JPH02282354A - 3―アリールオキシカテコール類の製造方法 - Google Patents
3―アリールオキシカテコール類の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- -1 3-(amino-4-hydroxyphenoxy)catechols Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 150000005529 1,3-benzodioxoles Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium on carbon Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzodioxole Chemical class C1=CC=C2OCOC2=C1 FTNJQNQLEGKTGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 5
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000006264 debenzylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N methane;palladium Chemical compound C.[Pd] UKVIEHSSVKSQBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真用化合物の中間体として有用な3−アリー
ルオキシカテコール類の製造方法に関するものである。
ルオキシカテコール類の製造方法に関するものである。
(従来の技術)
3−アリールオキシカテコール類は写真用化合物の中間
体として有用な化合物であり、その有用性や合成法は特
開昭61−53643号、同6317850号、同63
−130646号に記載の通りである。
体として有用な化合物であり、その有用性や合成法は特
開昭61−53643号、同6317850号、同63
−130646号に記載の通りである。
(発明が解決しようとする課題)
上記特許に記載されている化合物を経由する合成法では
原料のハロニトロベンゼンから3−アリールオキシカテ
コール類に至るまでの反応工程数が多く、また収率が低
いという大きな欠点を有していた。したがって、工程数
が少なく、且つ高収率で安価な、3−アリールオキシカ
テコール類の合成法の開発が望まれていた。
原料のハロニトロベンゼンから3−アリールオキシカテ
コール類に至るまでの反応工程数が多く、また収率が低
いという大きな欠点を有していた。したがって、工程数
が少なく、且つ高収率で安価な、3−アリールオキシカ
テコール類の合成法の開発が望まれていた。
(課題を解決するための手段)
本発明者等は工程数が少な(高収率で安価に3−アリー
ルオキシカテコール類を合成しつる方法を開発するため
検討した結果、アリールオキシ置換ベンゾジオキソール
類を直接、接触還元等する方法によって上記の問題が解
決できることを見出し、この知見に基づき本発明をなす
に至った。
ルオキシカテコール類を合成しつる方法を開発するため
検討した結果、アリールオキシ置換ベンゾジオキソール
類を直接、接触還元等する方法によって上記の問題が解
決できることを見出し、この知見に基づき本発明をなす
に至った。
すなわち本発明の目的は、下記一般式CI)で表わされ
る4−アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキソール類
を接触還元するか、又は加水分解(酸加水分解)と接触
還元に付して下記一般式(II)で表わされる3−(ア
ミノ−4−ヒドロキシフェノキシ)カテコール類を得る
ことを特徴とする3−アリールオキシカテコール類の製
造方法によって達成された。
る4−アリールオキシ−1,3−ベンゾジオキソール類
を接触還元するか、又は加水分解(酸加水分解)と接触
還元に付して下記一般式(II)で表わされる3−(ア
ミノ−4−ヒドロキシフェノキシ)カテコール類を得る
ことを特徴とする3−アリールオキシカテコール類の製
造方法によって達成された。
本発明の反応は次式のスキームによって表わすことがで
きる。
きる。
(Ib)
(式中、R1、R2は水素原子、炭素数1〜6のアルキ
ル基又は炭素数6〜lOのアリール基を表わし、R1と
R2とが結合して環を形成してもよい。R3及びR4は
それぞれ水素原子、又は置換基を表し、R6は水素原子
、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基
を示す。m、nは1〜3の整数を表わし、2又は3の場
合にはR1、R’はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。) 以下本発明について詳しく説明する。
ル基又は炭素数6〜lOのアリール基を表わし、R1と
R2とが結合して環を形成してもよい。R3及びR4は
それぞれ水素原子、又は置換基を表し、R6は水素原子
