JPH02285506A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野〕 本発明は例えば磁気ヘッドとの間において情報の記録お
よび再生を行う磁気記録媒体に関するものであり、特に
ビットシフトおよび残留磁化を向上させ得る磁気記録媒
体に関するものである。

〔従来の技術〕

従来より磁気記録媒体上に情報を記録し、若しくは媒体
上に記録した情報を再生出力するために磁気ディスク装
置が使用されているか、上記の記録、再生を行う場合に
は磁気ヘットと磁気記録媒体とを例えば０．２〜０．３
μｍの微小間隙に保持するのが通常である。従って磁気
ヘッドと磁気記録媒体との接触による摩擦、摩耗および
／または両者の衝突に伴う損傷を防止するため、浮動へ
ラドスライダを使用する。すなわち磁気へラドスライダ
が、磁気記録媒体の表面との相対速度により。

両者の間隙に発生する流体力学的浮上刃を利用して１両
者の微小間隙を保持するように構成している。一方近年
の磁気記録媒体に要求される仕様は次第に厳しくなって
きており１記録書度が高いことは勿論のこと、ピッ１〜
シフトが小であると共に残留磁化の大なる磁性膜が要求
される。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記磁性膜を形成する材料としては、　　Ｃｏ　−Ｎｉ
Ｐｔ、Ｃｏ　　Ｎｉ　　Ｃｒ等の合金が使用されている
が、前者は保磁力が大であるという利点を有する反面に
おいて、Ｓ／Ｎ比が低くノイズが大であると共に１合金
中に貴金属であるＰｔを含有するものであるため高価で
あるという欠点がある。

一方後者は前者よりもコストが低く、ノイズを減少する
ことができるが、耐食性、すなわち環境の変化による飽
和磁化の減少率が大であり、信頼性の点で不充分である
という欠点がある。また近年の高密度記録を行う場合に
おいては　ビットシフトが大であるためエラーが多く９
例えば１０−９のエラーレートにおいて２８　ｎｓ程度
であり、信頼性に乏しい。更に所定の保磁力を確保する
ためには下地膜として基板上に被着ずべきＣｒ膜の厚さ
を大にする必要があり、所定膜厚に形成するための時間
が長く、生産性の低下を招来づるという問題点がある。

本発明は、上記従来技術に存在する問題点を解決し、特
に耐食性に優れると共に、ピッ１−シフトおよび残留磁
化特性を向上させ得る磁気記録媒体を提供するごとを目
的とする。

（課題を解決するだめの手段〕 上記目的を達成するために１本発明においては非磁性材
料からなる基板の表面に非磁性材料からなる下地膜を介
して磁性材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体
において、磁性膜を原子％でＣｒ　５．０〜１５．０％
　Ｔａ　１．０〜８．０％　Ｃおよび／またはＰＯ１５
〜５．０％、残部Ｃｏからなる合金によって形成する。

という技術的手段を採用した。

本発明において、Ｃｒが５．０原子％未満では耐食性が
低下、すなわち環境の変化による飽和磁化の減少率が大
であると共に、Ｓ／Ｎ比を低下さ・ｌるため不都合であ
る。一方Ｃｒが１５．０原子％を超えると、残留磁化の
減少により出力の低下を招くと共に、Ｓ／Ｎ比も低下す
るため好ましくない。

次にＴａはＳ／Ｎ比の向上に寄与するが、１．０原子％
未満ではその作用が期待できず、一方８．０原子％を超
えると再びＳ／Ｎ比の低下を招来すると共に、残留磁化
の減少となり出力を低下させるため好ましくない。

更にＣおよび／またはＰを適量含有させることにより、
ピントシフトを改善する作用がある。しかし０．５原子
％未満ではビットシフ１〜改善の作用が不充分であり、
一方５．０原子％を超えて含有させると、ビットシフト
を再び増大させるのみならず、耐食性も低下させると共
に残留磁化の減少により出力を低下させるため好ましく
ない。

なお下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成するこ
とが好ましい。この場合においてＣｒ合金としてはＣｒ
　−Ｍｏ　、Ｃｒ−Ｖ、Ｃｒ−Ｍｎ等の合金を使用する
ことができる。

また基板をアルミニウム若しくはアルミニウム基合金で
形成すると好ましい。

〔作　用〕

上記の構成により３例えば磁気ヘットとの間において情
報の記録および再生を行うことができ耐食性に優れると
共に、ヒントシフトおよび残留磁化性能の大なる磁気記
録媒体とすることができる。

