニウ
ム箔をセパレータを介して巻回したコンデンサ素子から
なる固体電解コンデンサの固体電解質として、あるいは
タンタル粉末焼結体のコンデンサ素子からなる固体電解
コンデンサの固体電解質として利用し得るものである。
Claims (2)
- (1)下記の式[1]で表わされるN−置換−イミダゾ
ール・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩
類。 ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 式[1]中、RはC_1〜C_1_8のアルキル基また
はベンジル基を示す。mは1モルの錯塩に含まれる中性
7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンのモル数に
対応する正の数(0.5〜1.5)を意味する。 - (2)下記の式[2]で表わされるN−置換−イミダゾ
ール・第四アンモニウム塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[2] 下記の式[3]で表わされる7,7,8,8−テトラシ
アノキノジメタンと反応させ、 ▲数式、化学式、表等があります▼[3] 下記の式[1]で表わされるN−置換−イミダゾール・
7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類を ▲数式、化学式、表等があります▼[1] 得ることを特徴としたN−置換−イミダゾール・7,7
,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類の製造方法
。 式[2]中、Xはハロゲンを示す。 式[1]中、mは1モルの錯塩に含まれる中性7,7,
8,8−テトラシアノキノジメタンのモル数に対応する
正の数(0.5〜1.5)を意味する。 式[1]および式[2]中、RはC_1〜C_1_8の
アルキル基またはベンジル基を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9723189A JPH02275862A (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9723189A JPH02275862A (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02275862A true JPH02275862A (ja) | 1990-11-09 |
Family
ID=14186851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9723189A Pending JPH02275862A (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | N―置換―イミダゾール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02275862A (ja) |
-
1989
- 1989-04-17 JP JP9723189A patent/JPH02275862A/ja active Pending
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| Vázquez et al. | Monohelical Metal Complexes of a Bis‐Bidentate Schiff Base with a Short Rigid Spacer. The Spontaneous Resolution of P‐[Ni (FTs)]· CH3CN | |
| JPH02282370A (ja) | N―置換―1―メチルインドール・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
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| JPH02215758A (ja) | N―置換―2―チオフェンアルデヒドイソチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPS6377867A (ja) | N−置換−ベンゾチアゾ−ル・7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
| JPH02215756A (ja) | S―置換―ベンズアルデヒドチオセミカルバゾン・7,7,8,8―テトラシアノキノジメタン錯塩類およびその製造方法 | |
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