、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基
を示す。m、nは1〜3の整数を表わし、2又は3の場
合にはR1、R’はそれぞれ同一でも異なっていてもよ
い。) 以下本発明について詳しく説明する。
一般式(r)においてR’又はR2が炭素数1〜6のア
ルキル基であり、その代表的な例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはシクロヘキ
シルが挙げられる。炭素数6〜10のアリール基の代表
的な例としてはフェニル基が挙げられる。これらのうち
で好ましいR1とR2の組み合わせを第1表に示す。
ルキル基であり、その代表的な例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチルまたはシクロヘキ
シルが挙げられる。炭素数6〜10のアリール基の代表
的な例としてはフェニル基が挙げられる。これらのうち
で好ましいR1とR2の組み合わせを第1表に示す。
第 1 表
一般式(I)におけるニトロ基の置換位置は好ましくは
ベンゾジオキソールに結合するOに対して〇−位である
。
ベンゾジオキソールに結合するOに対して〇−位である
。
R3及びR4は水素原子又は置換基を表わし、m、nは
1〜3の整数を表わし、2又は3の場合にはR3および
R4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
1〜3の整数を表わし、2又は3の場合にはR3および
R4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
R5は、水素原子又は保護基であり、アルキル基(好ま
しくは低級アルキル基)、アリール基(好ましくはフェ
ニル基)、アラルキル基(好ましくはベンジル基)、ア
シル基(例えば低級アシル基又は芳香族アシル基)など
が挙げられる( R8は水素原子又は置換基を示す。)
である。
しくは低級アルキル基)、アリール基(好ましくはフェ
ニル基)、アラルキル基(好ましくはベンジル基)、ア
シル基(例えば低級アシル基又は芳香族アシル基)など
が挙げられる( R8は水素原子又は置換基を示す。)
である。
R3およびR4は用途によって種々の置換基を取りつる
が、写真用化合物の中間体として有用なものは下記一般
式(工′)又は(IIIで表わされる。なおR6が前記
のベンジル基の場合を例にとって示す。
が、写真用化合物の中間体として有用なものは下記一般
式(工′)又は(IIIで表わされる。なおR6が前記
のベンジル基の場合を例にとって示す。
R6はアミノ基、炭素数1〜6のアルキルアミノ基もし
くはアルコキシ基を表わす。具体的にはアルキルアミノ
基としてはメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、イソプロピルアミノ、イソブチルアミノ、5ec−
ブチルアミノ、tブチルアミノ、ジメチルアミノ、メチ
ルエチルアミノ、ジエチルアミノ等が挙げられ、アルコ
キシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ、インプロポキシ、イソブチルオキシ、5ec−
ブチルオキシ、t−ブチルオキシ等が挙げられる。
くはアルコキシ基を表わす。具体的にはアルキルアミノ
基としてはメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、イソプロピルアミノ、イソブチルアミノ、5ec−
ブチルアミノ、tブチルアミノ、ジメチルアミノ、メチ
ルエチルアミノ、ジエチルアミノ等が挙げられ、アルコ
キシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ、インプロポキシ、イソブチルオキシ、5ec−
ブチルオキシ、t−ブチルオキシ等が挙げられる。
R7は炭素数6〜10のアリール基、アリールアミノ基
、アリールオキシ基、炭素数1〜10のアルキル基、ア
ルキルアミノ基、アルコキシ基を表わす。具体的にはア
リール基の場合にはフェニル、1−ナフチル、4−シア
ノフェニル、4−クロロフェニル、ペンタフルオロフェ
ニル等、アリールアミノ基の場合にはアニリノ、1−ナ
フヂルアミノ、4−シアノフェニルアミノ、34−ジク
ロロフェニルアミノ、3−クロロ−4−シアノフェニル
等、アリールオキシ基の場合には、フェノキシ基、アル
キル基の場合にはメチル、エチル、ブチル、デシル、ヘ
プタフルオロプロピル等、アルキルアミノ基の場合には
メチルアミノ、プロピルアミノ、ヘキシルアミノ、デシ
ルアミノ、シクロへキシルアミノ等、アルコキシ基の場
合にはメトキシ、プロポキシ、デシルオキシ、イソプロ
ポキシ等が挙げられる。
、アリールオキシ基、炭素数1〜10のアルキル基、ア
ルキルアミノ基、アルコキシ基を表わす。具体的にはア
リール基の場合にはフェニル、1−ナフチル、4−シア
ノフェニル、4−クロロフェニル、ペンタフルオロフェ
ニル等、アリールアミノ基の場合にはアニリノ、1−ナ
フヂルアミノ、4−シアノフェニルアミノ、34−ジク
ロロフェニルアミノ、3−クロロ−4−シアノフェニル
等、アリールオキシ基の場合には、フェノキシ基、アル