〔実施例〕

マグネシウムを４重量％含有するアルミニウム合金から
なる基板の表面を旋削加工により平滑に形成し、外径９
５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍの基板とした
。次にこの基板の表面にＮｉ　　　Ｐ合金からなるメツ
キ膜を５〜１５　μｍの厚さに形成し、磁気記録媒体の
起動時および停止時における磁気へンＦ若しくはスライ
ダとの接触摺動（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　ａｎｄ
　３ｔｏｐ、以下ＣＳＳと記ず）特性を確保する。上記
のようにして被着したメ・ノキ膜の表面を平滑に研磨す
ると共に、磁気ヘット若しくはスライダとの吸着を防止
するためのデクスチャー加工を施す。次に基板を洗浄後
２例えばＤＣマグネトロンスパッタ装置により、Ｃｒか
らなる下地膜と、　　Ｃｏ　−Ｃｒ−１’ａ合金からな
る磁性膜と、Ｃからなる保護膜とを順次積層して成膜す
る。この場合下地膜の成膜には、スパッタ室内をＩ　Ｘ
ｌ０−５Ｔｏｒｒ以下に排気後、基板を２００°Ｃにお
いて３０分間加熱し、Ａｒガスを導入してスパッタ室内
を５　ｍＴｏｒｒに保持し、投入電力２０００　Ｗ成膜
速度４００人／分の条件により、膜厚１０００人に成膜
した。次にこの下地膜の上に後記の表に示すＣおよび／
またはＰを含有する ｃｏ　、、、Ｃｒ、、、５Ｔａ３（数字は何れも原子％
を示す。以下同じ）合金からなる磁性膜を上記同様にし
て、投入電力２０００　Ｗ、成膜速度１０００人／分の
条件で６００人の膜厚に成膜した。この場合Ｃおよび／
またはＰの含有量を変化させるには、当該含有量のＣ８
−Ｃｒ−Ｔａ系ターゲント材を使用してもよいが、ｃｏ
−ｃ、−’Ｐ、系ターケント表面に当該含有量の面積比
のＣおよび／またはＩ）ターゲットを埋設してもよい。

なお保護膜は投入電力１０００　Ｗ、成膜速度８０人／
分の条件で、前記磁性膜上に膜厚３００人で成膜した。

上記のようにして作製した磁気記録媒体の表面に液体潤
滑剤を塗布し、　３．５　ｉｎφディスクドライブに装
着してピントシフトおよび残留磁化の測定を行った結果
を表に併記する。な′！ｆ３測定に際して使用した磁気
ヘッドは、Ｍｎ　−Ｚｎ　ミニモノシリツク型（Ｉ・ラ
ンク幅２０　μｍ）であり、スライダ幅６１［１７１ｍ
、　シンバルばね圧９．５　ｇｆ　、半径２４ｍｍの部
位における浮上量０．２μｍ、磁気記録媒体の回転数２
４００　ｒ、ｐ、ｍの条件で測定した。

（以　下　余　白） 表から明らかなようにＣおよび／またはＰの含有により
、ピントシフトが小になることが認められる。すなわち
Ｎｏ、１．２，８．　１４においてはＣおよび／または
Ｐの含有量がＯ若しくは少量であるため、従来材と同様
の値であり、ビットシフトの改善が認められない。一方
Ｎｏ、　７、１３１８においてはＣおよび／またはＰの
含有量が多すぎるため、却ってビットシフトの値が犬と
なるのみならず、残留磁化の値が減少し、出力の低下を
招来する結果を示している。これに対してＮｏ、　３〜
６Ｎｏ、９〜１２およびＮｏ、　１５〜１７においては
ビットシフト 化の値も所定の値を維持していることが認められる。

本実施例においては，磁性膜を形成する材料としてＣｒ
　１２．５％および′Ｆａ３．０％を含有するＣＯＣｒ
−Ｔａ合金を使用した場合について記述したが，これに
限定せずＣｒ　５〜１５％，Ｔａ　　１〜８％，Ｃｏい
、を茫木組成とする合金を使用しても作用は同一である
。また下地膜を形成する材料としでは、Ｃｒのみでなく
、　　Ｃｒ　−Ｍｏ　、　　ＣｒＶ、Ｃｒ−Ｍｎ等のＣ
ｒ合金であってもよい。更に基板を形成する材料として
はマグネシウムを含むアルミニウム基合金のみに限らず
、アルミニウム若しくは他の金属材料または非金属材料
を使用してもよい。また更に基板の加工手段は旋削のみ
に限らず、研削その他によってもよい。なおスパッタ室
内のＡｒガス圧力は２〜３０　ｍＴｏｒｒの範囲で任意
に選定できる。

〔発明の効果〕

本発明は以上記述のような構成および作用であるから、
耐食性に優れると共に、ビットシフトが小であり、かつ
残留磁化の大なる磁気記録媒体を得ることができるとい
う効果がある。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性材料からなる基板の表面に非磁性材料から
   なる下地膜を介して磁性材料からなる磁性膜を設けてな
   る磁気記録媒体において、磁性膜を原子％でＣｒ５．０
   〜１５．０％、Ｔａ１．０〜８．０％、Ｃおよび／また
   はＰ０．５〜５．０％、残部Ｃｏからなる合金によって
   形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）下地膜をＣｒ若しくはＣｒ合金によって形成した
   請求項（１）記載の磁気記録媒体。
3. （３）基板をアルミニウム若しくはアルミニウム基合金
   によって形成した請求項（１）若しくは（２）記載の磁
   気記録媒体。