キル基の場合にはメチル、エチル、ブチル、デシル、ヘ
プタフルオロプロピル等、アルキルアミノ基の場合には
メチルアミノ、プロピルアミノ、ヘキシルアミノ、デシ
ルアミノ、シクロへキシルアミノ等、アルコキシ基の場
合にはメトキシ、プロポキシ、デシルオキシ、イソプロ
ポキシ等が挙げられる。
R8は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基等が挙げられるが、好ましくは水素原子である。
シ基等が挙げられるが、好ましくは水素原子である。
本発明の特徴は一般式(1)で表わされる4−アリール
オキシ−1,3−ベンゾジオキソール類の接触還元、又
は加水分解と接触還元を行って下記一般式(II)で表
わされる3−(ア′ミノー4−ヒドロキシフェノキシ)
カテコール類を合成するところにある。したがって本発
明の合成反応にはニトロ基のアミノ基への還元反応(反
応(a)と略す)、保護基の脱保護反応(例えばベンジ
ル基の脱ベンジル化反応)(反応(b)と略す)、及び
R’ 、R2で置換されたメチレンジオキシ部位の脱保
護反応(反応(c)と略す)が含まれている。
オキシ−1,3−ベンゾジオキソール類の接触還元、又
は加水分解と接触還元を行って下記一般式(II)で表
わされる3−(ア′ミノー4−ヒドロキシフェノキシ)
カテコール類を合成するところにある。したがって本発
明の合成反応にはニトロ基のアミノ基への還元反応(反
応(a)と略す)、保護基の脱保護反応(例えばベンジ
ル基の脱ベンジル化反応)(反応(b)と略す)、及び
R’ 、R2で置換されたメチレンジオキシ部位の脱保
護反応(反応(c)と略す)が含まれている。
本発明の合成法には以下に示す3つの態様が可能である
。なお式中R1〜R5,m及びnは前記と同じ意味をも
つ。
。なお式中R1〜R5,m及びnは前記と同じ意味をも
つ。
(A法)
(I)
(Ia)
OI(
(Ib)
(I)
(A法)は接触還元によって上記の(a)〜(c)の反
応を同時に行い、化合物(1)から化合物(n)を直接
合成する方法であり、(B法)は最初に酸加水分解によ
り反応(c)を行って化合物(I a)としてから、次
いで接触還元によって反応(a)、 (b)を同時に行
い化合物(If)を得る方法であり、(C法)は最初に
接触還元によって反応(a)、(b)を行い化合物(I
b)とし、次いで酸加水分解により反応(c)を行って
化合物(TI)を得る方法である。
応を同時に行い、化合物(1)から化合物(n)を直接
合成する方法であり、(B法)は最初に酸加水分解によ
り反応(c)を行って化合物(I a)としてから、次
いで接触還元によって反応(a)、 (b)を同時に行
い化合物(If)を得る方法であり、(C法)は最初に
接触還元によって反応(a)、(b)を行い化合物(I
b)とし、次いで酸加水分解により反応(c)を行って
化合物(TI)を得る方法である。
上記3つの方法は置換基の種類によって使い分けられる
。すなわち、R’ 、R2の少なくとも1つがフェニル
基の場合には上記3つの方法の何れによっても化合物(
11)を得ることができ、R1、R2の何れにもフェニ
ル基が無い場合には(B法)又は(C法)を用いること
ができる。
。すなわち、R’ 、R2の少なくとも1つがフェニル
基の場合には上記3つの方法の何れによっても化合物(
11)を得ることができ、R1、R2の何れにもフェニ
ル基が無い場合には(B法)又は(C法)を用いること
ができる。
接触還元は化合物(I)又は化合物(Ia)、(r b
)を適当な溶媒に溶解し、触媒と水素ガスを用いて常圧
ないし加圧下に常温ないし加熱して行う。溶剤としては
アルコール類(例えばメタノール、エタノール、ブタノ
ール)、エステル類(例えば酢酸エチル)、エーテル類
(例えばジグライム、アニソール)、ベンゼン系溶剤(
ベンゼン、トルエン、キシレン)、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等が用いられる。触媒としては遷移金属触媒が用
いられ、中でもパラジウム系触媒(例えばPd−炭素触
媒)が好ましい。水素圧は常圧から100気圧位が好ま
しい。温度は常温から120℃位が適当である。
)を適当な溶媒に溶解し、触媒と水素ガスを用いて常圧
ないし加圧下に常温ないし加熱して行う。溶剤としては
アルコール類(例えばメタノール、エタノール、ブタノ
ール)、エステル類(例えば酢酸エチル)、エーテル類
(例えばジグライム、アニソール)、ベンゼン系溶剤(
ベンゼン、トルエン、キシレン)、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等が用いられる。触媒としては遷移金属触媒が用
いられ、中でもパラジウム系触媒(例えばPd−炭素触
媒)が好ましい。水素圧は常圧から100気圧位が好ま
しい。温度は常温から120℃位が適当である。
加水分解は化合物(I)又は化合物Hb)を酸触媒の存
在下に加熱する。酸としては鉱酸(特に塩酸)が好まし
い。反応温度は50’C〜90 ’Cが好ましい。
在下に加熱する。酸としては鉱酸(特に塩酸)が好まし
い。反応温度は50’C〜90 ’Cが好ましい。
次に本発明の合成法によって合成される化合物(TI
)の具体例を下記化合物(II)−(1)〜(5)及び
第2表に示す。
)の具体例を下記化合物(II)−(1)〜(5)及び
第2表に示す。
(I[)
(I) −(4)
(わ−(2)
(I)
(I[)−(3)
第 2 表
(1)を48g得た。融点228℃(分解)HNMR(
DMSO)δ値(TMS基準) 0.84(3H)、
1.48(2H)、 3.11(2H)、 5.30(
2H)、 6.39(IH)、 6.67(II()、
6.79(IH)、 7.05(LH)、 8.12
(ill)、 9.28(2H)、 9.51(LH)
、 10.21H)実施例2 B法による化合物(III−(1)の合成化合物(I)
−(2)72.9gをメタノール200m1、濃塩酸3
0m1の溶液に加え、加熱還流を1時間行った。反応混
合物を水にあけ、析出した結晶をろ取、水洗、乾燥して
化合物(Ia)61gを得た。このものを(実施例1)
と同様に還元して化合物(TI’)−(1)を42g得
た。
DMSO)δ値(TMS基準) 0.84(3H)、
1.48(2H)、 3.11(2H)、 5.30(
2H)、 6.39(IH)、 6.67(II()、
6.79(IH)、 7.05(LH)、 8.12
(ill)、 9.28(2H)、 9.51(LH)
、 10.21H)実施例2 B法による化合物(III−(1)の合成化合物(I)
−(2)72.9gをメタノール200m1、濃塩酸3
0m1の溶液に加え、加熱還流を1時間行った。反応混
合物を水にあけ、析出した結晶をろ取、水洗、乾燥して
化合物(Ia)61gを得た。このものを(実施例1)
と同様に還元して化合物(TI’)−(1)を42g得
た。
(実施例)
次に本発明の合成法について実施例に基づきさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
実施例I
A法による化合物(1丁′)−(1)の合成(I) −
(1) (I’)−(1) 化合物(I)−(1)74.9gをジメチルアセトアミ
ドioomg、酢酸エチル200mflに溶解し、10
%Pd/C3,7gの存在下、水素圧20kg/crt
r、85℃で2時間オートクレーブ中で反応した。その
後室温まで冷却し、触媒をろ別して得られたろ液を減圧
濃縮し、酢酸エチル/nヘキサンで晶析、ろ過、乾燥し
て化合物(II′)実施例3 C法による化合物(II′)−(1)の合成化合物(I
)−(3)70.3gをジメチルアセトアミド100招
、エタノール100m1に溶解し、10%Pd/C:3
.7gの存在下、水素圧20kg/ard、85℃で2
時間オートクレーブ中で反応した。その後室温まで冷却
し、触媒をろ別して得られたろ液にさらに濃塩酸50肥
を加えて加熱還流を1時間行った。反応液を減圧濃縮し
てエタノールを追い出し、濃縮物を水にあけて化合物(
II′)−(1)41gを得た。
(1) (I’)−(1) 化合物(I)−(1)74.9gをジメチルアセトアミ
ドioomg、酢酸エチル200mflに溶解し、10
%Pd/C3,7gの存在下、水素圧20kg/crt
r、85℃で2時間オートクレーブ中で反応した。その
後室温まで冷却し、触媒をろ別して得られたろ液を減圧
濃縮し、酢酸エチル/nヘキサンで晶析、ろ過、乾燥し
て化合物(II′)実施例3 C法による化合物(II′)−(1)の合成化合物(I
)−(3)70.3gをジメチルアセトアミド100招
、エタノール100m1に溶解し、10%Pd/C:3
.7gの存在下、水素圧20kg/ard、85℃で2
時間オートクレーブ中で反応した。その後室温まで冷却
し、触媒をろ別して得られたろ液にさらに濃塩酸50肥
を加えて加熱還流を1時間行った。反応液を減圧濃縮し
てエタノールを追い出し、濃縮物を水にあけて化合物(
II′)−(1)41gを得た。
(発明の効果)
本発明方法によれば少ない工程数でしかも高収率で3−
(アミン
ヒドロキシフェノキシ)
カテコール類を製造することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で表わされる4−アリールオキシ−
1,3−ベンゾジオキソール類を接触還元するか、又は
加水分解と接触還元に付して下記一般式(II)で表わさ
れる3−(アミノ−4−ヒドロキシフェノキシ)カテコ
ール類を得ることを特徴とする3−アリールオキシカテ
コール類の製造方法。 (式中、R^1、R^2は水素原子、炭素数1〜6のア
ルキル基又は炭素数6〜10のアリール基を表わし、R
^1とR^2とが結合して環を形成してもよい。R^3
及びR^4はそれぞれ水素原子、又は置換基を表し、R
^5は水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル
基又はアシル基を示す。m、nは1〜3の整数を表わし
、2又は3の場合にはR^3、R^4はそれぞれ同一で
も異なっていてもよい。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1100237A JP2537682B2 (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | 3―アリ―ルオキシカテコ―ル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1100237A JP2537682B2 (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | 3―アリ―ルオキシカテコ―ル類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02282354A true JPH02282354A (ja) | 1990-11-19 |
| JP2537682B2 JP2537682B2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=14268647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1100237A Expired - Fee Related JP2537682B2 (ja) | 1989-04-21 | 1989-04-21 | 3―アリ―ルオキシカテコ―ル類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2537682B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10689371B2 (en) | 2018-04-18 | 2020-06-23 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US11919912B2 (en) | 2018-05-21 | 2024-03-05 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US12516040B2 (en) | 2019-07-24 | 2026-01-06 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Crystalline forms of 7-chloro-2-(4-3-methoxyazetidin-1-yl)cyclohexyl)-2,4-dimethyl-N-((6-methyl-4-(methylthio)-2-oxo-1,2-dihydropyridin-3-yl)methyl)benzo[d][1,3]dioxole-5-carboxamide |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61233741A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
-
1989
- 1989-04-21 JP JP1100237A patent/JP2537682B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61233741A (ja) * | 1985-04-05 | 1986-10-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10689371B2 (en) | 2018-04-18 | 2020-06-23 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US11274095B2 (en) | 2018-04-18 | 2022-03-15 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US12612390B2 (en) | 2018-04-18 | 2026-04-28 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US11919912B2 (en) | 2018-05-21 | 2024-03-05 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Modulators of methyl modifying enzymes, compositions and uses thereof |
| US12516040B2 (en) | 2019-07-24 | 2026-01-06 | Constellation Pharmaceuticals, Inc. | Crystalline forms of 7-chloro-2-(4-3-methoxyazetidin-1-yl)cyclohexyl)-2,4-dimethyl-N-((6-methyl-4-(methylthio)-2-oxo-1,2-dihydropyridin-3-yl)methyl)benzo[d][1,3]dioxole-5-carboxamide |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2537682B2 (ja) | 1996-09-25 |
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